CN109895527B - 光学防伪元件及其制备方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种光学防伪元件及其制备方法，属于光学防伪领域。所述光学防伪元件至少包括：基材；位于所述基材上的起伏结构层，该起伏结构层包括具有第一起伏结构的第一区域和具有第二起伏结构的第二区域，其中所述第一起伏结构表面的比体积小于所述第二起伏结构表面的比体积；仅位于所述第一区域上的镀层；位于所述镀层上且覆盖所述第一区域的至少第一子区域的具有第一颜色特征的涂层；以及位于所述镀层上且覆盖所述第一区域的至少第二子区域的具有不同于所述第一颜色特征的第二颜色特征的涂层。本发明提供的光学防伪元件实现了多彩色特征和无误差精准镂空特征相集成的效果，能够兼具鲜艳的外观和极高的抗伪造能力。

Description

光学防伪元件及其制备方法

技术领域

本发明涉及光学防伪领域，具体地，涉及一种光学防伪元件及其制备方法。

背景技术

目前，钞票、信用卡、护照等各类高安全或高附加值印刷品中广泛采用了光学防伪技术。在各种光学防伪技术中，为了增加图像的亮度，光学防伪元件一般采用金属镀层或者高折射率的无机或有机镀层，甚至多层干涉膜颜色光变镀层。对镀层进行镂空从而形成图案化能够大幅度提高光学防伪元件的视觉效果和抗伪造能力。

对镀层进行镂空一般采用印刷碱洗镂空工艺。其基本原理是利用碱液对镀层(例如，铝层)的化学腐蚀作用而达到镂空的目的，具体执行时需先在基材上蒸镀反射层，然后在不需要镂空的位置印刷保护层，然后浸入碱液以腐蚀掉未被保护层覆盖的镀层，从而形成镂空图文。针对铝层，也有公司采用酸代替碱与铝反应进行镂空。在这种镂空工艺中，印刷保护层需与膜上的光学微结构图像(例如，全息图像)进行套印对准。而现有设备的套印误差一般都在0.1mm以上，且难以稳定控制，因此得到连续化的、准确定位的镂空图像具有很高的难度，并致使成品率低。

近年来，光学防伪行业开发了具有精准无误差特征的脱金属镂空技术，镂空线条的精细度可达微米量级，进一步提升了防伪力度。例如，专利申请公开号为US2008/0050660A1的美国专利申请提出了一种去镀层方案。首先，提供含有深宽比大的凹凸结构的第一区域和深宽比更小的凹凸结构的第二区域。接着，在该凹凸结构层上，以均匀的表面密度形成金属反射镀层。然后，在金属反射镀层上形成感光胶层。然后，从施工一侧的对侧将层叠体的整面曝光。这样，由于第一区域和第二区域的镀层光透过率的差异，与第一区域对应的感光胶层能够以更高的效率产生光反应。接着，通过采用适当的溶剂等对其进行处理，将第一区域或第二区域对应的感光胶层除去。然后，采用未被除去的感光胶层作为保护层，进行金属反射层的蚀刻处理。如此，只将金属反射层中的与第一区域或第二区域对应的部分除去，达到了准确定位的去反射层镂空效果。

公开号为CN102460236A的中国专利申请提出了另外一种去反射镀层解决方案。首先，提供含有平坦的或深宽比小的凹凸结构的第一区域和含有深宽比更大的凹凸结构的第二起伏结构层。接着，在该凹凸结构层上，以均匀的表面密度形成金属反射层。然后，在金属反射层上蒸镀不同于金属反射层材料的掩膜层，掩膜层一般由无机化合物构成。掩膜层的厚度需满足以下条件：在第一区域覆盖有完整连续的掩膜层，而第二区域的掩膜层在凹部或凸部之间有开口。接着，将掩模层暴露于可与金属反射层材料反应的气体或液体中。这样，与第二区域对应的金属反射层和掩膜层均被除去，而与第一区域对应的金属反射层得以完整保留。

但是，本申请发明人在实施上述方案的过程中发现，上述两种方法呈现的图像均为由纯金属反射层呈现的单一颜色特征，无法兼顾采用油墨呈现的多彩色特征。

发明内容

本发明实施例的目的是提供一种光学防伪元件及其制备方法，用于解决或至少部分解决上述技术缺陷。

为了实现上述目的，本发明提供一种光学防伪元件，该光学防伪元件至少包括：基材；位于所述基材上的起伏结构层，该起伏结构层包括具有第一起伏结构的第一区域和具有第二起伏结构的第二区域，其中所述第一起伏结构表面的比体积小于所述第二起伏结构表面的比体积；仅位于所述第一区域上的镀层；位于所述镀层上且覆盖所述第一区域的至少第一子区域的具有第一颜色特征的涂层；以及位于所述镀层上且覆盖所述第一区域的至少第二子区域的具有不同于所述第一颜色特征的第二颜色特征的涂层。

相应地，本发明还提供一种光学防伪元件的制备方法，包括：在基材上形成起伏结构层，该起伏结构层包括具有第一起伏结构的第一区域和具有第二起伏结构的第二区域，其中所述第一起伏结构表面的比体积小于所述第二起伏结构表面的比体积；在所述起伏结构层上形成镀层；在对应于所述第一区域的至少第一子区域的镀层上形成具有第一颜色特征的涂层；在对应于第一区域的至少第二子区域的镀层上形成具有第二颜色特征的涂层，其中所述第二颜色特征不同于所述第一颜色特征；将根据上述步骤形成的结构置于能够与所述镀层反应的氛围中，直到第二区域上的镀层被完全或者部分腐蚀但所述第一区域上的镀层得以保留为止。

通过上述技术方案，第一起伏结构表面的比体积小于第二起伏结构表面的比体积，使得根据本发明提供的光学防伪元件能够实现镀层的精准镂空。第一区域的子区域上的具有不同颜色特征的涂层，使得根据本发明提供光学防伪元件能够显现多彩色特征。也就是说，本发明提供的光学防伪元件实现了多彩色特征和无误差精准镂空特征相集成的效果，能够兼具鲜艳的外观和极高的抗伪造能力。

本发明实施例的其它特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。

附图说明

附图是用来提供对本发明实施例的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本发明实施例，但并不构成对本发明实施例的限制。在附图中：

图1示出了根据本发明实施方式的示例性光学防伪元件的俯视图；

图2(a)至图2(b)是沿着图1中的X-X线看到的可能的剖面图；以及

图3至图6(b)示出了根据本发明实施方式的制备光学防伪元件的方法的流程剖面图。

具体实施方式

以下结合附图对本发明实施例的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明实施例，并不用于限制本发明实施例。

在本发明中，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。

为了能够对根据本发明实施方式的光学防伪元件及其制备方法进行更形象的描述，以形成图1和图2所示的示例性光学防伪元件为例对本发明进行示例性描述。其中图1是示例性光学防伪元件的俯视图，图2(a)-2(b)是沿着图1的X-X线所看到的示例性剖面图。图1中的文字部分为具有镀层的显示区域，其与图2(a)-2(b)中的第一区域a相对应。一般而言，为了防伪的需要，显示区域往往采用特殊光学技术制备的具有特殊效果(例如，全息、结构色效果)的图像，图1中的背景部分为去镀层的镂空区域，其与图2(a)-2(b)中的第二区域b相对应。从结构上讲，图1所示的光学防伪元件可以有图2(a)或图2(b)所示的层状结构。

如图2(a)-2(b)所示，从结构上来说，本发明提供的光学防伪元件至少可以包括：基材1，该基材1可以是柔性支撑层，例如薄膜基材等；位于基材1上的起伏结构层2，起伏结构层2可以包括具有第一起伏结构的第一区域a和具有第二起伏结构的第二区域b，其中第一起伏结构表面的比体积可以小于第二起伏结构表面的比体积；仅位于第一区域a而不位于第二区域b上的镀层3；位于镀层3上且覆盖第一区域a的至少第一子区域a1的具有第一颜色特征的涂层41；以及位于镀层3上且覆盖第一区域a的至少第二子区域a2的具有不同于第一颜色特征的第二颜色特征的涂层42。

具有第一颜色特征的涂层41和具有第二颜色特征的涂层42可以不互相重叠如图2(a)所示，也可以在局部图像区域重叠，如图2(b)所示。图2(b)中示出，具有第一颜色特征的涂层41和具有第二颜色特征的涂层42在第一子区域a1上重叠，则第一区域a的第一子区域a1的对应部分可以呈现第一颜色特征和第二颜色特征的混合色，可选地，这种结构可以适用于具有第一颜色特征的涂层41或具有第二颜色特征的涂层42是无色透明涂层的情况。可以理解，图2(b)仅是示意性的，具有第一颜色特征的涂层41和具有第二颜色特征的涂层42也可以在第二子区域a2上重叠。此外，具有第一颜色特征的涂层41和具有第二颜色特征的涂层42的重叠顺序也不做特定限制，重叠结构中，具有第二颜色特征的涂层42可以在具有第一颜色特征的涂层41之上或之下。

本发明提供的光学防伪元件还可以包括其他功能涂层5，例如，可以是保护层等，以进一步完善光学防伪元件的功能。

另外，本发明中提到的起伏结构表面的比体积是指将起伏结构层放置于水平状态，恰好完全覆盖起伏结构表面的液体体积与起伏结构表面在水平面上的投影面积的比值。比体积的量纲为um³/um²。按照此定义，平坦结构看做是比体积为零的起伏结构。以图3所示的剖面图为例，在起伏结构层放置于水平状态时，选取起伏结构表面在水平面的一投影面积S，第一起伏结构中恰好完全覆盖与该投影面积S相对应的起伏结构表面的液体体积为V_a，第二起伏结构中恰好完全覆盖与该投影面积S相对应的起伏结构表面的液体体积为V_b，则第一起伏结构表面的比体积等于V_a/S，第二起伏结构表面的比体积等于V_b/S。

本发明还提供一种制备上述光学防伪元件的方法，下面结合图3至图6对该制备方法进行详细描述，该制备方法可以包括步骤S11至S14。

步骤S11，在基材1上形成起伏结构层2。如图3的剖面图所示。

具体而言，基材1可以是柔性支撑层，该柔性支撑层可以是至少局部透明的，也可以是有色的介质层，还可以是表面带有功能涂层(例如，附着力增强层)的透明介质薄膜，还可以是经过复合而成的多层膜。基材1可以由耐物化性能良好且机械强度高的薄膜材料形成，例如，可以使用聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)薄膜及聚丙烯(PP)薄膜等塑料薄膜形成基材1，而且基材1优选由PET材料形成。

起伏结构层2可以具有这样的性质，即在一定的温度和压力下能够变形，形成所需的起伏结构。起伏结构层2可以选择热塑性材料，也可以选择辐射固化材料。如图3所示，起伏结构层2可以包括具有第一起伏结构的第一区域a和具有第二起伏结构的第二区域b，其中第一起伏结构表面的比体积(V_a/S)可以小于第二起伏结构表面的比体积(V_b/S)。这样，在后续步骤中在镀层上形成颜色涂层后，涂层在第二起伏结构的最小厚度(一般位于起伏结构的最顶部)会比涂层在第一起伏结构的最小厚度小，因而在第二起伏结构上的涂层对镀层的保护作用要差。

第一起伏结构形貌及尺寸可以由所需要的光学效果决定，其截面可以是余弦结构、锯齿形结构、柱面结构、球面结构、棱锥结构、方波型结构或者它们的组合，优选可以为余弦结构、锯齿形结构、方波型结构或它们的组合。一般而言，第一起伏结构表面的比体积小于0.2um³/um²，优选小于0.1um³/um²。

另外，采用根据本发明的方法制备光学防伪元件时，会最终在第二区域b中形成镂空结构，也即第二区域b中最后一般不形成光学效果。第二区域b中的起伏结构的截面可以是余弦结构、锯齿形结构、柱面结构、球面结构、棱锥结构、方波型结构或者它们的组合，优选为锯齿形结构。位于第二区域b的第二起伏结构表面的比体积越大越有利于本发明的实施，一般优选大于0.2μm³/μm²，更优选大于0.5μm³/μm²。另外，第二起伏结构的周期可以大于1μm而小于20μm，优选大于3um而小于15um。第二起伏结构的深度优选大于0.3μm而小于10μm，优选大于2um而小于5um。如果第二区域b中的起伏结构的周期过大，则后续去镀层步骤中的反应时间太长，势必会造成位于第一区域a上的镀层尤其是位于第一区域a边缘的镀层受到腐蚀。如果第一起伏结构或第二起伏结构的深度过大，则对于制版和复制的要求过高，不利于工程的实施。

步骤S12，在起伏结构层2的表面上形成镀层3。如图4的剖面图所示。

镀层3的目的一般是增加图像保留区的亮度，或者提供光变效果。镀层3可以是单层物质镀层，也可以是多层物质镀层。就单层物质镀层而言，可以是金属镀层，也可以是无机或有机化合物镀层。单层金属镀层可以是Al、Cu、Ni、Cr、Ag、Fe、Sn、Au、或Pt等金属或其混合物和合金，由于铝的成本低廉且亮度高，因此优选为铝。单层金属镀层的光学密度一般大于1.5但小于4.0。如果光学密度太大(即厚度太大)，则使得金属镀层与起伏结构层的牢度不够好；如果光学密度太小(即厚度太小)，则使得金属镀层的亮度不够，因此金属镀层需要选择合适的光学密度。单层化合物镀层一般选择折射率较高的材料，如ZnS、TiN、TiO₂、TiO、Ti₂O₃、Ti₃O₅、Ta₂O₅、Nb₂O₅、CeO₂、Bi₂O₃、Cr₂O₃、Fe₂O₃、HfO₂、或ZnO等。就多层物质镀层而言，可以是多层干涉膜型镀层，且结构可以至少包括依次层叠的反射层、介电层和吸收层，其中吸收层与所述起伏结构层相接触。其中，所述反射层可以由铝、银、铜、锡、铬、镍、钛或它们的合金构成，所述介电层可以由MgF₂、SiO₂、ZnS、TiN、TiO₂、TiO、Ti₂O₃、Ti₃O₅、Ta₂O₅、Nb₂O₅、CeO₂、Bi₂O₃、Cr₂O₃、Fe₂O₃、HfO₂或ZnO构成，所述吸收层可以由铬、镍、铝、银、铜、锡、钛或它们的合金构成。这样，在后续去镀层步骤完成后，可以获得一侧具有光变效果、另一侧具有油墨彩色的精准镂空薄膜光学防伪元件。

镀层3可以是同型覆盖于起伏结构层2，但若镀层3较厚，有时蒸镀工序后，镀层的上表面与起伏结构层的表面可以略微不同型覆盖。一般情况下，都不影响本发明的实施。

步骤S13，在对应于第一区域a的至少第一子区域a1上的镀层3上形成具有第一颜色特征的涂层41，以及在对应于第一区域a的至少第二子区域a2上的镀层3上形成具有第二颜色特征的涂层42，其中第二颜色特征可以不同于第一颜色特征。如图5(a)和5(b)的剖面图所示。

具有第一颜色特征的涂层41和具有第二颜色特征的涂层42的目的是赋予镀层3靓丽的色彩，并且提供对镀层3的保护作用。如图5(a)所示，在对应于第一子区域a1上的镀层3上形成具有第一颜色特征的涂层41时，具有第一颜色特征的涂层41应该至少完全覆盖第一子区域a1。为了使具有第一颜色特征的涂层41完全覆盖第一子区域a1，具有第一颜色特征的涂层41可以覆盖图5(a)中所示的A1区域，该A1区域包括完整的第一子区域a1和与该第一子区域a1相邻的第二区域b的一部分。类似的，为了使具有第二颜色特征的涂层42完全覆盖第二子区域a2，具有第二颜色特征的涂层42可以覆盖图5(a)中所示的B1区域，该B1区域包括完整的第二子区域a2和与该第二子区域a2相邻的第二区域b的一部分。

由于第一起伏结构表面的比体积小于第二起伏结构表面的比体积，则形成涂层之后，涂层在第二起伏结构的最小厚度(一般位于起伏结构的最顶部)会比在第一起伏结构的最小厚度t_a小，因而对镀层的保护作用要差。因此，在后续步骤中执行对镀层的腐蚀时，在一定的时间内，腐蚀氛围会通过第二区域涂层的脆弱点到达镀层并腐蚀镀层，而在此时间内，第一区域的涂层能够对该区域的镀层形成有效的保护。这样便获得了精确位于第一区域的镀层。尤其可以选择颜色涂层合适的涂布量，以使得涂层的比体积大于第一起伏结构表面的比体积而小于第二起伏结构表面的比体积。这样，涂层在第一起伏结构的顶端的厚度明显大于零，因而对第一起伏结构上的镀层的保护性非常好，而涂层在第二起伏结构的顶端的厚度非常接近于零，因而对第二起伏结构上的镀层的保护性非常差。很明显，第一起伏结构和第二起伏结构的比体积差别越大，可实施性就越高。可选地，具有第一颜色特征的涂层41和具有第二颜色特征的涂层42任意一者的比体积可以均大于0.1um³/um²而小于1um³/um²，优选大于0.2um³/um²而小于0.5um³/um²。涂层原液的涂布粘度越小越有利于流平，因此，涂层原液的粘度可以小于100cP，优选小于50cP。

颜色涂层的形成方式可以有两种，一种方式可以是在对应于第一区域a的至少第一子区域a1上的镀层3上印刷具有第一颜色特征的涂层41，在对应于第一区域a的至少第二子区域a2上的镀层3上印刷具有第二颜色特征的涂层42，，如图5(a)所示，如此在形成的光学防伪元件中，具有第一颜色特征的涂层41和具有第二颜色特征的涂层42是不重叠的。另一种方式可以是在对应于第一区域a的至少第一子区域a1上的镀层3上印刷具有第一颜色特征的涂层41，再整体涂布具有第二颜色特征的涂层42，如图5(b)所示，如此在形成的光学防伪元件中，具有第一颜色特征的涂层41和具有第二颜色特征的涂层42是局部重叠的，例如可以在第一子区域a1上重叠。若采用图5(b)所示的方法，则可以要求具有第一颜色特征的涂层41和具有第二颜色特征的涂层42的比体积之和小于第二区域微结构的比体积，以确保涂层对第二区域镀层的保护是脆弱的。采用图5(b)所示的方法会使得第一区域a的第一子区域a1呈现出具有第一颜色特征的涂层41和具有第二颜色特征的涂层42的混合色，这种结构可以适合于具有第二颜色特征的涂层42是无色透明涂层的情况。当然，图5(b)所示的方法中，两种颜色涂层的形成顺序可以颠倒，即可以先整体涂布具有第二颜色特征的涂层42，再在对应于第一区域a的至少第一子区域a1上的镀层3上印刷具有第一颜色特征的涂层41。

步骤S14，将根据步骤S11-S13获得的多层结构体置于能与镀层反应的氛围中，直到第二区域的镀层被完全或者部分腐蚀但第一区域上的镀层得以保留为止。如图6(a)和6(b)的剖面图所示。

如前所述，颜色涂层在第二起伏结构的最小厚度比其在第一起伏结构的最小厚度小，因而保护胶对镀层的保护作用要差。将根据步骤S11-S13获得的多层结构体置于某种能与镀层反应的氛围中，则该氛围会通过第二区域的涂层的脆弱点到达镀层并腐蚀镀层，直到第二区域的镀层被完全腐蚀或者直到达到所需要的部分腐蚀程度为止。第二区域的镀层被完全腐蚀后，镀层上的涂层也随之浮脱。在这个过程中，由于涂层在第一起伏结构的最小厚度较厚，对镀层的保护作用较好，因而在第一区域上的镀层没有被腐蚀或者被腐蚀的程度非常低。

若具有第一颜色特征的涂层41和具有第二颜色特征的涂层42不重叠形成，如图5(a)所示，则步骤S14之后，颜色涂层41和42不重叠，第一区域a的第一子区域a1和第二子区域a2分别呈现涂层41和42的颜色，如图6(a)所示。若具有第一颜色特征的涂层41和具有第二颜色特征的涂层42重叠形成，如图5(b)所示，则步骤S14之后，第一区域a的第一子区域a1呈现涂层41和42的混合色，如图6(b)所示。

至此，根据本发明实施方式的制备光学防伪元件的方法所制备的光学防伪元件就能够具有无误差精准镂空特征和多彩色特征相集成的光学效果。

进一步地，根据本发明的制备光学防伪元件的方法还可以包括以下步骤：在经步骤S14镂空之后的光学防伪元件上涂布保护层和/或功能涂层5，如图2的剖面图所示。涂层5可以是单层，也可以是多层。涂层5可以具有保护作用，保护镀层在使用环境中不被外界条件腐蚀，同时一般还具有与其他基材粘合的作用，所述其他基材例如可以是纸张。

根据本发明实施方式的制备光学防伪元件的方法适合于制备标签、标识、宽条、透明窗口、开窗安全线等，尤其适合制备烫印标。

以上结合附图详细描述了本发明实施例的可选实施方式，但是，本发明实施例并不限于上述实施方式中的具体细节，在本发明实施例的技术构思范围内，可以对本发明实施例的技术方案进行多种简单变型，这些简单变型均属于本发明实施例的保护范围。

另外需要说明的是，在上述具体实施方式中所描述的各个具体技术特征，在不矛盾的情况下，可以通过任何合适的方式进行组合。为了避免不必要的重复，本发明实施例对各种可能的组合方式不再另行说明。

此外，本发明实施例的各种不同的实施方式之间也可以进行任意组合，只要其不违背本发明实施例的思想，其同样应当视为本发明实施例所公开的内容。

Claims (30)

1.一种光学防伪元件，该光学防伪元件至少包括：

基材；

位于所述基材上的起伏结构层，该起伏结构层包括具有第一起伏结构的第一区域和具有第二起伏结构的第二区域，其中所述第一起伏结构表面的比体积小于所述第二起伏结构表面的比体积；

仅位于所述第一区域上的镀层；

位于所述镀层上且覆盖所述第一区域的至少第一子区域的具有第一颜色特征的涂层；以及

位于所述镀层上且覆盖所述第一区域的至少第二子区域的具有不同于所述第一颜色特征的第二颜色特征的涂层，其中具有第一颜色特征的涂层与具有第二颜色特征的涂层通过涂布的方式形成，

其中，所述具有第一颜色特征的涂层仅覆盖所述第一子区域且所述具有第二颜色特征的涂层仅覆盖第二子区域，或者所述具有第一颜色特征的涂层和所述具有第二颜色特征的涂层在所述第一子区域或所述第二子区域中一者上重叠。

2.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其中，所述第一起伏结构表面的比体积小于0.2um³/um²。

3.根据权利要求2所述的光学防伪元件，其中，所述第一起伏结构表面的比体积小于0.1um³/um²。

4.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其中，所述第一起伏结构的截面或所述第二起伏结构的截面为余弦结构、锯齿形结构、柱面结构、球面结构、棱锥结构、方波型结构或它们的组合。

5.根据权利要求4所述的光学防伪元件，其中，所述第一起伏结构的截面为余弦结构、锯齿形结构、方波型结构或它们的组合。

6.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其中，所述第二起伏结构表面的比体积大于0.2um³/um²。

7.根据权利要求6所述的光学防伪元件，其中，所述第二起伏结构表面的比体积大于0.5um³/um²。

8.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其中，所述第二起伏结构的周期大于1um而小于20um。

9.根据权利要求8所述的光学防伪元件，其中，所述第二起伏结构的周期大于3um而小于15um。

10.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其中，所述第二起伏结构的深度大于0.3um而小于10um。

11.根据权利要求10所述的光学防伪元件，其中，所述第二起伏结构的深度大于2um而小于5um。

12.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其中，所述具有第一颜色特征的涂层和所述具有第二颜色特征的涂层的比体积均大于所述第一起伏结构表面的比体积，而小于所述第二起伏结构表面的比体积。

13.根据权利要求12所述的光学防伪元件，其中，所述具有第一颜色特征的涂层和所述具有第二颜色特征的涂层的比体积均大于0.1um³/um²而小于1um³/um²。

14.根据权利要求13所述的光学防伪元件，其中，所述具有第一颜色特征的涂层和所述具有第二颜色特征的涂层的比体积均大于0.2um³/um²而小于0.5um³/um²。

15.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其中，所述具有第一颜色特征的涂层和所述具有第二颜色特征的涂层之一为透明无色涂层。

16.一种光学防伪元件的制备方法，包括：

在基材上形成起伏结构层，该起伏结构层包括具有第一起伏结构的第一区域和具有第二起伏结构的第二区域，其中所述第一起伏结构表面的比体积小于所述第二起伏结构表面的比体积；

在所述起伏结构层上形成镀层；

在对应于所述第一区域的至少第一子区域的镀层上形成具有第一颜色特征的涂层；

在对应于第一区域的至少第二子区域的镀层上形成具有第二颜色特征的涂层，其中所述第二颜色特征不同于所述第一颜色特征；

将根据上述步骤形成的结构置于能够与所述镀层反应的氛围中，直到第二区域上的镀层被完全或者部分腐蚀但所述第一区域上的镀层得以保留为止，

其中，具有第一颜色特征的涂层与具有第二颜色特征的涂层通过涂布的方式形成，

其中制备形成的所述光学防伪元件中，所述具有第一颜色特征的涂层仅覆盖所述第一子区域且所述具有第二颜色特征的涂层仅覆盖第二子区域，或者所述具有第一颜色特征的涂层和所述具有第二颜色特征的涂层在所述第一子区域或所述第二子区域中一者上重叠。

17.根据权利要求16所述的方法，其中，所述第一起伏结构表面的比体积小于0.2um³/um²。

18.根据权利要求17所述的方法，其中，所述第一起伏结构表面的比体积小于0.1um³/um²。

19.根据权利要求16所述的方法，其中，所述第一起伏结构的截面或所述第二起伏结构的截面为余弦结构、锯齿形结构、柱面结构、球面结构、棱锥结构、方波型结构或它们的组合。

20.根据权利要求16所述的方法，其中，所述第一起伏结构的截面为余弦结构、锯齿形结构、方波型结构或它们的组合。

21.根据权利要求16所述的方法，其中，所述第二起伏结构表面的比体积大于0.2um³/um²。

22.根据权利要求21所述的方法，其中所述第二起伏结构表面的比体积大于0.5um³/um²。

23.根据权利要求16所述的方法，其中，所述第二起伏结构的周期大于1um而小于20um。

24.根据权利要求23所述的方法，其中，所述第二起伏结构的周期大于3um而小于15um。

25.根据权利要求16所述的方法，其中，所述第二起伏结构的深度大于0.3um而小于10um。

26.根据权利要求25所述的方法，其中，所述第二起伏结构的深度大于2um而小于5um。

27.根据权利要求16所述的方法，其中，所述具有第一颜色特征的涂层和所述具有第二颜色特征的涂层的比体积均大于所述第一起伏结构表面的比体积，而小于所述第二起伏结构表面的比体积。

28.根据权利要求16所述的方法，其中，所述具有第一颜色特征的涂层和所述具有第二颜色特征的涂层的比体积均大于0.1um³/um²而小于1um³/um²。

29.根据权利要求28所述的方法，其中，所述具有第一颜色特征的涂层和所述具有第二颜色特征的涂层的比体积均大于0.2um³/um²而小于0.5um³/um²。

30.根据权利要求16所述的方法，其中，所述具有第一颜色特征的涂层和所述具有第二颜色特征的涂层之一为透明无色涂层。

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