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CN110059968A - 工艺数据监控方法及工艺数据监控系统 - Google Patents

工艺数据监控方法及工艺数据监控系统 Download PDF

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CN110059968A CN201910330460.3A CN201910330460A CN110059968A CN 110059968 A CN110059968 A CN 110059968A CN 201910330460 A CN201910330460 A CN 201910330460A CN 110059968 A CN110059968 A CN 110059968A
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谢剑星
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TCL China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
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Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
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Abstract

本发明提供一种工艺数据监控方法及工艺数据监控系统。该工艺数据监控方法通过将分别对应生产多个显示面板的多个工艺数据划分为满足正态分布的多个第一工艺数据以及不满足正态分布的多个第二工艺数据,获取多个第一工艺数据与多个第二工艺数据中具有差异的多个关键因子,将对应产生关键因子的多个第一工艺数据进行数据拟合,得到拟合曲线,获取所有工艺数据与拟合曲线的残差,通过每一工艺数据对应的残差判断每一工艺数据为正常工艺数据或异常工艺数据,从而有效监控异常工艺数据,进而判断与每一工艺数据对应的显示面板为正常显示面板或异常显示面板,提升异常工艺产品拦截效率。

Description

工艺数据监控方法及工艺数据监控系统
技术领域
本发明涉及生产技术领域,尤其涉及一种工艺数据监控方法及工艺数据监控系统。
背景技术
薄膜晶体管(Thin Film Transistor,TFT)是目前液晶显示装置(Liquid CrystalDisplay,LCD)和有源矩阵驱动式有机电致发光显示装置(Active Matrix Organic Light-Emitting Diode,AMOLED)中的主要驱动元件,直接关系平板显示装置的显示性能。
现有市场上的液晶显示器大部分为背光型液晶显示器,其包括液晶显示面板及背光模组(backlight module)。液晶显示面板的工作原理是在薄膜晶体管阵列基板(ThinFilm Transistor Array Substrate,TFT Array Substrate)与彩色滤光片(ColorFilter,CF)基板之间灌入液晶分子,并在两片基板上分别施加像素电压和公共电压,通过像素电压和公共电压之间形成的电场控制液晶分子的旋转方向,以将背光模组的光线透射出来产生画面。液晶显示面板成型工艺一般包括:前段阵列(Array)制程(薄膜、黄光、刻蚀及剥膜)、中段成盒(Cell)制程(TFT基板与CF基板贴合)及后段模组组装制程(驱动IC与印刷电路板压合)。其中,前段Array制程主要是形成TFT基板,以便于控制液晶分子的运动;中段Cell制程主要是在TFT基板与CF基板之间添加液晶;后段模组组装制程主要是驱动IC压合与印刷电路板的整合,进而驱动液晶分子转动,显示图像。
中国制造2025是基于新一代信息技术,贯穿设计、生产、管理及服务等制造活动各个环节,具有信息深度自感知、智慧优化自决策、精准控制自执行等功能的先进制造过程、系统与模式的总称。因此,现代制造业又迎来一次革命,实现自动化工厂向智能化工厂的转型,大数据做为人工智能(AI)算法的基础,如何应用好大数据,是转型中的重中之重。目前自动化工厂的数据采集是孤立的,数据的监控方式也是片面的,数据间的交互作用在自动化工厂的现有生产模式中很难被有效的监控。
发明内容
本发明的目的在于提供一种工艺数据监控方法,可以有效监控异常工艺数据,提升异常工艺产品拦截效率。
本发明的目的还在于提供一种工艺数据监控系统,可以有效监控异常工艺数据,提升异常工艺产品拦截效率。
为实现上述目的,本发明提供了一种工艺数据监控方法,包括如下步骤:
步骤S1、获取生产设备用于分别对应生产多个显示面板的多个工艺数据,将多个工艺数据划分为满足正态分布的多个第一工艺数据以及不满足正态分布的多个第二工艺数据;
步骤S2、获取多个第一工艺数据与多个第二工艺数据中具有差异的多个关键因子;
步骤S3、将对应产生关键因子的多个第一工艺数据进行数据拟合,得到拟合曲线;
步骤S4、获取所有工艺数据与拟合曲线的残差,通过每一工艺数据对应的残差判断每一工艺数据为正常工艺数据或异常工艺数据,从而判断与每一工艺数据对应的显示面板为正常显示面板或异常显示面板。
所述步骤S1中,所述多个第一工艺数据满足3sigma规则的正态分布。
所述步骤S2中,通过主成分分析法获取多个第一工艺数据与多个第二工艺数据中具有差异的多个关键因子。
所述步骤S3中,通过线性回归方程将对应产生关键因子的多个第一工艺数据进行数据拟合。
所述步骤S4中,当残差大于一预设的阈值时,判断工艺数据为异常工艺数据;当残差小于或等于一预设的阈值时,判断工艺数据为正常工艺数据。
本发明还提供一种工艺数据监控系统,包括:生产设备以及与所述生产设备连接的监控模块;
所述监控模块用于获取生产设备用于分别对应生产多个显示面板的多个工艺数据,将多个工艺数据划分为满足正态分布的多个第一工艺数据以及不满足正态分布的多个第二工艺数据;
所述监控模块用于获取多个第一工艺数据与多个第二工艺数据中具有差异的多个关键因子;
所述监控模块用于将对应产生关键因子的多个第一工艺数据进行数据拟合,得到拟合曲线;
所述监控模块用于获取所有工艺数据与拟合曲线的残差,通过每一工艺数据对应的残差判断每一工艺数据为正常工艺数据或异常工艺数据,从而判断与每一工艺数据对应的显示面板为正常显示面板或异常显示面板。
所述多个第一工艺数据满足3sigma规则的正态分布。
所述监控模块通过主成分分析法获取多个第一工艺数据与多个第二工艺数据中具有差异的多个关键因子。
所述监控模块通过线性回归方程将对应产生关键因子的多个第一工艺数据进行数据拟合。
当残差大于一预设的阈值时,判断工艺数据为异常工艺数据;当残差小于或等于一预设的阈值时,判断工艺数据为正常工艺数据。
本发明的有益效果:本发明的工艺数据监控方法通过将分别对应生产多个显示面板的多个工艺数据划分为满足正态分布的多个第一工艺数据以及不满足正态分布的多个第二工艺数据,获取多个第一工艺数据与多个第二工艺数据中具有差异的多个关键因子,将对应产生关键因子的多个第一工艺数据进行数据拟合,得到拟合曲线,获取所有工艺数据与拟合曲线的残差,通过每一工艺数据对应的残差判断每一工艺数据为正常工艺数据或异常工艺数据,从而有效监控异常工艺数据,进而判断与每一工艺数据对应的显示面板为正常显示面板或异常显示面板,提升异常工艺产品拦截效率。本发明的工艺数据监控系统,可以有效监控异常工艺数据,提升异常工艺产品拦截效率。
附图说明
为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容,请参阅以下有关本发明的详细说明与附图,然而附图仅提供参考与说明用,并非用来对本发明加以限制。
附图中,
图1为本发明的工艺数据监控方法的流程图;
图2为本发明的工艺数据监控系统的示意图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果,以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
请参阅图1,本发明提供一种工艺数据监控方法,包括如下步骤:
步骤S1、获取生产设备用于分别对应生产多个显示面板的多个工艺数据,将多个工艺数据划分为满足正态分布的多个第一工艺数据以及不满足正态分布的多个第二工艺数据;
步骤S2、获取多个第一工艺数据与多个第二工艺数据中具有差异的多个关键因子;
步骤S3、将对应产生关键因子的多个第一工艺数据进行数据拟合,得到拟合曲线;
步骤S4、获取所有工艺数据与拟合曲线的残差,通过每一工艺数据对应的残差判断每一工艺数据为正常工艺数据或异常工艺数据,从而判断与每一工艺数据对应的显示面板为正常显示面板或异常显示面板。
需要说明的是,本发明将分别对应生产多个显示面板的多个工艺数据划分为满足正态分布的多个第一工艺数据以及不满足正态分布的多个第二工艺数据,也就是说,正常工艺生产中的大部分工艺数据满足正态分布,还有一小部分工艺数据离散在外,不满足正态分布而独立形成一个集群,但是离散在外的集群中的工艺数据与正常工艺数据非常接近,生产设备很难将离散在外的集群中的工艺数据控制在正常区间内,为了不让离散在外的集群中的工艺数据影响正常生产,需要在正常生产过程中找出离散在外的集群中的工艺数据。因此,后续本发明找出多个第一工艺数据与多个第二工艺数据中具有差异的多个关键因子,只需要将对应产生关键因子的多个第一工艺数据进行数据拟合,得到拟合曲线,从而获取所有工艺数据与拟合曲线的残差,那么当工艺数据发生波动时,残差也会随之呈现明显的波动,即可通过每一工艺数据与拟合曲线的残差来判断每一工艺数据为正常工艺数据或异常工艺数据,从而有效监控异常工艺数据,进而判断与每一工艺数据对应的显示面板为正常显示面板或异常显示面板,提升异常工艺产品拦截效率,特别是针对于与正常工艺偏离规格值很小且很难用单一关键因子拦截的异常工艺产品。
具体的,所述步骤S1中,所述多个第一工艺数据满足3sigma规则的正态分布。
具体的,所述步骤S2中,通过主成分分析法获取多个第一工艺数据与多个第二工艺数据中具有差异的多个关键因子。
具体的,所述步骤S3中,通过线性回归方程将对应产生关键因子的多个第一工艺数据进行数据拟合。当工艺数据为二维数据、三维数据或多维数据时,通过一元线性回归方程或多元线性回归方程进行数据拟合。
具体的,所述步骤S4中,当残差大于一预设的阈值时,判断工艺数据为异常工艺数据;当残差小于或等于一预设的阈值时,判断工艺数据为正常工艺数据。
请参阅图2,基于上述工艺数据监控方法,本发明还提供一种工艺数据监控系统,包括:生产设备10以及与所述生产设备10连接的监控模块20;
所述监控模块20用于获取生产设备10用于分别对应生产多个显示面板的多个工艺数据,将多个工艺数据划分为满足正态分布的多个第一工艺数据以及不满足正态分布的多个第二工艺数据;
所述监控模块20用于获取多个第一工艺数据与多个第二工艺数据中具有差异的多个关键因子;
所述监控模块20用于将对应产生关键因子的多个第一工艺数据进行数据拟合,得到拟合曲线;
所述监控模块20用于获取所有工艺数据与拟合曲线的残差,通过每一工艺数据对应的残差判断每一工艺数据为正常工艺数据或异常工艺数据,从而判断与每一工艺数据对应的显示面板为正常显示面板或异常显示面板。
需要说明的是,本发明将分别对应生产多个显示面板的多个工艺数据划分为满足正态分布的多个第一工艺数据以及不满足正态分布的多个第二工艺数据,也就是说,正常工艺生产中的大部分工艺数据满足正态分布,还有一小部分工艺数据离散在外,不满足正态分布而独立形成一个集群,但是离散在外的集群中的工艺数据与正常工艺数据非常接近,生产设备很难将离散在外的集群中的工艺数据控制在正常区间内,为了不让离散在外的集群中的工艺数据影响正常生产,需要在正常生产过程中找出离散在外的集群中的工艺数据。因此,后续本发明找出多个第一工艺数据与多个第二工艺数据中具有差异的多个关键因子,只需要将对应产生关键因子的多个第一工艺数据进行数据拟合,得到拟合曲线,从而获取所有工艺数据与拟合曲线的残差,那么当工艺数据发生波动时,残差也会随之呈现明显的波动,即可通过每一工艺数据与拟合曲线的残差来判断每一工艺数据为正常工艺数据或异常工艺数据,从而有效监控异常工艺数据,进而判断与每一工艺数据对应的显示面板为正常显示面板或异常显示面板,提升异常工艺产品拦截效率,特别是针对于与正常工艺偏离规格值很小且很难用单一关键因子拦截的异常工艺产品。
具体的,所述多个第一工艺数据满足3sigma规则的正态分布。
具体的,所述监控模块20通过主成分分析法获取多个第一工艺数据与多个第二工艺数据中具有差异的多个关键因子。
具体的,所述监控模块20通过线性回归方程将对应产生关键因子的多个第一工艺数据进行数据拟合。当工艺数据为二维数据、三维数据或多维数据时,通过一元线性回归方程或多元线性回归方程进行数据拟合。
具体的,当残差大于一预设的阈值时,判断工艺数据为异常工艺数据;当残差小于或等于一预设的阈值时,判断工艺数据为正常工艺数据。
综上所述,本发明的工艺数据监控方法通过将分别对应生产多个显示面板的多个工艺数据划分为满足正态分布的多个第一工艺数据以及不满足正态分布的多个第二工艺数据,获取多个第一工艺数据与多个第二工艺数据中具有差异的多个关键因子,将对应产生关键因子的多个第一工艺数据进行数据拟合,得到拟合曲线,获取所有工艺数据与拟合曲线的残差,通过每一工艺数据对应的残差判断每一工艺数据为正常工艺数据或异常工艺数据,从而有效监控异常工艺数据,进而判断与每一工艺数据对应的显示面板为正常显示面板或异常显示面板,提升异常工艺产品拦截效率。本发明的工艺数据监控系统,可以有效监控异常工艺数据,提升异常工艺产品拦截效率。
以上所述,对于本领域的普通技术人员来说,可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形,而所有这些改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。

Claims (10)

1.一种工艺数据监控方法,其特征在于,包括如下步骤:
步骤S1、获取生产设备用于分别对应生产多个显示面板的多个工艺数据,将多个工艺数据划分为满足正态分布的多个第一工艺数据以及不满足正态分布的多个第二工艺数据;
步骤S2、获取多个第一工艺数据与多个第二工艺数据中具有差异的多个关键因子;
步骤S3、将对应产生关键因子的多个第一工艺数据进行数据拟合,得到拟合曲线;
步骤S4、获取所有工艺数据与拟合曲线的残差,通过每一工艺数据对应的残差判断每一工艺数据为正常工艺数据或异常工艺数据,从而判断与每一工艺数据对应的显示面板为正常显示面板或异常显示面板。
2.如权利要求1所述的工艺数据监控方法,其特征在于,所述步骤S1中,所述多个第一工艺数据满足3sigma规则的正态分布。
3.如权利要求1所述的工艺数据监控方法,其特征在于,所述步骤S2中,通过主成分分析法获取多个第一工艺数据与多个第二工艺数据中具有差异的多个关键因子。
4.如权利要求1所述的工艺数据监控方法,其特征在于,所述步骤S3中,通过线性回归方程将对应产生关键因子的多个第一工艺数据进行数据拟合。
5.如权利要求1所述的工艺数据监控方法,其特征在于,所述步骤S4中,当残差大于一预设的阈值时,判断工艺数据为异常工艺数据;当残差小于或等于一预设的阈值时,判断工艺数据为正常工艺数据。
6.一种工艺数据监控系统,其特征在于,包括:生产设备(10)以及与所述生产设备(10)连接的监控模块(20);
所述监控模块(20)用于获取生产设备(10)用于分别对应生产多个显示面板的多个工艺数据,将多个工艺数据划分为满足正态分布的多个第一工艺数据以及不满足正态分布的多个第二工艺数据;
所述监控模块(20)用于获取多个第一工艺数据与多个第二工艺数据中具有差异的多个关键因子;
所述监控模块(20)用于将对应产生关键因子的多个第一工艺数据进行数据拟合,得到拟合曲线;
所述监控模块(20)用于获取所有工艺数据与拟合曲线的残差,通过每一工艺数据对应的残差判断每一工艺数据为正常工艺数据或异常工艺数据,从而判断与每一工艺数据对应的显示面板为正常显示面板或异常显示面板。
7.如权利要求6所述的工艺数据监控系统,其特征在于,所述多个第一工艺数据满足3sigma规则的正态分布。
8.如权利要求6所述的工艺数据监控系统,其特征在于,所述监控模块(20)通过主成分分析法获取多个第一工艺数据与多个第二工艺数据中具有差异的多个关键因子。
9.如权利要求6所述的工艺数据监控系统,其特征在于,所述监控模块(20)通过线性回归方程将对应产生关键因子的多个第一工艺数据进行数据拟合。
10.如权利要求6所述的工艺数据监控系统,其特征在于,当残差大于一预设的阈值时,判断工艺数据为异常工艺数据;当残差小于或等于一预设的阈值时,判断工艺数据为正常工艺数据。
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Applicant after: TCL China Star Optoelectronics Technology Co.,Ltd.

Address before: 9-2 Tangming Avenue, Guangming New District, Shenzhen City, Guangdong Province

Applicant before: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co.,Ltd.

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