CN110187568A - 一种液晶显示面板及其制备方法 - Google Patents
一种液晶显示面板及其制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN110187568A CN110187568A CN201910450310.6A CN201910450310A CN110187568A CN 110187568 A CN110187568 A CN 110187568A CN 201910450310 A CN201910450310 A CN 201910450310A CN 110187568 A CN110187568 A CN 110187568A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- liquid crystal
- substrate
- crystal display
- display panel
- array substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 125
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title abstract description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 238
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims abstract description 57
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 57
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims abstract description 33
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 25
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 24
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 12
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 11
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims description 10
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 10
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 6
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 claims description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 16
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 134
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 239000010408 film Substances 0.000 description 7
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 5
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 2
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 239000012945 sealing adhesive Substances 0.000 description 2
- XPDWGBQVDMORPB-UHFFFAOYSA-N Fluoroform Chemical compound FC(F)F XPDWGBQVDMORPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133512—Light shielding layers, e.g. black matrix
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
- G02F1/13394—Gaskets; Spacers; Sealing of cells spacers regularly patterned on the cell subtrate, e.g. walls, pillars
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
- G02F1/1362—Active matrix addressed cells
- G02F1/136209—Light shielding layers, e.g. black matrix, incorporated in the active matrix substrate, e.g. structurally associated with the switching element
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
本发明涉及液晶显示装置领域，公开了一种液晶显示面板及其制备方法，该液晶显示面板包括：阵列基板、对向基板以及液晶层，阵列基板朝向对向基板一侧设有紫外光阻挡层，且阵列基板和对向基板之间设有聚合物挡墙；其中：紫外光阻挡层具有镂空以形成镂空区，镂空区与聚合物挡墙在对向基板上的正投影相互重合，且镂空区位于像素单元的非开口区域，对向基板朝向阵列基板的一侧设有黑矩阵，黑矩阵具有与像素单元的开口区域一一相对的开口，且各镂空区在对向基板上的正投影位于黑矩阵在对向基板上的正投影内。本发明通过在阵列基板上设置紫外光阻挡层以及对紫外光阻挡层形成镂空区，在镂空区形成聚合物挡墙以保证液晶的均匀分布，从而保证了显示效果。
Description
技术领域
本发明涉及液晶显示装置领域，尤其涉及一种液晶显示面板及其制备方法。
背景技术
液晶显示面板在电子产品中的应用越来越多，现有技术中，为了支撑液晶显示面板显示区中的阵列基板和对向基板，常常采用在彩色滤光片或者薄膜晶体管上面形成隔垫物的方法，如图1所示，然而在形成隔垫物04的时候，并没有将该隔垫物04两端均固定在阵列基板01和对向基板02上。因而在显示屏弯曲的时候，隔垫物04与阵列基板01和对向基板02之间容易出现间隙，导致液晶层03内的液晶向周边流动，从而导致显示效果变差。
在透射式的液晶显示面板中，也有过利用在阵列基板和对向基板之间形成聚合物挡墙的方法来保持盒厚，如图2所示，现有的公开的制作方法中，是通过在对向基板02的外侧形成掩模板05，光线通过掩模板05的开口区域051照射向对向基板02，从对向基板02外侧设置的掩膜板05设有的开口区域051进入液晶显示面板的内部，将液晶层03中与掩膜板05的开口区域051正对的部位聚合以形成聚合物挡墙04来支撑阵列基板01与对向基板02之间的盒厚。然而，当光源由掩模板05的一侧照向液晶显示面板时，由于光源在空气和对向基板02界面会发生折射和反射的情况，导致得到的聚合物挡墙尺寸的实际值与设计值之间的偏差较大，精度小，从而导致显示效果变差。
发明内容
本发明实施例提供一种液晶显示面板及其制备方法，用以解决现有技术中存在的由于隔垫物与基板之间出现间隙而导致显示效果差的问题。
本发明实施例提供一种液晶显示面板，包括相对设置的阵列基板和对向基板以及位于所述阵列基板和对向基板之间的液晶层，所述阵列基板设有呈阵列方式分布的像素单元；所述阵列基板包括朝向所述对向基板一侧的紫外光阻挡层，且所述阵列基板和对向基板之间设有聚合物挡墙；其中：
所述紫外光阻挡层具有镂空以形成镂空区，所述镂空区与所述聚合物挡墙在对向基板上的正投影相互重合，且所述镂空区位于所述像素单元的非开口区域；
所述对向基板朝向所述阵列基板的一侧设有黑矩阵，所述黑矩阵具有与所述像素单元的开口区域一一相对的开口，且各所述镂空区在所述对向基板上的正投影位于所述黑矩阵在所述对向基板上的正投影内。
本发明有益效果如下：本发明实施例提供的液晶显示面板，阵列基板上设有呈阵列方式分布的像素单元，在阵列基板朝向对向基板的一侧设置一层紫外光阻挡层，且该紫外光阻挡层对应于在像素单元非开口区域的部位设有镂空以形成用于透过紫外光的镂空区，因此，在液晶显示面板制备过程中，使紫外光自阵列基板背离对向基板的一侧照射液晶显示面板，紫外光通过紫外光阻挡层设有的镂空区照射至阵列基板与对向基板之间的液晶层，从而使液晶层中与紫外光阻挡层设有的镂空区对应的部位形成聚合物挡墙，聚合物挡墙的一端与对向基板连接，另一端穿过紫外光阻挡层的镂空区并与阵列基板连接，且镂空区与聚合物挡墙在对向基板上的正投影相互重合。因此，当液晶显示面板弯曲时，聚合物挡墙的两端均能保持阵列基板与对向基板之间的支撑，使得每两个聚合物挡墙之间的液晶保持均匀分布，从而保证了显示效果。并且，本申请提供的液晶显示面板中，当紫外光由阵列基板背离对向基板的一侧照射时，由于紫外光阻挡层设置于阵列基板朝向对向基板的一侧，且紫外光穿过紫外光阻挡层的镂空后进入液晶层的路径距离小于现有技术中采用从对向基板外侧设置掩膜板时紫外光穿过掩膜板后进入液晶层的路径距离，因而可以减少光线由阵列基板透射进入液晶显示面板的内部之后照向对向基板时的折射偏差，进而能够减小得到的聚合物挡墙尺寸的实际值与设计值之间的偏差，提高液晶显示面板的制备精度，从而保证了液晶显示面板的显示效果。
同时，由于本申请提供的液晶显示面板中，紫外光阻挡层设置于阵列基板上，并且，紫外光阻挡层设有的镂空位于像素单元的非开口区域，紫外光阻挡层的设置不会对对向基板中与非开口区域对应的部位设有的黑矩阵造成破坏和影响，因此，液晶显示面板中的聚合物挡墙在对向基板上的正投影可以完全落入对向基板上设置的黑矩阵在对向基板的正投影内，进而，黑矩阵能够在液晶面板的盒厚方向上将液晶层中用于形成聚合物挡墙的部位完全遮挡，所以，即使有光线进入到液晶层中用于形成聚合物挡墙所在的部位，也不会造成漏光现象。
基于同一发明构思，本发明实施例提供一种液晶显示面板的制作方法，包括：
在玻璃基板上形成柔性衬底；
在柔性衬底背离所述玻璃基板的一侧形成紫外光阻挡层以及像素结构层；其中，所述紫外光阻挡层设有镂空以形成镂空区；
将对向基板与阵列基板对盒连接，以在所述对向基板和阵列基板之间形成液晶层，且所述对向基板朝向阵列基板的一侧形成有黑矩阵，所述黑矩阵具有与液晶显示面板中的像素单元的开口区域一一相对的开口，且各所述镂空区在所述对向基板上的正投影位于所述黑矩阵在所述对向基板上的正投影内；
在阵列基板一侧采用紫外光对液晶层中的聚合物照射以形成聚合物挡墙，其中，所述镂空区与所述聚合物挡墙在对向基板上的正投影相互重合，且所述镂空区位于所述像素单元的非开口区域。
附图说明
图1为现有技术中的一种液晶显示面板的结构示意图；
图2为现有技术中的另一种液晶显示面板的结构示意图；
图3a为本发明实施例中的一种液晶显示面板的结构示意图；
图3b为本发明实施例中的一种液晶显示面板的结构示意图；
图3c为本发明实施例中一种液晶显示面板的光照示意图；
图4为本发明实施例中的一种液晶显示面板的结构示意图；
图5为本发明实施例中的一种紫外光阻挡层的俯视图；
图6为本发明实施例中的一种像素结构层的俯视结构示意图；
图7为本发明实施例中的一种像素结构层的结构示意图；
图8为本发明实施例中的一种液晶显示面板的结构示意图；
图9为本发明实施例中液晶显示面板的制备方法的流程图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
请参考图3a、图3b、图3c、图4以及图5，本发明实施例提供一种液晶显示面板，包括相对设置的阵列基板1和对向基板2、以及位于阵列基板1和对向基板2之间的液晶层6，阵列基板1设有呈阵列方式分布的像素单元；阵列基板1包括朝向对向基板2一侧的紫外光阻挡层4，且阵列基板1和对向基板2之间设有聚合物挡墙5；其中：
紫外光阻挡层4具有镂空以形成镂空区41，镂空区41与所述聚合物挡墙5在对向基板2上的正投影相互重合，且镂空区41位于所述像素单元的非开口区域，如图5中所示；
对向基板2朝向所述阵列基板1的一侧设有黑矩阵7，所述黑矩阵7具有与所述像素单元的开口区域一一相对的开口71，且各所述镂空区41在所述对向基板2上的正投影位于所述黑矩阵7在所述对向基板2上的正投影内，如图3a中所示。
本发明实施例提供的液晶显示面板，阵列基板1上设有呈阵列方式分布的像素单元，在阵列基板1朝向对向基板2的一侧设置一层紫外光阻挡层4，且该紫外光阻挡层4对应于在像素单元的非开口区域的部位设有镂空以形成镂空区41，通常情况下，在液晶显示面板中，像素单元的开口区域指液晶显示面板的像素单元的出光区域，非开口区域指液晶显示面板各像素单元的非光区域，因此，在液晶显示面板的制备过程中，如图3a所示，使紫外光自阵列基板1背离对向基板2的一侧照射液晶显示面板，紫外光通过紫外光阻挡层4设有的镂空区41照射至阵列基板1与对向基板2之间的液晶层6，从而使液晶层6中与紫外光阻挡层4设有的镂空区41对应的部位形成聚合物挡墙5。聚合物挡墙5的一端与对向基板2连接，另一端穿过紫外光阻挡层4的镂空区41并与阵列基板1连接，且镂空区41与聚合物挡墙5在对向基板2上的正投影相互重合。因此，当液晶显示面板弯曲时，聚合物挡墙5的两端均能保持对阵列基板1和对向基板2之间的支撑，使得每两个聚合物挡墙5之间的液晶保持均匀分布，从而保证了显示效果。
并且，请参考图2和图3a，本申请提供的液晶显示面板中，如图3a所示，当紫外光由阵列基板1背离对向基板2的一侧照射时，由于紫外光阻挡层4设置于阵列基板1朝向对向基板2的一侧，且紫外光穿过衬底基板1后直接从紫外光阻挡层4的镂空区41开始对液晶层6产生作用，紫外光穿过紫外光阻挡层4后进入液晶层6的路径距离小于现有技术中(请参考图2)采用从对向基板02外侧设置掩膜板05时紫外光穿过掩膜板05后进入液晶层03的路径距离，因而可以减少光线由阵列基板1透射进入液晶显示面板的内部之后照向对向基板2时的折射偏差，进而能够减小得到的聚合物挡墙5尺寸的实际值与设计值之间的偏差，提高液晶显示面板的制备精度，从而保证了液晶显示面板的显示效果。
同时，由于本申请提供的液晶显示面板中，紫外光阻挡层4设置于阵列基板1上，并且，紫外光阻挡层4设有的镂空区41位于像素单元的非开口区域，紫外光阻挡层4的设置不会对对向基板中与非开口区域对应的部位设有的黑矩阵7造成破坏和影响，因此，液晶显示面板中的聚合物挡墙5在对向基板2上的正投影可以完全落入对向基板2上设置的黑矩阵1在对向基板2的正投影内，进而，黑矩阵7能够在液晶显示面板的盒厚方向上将液晶层6中用于形成聚合物挡墙5的部位完全遮挡，所以，如图3c所示，在液晶显示面板进行显示时，即使有光线进入到聚合物挡墙5所在的部位，也不会造成漏光现象。
具体地，在本发明实施例提供的液晶显示面板中，紫外光阻挡层4的材料可以为聚酰亚胺。在具体的实施过程中，紫外光阻挡层4可以不添加任何紫外线吸收剂，而通过本体电荷能量转移吸收紫外线来达到屏蔽紫外线的目的，也可以在聚酰亚胺本体的基础上，再添加抗紫外剂、紫外线吸收材料等。聚酰亚胺材料不仅对于紫外光线有很好的屏蔽作用，也有优异的无色透明度，对于可见光有很高的透过率。同时聚酰亚胺材料有良好的机械性能和耐高温性能，在形成紫外光阻挡层4的过程中，能够保证产品的质量。
具体地，如图3a-图3c、图4以及图6和图7所示，在本发明实施例提供的液晶显示面板中，还包括像素结构层3，如图6和图7所示，上述像素结构层3可以包括：像素电极A和薄膜晶体管开关，每个像素电极结构层3中，薄膜晶体管的源极和数据线9电连接，栅极81和扫描线8电连接，漏极91与像素电极A电连接。一种具体实施方式中，请参考图6和图7中所示，在形成薄膜晶体管开关时，可以不用单独形成源极的图形，直接将数据线9的一部分与有源层31连接作为源极即可。该像素结构层3位于阵列基板1朝向对向基板2的一侧，其中，本发明实施例提供的紫外光阻挡层4与像素结构层3和阵列基板1之间的位置关系可以有多种设置方式：
在一种可能的实施案例中，请参考图3a、图3b以及图3c，本发明实施例提供的液晶显示面板，紫外光阻挡层4位于阵列基板1与像素结构层3之间，既能够不影响像素结构层3的结构设计，也能起到阻挡紫外光线的作用；当紫外光阻挡层位于阵列基板1与像素结构层3之间时，像素结构层3与聚合物挡墙5之间的配合关系具体可以为：
方式一，请参考图3a，像素结构层3中与紫外光阻挡层4设有的镂空区41相对的部位形成镂空，聚合物挡墙5朝向的阵列基板1的一端直接与阵列基板1的衬底连接，这样，紫外光阻挡层4和像素结构层3中与聚合物挡墙5对应的部位会形成一凹槽，聚合物挡墙5与阵列基板1配合的一端会限位在上述凹槽内，提高了聚合物挡墙5对阵列基板1以及对向基板2支撑的稳定性。
方式二，请参考图3b、图6以及图7，像素结构层3中包含的栅绝缘层、层间绝缘层、钝化层等非电极结构在像素结构层3与紫外光阻挡层4具有的镂空区41相对的部位连续，这样，在像素结构层3制备过程中能够减少构图次数，从而降低液晶显示面板的生产成本。
在一种可能的实施案例中，本发明实施例提供的液晶显示面板，如图4所示，紫外光阻挡层4位于像素结构层3朝向对向基板2的一侧，即本实施案例中的液晶显示面板包括：相对设置的阵列基板1和对向基板2，其中，阵列基板1朝向对向基板2的一侧依次设置有像素结构层3和紫外光阻挡层4。
一种实现方式中，如图8所示，紫外光阻挡层4朝向对向基板2的一侧以及对向基板朝向阵列基板1的一侧均设有配向膜10以实现对液晶层6内液晶分子的初始取向。
另一种实现方式中，如图4所示，当紫外光阻挡层4位于像素结构层3朝向对向基板2的一侧时，紫外光阻挡层4可以兼具配向膜的功能，聚合物挡墙5的一端与对向基板2连接，另一端与阵列基板1连接。如此便于设置紫外光阻挡层4；除此之外，本发明实施例提供的紫外光阻挡层4材料可以为聚酰亚胺，具体地，可选择光敏型聚酰亚胺，在紫外光阻挡层4朝向对向基板2的表面通过摩擦形成用于控制液晶分子初始取向的沟道，从而使得紫外光阻挡层4朝向对向基板2的一侧兼具配向膜控制液晶分子状态的作用，因此省去了生产过程中另外形成配向膜的工艺。配向膜是在阵列基板1和对向基板2的表面形成，并通过摩擦之类的配向处理，使配向膜对液晶分子具有配向控制力，保证液晶分子能够沿着正确的方向排列。
进一步地，本发明实施例提供的液晶显示面板可以应用于多种显示方式，在具体的实施过程中，可以根据不同的用途而设计不同的显示方式。
在一种可能的实施案例中，如图6和图7所示，本发明实施例提供的液晶显示面板，每个像素单元均设有开口区域，阵列基板1朝向对向基板2的一侧设有与液晶显示面板中各像素单元的开口区域一一对应的反射层A，即本发明实施例提供的液晶显示面板可以设计为反射式液晶显示面板。当光线由对向基板2的一侧入射，通过反射层A反射后，由于将紫外光阻挡层4设置在了阵列基板1上，不会影响液晶显示面板的反射层的发光效果，保证了更好地显示效果。且反射层A用于反射从对向基板2侧入射的环境光源，因此，反射式液晶显示面板主要用于室外和光线良好的室内，由于不需要背光源，外形更加的轻薄，功耗更低。
请继续参考图6和图7，在一种可能的实施案例中，作为更加优化的一种方案，在上述液晶显示面板的基础上，至少一部分像素单元对应的光反射层A上具有镂空以形成透射区B，透射区B在对向基板2的正投影被像素单元的开口区域所覆盖，即本发明实施案例提供的液晶显示面板可以设计为半反半透式液晶显示面板，既能利用反射层A反射环境光源，也带有背光源。光线好的时候，可关掉背光源，利用反射光；光线差时，可点亮背光源，因此也具有轻便、节省功耗的优点。
值得注意的是，当本实施案例中的液晶显示面板为半反半透式时，如图6所示，阵列基板1包括数据线9以及扫描线8，其中：紫外光阻挡层4具有的镂空区41开口区域分为与数据线9延伸方向一致的第一分部411，与扫描线8延伸方向一致的第二分部412；第一分部411和数据线9在对向基板2的正投影互不重叠，第二分部412与扫描线8在对向基板2的正投影互不重叠。其中，数据线9和扫描线8均位于反射层A的下方，由于数据线9和扫描线8均是金属材质，设置于反射层A下方时，不会影响到反射层A反射环境光源的效果，从而进一步保证了显示效果。同时，扫描线8和数据线9均设置在了像素单元的开口区域，避免与在与镂空区41相对区域形成的聚合物挡墙5接触，既保证了扫描线8和数据线9的使用寿命，也更利于聚合物挡墙5在阵列基板1和对向基板2之间形成。
当然，上述实施方式中的反射层A可以作为液晶显示面板中的控制电极，具体如图6和图7所示，反射层A具体通过过孔C与薄膜晶体管开关的漏级91电连接。
在一种可能的实施案例中，本发明实施案例提供的紫外光阻挡层4通过均匀涂布的方式做在阵列基板1上，控制紫外光阻挡层4的厚度在0.1um～10um之间。当光线穿过紫外光阻挡层4进入液晶层时，光线在紫外光阻挡层4中会发生折射，从而影响液晶的偏转。将紫外光阻挡层4的厚度控制在0.1um～10um之间时，能够有效控制光线在紫外光阻挡层4中的折射。
其中，作为一种优化的方案，紫外光阻挡层4的厚度在0.1um～1um之间，不仅能够在像素单元的开口区有效地阻挡紫外光，且由于控制了紫外光阻挡层4的厚度，能够减小液晶显示面板的厚度，便于实现产品的轻薄化。
在一种可能的实施案例中，本发明实施案例提供的紫外光阻挡层4在300nm～380nm波段的光透过率小于1％，在可见光波段透过率大于80％，300nm～380nm波段的光即紫外光线，作为一种可选的方案，本实施案例中的紫外光阻挡层4可选择含氟聚酰亚胺，上述紫外光阻挡层4不仅可以呈现透明状态，且对于可见光的透过率也相对高。这是由于主链上含氟基团的引入降低了双折射和吸收，从而降低了光学损耗而使得更多的可见光能够透过。因此，紫外光阻挡层4使得紫外光只能由镂空区41穿过，控制了紫外光传播的方向，促使聚合物挡墙5的形成。而在可见光波段透过率大于80％，使得大部分的可见光都能透过紫外光阻挡层4，当利用背光源或者环境光源进行使用时，能够保证液晶显示面板的正常使用。
在一种可能的实施案例中，本发明实施案例提供的对向基板2和阵列基板1在308nm波段的光透过率小于1％，在365nm～400nm波段的光透过率大于30％，即本发明实施案例提供的对向基板2和阵列基板1均能够阻挡紫外光，而对于可见光的透过率较高，能够保证液晶显示面板的正常使用。
在一种可能的实施案例中，本发明实施案例提供的对向基板2与阵列基板1的边缘通过封框胶6进行密封，使用封框胶6主要是保证阵列基板1和对向基板2之间充分粘结，能够防止液晶发生泄漏，从而保证了显示的效果。
基于同一发明构思，本发明实施例提供一种液晶显示面板的制备方法，首先，本发明方法的流程如图9所示，执行步骤如下：
S101：在玻璃基板上形成柔性衬底；
S102：在柔性衬底背离玻璃基板的一侧形成紫外光阻挡层4；其中，紫外光阻挡层4设有镂空以形成镂空区；
S103：将对向基板2与阵列基板1对盒连接，以在所述对向基板2和阵列基板1之间形成液晶层6，且所述对向基板2朝向阵列基板1的一侧形成有黑矩阵7，所述黑矩阵7具有与液晶显示面板中的像素单元的开口区域一一相对的开口71，且各所述镂空区41在所述对向基板2上的正投影位于所述黑矩阵7在所述对向基板上的正投影内；
S104：在阵列基板1一侧采用紫外光对阵列基板1和对向基板2之间的液晶层6中的聚合物照射以形成聚合物挡墙5，其中，镂空区41与聚合物挡墙5在对向基板2上的正投影相互重合，且透光区位于像素单元的非开口区域。
本发明实施案例提供的液晶显示面板的制备方法，在柔性衬底上形成紫外光阻挡层4和像素结构层3，其中，紫外光阻挡层4和像素结构层3的形成顺序可选，当先形成紫外光阻挡层4，再形成像素结构层3时，后续在像素结构层3朝向对向基板2的一侧表面涂覆聚酰亚胺溶液以形成配向膜9；当先形成像素结构层3，再形成紫外光阻挡层4时，可在紫外光阻挡层4朝向对向基板2的表面通过摩擦形成用于控制液晶分子初始取向的沟道。值得注意的是，在对紫外光阻挡层4设计镂空以形成镂空区时，像素结构层3对应的部分也需要做镂空设计。
进一步地，利用紫外光对阵列基板1和对向基板2之间的材料中的聚合物照射以形成聚合物挡墙5时，为了使得聚合物挡墙5能够垂直于对向基板2和阵列基板1，以减少在常态时的延迟率，一种可能的实施方案是，优化像素结构3以形成多个稳定的液晶指向矢，并控制聚合物单体在液晶中的量。
在具体的实施过程中，由于聚合物挡墙5需要顶住两端的阵列基板1和对向基板2，考虑到整体的效果，因此需要对聚合物挡墙5的密度进行考虑。在此过程中，需要考虑到聚合物挡墙5与基板接触的实际面积，从而进一步确定镂空区的大小。
其中，在一种可能的实施案例中，本发明实施案例提供的液晶显示面板的制备方法，在紫外光阻挡层4上形成镂空区时，包括：通过构图工艺对紫外光阻挡层4的预设部位形成刻蚀开口，将紫外光阻挡层4刻蚀开口的部位去除；其中，预设部位形成有聚合物挡墙5。预设部位即在之后的工序中形成的像素单元的非开口区域，利用刻蚀工艺在紫外光阻挡层4上形成镂空区，能够利用刻蚀的各向异性，能够保证精确地在紫外光阻挡层4上形成预设的几何图形。此外，在对紫外光阻挡层4进行刻蚀时，也不会影响到柔性衬底。
在对本发明实施案例中的紫外光阻挡层4进行刻蚀时，可以选用干法刻蚀，也可以选择酸液湿刻蚀，作为一种优化的可实施方案，可选择干法刻蚀，能够保证更加精确的刻蚀效果。
在一种可能的实施案例中，本发明实施案例体重的液晶显示面板的制备方法中，对紫外光阻挡层4进行刻蚀时，采用等离子刻蚀工艺进行刻蚀。作为一种优化的可实施案例，可采用CHF3和O2等离子刻蚀，利用反应离子刻蚀设备将O2和CHF3按一定比例混合，适当调节刻蚀压力、气体比例、功率、时间等因素，可以得到侧壁和底面光洁的镂空结构。
显然，本领域的技术人员可以对本发明实施例进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
Claims (16)
1.一种液晶显示面板，包括相对设置的阵列基板和对向基板以及位于所述阵列基板和对向基板之间的液晶层，所述阵列基板朝向所述液晶层的一侧设有呈阵列方式分布的像素单元；其特征在于，所述阵列基板包括朝向所述对向基板一侧的紫外光阻挡层，且所述阵列基板和对向基板之间设有聚合物挡墙；其中：
所述紫外光阻挡层具有镂空以形成镂空区，所述镂空区与所述聚合物挡墙在对向基板上的正投影相互重合，且所述镂空区位于所述像素单元的非开口区域；
所述对向基板朝向所述阵列基板的一侧设有黑矩阵，所述黑矩阵具有与所述像素单元的开口区域一一相对的开口，且各所述镂空区在所述对向基板上的正投影位于所述黑矩阵在所述对向基板上的正投影内。
2.根据权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述紫外光阻挡层的材料为聚酰亚胺。
3.根据权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，还包括位于所述阵列基板朝向所述对向基板一侧的像素结构层，其中：
所述紫外光阻挡层位于所述阵列基板与所述像素结构层之间；或者，
所述紫外光阻挡层位于所述像素结构朝向所述对向基板的一侧。
4.根据权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述阵列基板朝向所述对向基板的一侧设有与各所述像素单元的开口区域一一对应的反射层。
5.根据权利要求4所述的液晶显示面板，其特征在于，至少一部分所述像素单元对应的光反射层上具有镂空以形成透射区，所述透射区在所述对向基板的正投影被对应所述像素单元的开口区域覆盖。
6.根据权利要求4所述的液晶显示面板，其特征在于，所述阵列基板包括数据线以及扫描线，其中：
所述镂空区包括与所述数据线延伸方向一致的第一分部和与所述扫描线延伸方向一致的第二分部；所述第一分部和所述数据线在对向基板的正投影互不重叠，所述第二分部与扫描线在对向基板的正投影互不重叠。
7.根据权利要求6所述的液晶显示面板，其特征在于，所述数据线和扫描线位于所述反射层背离所述对向基板的一侧。
8.根据权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述阵列基板和所述对向基板与液晶接触的表面具有配向膜，所述聚合物挡墙的一端与所述阵列基板的配向膜连接，另一端与所述对向基板的配向膜连接。
9.根据权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述紫外光阻挡层的厚度在0.1um～10um之间。
10.根据权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述紫外光阻挡层在300nm～380nm波段的光透过率小于1％，在可见光波段透过率大于80％。
11.根据权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述对向基板和所述阵列基板在308nm波段的光透过率小于1％，在365nm～400nm波段的光透过率大于30％。
12.一种液晶显示面板的制备方法，其特征在于，包括：
在玻璃基板上形成柔性衬底；
在柔性衬底背离所述玻璃基板的一侧形成紫外光阻挡层，所述紫外光阻挡层设有镂空以形成镂空区；
将对向基板与阵列基板对盒连接，以在所述对向基板和阵列基板之间形成液晶层，且所述对向基板朝向阵列基板的一侧形成有黑矩阵，所述黑矩阵具有与液晶显示面板中的像素单元的开口区域一一相对的开口，且各所述镂空区在所述对向基板上的正投影位于所述黑矩阵在所述对向基板上的正投影内；
在阵列基板一侧采用紫外光对液晶层中的聚合物照射以形成聚合物挡墙，其中，所述镂空区与所述聚合物挡墙在对向基板上的正投影相互重合，且所述镂空区位于所述像素单元的非开口区域。
13.根据权利要求12所述的液晶显示面板的制备方法，其特征在于，在将对向基板与阵列基板对盒连接之前，包括：
在所述紫外光阻挡层朝向所述对向基板的一侧形成像素结构层。
14.根据权利要求12所述的液晶显示面板的制备方法，其特征在于，在柔性衬底背离所述玻璃基板的一侧形成紫外光阻挡层之前，包括：
在柔性衬底背离所述玻璃基板的一侧形成像素结构层。
15.根据权利要求12所述的液晶显示面板的制备方法，其特征在于，在所述紫外光阻挡层上形成镂空区，包括：
通过构图工艺对所述紫外光阻挡层的预设部位形成刻蚀开口，将所述紫外光阻挡层刻蚀开口的部位去除以形成镂空区。
16.根据权利要求15所述的液晶显示面板的制备方法，其特征在于，对所述紫外光阻挡层进行刻蚀时，采用等离子刻蚀工艺进行刻蚀。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201910450310.6A CN110187568A (zh) | 2019-05-28 | 2019-05-28 | 一种液晶显示面板及其制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201910450310.6A CN110187568A (zh) | 2019-05-28 | 2019-05-28 | 一种液晶显示面板及其制备方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN110187568A true CN110187568A (zh) | 2019-08-30 |
Family
ID=67718186
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201910450310.6A Pending CN110187568A (zh) | 2019-05-28 | 2019-05-28 | 一种液晶显示面板及其制备方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN110187568A (zh) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112068359A (zh) * | 2020-09-03 | 2020-12-11 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 液晶显示面板及其制备方法 |
| CN114242874A (zh) * | 2021-12-14 | 2022-03-25 | 惠州华星光电显示有限公司 | 显示屏、显示装置及显示屏的制作方法 |
| US11971623B2 (en) | 2021-12-14 | 2024-04-30 | Huizhou China Star Optoelectronics Display Co., Ltd. | Display screen, display device and method for manufacturing display screen |
Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1106930A (zh) * | 1993-05-17 | 1995-08-16 | 夏普公司 | 一种液晶显示装置及制该装置的方法 |
| CN1112685A (zh) * | 1993-10-19 | 1995-11-29 | 夏普公司 | 液晶显示器件及其制造方法 |
| CN1120680A (zh) * | 1994-02-23 | 1996-04-17 | 夏普公司 | 液晶显示装置及其制造方法 |
| CN101030036A (zh) * | 2005-03-02 | 2007-09-05 | Jsr株式会社 | 放射线敏感性树脂组合物及液晶显示元件用间隔体 |
| KR20110032216A (ko) * | 2009-09-22 | 2011-03-30 | 부산대학교 산학협력단 | 듀얼모드 액정표시장치 및 그의 제조 방법 |
| CN103777420A (zh) * | 2012-10-22 | 2014-05-07 | 乐金显示有限公司 | 液晶显示装置及其制造方法 |
| CN105974631A (zh) * | 2016-07-13 | 2016-09-28 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 柔性基板及其制作方法与柔性液晶显示面板 |
| CN108398821A (zh) * | 2018-03-22 | 2018-08-14 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 柔性液晶显示面板的制作方法 |
| CN109001942A (zh) * | 2018-07-27 | 2018-12-14 | 友达光电股份有限公司 | 显示面板及其制造方法 |
-
2019
- 2019-05-28 CN CN201910450310.6A patent/CN110187568A/zh active Pending
Patent Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1106930A (zh) * | 1993-05-17 | 1995-08-16 | 夏普公司 | 一种液晶显示装置及制该装置的方法 |
| CN1112685A (zh) * | 1993-10-19 | 1995-11-29 | 夏普公司 | 液晶显示器件及其制造方法 |
| CN1120680A (zh) * | 1994-02-23 | 1996-04-17 | 夏普公司 | 液晶显示装置及其制造方法 |
| CN101030036A (zh) * | 2005-03-02 | 2007-09-05 | Jsr株式会社 | 放射线敏感性树脂组合物及液晶显示元件用间隔体 |
| KR20110032216A (ko) * | 2009-09-22 | 2011-03-30 | 부산대학교 산학협력단 | 듀얼모드 액정표시장치 및 그의 제조 방법 |
| CN103777420A (zh) * | 2012-10-22 | 2014-05-07 | 乐金显示有限公司 | 液晶显示装置及其制造方法 |
| CN105974631A (zh) * | 2016-07-13 | 2016-09-28 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 柔性基板及其制作方法与柔性液晶显示面板 |
| CN108398821A (zh) * | 2018-03-22 | 2018-08-14 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 柔性液晶显示面板的制作方法 |
| CN109001942A (zh) * | 2018-07-27 | 2018-12-14 | 友达光电股份有限公司 | 显示面板及其制造方法 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112068359A (zh) * | 2020-09-03 | 2020-12-11 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 液晶显示面板及其制备方法 |
| CN114242874A (zh) * | 2021-12-14 | 2022-03-25 | 惠州华星光电显示有限公司 | 显示屏、显示装置及显示屏的制作方法 |
| US11971623B2 (en) | 2021-12-14 | 2024-04-30 | Huizhou China Star Optoelectronics Display Co., Ltd. | Display screen, display device and method for manufacturing display screen |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100724661B1 (ko) | 액정 표시 장치 | |
| JP4907637B2 (ja) | アレイ基板と液晶ディスプレイ装置 | |
| US20070008464A1 (en) | Liquid crystal display device | |
| US6850309B2 (en) | Liquid crystal display device with a plurality of projections having different heights and process for manufacturing the same | |
| CN101825802A (zh) | 彩膜基板及其制造方法 | |
| GB2425391A (en) | Liquid crystal display device and method for fabricating the same | |
| US7372531B2 (en) | Reflective plate of LCD and fabrication method thereof | |
| CN110187568A (zh) | 一种液晶显示面板及其制备方法 | |
| US20150323833A1 (en) | Transflective liquid crystal display panel and transflective liquid crystal display | |
| WO2022241826A1 (zh) | 光线控制膜和显示面板 | |
| US20230375871A1 (en) | Manufacturing method of liquid crystal display panel and liquid crystal display panel | |
| US7084949B2 (en) | Apparatus for arranging spacers at fixed points, liquid crystal device, method of manufacturing liquid crystal device, and electronic apparatus | |
| US20160139453A1 (en) | Display apparatus | |
| KR100531937B1 (ko) | 액정표시장치 | |
| US6414735B1 (en) | Reflectance liquid crystal display having a limited interference effect | |
| KR101743524B1 (ko) | 액정표시장치 및 그 제조방법 | |
| US20110019136A1 (en) | Liquid crystal display device | |
| JP2007047202A (ja) | 液晶表示装置 | |
| US7423711B2 (en) | Display apparatus | |
| JP2000330104A (ja) | 反射型液晶表示装置とその製造方法 | |
| JP3046730B2 (ja) | 反射拡散板および反射型液晶表示装置 | |
| CN107065277A (zh) | 液晶显示装置 | |
| US20200124925A1 (en) | Array substrate, and display device | |
| KR100565735B1 (ko) | 반사형 액정표시장치 및 그 제조방법 | |
| US7420633B2 (en) | Liquid crystal display having particular irregularity controlling structure |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination |