CN109923940B

CN109923940B - 功能性薄膜及有机el元件

Info

Publication number: CN109923940B
Application number: CN201780068727.5A
Authority: CN
Inventors: 柿下健一; 内海京久
Original assignee: Fujifilm Corp
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2016-11-07
Filing date: 2017-11-06
Publication date: 2021-08-24
Anticipated expiration: 2037-11-06
Also published as: JP6856661B2; US20190252640A1; JPWO2018084287A1; CN109923940A; WO2018084287A1

Abstract

本发明提供一种功能性薄膜及有机EL器件，其能够通过形成分离区域来表现出高阻气性。本发明的功能性薄膜具有树脂层，该树脂层对氧气具有不透过性，并且形成有离散地配置的多个凹部，树脂层的弹性模量为0.5GPa以上且10GPa以下，树脂层的氧透过率为10cc/(m²·day·atm)以下。

Description

功能性薄膜及有机EL元件

技术领域

本发明涉及一种功能性薄膜及使用了该功能性薄膜的有机EL元件。

背景技术

在使用了有机TFT的PE(Printable Electronics：可印刷电子)传感器或电子器件元件、有机太阳能电池、光学元件、液晶显示器或有机EL(Electro Luminescence：电致发光)显示器等显示装置、各种半导体装置等各种装置中，使用包装需要防湿性的部位和部件、食品和电子部件、医疗用部件等的包装材料等阻气膜。

近年来，在有机器件(有机TFT器件、有机太阳能电池器件、有机EL器件等)的领域中，代替玻璃基板，对透明阻气膜的需求正在增加。透明阻气膜为轻量并且能够适用于卷对卷(Roll to Roll)方式，因此就成本的观点而言是有利的。但是，透明阻气膜存在水蒸气阻挡性比玻璃基板差的问题。

通常，阻气膜具有如下结构，即，将聚对苯二甲酸乙二酯(PET)薄膜等塑料薄膜作为支撑体，并且在其上形成表现出阻气性的阻气层。并且，作为用于阻气膜的阻气层，例如已知有由氮化硅、氧化硅、氧化铝等各种无机化合物构成的层。

为了形成由这些无机化合物构成的无机层，通过溅射或等离子体CVD(chemicalvapor deposition：化学气相沉积)等的真空成膜法形成薄膜用于成膜。

并且，阻气膜不仅需要优异的阻气性，还根据用途需要高透过性(高可见光透过率)和高耐氧化性等各种特性。

尤其，在用于如液晶显示器、有机EL显示器或太阳能电池等那样需要透光的装置的情况下，需要具有高透明性。

在这种阻气膜中，作为获得更高的阻气性能的结构，已知有一种有机无机层叠型阻气膜(以下，还称为层叠型阻气膜)，其具有将由有机化合物构成的有机层和由无机化合物构成的无机层交替层叠在在支撑体上的层叠结构。

层叠型阻气膜中，通过在成为基底的有机层上形成无机层，从而在利用有机层使无机层的形成表面平滑而具有良好的平滑性的有机层上形成无机层。由此，形成没有裂痕或裂缝等的均匀的无机层，从而获得优异的阻气性能。并且，能够通过重复具有多个该有机层与无机层的层叠结构来获得更优异的阻气性能。

例如，专利文献1中记载有一种功能性薄膜，其具有支撑体、形成于该支撑体上的有机层及形成于有机层上的无机层。

以往技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2013-031794号公报

发明内容

发明要解决的技术课题

在此，在将平坦的阻气膜用于有机器件时，一边将阻气膜弯曲一边粘附以跟随(密合)配置有机器件和器件的基材，因此产生裂痕或裂缝等，并产生阻挡性能变得不足的问题。

本发明鉴于上述情况而完成，其课题在于提供一种能够通过形成分离区域来表现出高阻气性的功能性薄膜及使用了该功能性薄膜的有机EL元件。

用于解决技术课题的手段

本发明人等为了实现上述课题进行了深入研究的结果发现了能够通过如下来解决上述课题：具有树脂层，该树脂层对氧气具有不透过性，并且形成有离散地配置的多个凹部，树脂层的弹性模量为0.5GPa以上且10GPa以下，树脂层的氧透过率为10cc/(m²·day·atm)以下，从而完成了本发明。

即，发现了能够通过以下结构来实现上述课题。

(1)一种功能性薄膜，其具有树脂层，该树脂层对氧气具有不透过性，并且形成有离散地配置的多个凹部，树脂层的弹性模量为0.5GPa以上且10GPa以下，树脂层的氧透过率为10cc/(m²·day·atm)以下。

氧透过率能够使用MOCON INC.制的OX-TRAN 2/20来测定。

(2)根据(1)所述的功能性薄膜，其在与形成有多个凹部的表面相反的一侧具有基材薄膜。

(3)根据(2)所述的功能性薄膜，其中，基材薄膜的氧透过率为1cc/(m²·day·atm)以下。

(4)根据(1)至(3)中任一项所述的功能性薄膜，其中，在树脂层的凹部侧的表面至少形成有无机层。

(5)一种有机EL元件，其使用了(1)至(4)中任一项所述的功能性薄膜。

(6)根据(1)至(4)所述的功能性薄膜，其中，树脂层的凹部的侧面与底面的连接部分以及树脂层的表面与凹部的侧面的连接部分的曲率半径为5μm以上且200μm以下。

(7)根据(1)至(4)及(6)中任一项所述的功能性薄膜，其中，

树脂层的凹部的深度h为1μm以上且100μm以下，

相邻的凹部之间的宽度t为5μm以上且300μm以下，

相邻的凹部之间的宽度t与凹部的深度h的纵横比h/t小于3.0。

(8)根据(1)至(4)、(6)及(7)中任一项所述的功能性薄膜，其中，树脂层包含散射粒子。

(9)根据(1)至(4)及(6)至(8)中任一项所述的功能性薄膜，其中，凹部在俯视观察时为正多边形。

发明效果

根据本发明，能够提供一种能够通过形成分离区域来表现出高阻气性，并且具有高透明性的功能性薄膜及有机EL元件。

附图说明

图1是示意地表示本发明的功能性薄膜的一例的立体图。

图2是图1的功能性薄膜的剖视图。

图3是示意地表示本发明的功能性薄膜的其他一例的剖视图。

图4是示意地表示本发明的功能性薄膜的其他一例的剖视图。

图5是示意地表示本发明的功能性薄膜的其他一例的剖视图。

图6是用于说明凹部的角部的曲率半径的概略剖视图。

图7是示意地表示本发明的有机EL元件的一例的剖视图。

具体实施方式

以下，参考附图对本发明所涉及的功能性薄膜及有机EL元件的实施方式进行说明。本说明书的附图中，为了容易辨识，适当地更改各部的比例而示出。另外，本说明书中使用“～”所表示的数值范围是指包含“～”的前后所记载的数值作为下限值及上限值的范围。

并且，本说明书中，“(甲基)丙烯酸酯”以“丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯中的至少一方或任一方的含义使用。“(甲基)丙烯酰基”等也相同。

＜功能性薄膜＞

本发明的功能性薄膜具有树脂层，该树脂层对氧气具有不透过性，并且形成有离散地配置的多个凹部，树脂层的弹性模量为0.5GPa以上且10GPa以下，树脂层的氧透过率为10cc/(m²·day·atm)以下。

图1是示意地表示本发明所涉及的功能性薄膜的一例的立体图，图2是图1的剖视图。

图1及图2所示的功能性薄膜1a具有树脂层3，在树脂层3的一侧的表面离散地形成有多个凹部2。

树脂层3中，弹性模量为0.5GPa以上且10GPa以下，氧透过率为10cc/(m²·day·atm)以下。

在凹部2中能够配置功能性材料、例如有机器件，并且通过用未图示的另一玻璃基板或阻气膜密封，能够保护功能性材料不受水分和氧气的影响。

在本说明书，“在薄膜上，离散地配置多个……凹部”是指，如图1所示，在从与功能性薄膜的薄膜面垂直的方向观察(俯视观察)时，在沿树脂层3的薄膜面的二维方向上，多个凹部2以不相互接触的方式独立地配置。在图1所示的例子中，凹部2为四棱柱状，在沿功能性薄膜1a的薄膜面的二维方向上被对氧气具有不透过性的树脂层3包围而分别独立，并切断氧气从沿功能性薄膜1a的薄膜面的二维方向渗透到各凹部2。

本说明书中，“对氧气具有不透过性”是指氧透过率为10cc/(m²·day·atm)以下。对氧气具有不透过性的树脂层的氧透过率更优选为1cc/(m²·day·atm)以下，进一步优选为10^-1cc/(m²·day·atm)以下。另外，在本说明书中，“具有不透过性”和“具有阻挡性”以相同的含义使用。即，本说明书中，阻气是指对气体(gas)具有不透过性，水蒸气阻挡是指对水蒸气具有不透过性。并且，关于针对氧气及水蒸气两者具有不透过性的层，称为“阻挡层”。

如上所述，可知根据本发明人的研究，在将平坦的阻气膜用于密封有机器件时，一边将阻气膜弯曲一边粘附以跟随(密合)配置有机器件和器件的基材，因此产生裂痕或裂缝等，并产生阻挡性能变得不足的问题。

相对于此，本发明的功能性薄膜具有树脂层，该树脂层对氧气具有不透过性，并且形成有离散地配置的多个凹部，树脂层的弹性模量为0.5GPa以上且10GPa以下，树脂层的氧透过率为10cc/(m²·day·atm)以下。

通过设置形成有离散地配置的多个凹部且具有阻挡性的树脂层的功能性薄膜，以使有机器件配置在凹部内(参考图7)，无需一边将阻气膜弯曲一边粘附，从而能够抑制裂痕或裂缝等的产生。

如上所述，通过将本发明的功能性薄膜设为具有树脂层，该树脂层对氧气具有不透过性，并且形成有离散地配置的多个凹部，树脂层的弹性模量为0.5GPa以上且10GPa以下，树脂层的氧透过率为10cc/(m²·day·atm)以下的结构，无需一边将阻气膜弯曲一边粘附，从而能够抑制裂痕或裂缝等的产生，并且能够表现出高阻气性。

在此，在本发明的功能性薄膜中，将配置有凹部2的树脂层3的凹部2的深度设为h，并且将相邻的凹部2之间的宽度、即树脂层3的厚度设为t时，树脂层3的凹部2的深度h优选为1μm以上且100μm以下，相邻的凹部2之间的宽度t优选为5μm以上且300μm以下，相邻的凹部2之间的宽度t与深度h的纵横比h/t优选小于3.0。

另外，关于形成于树脂层3的凹部的深度h，用切片机切割功能性薄膜的凹部的部分而形成截面，并利用光学显微镜观察该截面，提取10个凹部测定深度，并将其作为平均值而求出。

并且，相邻的凹部2之间的宽度t(树脂层3部分的厚度t)为相邻的凹部2之间的最短距离，从功能性薄膜的一个表面利用光学显微镜观察表面，提取至少20个相邻的凹部2之间的树脂层3部分，读取其宽度，并计算它们的平均值作为宽度t。

并且，在俯视观察中，关于凹部2的面积相对于整个功能性薄膜的面积的比率，使用显微镜从正上方观察功能性薄膜的表面，关于30mm×30mm的视角(5个部位)，根据凹部的面积的总计和视角的面积(几何学面积)的比率(凹部的面积/几何学面积)计算，计算各视角(5个部位)中的平均值作为面积的比率。

并且，形成于树脂层3的凹部的角部的曲率半径优选为5μm以上且200μm以下。在此，凹部2的角部的曲率半径是，树脂层3的凹部2的侧面与底面的连接部分(图6中，由符号7表示)的曲率半径以及树脂层3的表面与凹部2的侧面的连接部分(图6中，由符号8表示)的曲率半径。

通过将形成于树脂层3的凹部的角部的曲率半径设为5μm以上且200μm以下，在树脂层表面设置无机阻挡层等时能够无缺陷地进行制作，并且能够抑制阻挡性的降低。

另外，关于凹部的角部的曲率半径，用切片机切割功能性薄膜的凹部的部分而形成截面，并利用光学显微镜观察该截面，提取10个凹部进行测定，而作为平均值求出。

并且，图1及图所示的功能性薄膜1a为由树脂层3构成的结构，但并不限定于此，如图3所示的功能性薄膜1b，也可以是在基材薄膜4上形成树脂层3的结构。

如图3所示，基材薄膜4层叠在与树脂层3的形成有凹部2的面相反的一侧的面。

由于基材薄膜4的存在，功能性薄膜的强度得到提高，并且能够易于实施制膜。

基材薄膜4优选对氧具有不透过性，氧透过率优选为1cc/(m²·day·atm)以下。

由此，功能性薄膜的阻气性进一步提高。

另外，在图3中，例示了基材薄膜4由单层的薄膜构成的结构，但并不限定于此，也可以是层叠多个层而成的层叠薄膜。例如，如图4所示的功能性薄膜1c，也可以是使用在支撑薄膜9的一面具备阻挡层5的基材薄膜4的结构。

即，也可以设为在树脂层与支撑薄膜之间层叠有对氧气具有不透过性的阻挡层的结构。

此外，如图5所示的功能性薄膜1d，也可以在树脂层3的凹部2侧的表面形成至少包括无机层的凹凸部阻挡层6。

并且，凹部2的大小和配置图案并无特别限定，根据所期望的条件适当地设计即可。在设计中，考虑用于在俯视观察时将凹部彼此分开配置的几何约束。并且，例如，作为凹部的形成方法之一使用印刷法时，除非各占有面积(在俯视下)为一定程度的大小以上，否则还存在无法进行印刷的限制。进而，相邻的凹部的最短距离需要是能够实现氧气透过率10cc/(m²·day·atm)以下的距离。鉴于这些设计所期望的形状、大小及配置图案即可。

在上述实施方式中，如图1所示，凹部2为四棱柱状，在俯视下为四边形，但凹部2的形状并无特别限制。凹部2可以为多棱柱或圆柱。并且，在上述例子中，圆柱或者多棱柱的底面与基材薄膜面平行地配置，但底面无需一定要与基材薄膜面平行地配置。并且，各凹部2的形状可以为不定型。

并且，在上述实施方式中，凹部2以周期性地进行图案配置，但只要多个凹部2离散配置在不损害所期望的性能的情况下，则也可以为非周期性。

并且，凹部2的配置及形状可以根据组合的有机器件的配置及大小等来设定。

以下，对本发明的功能性薄膜的各构成要素进行说明。

＜＜对氧气具有不透过性的树脂层＞＞

作为形成对氧气具有不透过性的树脂层的固化性化合物，尤其优选(甲基)丙烯酸酯系化合物、环氧系化合物等能够形成阻气性高的树脂层的化合物。

上述固化性化合物中，从组合物粘度、光固化性的观点考虑，优选为(甲基)丙烯酸酯化合物，更优选为丙烯酸酯。并且，在本发明中，优选具有2个以上的聚合性官能团的多官能聚合性化合物。在本发明中，尤其，单官能(甲基)丙烯酸酯化合物与多官能(甲基)丙烯酸酯化合物的配合比，以重量比计优选为80/20～0/100，更优选为70/30～0/100，优选为40/60～0/100。通过选择适当的比率，能够有充分的固化性且将组合物设为低粘度。

上述多官能(甲基)丙烯酸酯化合物中，上述2官能(甲基)丙烯酸酯与上述3官能以上的(甲基)丙烯酸酯的比率以质量比计优选为100/0～20/80，更优选为100/0～50/50，进一步优选为100/0～70/30。上述3官能以上的(甲基)丙烯酸酯粘度高于上述2官能(甲基)丙烯酸酯，因此，由于降低本发明中的对氧气具有不透过性的树脂层用固化性化合物的粘度，优选上述2官能(甲基)丙烯酸酯多。

作为聚合性化合物，从提高对氧气的不透过性的观点考虑，优选包含含有取代基的化合物，该取代基具有芳香族结构和/或脂环烃结构，更优选在成分中含有50质量％以上的具有芳香族结构及/或脂环烃结构的聚合性化合物，进一步优选含有80质量％以上。作为具有芳香族结构的聚合性化合物，优选具有芳香族结构的(甲基)丙烯酸酯化合物。作为具有芳香族结构的(甲基)丙烯酸酯化合物，尤其优选具有萘结构的单官能(甲基)丙烯酸酯化合物、例如(甲基)丙烯酸-1-萘酯或(甲基)丙烯酸-2-萘酯、(甲基)丙烯酸-1-萘基甲酯或(甲基)丙烯酸-2-萘基甲酯、(甲基)丙烯酸-1-萘基乙酯或(甲基)丙烯酸-2-萘基乙酯、在芳香环上具有取代基的丙烯酸苄酯等单官能丙烯酸、邻苯二酚二丙烯酸酯、二甲苯二醇二丙烯酸酯等2官能丙烯酸。作为具有脂环烃结构的聚合性化合物，优选(甲基)丙烯酸异冰片酯、二环戊基(甲基)丙烯酸酯、二环戊基氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、二环戊烯基(甲基)丙烯酸酯、金刚烷基(甲基)丙烯酸酯、三环癸基(甲基)丙烯酸酯、四环十二烷基(甲基)丙烯酸酯等。

并且，作为聚合性化合物，在使用(甲基)丙烯酸酯的情况下，从固化性优异的观点考虑，相较于甲基丙烯酸酯，更优选丙烯酸酯。

树脂层3优选夹着树脂层3而相邻的凹部2之间的最短距离中的氧气透过率满足10cc/(m²·day·atm)以下。树脂层3的、相邻的凹部2之间的最短距离中的氧气透过率更优选为1cc/(m²·day·atm)以下，进一步优选为10^-1cc/(m²·day·atm)以下。根据树脂层3的组成，凹部2之间的所需最短距离不同。

氧气透过率能够使用fm/(s·Pa)作为SI单位。能够以1fm/(s·Pa)＝8.752cc/(m²·day·atm)进行换算。fm读作毫微微米，表示1fm＝10^-15m。

根据树脂层3的组成，凹部2之间的所需最短距离不同。另外，树脂层3的相邻的凹部2之间的最短距离是指从功能性薄膜主表面观察时的相邻的凹部2之间的薄膜面内的最短距离。并且，有时以下将相邻的凹部2之间的最短距离还记载为树脂层的宽度。

如上所述，根据树脂层3的组成凹部2之间的所需最短距离不同，但作为一例，相邻的凹部2之间的最短距离、即作为树脂层的宽度优选为5μm以上且300μm以下，更优选为10μm以上且200μm以下，进一步优选为15μm以上且100μm以下。若树脂层的宽度过短，则难以确保所需的氧透过率，若树脂层的宽度过长，功能性材料的每单位面积的比例变小，无法发挥充分的功能。

树脂层3的弹性模量为0.5GPa以上且10GPa以下，更优选为1GPa以上且7GPa以下，尤其优选为3GPa以上且6GPa以下。通过将树脂层的弹性模量设在该范围内，能够保持氧气透过率的同时防止形成树脂层时的缺损，因此优选。

树脂层的弹性模量由JIS K7161等中所例示的方法进行测定。

作为树脂层3的形成材料，优选具有2官能以上的光聚合性交联基的化合物，例如可以列举氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯等脂环式(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯等具有氢氧基的(甲基)丙烯酸酯、改性双酚A二(甲基)丙烯酸酯等芳香族(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、3,4-环氧环己基甲基(甲基)丙烯酸酯、3',4'-环氧环己基甲基3,4-环氧环己烷羧酸酯、双酚A型环氧等。其中，从提高对氧气的不透过性的观点考虑，优选至少包含氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、环氧化合物。通过使用氨基甲酸酯键和氢氧基、羧基等具有极性官能团的化合物提高分子之间的相互作用，从而获得对氧气的不透过性高的树脂层。

(添加剂)

树脂层的形成材料中根据需要还可包含光聚合引发剂、无机层状化合物、光散射粒子、抗氧化剂、剥离促进剂、溶剂等。

(光聚合引发剂)

形成树脂层3的固化性化合物优选包含光聚合引发剂。作为光聚合引发剂，只要为通过光照射产生聚合上述聚合性化合物的活性种的化合物，则能够使用任一种。作为光聚合引发剂，可以列举阳离子聚合引发剂、自由基聚合引发剂，可以根据树脂层的形成材料适当地选择。

(无机层状化合物)

形成树脂层3的固化性化合物可以包含赋予无机层状化合物等的、在树脂层中延长气体分子的扩散长度并提高阻气性的、所谓迷宫效应的化合物。作为这种无机层状化合物，例如可以列举滑石、云母、长石、高岭土(kaolin clay)、叶腊石(Pyrophyllite clay)、绢云母(sericite)、膨润土、蒙脱石·蛭石类(蒙脱土、贝得石、绿脱石、皂石等)、有机膨润土、有机蒙脱石、平板氧化铝等平板无机氧化物等。并且，可以对无机层状化合物实施表面处理，以提高在树脂形成材料中的分散性。此外，从上述迷宫效应优异的观点考虑，优选无机层状化合物的纵横比为10～1000。若纵横比为10以下，则迷宫效应引起的阻气性提高效果降低，若纵横比为1000以上，则无机层状化合物是脆的，因此可能引起在制作步骤中被粉碎。

这些能够单独使用或组合2种以上使用。作为市售的层状化合物，例如，作为无机化合物，可以列举SHIRAISHI CALCIUM KAISHA,LTD.制的ST-501、ST-509、Katakura&Co-opAgri Corporation制的Soviet Massif系列、微云母系列、KINSEI MATEC CO.,LTD.制的Seraph系列。其中，在本发明的功能性薄膜中能够优选使用透明性高的Seraph系列。

＜＜基材薄膜＞＞

基材薄膜4优选为具有抑制氧气的透过的功能的薄膜。在图4所示的实施方式中，具有在支撑薄膜9的一面具备阻挡层5的结构。在这种方式中，由于支撑薄膜9的存在，功能性薄膜的强度得到提高，并且能够容易地实施制膜。另外，在图4所示的实施方式中在支撑薄膜9的一面具备阻挡层5的结构，但如图3所示，也可以仅通过充分具有阻挡性的支撑体构成基材薄膜。

基材薄膜4优选为具有对可见光透明的挠性的带状的支撑体。在这里相对于可见光为透明是指可见光区域中的光线透射率为80％以上，优选为85％以上。用作透明尺度的光线透射率中，使用JIS-K7105中记载的方法、即积分球式光线透射率测定装置来测定总光线透射率及散乱光量，能够从总光线透射率减去扩散透射率来计算。关于具有挠性的支撑体，能够参考日本特开2007-290369号公报的0046～0052段、日本特开2005-096108号公报的0040～0055段。

并且，形成于基材薄膜4的阻挡层5中，可见光区域中的总光线透射率优选为80％以上，更优选为85％以上。可见光区域是指380～780nm的波长区域，总光线透射率表示遍及可见光区域的透光率的平均值。

基材4的氧气透过率优选为1.00cc/(m²·day·atm)以下。氧气透过率更优选为0.1cc/(m²·day·atm)以下，进一步优选为0.01cc/(m²·day·atm)以下，尤其优选为0.001cc/(m²·day·atm)以下。在此，氧气透过率是在测定温度23℃、相对湿度90％的条件下，利用氧气透射率测定装置(MOCON社制、OX-TRAN 2/20：商品名)进行测定的值。

基材薄膜4优选除了具有切断氧气的阻气功能以外，还具有切断水分(水蒸气)的功能。基材薄膜4的透湿度(水蒸气渗透率)优选为0.10g/(m²·day·atm)以下，更优选为0.01g/(m²·day·atm)以下。

从功能性薄膜的耐冲击性等的观点考虑，基材薄膜4的平均膜厚优选为10μm以上且500μm以下，更优选为20μm以上且400μm以下，进一步优选为30μm以上且300μm以下。从器件的薄型化的观点考虑，基材薄膜4的平均膜厚优选为40μm以下，进一步优选为25μm以下。

并且，基材薄膜4优选在波长589nm下的面内延迟Re(589)为1000nm以下。更优选为500nm以下，进一步优选为200nm以下。

在制作功能性薄膜之后，检查有无杂质或缺陷时，将2张偏振片配置在消光位置，并在其之间插入功能性薄膜而进行观察，由此容易发现杂质或缺陷。若支撑体的Re(589)在上述范围，则在使用偏振片的检查时更容易地发现杂质和缺陷，因此优选。

在此，Re(589)能够使用AxoScan OPMF-1(Opto Science,Inc.制)，通过使输入波长589nm的光向薄膜法线方向入射进行测定。

(支撑薄膜)

支撑薄膜9优选对氧气及水分具有阻挡性。作为这种支撑薄膜，可以列举聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜、包括具有环状烯烃结构的聚合物的薄膜及聚苯乙烯薄膜等作为优选例子。

(阻挡层)

基材薄膜4所具有的、以与树脂层3相接的方式形成的阻挡层5及形成于凹部2上的凹凸部阻挡层6包括至少一层无机层。

另外，阻挡层5和凹凸部阻挡层6除了所形成的位置及形状不同以外具有相同的结构，因此在以下说明中无需区分阻挡层5和凹凸部阻挡层6时，将两者统称为阻挡层进行说明。

作为阻挡层，可以包含至少1层无机层及至少1层有机层的阻挡层。如此层叠多个层能够更加提高阻挡性，因此从提高耐光性的观点考虑为优选。另一方面，进行层叠的层数越增加，则基材薄膜的透光率越趋于下降，因此优选在可维持良好的透光率的范围内增加层叠数。

阻挡层中，可见光区域中的总光线透射率优选为80％以上，且氧气透过率优选为1.00cc/(m²·day·atm)以下。

阻挡层的氧气透过率更优选为0.1cc/(m²·day·atm)以下，尤其优选为0.01cc/(m²·day·atm)以下，更尤其优选为0.001cc/(m²·day·atm)以下。

氧气透过率越低越优选，可见光区域中的总光线透射率越高越优选。

-无机层-

无机层是指以无机材料为主成分的层，且优选无机材料占50质量％以上、进一步占80质量％以上、尤其占90质量％以上的层，且优选仅由无机材料形成的层。

无机层优选为具有阻断氧气的阻气功能的层。具体而言，无机层的氧气透过率优选为1.00cc/(m²·day·atm)以下。能够在Orbisphere Laboratories Inc.制型氧气浓度仪的检测部经由硅脂贴附波长转换层，从平衡氧气浓度值换算氧气透过率来求出无机层的氧气透过率。无机层也优选具有阻断水蒸气的功能。

在阻挡层中，也可以包含2个或3个以上的无机层。

无机层的厚度为1～500nm即可，优选为5～300nm，尤其优选为10～150nm。无机层的膜厚在上述的范围内，由此其原因在于能够提供实现良好的阻挡性，并能够抑制无机层中的反射，透光率更高的功能性薄膜。

作为构成无机层的无机材料，并无特别限定，例如能够使用金属或无机氧化物、氮化物、氧化氮化物等各种无机化合物。作为构成无机材料的元素，优选硅、铝、镁、钛、锡、铟及铈，可以包含一种或二种以上的这些。作为无机化合物的具体例，能够列举氧化硅、氧化氮化硅、氧化铝、氧化镁、氧化钛、氧化锡、氧化铟合金、氮化硅、氮化铝及氮化钛。并且，作为无机层，可以设置金属膜例如铝膜、银膜、錫膜、铬膜、镍膜或者钛膜。

上述材料之中，具有上述阻挡性的无机层尤其优选为包含选自氮化硅、氧化氮化硅、氧化硅及氧化铝中的至少一种化合物的无机层。包括这些材料的无机层与有机层的密合性良好，因此即使在无机层存在针孔时，有机层能够有效地埋入针孔，并能够抑制破裂，并且进一步能够在层叠有无机层的壳体中形成及其良好的无机层膜，能够更进一步提高阻挡性。并且，从抑制阻挡层中的光的吸收的观点考虑，最优选氮化硅。

作为无机层的形成方法，并无特别限定，例如能够使用能够使制膜材料不蒸发而飞散且堆积于被蒸镀面的各种制膜方法。

作为无机层的形成方法的例，可列举对无机氧化物、无机氮化物、无机氧化氮化物、金属等无机材料进行加热并蒸镀的真空蒸镀法；将无机材料用作原料，通过导入氧气来使其氧化并蒸镀的氧化反应蒸镀法；将无机材料用作目标原料，导入氩气气体、氧气并通过进行溅射使其蒸镀的溅射法；通过由等离子体枪产生的等离子体光束对无机材料进行加热来蒸镀的离子镀法等物理气相沉积法(PhysicalVaporDeposition法、PVD法)；使氧化硅的蒸镀膜制膜的情况下，可以列举以有机硅化合物为原料的等离子体化学气相沉积法(Chemical Vapor Deposition法，CVD法)等。

或者，作为无机层的形成方法，还能够适用涂布法、印刷法、转印法等。

-有机层-

有机层是指以有机材料为主成分的层，且优选为有机材料占50质量％以上、进一步占80质量％以上、尤其占90质量％以上的层。

作为有机层，能够参考日本特开2007-290369号公报的0020～0042段、日本特开2005-096108号公报的0074～0105段。另外，有机层优选在满足上述密合力条件的范围内包含卡多聚合物。由此，有机层与相邻的层的密合性、尤其与无机层的密合性变得良好，因而能够实现更进一步优异的阻气性。关于卡多聚合物的详细内容，能够参考上述日本特开2005-096108号公报的0085～0095段。

有机层的膜厚优选在0.05～10μm的范围内，其中，优选在0.5～10μm的范围内。有机层通过湿涂法来形成的情况下，有机层的膜厚在0.5～10μm的范围内，其中优选在1～5μm的范围内。并且，通过干涂法来形成的情况下，在0.05～5μm的范围内，其中优选在0.05～1μm的范围内。通过湿涂法或干涂法来形成的有机层的膜厚在上述的范围内，因而能够作为与无机层的密合性更加良好的有机层。

关于无机层、有机层的其他详细内容，能够参考上述日本特开2007-290369号公报、日本特开2005-096108号公报、进而US2012/0113672A1的记载。

在功能性薄膜中，有机层可以作为无机层的基底层形成，也可以作为无机层的保护层形成。并且，具有2层以上的无机层的情况下，有机层可以层叠于无机层之间。

＜功能性薄膜的制造方法＞

接着，对如上述构成的本发明的实施方式的功能性薄膜的制造工序的一例进行说明。

(涂布液制备工序)

在涂布液制备工序中，制备树脂层用涂布液。具体而言，利用罐等将分散于有机溶剂中的固化性化合物及聚合引发剂等各成分进行混合而制备涂布液。另外，涂布液中可以不含有有机溶剂。

(树脂层形成工序)

将树脂层用涂布液涂布于基材薄膜4上，在涂布了树脂层用涂布液上压接具有凹凸图案的模具(Mold)来形成具有凹部的指定图案，并使树脂层用涂布液固化，在基材薄膜4上制作层叠有具有多个凹部的树脂层3的功能性薄膜1。

树脂层形成工序中的固化处理只要根据涂布液适当地选择基于热固化或紫外线的光固化等。

通过基于紫外线的光固化来使树脂层3固化的情况下，紫外线的照射量优选为100～10000mJ/cm²。

通过热固化来使树脂层3固化的情况下，优选加热到20～100℃。

另外，关于功能性薄膜的制作方法，可以通过所谓的卷对卷(RtoR)连续进行上述各工序，也可以使用裁断片状的基材薄膜并通过所谓的单片式实施各工序的处理。

在此，对在涂布于基材薄膜4的树脂层用涂布液中形成多个凹部(凹凸图案)的方法进行具体说明。

作为图案的形成，如上述，能够使用在涂布于基材薄膜上的树脂层用涂布液上压接具有凹凸图案的模具(Mold)来形成微细的凹凸图案的方法。

并且，也能够通过喷墨法、滴注法进行图案形成。

在此，作为模具，可使用应转印的具有图案的模具。模具上的图案例如能够通过光刻或电子束曝光法等并根据所期望的加工精度而形成，但是模具图案形成方法并无特别限制。

透光性的模具材料并无特别限定，但是具有指定的强度、耐久性的材料即可。具体而言，可例示玻璃、石英、PMMA、聚碳酸酯树脂等光透明性树脂、透明金属蒸镀膜、聚二甲基硅氧烷等柔软膜、光固化膜、SUS等金属膜。

另一方面，作为非光透过型模具材料，并无特别限定，但只要是具有指定的强度的材料即可。具体而言，可例示陶瓷材料、蒸镀膜、磁性膜、反射膜、Ni、Cu、Cr、Fe等金属基板、SiC、硅、氮化硅、多晶硅、氧化硅、非晶态硅等基板等。并且，模具的形状也并无特别制约，可以为板状模具、辊状模具中的任一个。辊状模具可适用于尤其在转印的连续生产率所需的情况。

模具可以使用为了提高固化性化合物与模具表面的剥离性进行了脱模处理的模具。作为这种模具，可以列举涂布防水防油性优异的原材料，具体而言，也能够适当使用对聚四氟乙烯(PTFE)、类金刚石碳(DLC)进行了物理蒸镀(PVD)或化学蒸镀(CVD)的材料通过硅系、氟系等硅烷偶联剂进行了处理的材料，例如Daikin Industries Ltd.制OPTOOL DSX或Sumitomo 3M Limited制Novec EGC-1720等、市售的脱模剂。

作为使用了上述模具形成凹凸图案的方法，具体而言，可以列举如下方法：在涂布并固化在基材薄膜上的树脂层上，对树脂层或模具进行加热的状态下压接模具而形成微细的凹凸图案的热压印法；在涂布于基材薄膜上的树脂层用涂布液中压接具有凹凸图案的模具(模具)之后，用光固化树脂层而形成微细的凹凸图案的光压印法；形成微细的凹凸图案的熔融成型法等。其中，从生产速度优异且设备投资少的观点考虑，优选光压印法。

在进行光压印平板印刷术的情况下，通常优选为以10个大气压以下的模具压力来进行。通过将模具压力设为10个大气压以下，存在模具或基板不易变形且图案精度提高的倾向。并且，加压低，因此存在能够缩小装置的倾向，从这一点也优选。模具压力优选为在模具凸部的固化性组合物的残膜变少的范围内，选择能够确保模具转印的均匀性的区域。

固化部中的光照射的照射量只要充分大于固化所需的照射量即可。固化所需的照射量在调查固化性组合物的不饱和键的消耗量或固化膜的粘性后适当地决定。

并且，在光压印光刻中，光照射时的基板温度通常在室温中进行，但为了提高反应性，也可一边进行加热一边进行光照射。作为光照射的前阶段，若设为真空状态，则对于防止气泡混入、抑制由氧气混入所引起的反应性下降、提高模具与固化性组合物的密合性有效，因此也可在真空状态下进行光照射。并且，图案形成方法中，光照射时的优选的真空度为10^-1Pa至1个大气压的范围。

用于使固化性化合物固化的光并无特别限定，例如可以列举：高能量电离放射线，近紫外、远紫外、可见、红外等区域的波长的光或放射线。作为高能量电离放射线源，例如在工业上最便利且经济地使用通过科克罗夫特(Cockcroft)型加速器、范德格拉夫(Van deGraaff)型加速器、直线加速器、电子感应加速器、回旋加速器等加速器加速的电子束，此外，也能够使用放射性同位素或自原子炉等放射出来的γ射线、X射线、α射线、中子射线、质子线等放射线。作为紫外线源，例如可以列举：紫外线荧光灯、低压水银灯、高压水银灯、超高压水银灯、氙灯、碳弧灯、太阳灯、LED(l ight emitting diode，发光二极管)等。放射线例如包括有微波、EUV(extreme ultraviolet，极紫外线)。另外，LED、半导体激光、或者248nm的KrF准分子激光或193nmArF准分子激光等半导体的微细加工中所使用的激光也能够适宜地用于本发明。这些光可以使用单色光，也可以为多种波长不同的光(混合光)。

在曝光时，优选将曝光照度设为1mW/cm²～1000mW/cm²的范围。优选存在通过设为1mW/cm²以上，能够缩短曝光时间，因此生产性提高的倾向，并存在通过设为1000mW/cm²以下，能够抑制因产生副反应而引起的永久膜的特性的劣化的倾向。优选将曝光量设为5mJ/cm²～10000mJ/cm²的范围。若小于5mJ/cm²，则曝光范围变狭小、光固化变得不充分、容易产生未反应物附着于模具上等问题。另一方面，若超过10000mJ/cm²，则产生由组合物的分解所引起的永久膜的劣化的可能性。进而，在曝光时，为了防止由氧气引起的自由基聚合的阻碍，也可以流入氮气或氩气等惰性气体来将氧气浓度控制在小于100mg/L。

固化部中，在通过光照射使固化性化合物固化之后，根据需要还可以包含进行加热而使固化性化合物进一步固化的工序。作为在光照射后使固化性化合物加热固化的热，优选为80～280℃，更优选为100～200℃。并且，作为赋予热的时间，优选5～60分钟，进一步优选15～45分钟。

形成于树脂层的凹凸图案能够取任意形态，例如作为一例，可以列举：凹部的开口形状为正四边形或长方形的格子状网格图案、凹部为正六边形的蜂窝状图案、凹部为圆形的海岛图案、凹部为正五边形/正六边形的组合、直径不同的圆形的组合等复合图案、按六边形的大小具有面内分布的图案等。

其中，就能够抑制通过光压印法形成树脂层时从模具中剥离树脂层时的隔壁的缺损的观点而言，优选正方形、正六边形等正多边形及圆形图案。

并且，在上述例中，使树脂层固化的工序设为在使模具附着的状态下进行的结构，但也可以在模具剥离后进行。优选在使模具密合的状态下进行。

在进行热压印法的情况下，通常优选在模具压力0.1～100MPa的范围内进行。并且，优选将模具及树脂层的温度设在指定的范围，通常，模具温度设定为树脂层的玻璃化转变温度(Tg)以上，并且基材温度设定为低于模具温度的情况较多。

在进行熔融成型法的情况下，将成型的树脂加热到熔点以上的温度之后，立即在模具与基材薄膜之间浇注熔融状态的树脂(熔融树脂)之后进行压接·冷却而制作。作为适于进行熔融成型法时的树脂层3的材料，优选氧气透过系数低的高分子，具体而言，可以列举聚乙烯醇(PVA)、聚乙烯-乙烯醇共聚物(EVOH)、聚偏二氯乙烯(PVDC)、聚偏二氟乙烯(PVDF)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)等聚酯系树脂。其中，从透明性、耐热耐光性优异的观点考虑，优选(改性)聚乙烯醇，尤其优选聚乙烯-乙烯醇共聚物(EVOH)。

为了确保与形成树脂层的基材薄膜的密合性，可以在基材薄膜上设置锚固涂层(anchor coat layer)。作为锚固涂层的原材料，可以根据树脂层及基材薄膜的材质等适当地选择，例如在树脂层为EVOH、基材薄膜为PET的情况下，作为锚固涂层的原材料，可以列举氨基甲酸酯系、聚乙烯亚胺系、聚丁二烯系、(改性)聚烯烃系化合物，从耐水性及密合力优异的观点考虑，最优选氨基甲酸酯系、(改性)聚烯烃系化合物的锚固涂布原材料。作为具体的商品，例示有Toyo-Morton,Ltd.制EL-530A/B、Mitsui Chemicals,Inc.制Takelac A/Takenate A系列、Admer系列，Unistall系列。

＜有机EL元件＞

本发明的有机EL元件具有使用上述功能性薄膜密封有机EL器件的结构。

图7中示出本发明的有机EL元件的一例的示意的剖视图。

图7所示的有机EL元件10具有有机EL用基板11、形成于有机EL用基板11上的多个有机EL器件12及本发明的功能性薄膜1。

如图所示，功能性薄膜1朝向有机EL器件12侧层叠形成有凹部2的表面。并且，功能性薄膜1以在其凹部2内配置有机EL器件12的方式将凹部2的位置和有机EL器件12的位置合并层叠。

功能性薄膜1与有机EL用基板11及有机EL器件12通过有机EL装置中使用的以往公知的粘结剂来粘结。

并且，也可以为如下结构：在功能性薄膜1的凹部2内形成有机EL器件12，在形成有有机EL器件12的功能性薄膜1上粘贴有机EL用基板11。

作为有机EL器件12并无限定，能够使用以往公知的有机EL器件。例如，有机EL器件12具有有机电致发光层、夹持有机电致发光层的电极对即透明电极及反射电极而构成。

并且，有机EL用基板11能够使用玻璃基板等各种以往公知的有机EL用基板。

实施例

以下根据实施例进一步具体说明本发明。以下实施例示出的材料、使用量、比例、处理内容、处理顺序等只要不偏离本发明的主旨则能够适当进行更改。因此，本发明的范围不应由以下所示的具体例来进行限制性的解释。

[实施例1]

＜功能性薄膜的制作＞

(基材薄膜的制作)

作为基材薄膜4，以如下方式制作了在由聚对苯二甲酸乙二酯(PET)构成的支撑薄膜9上形成阻挡层5而成的阻挡膜，所述阻挡层5具有无机层及作为其无机层的基底层及保护层而涂布了下述组合物而成的有机层。

作为支撑薄膜9使用聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜(Toyobo Co.，Ltd.制造，商品名“Cosmoshine(注册商标)A4300”、厚度23μm)，在支撑薄膜9的单面侧由以下步骤依次形成了有机层及无机层。

-有机层的形成-

准备三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(产品名“TMPTA”，DAICEL-ALLNEX LTD.制)及光聚合引发剂(商品名“ESACURE(注册商标)KTO46”，Lamberti S.p.A制)，作为质量比率以成为95:5的方式进行称量，使将它们溶解于甲乙酮，从而设为了固体成分浓度为15％的涂布液。利用模涂布机通过卷对卷将该涂布液涂布在PET薄膜上，并使其在50℃的干燥区通过3分钟。然后，在氮气环境下照射(累计照射量为约600mJ/cm²)紫外线，利用紫外线使其固化并卷曲。形成于支撑体上的有机层的厚度为1μm。

-无机层的形成-

接着，使用卷对卷的CVD(chemical vapor deposition：化学气相沉积)装置，在有机层的表面形成了无机层(氮化硅层)。作为原料气体使用了硅烷气体(流量160sccm)、氨气(流量370sccm)、氢气(流量590sccm)及氮气(流量240sccm)。作为电源使用了频率13.56MHz的高频电源。成膜压力为40Pa，到達膜厚为50nm。以这种方式在形成于支撑体上的有机层的表面形成了无机层。

-第二有机层的形成-

此外，在无机层的表面层叠了第二有机层。在第二有机层中，相对于氨基甲酸酯骨架丙烯酸聚合物(商品名“ACRIT8BR930”，Taisei Fine ChemicalCO.,LTD.制)95.0质量份，称量5.0质量份的光聚合引发剂(商品名“IRGACURE184”，BASF公司制)，使它们溶解于甲乙酮从而设为了固体成分浓度为15％的涂布液。

利用模涂布机通过卷对卷将该涂布液直接涂布于上述无机层表面，并使其在100℃的干燥区通过3分钟。然后，一边卷到加热至60℃的加热辊上，一边对其照射紫外线(累计照射量为约600mJ/cm²)来使其固化，并进行卷绕。形成于支撑体上的第二有机层的厚度为1μm。以这种方式制作了具有由有机层、无机层及第二有机层构成的阻挡层的阻挡膜(基材薄膜)。

利用MOCON公司制、OX-TRAN 2/20测定了该阻挡膜的氧气透过率，结果示出4.0×10^-3cc/(m²·day·atm)以下的值。

(树脂层的形成)

作为树脂层形成用的涂布液1，用罐等混合固化性化合物、聚合引发剂及硅烷偶联剂等各成分而制备了涂布液。

-树脂层的涂布液1的组成-

制备下述组成的树脂层用涂布液而作为涂布液1。

·氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯(U-4HA(Shin-Nakamura Chemical CO.,LTD.制))49.5质量份

·三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯(A-DCP(Shin-Nakamura Chemical CO.,LTD.制))49.5质量份

·光聚合引发剂(IRGACURE 819(BASF公司制)) 1质量份

-树脂层的形成-

在基材薄膜4上涂布树脂层用涂布液来转印凹部之后使其光固化，形成了具有多个凹部的树脂层3。另外，没有对用于转印的模具的角部赋予曲率，而是使用了直角的角部。

在此，凹部设为了250μm×250μm的正方形状且格子状图案，凹部的深度h设为了40μm，宽度t设为50μm。即，纵横比h/t为0.8。没有对凹部的角部赋予曲率，而是设定为直角。

并且，光固化中，使用200W/cm的气冷金属卤化物灯(EYE GRAPHICS CO.,LTD.制)，从第1基材薄膜侧照射500mJ/cm²的紫外线来使树脂层固化。

并且，按照JIS K7161的基准计量固化后的树脂层的弹性模量的结果为3.1GPa。

并且，测定了固化后的树脂层的氧透过率的结果为1×10^-1cc/(m²·day·atm)。

[实施例2]

在凹陷形成时，则使用凹部的角部带曲率半径50μm的圆角的薄膜，并将凹部的曲率半径设为50μm，除此以外，以与实施例1相同的方式制作了功能性薄膜。

[实施例3]

在树脂层3的凹部2侧的表面上如下形成由无机层构成的凹凸部阻挡层6，并且在基材薄膜4上未形成阻挡层，除此以外，以与实施例1相同的方式制作了功能性薄膜。

-无机阻挡层的形成-

使用模涂布机将Aquamica NP140(AZFUJIFILM Electronic Materials Co.,Ltd.社制)涂布在树脂层3的凹部2侧的表面上，形成50μm厚度的涂膜，然后，使其在100℃的加热区域通过3分钟来使其干燥、固化，将无机阻挡层以1μm的厚度进行制膜。

[实施例4]

不具有基材薄膜，并将树脂层3的厚度设为5000μm，除此以外，以与实施例1相同的方式制作了功能性薄膜。即，实施例4的功能性薄膜为具有凹部2的树脂层3构成的单层薄膜。

另外，树脂层3通过将涂布液1涂布在伪支撑体(TOYOBO CO.,LTD.制A4100 100μm)上并转印凹部使其固化后从伪支撑体剥离而形成。

测定了固化后的树脂层的氧透过率的结果为1×10^-1cc/(m²·day·atm)。

[比较例1]

不具有树脂层，除此以外，以与实施例1相同的方式制作了功能性薄膜。即，准备了实施例1中使用的阻挡膜。

[比较例2]

代替涂布液1，使用了以下树脂层形成用涂布液2，除此以下，以与实施例1相同的方式制作了功能性薄膜。

按照JIS K7161的基准计量固化后的树脂层的弹性模量的结果为0.0015GPa。

并且，测定固化后的树脂层的氧透过率的结果为1.3×10³cc/(m²·day·atm)。

-树脂层的涂布液2的组成-

制备下述组成的树脂层用涂布液而作为涂布液1。

·紫外线固化型液状硅橡胶(PDMS(Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd.)

[比较例3]

代替涂布液1，使用了以下树脂层形成用涂布液3，除此以外，以与实施例1相同的方式制作了功能性薄膜。

并且，按照JIS K7161的基准计量固化后的树脂层的弹性模量的结果为110GPa。

并且，测定固化后的树脂层的氧透过率的结果为5×10^-2cc/(m²·day·atm)。

-树脂层的涂布液3的组成-

制备下述组成的树脂层用涂布液而作为涂布液1。

·氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯(U-4HA(Shin-Nakamura Chemical CO.,LTD.制))74.5质量份

·合成板状氧化铝(Seraph，KINSEI MATEC CO.,LTD.制)24.5质量份

·光聚合引发剂(IRGACURE 819(BASF公司制))1质量份

＜评价＞

在配置于玻璃基板(有机EL用基板)上的有机EL器件上设置功能性薄膜，从而评价了亮度劣化。

有机EL器件以纵100μm×横100μm×高度40μm、4×4格子状、200μm间隙配置在玻璃基板上。

使用热固化型粘结剂(DAIZO CORPORATION制、EPOTEC310)粘贴玻璃基板及有机EL器件和功能性薄膜，在65℃下加热3小时并使粘结剂固化，制作了密封的有机EL元件。

以如下方式进行了有机EL元件的亮度劣化的评价。

首先，使用Keithley社制SMU2400型源测量单位施加7V的电压使刚制作后的有机EL元件发光，使用设置在与有机EL元件的发光面垂直的方向520mm的位置的亮度计(商品名“SR3”，TOPCON社制)测定了初始亮度。

接着，将有机EL元件在60℃·相对湿度90％的较暗的室内静置500小时之后，以与上述相同的方式测定了亮度。

相对于初始亮度经过500小时之后的亮度为95％以上的设为A、小于95％且90％以上的设为B、将其以下设为C进行了评价。

将实施例和比较例的评价结果示于表1。

[表1]

由表1的结果可知，使用本发明的功能性薄膜进行密封的有机EL元件在经时后的亮度劣化小且耐湿热性优异。即，可知功能性薄膜能够表现出高阻气性。

并且，由实施例1与实施例2的对比可知，在隔壁设置R形状的亮度劣化小，因此优选。

此外，由实施例3可知，在树脂层的凹部侧的表面形成有阻挡层的树脂层即使在基材薄膜中没有阻挡层，亮度劣化也小，因此优选。

并且，由实施例1与实施例4的对比可知，优选具有基材薄膜。

在比较例1中可知亮度降低会迅速劣化。认为这是因为使阻挡薄膜弯曲以追随有机EL器件，从而产生裂缝并且阻挡性降低。

产业上的可利用性

本发明的功能性薄膜对在上述实施方式中对有机电致发光元件中的有机电致发光层进行密封的一例进行了说明，能够通过适当地选择种类来适用于有机太阳能电池中的有机光电转换层的密封等，并且能够获得抑制性能降低的效果。

符号说明

1、1a～1e-功能性薄膜，2-凹部，3-树脂层，4-基材薄膜，5-阻挡层，6-凹凸部阻挡层，7-连接部分，8-连接部分，9-支撑薄膜，10-有机EL元件，11-有机EL用基板，12-有机EL器件。

Claims

1.一种功能性薄膜，其具有树脂层，该树脂层对氧气具有不透过性，并且形成有离散地配置的多个凹部，树脂层的弹性模量为0.5GPa以上且10GPa以下，树脂层的氧透过率为10cc/(m²·day·atm)以下，

在所述树脂层的凹部侧的表面至少形成有无机层，形成于树脂层的所述凹部的角部的曲率半径为5μm以上且200μm以下，

夹着所述树脂层而相邻的所述凹部之间的最短距离中的氧透过率满足10cc/(m²·day·atm)以下，

夹着所述树脂层而相邻的所述凹部之间的最短距离为5μm以上且300μm以下。

2.根据权利要求1所述的功能性薄膜，其中，

在与形成有多个凹部的表面相反的一侧具有基材薄膜。

3.根据权利要求2所述的功能性薄膜，其中，

基材薄膜的氧透过率为1cc/(m²·day·atm)以下。

4.一种有机EL元件，其使用了权利要求1至3中任一项所述的功能性薄膜。