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CN109791244B - 光学膜及使用其的层叠膜、以及光学膜的制造方法 - Google Patents

光学膜及使用其的层叠膜、以及光学膜的制造方法 Download PDF

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CN109791244B CN201780059838.XA CN201780059838A CN109791244B CN 109791244 B CN109791244 B CN 109791244B CN 201780059838 A CN201780059838 A CN 201780059838A CN 109791244 B CN109791244 B CN 109791244B
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Abstract

本发明的目的为提供操作时不易产生折痕、刮伤这样的缺陷的光学膜。另外，本发明的目的为提供使用了上述光学膜的柔性装置用前面板及柔性装置。光学膜，其为含有聚酰亚胺系高分子的光学膜，其中，上述光学膜的端面为相对于上述光学膜的表面以5°以上且75°以下的角度倾斜的倾斜面。

Description

光学膜及使用其的层叠膜、以及光学膜的制造方法
技术领域
本发明涉及光学膜、使用其的层叠膜及柔性装置、以及光学膜的制造方法。
背景技术
以往，作为太阳能电池、显示器等各种显示部件的基材及前面板等透明部件的材料，使用了玻璃。然而，玻璃存在容易破裂、重这样的缺点。另外，相对于近年来的显示器的薄型化及轻质化、柔性化的要求，尚不存在令人满意的材质。因此，作为代替玻璃的柔性装置的透明部件，对各种膜(光学膜)进行了研究。
例如，专利文献1中公开了使用聚酰亚胺树脂组合物而形成的、透明性、柔性及耐折性等优异的聚酰亚胺膜。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2009-215412号公报
发明内容
发明要解决的课题
然而，以往的聚酰亚胺系膜存在操作时容易产生折痕、刮伤这样的缺陷的问题。因此，在将膜单独拿起并移动的操作(如将切取的膜以沿相同方向重叠的方式进行堆积的工序、从已堆积的膜中将膜一片片地取出并供于后续加工的工序等)中产生折痕等缺陷，存在成品率降低的倾向。
本发明是鉴于上述现有技术存在的课题而作出的，目的在于提供操作时不易产生折痕、刮伤这样的缺陷的光学膜及层叠膜。另外，本发明的目的为提供使用了上述光学膜的柔性装置用前面板及柔性装置。此外，本发明的目的为提供上述光学膜的制造方法。
用于解决课题的手段
为了实现上述目的，本发明提供下述光学膜，其为含有聚酰亚胺系高分子的光学膜，其中，上述光学膜的端面为相对于上述光学膜的表面以5°以上且75°以下的角度倾斜的倾斜面。
本申请的发明人进行了深入研究，结果发现，就以往的聚酰亚胺系膜而言，在膜的操作时将膜拖动等情况下，膜端部被挂住而不规则地弯曲或折弯，容易在膜表面产生折痕、刮伤这样的缺陷。这些缺陷不仅在膜端部产生，而且在包括膜中央附近在内的整个膜表面产生。相对于这样的以往聚酰亚胺系膜，根据上述本发明的光学膜，通过使端面成为以上述规定的角度倾斜的倾斜面，可抑制光学膜的操作时端部被挂住而不规则地弯曲或折弯，能够抑制在膜表面产生折痕、刮伤这样的缺陷。
就上述光学膜而言，在下述区域中测得的、由下述式(A)定义的DMT弹性模量的偏差(Ra)的值可以为500MPa以下，所述区域为垂直地切割上述光学膜的上述端面而成的截面的距上述端面10～20μm内侧的区域。
[数学式1]
Figure BDA0002009022230000021
[式(A)中，L表示Ra的计算范围的长度，M(x)表示测定位置x处的DMT弹性模量的测定值。]
上述光学膜中，上述倾斜面可以为激光切面。换言之，上述光学膜中，上述倾斜面可以为基于激光照射的切面。
本发明还提供下述光学膜，其为含有聚酰亚胺系高分子的光学膜，其中，在下述区域中测得的、由下述式(A)定义的DMT弹性模量的偏差(Ra)的值为500MPa以下，所述区域为垂直地切割上述光学膜的端面而成的截面的距上述端面10～20μm内侧的区域。
[数学式2]
Figure BDA0002009022230000031
[式(A)中，L表示Ra的计算范围的长度，M(x)表示测定位置x处的DMT弹性模量的测定值。]
根据上述本发明的光学膜，通过使针对其端面利用上述方法测得的DMT弹性模量的偏差(Ra)的值在上述范围内，可抑制端部附近的应变的残留，可抑制光学膜的操作时端部被挂住而不规则地弯曲或折弯，能够抑制在膜表面产生折痕、刮伤这样的缺陷。
上述光学膜可以还含有二氧化硅粒子。
上述光学膜中，以上述聚酰亚胺系高分子的总质量为基准，上述聚酰亚胺系高分子可以含有5质量％以上的氟原子。
上述光学膜的厚度可以为20μm以上且100μm以下。
本发明还提供下述层叠膜，其具备上述本发明的光学膜、和层叠于该光学膜的至少一个表面上的功能层，上述光学膜的端面与上述功能层的端面连接。
根据上述层叠膜，通过使构成该层叠膜的光学膜的端面成为以上述规定的角度倾斜的倾斜面、或者使针对光学膜的端面利用上述方法测得的DMT弹性模量的偏差(Ra)的值在上述范围内，从而可抑制层叠膜的操作时端部被挂住而不规则地弯曲或折弯，能够抑制在膜表面产生折痕、刮伤这样的缺陷。
上述层叠膜中，可以是上述功能层的端面为相对于上述功能层的表面以5°以上且75°以下的角度倾斜的倾斜面，并且上述光学膜的上述倾斜面与上述功能层的上述倾斜面连续地连接。在该情况下，可进一步抑制层叠膜的操作时端部被挂住而不规则地弯曲或折弯，能够进一步抑制在膜表面产生折痕、刮伤这样的缺陷。
上述层叠膜中，上述功能层可以为硬涂层。
本发明还提供具有通过激光照射对端部进行切割加工的工序的、含有聚酰亚胺系高分子的光学膜的制造方法。
上述光学膜的制造方法中，通过上述切割加工而形成的上述光学膜的端面可以为相对于上述光学膜的表面以5°以上且75°以下的角度倾斜的倾斜面。
上述光学膜的制造方法中，在下述区域中测得的、由下述式(A)定义的DMT弹性模量的偏差(Ra)的值可以为500MPa以下，所述区域为将通过上述切割加工而形成的上述光学膜的端面垂直地切割而成的截面的、距上述端面10～20μm内侧的区域。
[数学式3]
Figure BDA0002009022230000041
[式(A)中，L表示Ra的计算范围的长度，M(x)表示测定位置x处的DMT弹性模量的测定值。]
本发明还提高具有上述本发明的光学膜的柔性装置用前面板。
本发明还提供具有柔性功能层和上述本发明的光学膜的柔性装置。
[发明的效果]
根据本发明，能够提供操作时不易产生折痕、刮伤这样的缺陷的光学膜及层叠膜。另外，根据本发明，能够提供使用了上述光学膜的柔性装置用前面板及柔性装置。此外，根据本发明，能够提供上述光学膜的制造方法。
附图说明
[图1]图1为示出本发明实施方式涉及的光学膜的一例的立体图。
[图2]图2为图1所示的光学膜的II-II截面图。
[图3]图3为示出本发明实施方式涉及的层叠膜的一例的立体图。
[图4]图4的(a)为图3所示的层叠膜的IV-IV截面图，图4的(b)及(c)为示出层叠膜的其他方式的截面图。
[图5]图5为示出本发明实施方式涉及的柔性显示器的一例的立体图。
[图6]图6为实施例的层叠膜的截面照片。
具体实施方式
以下，根据情况参照附图对本发明的优选实施方式进行详细说明。
需要说明的是，附图中，对相同或相应部分标注相同标记，并省略重复的说明。另外，附图的尺寸比率并不限定于图示的比率。此外，只要没有特别说明，参照附图说明实施方式时的上下左右等位置关系是基于附图所示的位置关系。
[光学膜]
本实施方式的光学膜为含有聚酰亚胺系高分子的光学膜，上述光学膜的端面满足下述条件(1)或(2)中的一者或两者。
条件(1)：上述光学膜的端面为相对于上述光学膜的表面以5°以上且75°以下的角度倾斜的倾斜面。
条件(2)：在下述区域中测得的、由下述式(A)定义的DMT弹性模量的偏差(Ra)的值为500MPa以下，所述区域为垂直地切割上述光学膜的端面而成的截面的距上述端面1O～20μm内侧的区域。
[数学式4]
Figure BDA0002009022230000051
[式(A)中，L表示Ra的计算范围的长度，M(x)表示测定位置x处的DMT弹性模量的测定值。]
以下，对满足条件(1)的光学膜的实施方式进行说明，但本发明并不限定于以下的实施方式，也可以不满足条件(1)而仅满足条件(2)。需要说明的是，尤其优选满足条件(1)及(2)这两者的光学膜。
图1为示出本实施方式涉及的光学膜的一例的立体图。图1所示的光学膜10具有矩形(长方形)的平面形状，其具有：在短边方向上彼此对置的两边(形成矩形的两个彼此平行的长边)的端面E1及E2；以及，在长边方向上彼此对置的两边(形成矩形的两个彼此平行的短边)的端面E3及E4。光学膜10中，端面成为相对于光学膜10的表面以5°以上且75°以下的角度倾斜的倾斜面。从更充分地抑制操作时的缺陷的产生的观点考虑，优选对置的两边的端面(端面E1和E2，或者端面E3和E4)成为上述倾斜面，进一步优选光学膜10的全部端面成为上述倾斜面。图1所示的本实施方式的光学膜10中，端面E1、E2、E3及E4均成为上述倾斜面，但并不限定于此。
图2为图1所示的光学膜的II-II截面图。本实施方式的光学膜10中，端面E1及E2相对于光学膜10的表面的倾斜角θ均为5°以上且75°以下。同样地，本实施方式的光学膜10中，端面E3及E4相对于光学膜10的表面的倾斜角θ均为5°以上且75°以下。端面E1、E2、E3及E4的倾斜角θ各自可以相同也可以不同。
本说明书中，倾斜角θ是指膜厚度的20％以上且80％以下的膜厚范围内的平均角度。该平均角度是对膜厚度的20％、30％、40％、50％、60％、70％及80％的位置处的端面的倾斜角分别进行测定、并算出其平均值而得到的。另外，本说明书中，倾斜角θ是指：从光学膜10的一个表面与端面所成的角度求出的上述平均角度、及从光学膜10的另一个表面与端面所成的角度求出的上述平均角度中的较小一方的平均角度。在位于小于膜厚度的20％、超过膜厚度的80％的膜厚范围的膜表面附近，端面可以具有曲率，也可以具有膜厚变大的凸起部分。优选在一个端面内倾斜角θ大致恒定，但也可以变动。此处，倾斜角度之差优选为30°以下，更优选为20°以下，进一步优选为10°以下，尤其优选为5°以下。将倾斜角度之差为30°以下的情况作为大致恒定。在一个端面内倾斜角θ变动的情况下，从更充分地抑制膜操作时的缺陷的产生的观点考虑，倾斜角θ的最大值与最小值之差优选为50°以下，更优选为30°以下。
倾斜角θ为5°以上且75°以下，从更充分地抑制膜操作时的缺陷的产生的观点考虑，更优选为10°以上且73°以下，进一步优选为20°以上且70°以下，尤其优选为25°以上且70°以下。倾斜角θ小于5°时，存在端部的强度降低的情况，膜操作时容易在端部产生缺陷。若倾斜角θ超过75°，则膜操作时容易产生折痕、刮伤这样的缺陷。需要说明的是，倾斜角θ可以通过使用光学显微镜对光学膜10的端面或截面进行观察而测定。
上述的光学膜10的折射率通常为1.45～1.70，优选为1.50～1.66。
光学膜10的厚度可根据柔性装置的种类等进行适当调节，通常为10～500μm。膜薄时，切割后进行操作时容易发生折弯，会成为产生缺陷的原因。另外，膜厚时，有难以进行均匀的切割加工的倾向，因此优选为15～200μm，更优选为20～100μm。
光学膜10通常为透明。光学膜10的基于JIS K 7105：1981的全光线透过率通常为85％以上，优选为90％以上。
光学膜10的基于JIS K 7105：1981的雾度(Haze)可以为1以下，也可以为0.9以下。
需要说明的是，折射率、全光线透过率、及雾度是在光学膜的厚度方向上测得的值。
光学膜10的大小可根据使用的柔性装置的大小进行适当调节。光学膜10的平面形状通常为矩形或正方形，但也可以为梯形、平行四边形等其他四边形。另外，光学膜10的平面形状还可以为带圆角的四边形。
(光学膜的材质)
(透明树脂)
上述光学膜包含聚酰亚胺系高分子等透明树脂。
(聚酰亚胺系高分子)
本说明书中，所谓聚酰亚胺，是指含有包含酰亚胺基的重复结构单元的聚合物，所谓聚酰胺，是指含有包含酰胺基的重复结构单元的聚合物。所谓聚酰亚胺系高分子，表示聚酰亚胺、以及含有包含酰亚胺基及酰胺基这两者的重复结构单元的聚合物。
本实施方式涉及的聚酰亚胺系高分子可以以后述四羧酸化合物和二胺化合物为主要原料来制造，其具有式(10)表示的重复结构单元。此处，G为四价有机基团，A为二价有机基团。可以包含G及/或A不同的、两种以上的式(10)表示的结构。另外，本实施方式涉及的聚酰亚胺系高分子也可以在不损害得到的聚酰亚胺系高分子膜的各种物性的范围内包含式(11)～式(13)中的任一者表示的结构。
[化学式1]
Figure BDA0002009022230000081
[化学式2]
Figure BDA0002009022230000082
[化学式3]
Figure BDA0002009022230000083
[化学式4]
Figure BDA0002009022230000091
G及G1为四价有机基团，优选为可以被烃基或经氟取代的烃基取代的有机基团，可示例式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)或式(29)表示的基团、以及四价的碳原子数6以下的链式烃基。式中的*表示连接键，Z表示单键、-O-、-CH2-、-CH2-CH2-、-CH(CH3)-、-C(CH3)2-、-C(CF3)2-、-Ar-、-SO2-、-CO-、-O-Ar-O-、-Ar-O-Ar-、-Ar-CH2-Ar-、-Ar-C(CH3)2-Ar-或-Ar-SO2-Ar-。Ar表示可以被氟原子取代的碳原子数6～20的亚芳基，作为具体例，可举出亚苯基。从容易抑制得到的膜的黄色指数的方面考虑，G及G1优选为选自式(20)～式(27)表示的基团中的任一基团。
[化学式5]
Figure BDA0002009022230000092
G2为三价有机基团，优选为可以被烃基或经氟取代的烃基取代的有机基团，可示例式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)或式(29)表示的基团的连接键中的任意一个被置换为氢原子而成的基团、以及三价的碳原子数6以下的链式烃基。
G3为二价有机基团，优选为可以被烃基或经氟取代的烃基取代的有机基团，可示例式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)或式(29)表示的基团的连接键中不相邻的两个被置换为氢原子而成的基团、以及碳原子数6以下的链式烃基。
A、A1～A3均为二价有机基团，优选为可以被烃基或经氟取代的烃基取代的有机基团，可示例：式(30)、式(31)、式(32)、式(33)、式(34)、式(35)、式(36)、式(37)或式(38)表示的基团；将它们用甲基、氟基、氯基或三氟甲基取代而成的基团以及碳原子数6以下的链式烃基。式中的*表示连接键，Z1、Z2及Z3各自独立地表示单键、-O-、-CH2-、-CH2-CH2-、-CH(CH3)-、-C(CH3)2-、-C(CF3)2-、-SO2-或-CO-。一个例子是：Z1及Z3为-O-，并且，Z2为-CH2-、-C(CH3)2-、-C(CF3)2-或-SO2-。优选Z1与Z2、及Z2与Z3分别相对于各环为间位或对位。
[化学式6]
Figure BDA0002009022230000111
上述光学膜可以包含聚酰胺。本实施方式涉及的聚酰胺为以式(13)表示的重复结构单元为主的聚合物。优选例及具体例与聚酰亚胺系高分子中的G3及A3相同。也可以包含G3及/或A3不同的、两种以上的式(13)表示的结构。
聚酰亚胺系高分子例如可通过二胺与四羧酸化合物(四羧酸二酐等)的缩聚而得到，例如可以按照日本特开2006-199945号公报或日本特开2008-163107号公报中记载的方法而合成。作为聚酰亚胺的市售品，可举出三菱瓦斯化学(株)制Neoprim、河村产业(株)制KPI-MX300F等。
作为聚酰亚胺的合成中使用的四羧酸化合物，可举出芳香族四羧酸二酐等芳香族四羧酸化合物及脂肪族四羧酸二酐等脂肪族四羧酸化合物。四羧酸化合物可以单独使用，也可以并用两种以上。四羧酸化合物除了为二酐外，也可以为酰氯化合物等四羧酸化合物类似物。
作为芳香族四羧酸二酐的具体例，可举出4，4’-氧双邻苯二甲酸二酐、3，3’，4，4’-二苯甲酮四甲酸二酐、2，2’，3，3’-二苯甲酮四甲酸二酐、3，3’，4，4’-联苯四甲酸二酐、2，2’，3，3’-联苯四甲酸二酐、3，3’，4，4’-二苯基砜四甲酸二酐、2，2-双(3，4-二羧基苯基)丙烷二酐、2，2-双(2，3-二羧基苯基)丙烷二酐、2，2-双(3，4-二羧基苯氧基苯基)丙烷二酐、4，4’-(六氟异亚丙基)二邻苯二甲酸二酐、1，2-双(2，3-二羧基苯基)乙烷二酐、1，1-双(2，3-二羧基苯基)乙烷二酐、1，2-双(3，4-二羧基苯基)乙烷二酐、1，1-双(3，4-二羧基苯基)乙烷二酐、双(3，4-二羧基苯基)甲烷二酐、双(2，3-二羧基苯基)甲烷二酐、4，4’-(对苯二氧基)二邻苯二甲酸二酐、4，4’-(间苯二氧基)二邻苯二甲酸二酐及2，3，6，7-萘四甲酸二酐，优选可举出4，4’-氧双邻苯二甲酸二酐、3，3’，4，4’-二苯甲酮四甲酸二酐、2，2’，3，3’-二苯甲酮四甲酸二酐、3，3’，4，4’-联苯四甲酸二酐、2，2’，3，3’-联苯四甲酸二酐、3，3’，4，4’-二苯基砜四甲酸二酐、2，2-双(3，4-二羧基苯基)丙烷二酐、2，2-双(2，3-二羧基苯基)丙烷二酐、2，2-双(3，4-二羧基苯氧基苯基)丙烷二酐、4，4’-(六氟异亚丙基)二邻苯二甲酸二酐、1，2-双(2，3-二羧基苯基)乙烷二酐、1，1-双(2，3-二羧基苯基)乙烷二酐、1，2-双(3，4-二羧基苯基)乙烷二酐、1，1-双(3，4-二羧基苯基)乙烷二酐、双(3，4-二羧基苯基)甲烷二酐、双(2，3-二羧基苯基)甲烷二酐、4，4’-(对苯二氧基)二邻苯二甲酸二酐及4，4’-(间苯二氧基)二邻苯二甲酸二酐。这些可以单独使用或组合两种以上而使用。
作为脂肪族四羧酸二酐，可举出环式或非环式脂肪族四羧酸二酐。所谓环式脂肪族四羧酸二酐，是指具有脂环式烃结构的四羧酸二酐，作为其具体例，可举出1，2，4，5-环己烷四甲酸二酐、1，2，3，4-环丁烷四甲酸二酐、1，2，3，4-环戊烷四甲酸二酐等环烷烃四羧酸二酐、双环[2.2.2]辛-7-烯-2，3，5，6-四甲酸二酐、二环己基3，3’-4，4’-四甲酸二酐及它们的位置异构体。这些可以单独使用或组合两种以上而使用。作为非环式脂肪族四羧酸二酐的具体例，可举出1，2，3，4-丁烷四甲酸二酐、1，2，3，4-戊烷四甲酸二酐等，这些可以单独使用或组合两种以上而使用。
上述四羧酸二酐中，从高透明性及低着色性的观点考虑，优选1，2，4，5-环己烷四甲酸二酐、双环[2.2.2]辛-7-烯-2，3，5，6-四甲酸二酐及4，4’-(六氟异亚丙基)二邻苯二甲酸二酐。
需要说明的是，在不损害得到的聚酰亚胺系高分子膜的各种物性的范围内，本实施方式涉及的聚酰亚胺系高分子可以是除上述聚酰亚胺合成中使用的四羧酸的酐以外还使四羧酸、三羧酸及二羧酸以及它们的酐及衍生物进一步反应而成的产物。
作为三羧酸化合物，可举出芳香族三羧酸、脂肪族三羧酸及作为它们的类似物的酰氯化合物、酸酐等，可以并用两种以上。
作为具体例，可举出1，2，4-苯三甲酸的酐；2，3，6-萘三甲酸-2，3-酐；邻苯二甲酸酐与苯甲酸通过单键、-CH2-、-C(CH3)2-、-C(CF3)2-、-SO2-或亚苯基连接而成的化合物。
作为二羧酸化合物，可举出芳香族二羧酸、脂肪族二羧酸及作为它们的类似物的酰氯化合物、酸酐等，可以并用两种以上。作为具体例，可举出对苯二甲酸；间苯二甲酸；萘二甲酸；4，4’-联苯二甲酸；3，3’-联苯二甲酸；碳原子数为8以下的链式烃的二羧酸化合物及两个苯甲酸通过单键、-CH2-、-C(CH3)2-、-C(CF3)2-、-SO2-或亚苯基连接而成的化合物。
作为聚酰亚胺的合成中使用的二胺，可以为脂肪族二胺、芳香族二胺或它们的混合物。需要说明的是，本实施方式中，所谓“芳香族二胺”，表示氨基直接键合于芳香环的二胺，可以在其结构的一部分中包含脂肪族基团或其他取代基。芳香环可以为单环，也可以为稠环，可示例苯环、萘环、蒽环及芴环等，但并不限定于这些。这些之中，优选苯环。另外，所谓“脂肪族二胺”，表示氨基直接键合于脂肪族基团的二胺，可以在其结构的一部分中包含芳香环、其他取代基。
作为脂肪族二胺，例如，可举出六亚甲基二胺等非环式脂肪族二胺及1，3-双(氨基甲基)环己烷、1，4-双(氨基甲基)环己烷、降冰片烷二胺、4，4’-二氨基二环己基甲烷等环式脂肪族二胺等，这些可以单独使用或组合两种以上而使用。
作为芳香族二胺，例如，可举出对苯二胺、间苯二胺、2，4-甲苯二胺、间苯二甲胺、对苯二甲胺、1，5-二氨基萘、2，6-二氨基萘等具有1个芳香环的芳香族二胺、4，4’-二氨基二苯基甲烷、4，4’-二氨基二苯基丙烷、4，4’-二氨基二苯基醚、3，4’-二氨基二苯基醚、3，3’-二氨基二苯基醚、4，4’-二氨基二苯基砜、3，4’-二氨基二苯基砜、3，3’-二氨基二苯基砜、1，4-双(4-氨基苯氧基)苯、1，3-双(4-氨基苯氧基)苯、4，4’-二氨基二苯基砜、双[4-(4-氨基苯氧基)苯基]砜、双[4-(3-氨基苯氧基)苯基]砜、2，2-双[4-(4-氨基苯氧基)苯基]丙烷、2，2-双[4-(3-氨基苯氧基)苯基]丙烷、2，2’-二甲基联苯胺、2，2’-双(三氟甲基)联苯胺、4，4’-双(4-氨基苯氧基)联苯、4，4’-二氨基二苯基醚、3，4’-二氨基二苯基醚、4，4’-二氨基二苯基甲烷、9，9-双(4-氨基苯基)芴、9，9-双(4-氨基-3-甲基苯基)芴、9，9-双(4-氨基-3-氯苯基)芴、9，9-双(4-氨基-3-氟苯基)芴等具有2个以上芳香环的芳香族二胺，这些可以单独使用或组合两种以上而使用。
上述二胺中，从高透明性及低着色性的观点考虑，优选使用选自由具有联苯结构的芳香族二胺组成的组中的一种以上。进一步优选使用选自由2，2’-二甲基联苯胺、2，2’-双(三氟甲基)联苯胺、4，4’-双(4-氨基苯氧基)联苯及4，4’-二氨基二苯基醚组成的组中的一种以上，更进一步优选包含2，2’-双(三氟甲基)联苯胺。
聚酰亚胺系高分子及聚酰胺(它们为包含至少一种由式(10)、式(11)、式(12)或式(13)表示的重复结构单元的聚合物)是缩合型高分子，所述缩合型高分子为二胺与下述化合物的缩聚产物，所述化合物为由四羧酸化合物(酰氯化合物、四羧酸二酐等四羧酸化合物类似物)、三羧酸化合物(酰氯化合物、三羧酸酐等三羧酸化合物类似物)及二羧酸化合物(酰氯化合物等二羧酸化合物类似物)组成的组中包含的至少一种化合物。作为起始原料，除了上述物质外，有时也进一步使用二羧酸化合物(包括酰氯化合物等类似物)。式(11)表示的重复结构单元通常衍生自二胺类及四羧酸化合物。式(12)表示的重复结构单元通常衍生自二胺及三羧酸化合物。式(13)表示的重复结构单元通常衍生自二胺及二羧酸化合物。二胺及四羧酸化合物的具体例如上所述。
本实施方式涉及的聚酰亚胺系高分子及聚酰胺的按照标准聚苯乙烯换算的重均分子量通常为10,000～500,000，优选为50,000～500,000，进一步优选为100,000～400,000。虽然有聚酰亚胺系高分子及聚酰胺的重均分子量越大则膜化时越容易呈现出高耐弯曲性的倾向，但聚酰亚胺系高分子及聚酰胺的重均分子量过大时，清漆的粘度变高，有加工性降低的倾向。
聚酰亚胺系高分子及聚酰胺通过包含含氟取代基，从而具有下述倾向：膜化时的弹性模量提高，并且YI值降低。膜的弹性模量高时，有刮伤及褶皱等的产生被抑制的倾向。从膜的透明性的观点考虑，聚酰亚胺系高分子及聚酰胺优选具有含氟取代基。作为含氟取代基的具体例，可举出氟基及三氟甲基。
以聚酰亚胺系高分子或聚酰胺的质量为基准，聚酰亚胺系高分子及聚酰胺中的氟原子的含量优选为1质量％以上且40质量％以下，进一步优选为5质量％以上且40质量％以下。氟原子的含量为1质量％以上时，有下述倾向：能够进一步提高膜化时的弹性模量，降低吸水率，进一步降低YI值，进一步提高透明性。另一方面，若氟原子的含量为1质量％以上，则膜化时因静电的产生而导致在操作时容易发生不规则的折弯等。根据本发明，即使是这样的膜，也能够提供操作时不易产生折痕、刮伤这样的缺陷的光学膜。氟原子的含量超过40质量％时，有难以合成的倾向。
本实施方式涉及的光学膜中，以光学膜的总质量为基准，聚酰亚胺系高分子的含量可以为40质量％以上，优选为50质量％以上，进一步优选为70质量％以上。聚酰亚胺系高分子的含量为40质量％以上时，有容易获得良好的弯曲性的倾向。
(无机粒子)
本实施方式涉及的光学膜除了含有上述聚酰亚胺系高分子及/或聚酰胺外，可以还含有无机粒子等无机材料。
作为无机材料，优选可举出二氧化硅粒子、正硅酸四乙酯(TEOS)等四烷氧基硅烷等硅化合物，从清漆稳定性的观点考虑，优选二氧化硅粒子。
二氧化硅粒子的平均一次粒径优选为10～100nm，进一步优选为20～80nm。二氧化硅粒子的平均一次粒径为100nm以下时，有透明性提高的倾向。二氧化硅粒子的平均一次粒径为10nm以上时，由于二氧化硅粒子的凝集力弱，因此有容易操作的倾向。
本实施方式涉及的二氧化硅微粒可以为使二氧化硅粒子分散于有机溶剂等而得到的二氧化硅溶胶，也可以使用利用气相法制造的二氧化硅微粒粉末，从容易处理方面考虑，优选二氧化硅溶胶。
光学膜中的二氧化硅粒子的(平均)一次粒径可通过基于透射电子显微镜(TEM)的观察而求出。形成光学膜前的二氧化硅粒子的粒度分布可利用市售的激光衍射式粒度分布计求得。
本实施方式涉及的光学膜中，以光学膜的总质量为基准，无机材料的含量可以为0质量％以上且90质量％以下，优选为0质量％以上且60质量％以下，进一步优选为0质量％以上且40质量％以下。无机材料(硅材料)的含量在上述的范围内时，有容易同时实现光学膜的透明性及机械强度的倾向。
本实施方式涉及的光学膜除了含有以上说明的成分外，可以还含有添加剂。作为上述添加剂，例如，可举出pH调节剂、二氧化硅分散剂、紫外线吸收剂、抗氧化剂、脱模剂、稳定剂、上蓝剂等着色剂、阻燃剂、润滑剂及流平剂。
以光学膜的总质量为基准，除树脂成分及无机材料以外的成分的含量优选为0质量％以上且20质量％以下，进一步优选大于0质量％且为10质量％以下。
另外，就本实施方式涉及的光学膜而言，在下述区域中测得的、由式(A)定义的DMT弹性模量的偏差(Ra)的值优选为500MPa以下，更优选为400MPa以下，进一步优选为350MPa以下，所述区域为垂直地切割上述光学膜的上述端面而成的截面的距上述端面10～20μm内侧的区域。
[数学式5]
Figure BDA0002009022230000171
[式(A)中，L表示Ra的计算范围的长度，M(x)表示测定位置x处的DMT弹性模量的测定值。]
此处，膜端面附近的弹性模量的分布可以通过SPM(Scanning Probe Microscope，扫描探针显微镜)的DMT(Derjaguin-Muller-Toporov)模量图像(Modulus Image)测定来确认。在使用通常的剪切刀片进行切割的情况下，在端部附近产生不规则的应力而残留有应变，因此，上述弹性模量的分布容易变大，而通过使其减小，具有容易获得本发明的效果的倾向。
(SPM的测定方法)
使用剃刀等刀具，在与光学膜的一边相垂直的方向上切割光学膜。使用刀具进行切割时，有时残留有应变，因此使用超薄切片机(ultramicrotome)，将经切割的试验片冷却至-60℃，使用玻璃刀切削10μm以上的截面。将经切削的试验片设置于SPM。就使用的悬臂而言，选择弹簧常数为10～60N/m的悬臂，使用QNM(Quantitative Nanomechanical Mapping，定量纳米力学成像)模式，测定DMT模量图像。此处，DMT模量(DMT Modulus)是通过使用DMT模型进行拟合而得到的弹性模量(Modulus)。DMT模型为Derjaguin-Muller-Toropov模型。测定膜端面附近的图像(Image)，根据图像制作线轮廓(Line Profile)。就线轮廓而言，从膜端面朝向内部的方向进行制作，将膜端面的位置设为0μm。根据10～20μm的DMT弹性模量的分布，求出Ra。在膜厚度的90～70％、60～40％、30～10％的位置处，测定三处的图像，根据各图像制作线轮廓，计算N＝3的Ra，求出平均值。
[层叠膜]
本实施方式的层叠膜具备：上述本实施方式的光学膜；和层叠于该光学膜的至少一个表面上的功能层。本实施方式的层叠膜中，优选上述光学膜的端面与上述功能层的端面连续地连接。
图3为示出本实施方式涉及的层叠膜的一例的立体图。图3所示的层叠膜30具有矩形的平面形状。构成层叠膜30的功能层20具有：在短边方向上彼此对置的两边(形成矩形的两个彼此平行的长边)的端面E11及E12；以及在长边方向上彼此对置的两边(形成矩形的两个彼此平行的短边)的端面E13及E14。功能层20只要具有端面成为相对于功能层20的表面以5°以上且75°以下的角度倾斜的倾斜面的部分即可，进一步优选至少对置的两边的端面(端面E11和E12，或者端面E13和E14)成为相对于功能层20的表面以5°以上且75°以下的角度倾斜的倾斜面。此外，优选功能层20的倾斜面与光学膜10的倾斜面连续地连接。从更充分地抑制操作时的缺陷的产生的观点考虑，尤其更优选功能层20的全部端面成为上述倾斜面。图3所示的本实施方式的层叠膜30中，功能层20的端面E11、E12、E13及E14均成为上述倾斜面，但并不限定于此。
图4的(a)为图3所示的层叠膜的IV-IV截面图。本实施方式的层叠膜30的功能层20中，优选端面E11及E12相对于功能层20的表面的倾斜角θ’均为5°以上且75°以下。同样地，本实施方式的层叠膜30的功能层20中，优选端面E13及E14相对于功能层20的表面的倾斜角θ’均为5°以上且75°以下。端面E11、E12、E13及E14的倾斜角θ’各自可以相同也可以不同。另外，优选在一个端面内倾斜角θ’大致恒定，但只要在5°以上且75°以下的范围内，则也可以变动。在一个端面内倾斜角θ’变动的情况下，从更充分地抑制膜操作时的缺陷的产生的观点考虑，倾斜角θ’的最大值与最小值之差优选为30°以下，更优选为20°以下。需要说明的是，图4的(a)所示的层叠膜30中，就光学膜10的倾斜角θ而言，将光学膜10与功能层20的层叠面设为倾斜角θ＝0°。
图4的(b)为示出本实施方式的层叠膜30的另一方式的截面图。图4的(b)所示的层叠膜30中，就光学膜10的倾斜角θ而言，将同光学膜10与功能层20的层叠面呈相反侧的面设为倾斜角θ＝0°。
图4的(b)所示的层叠膜30中，就功能层20的倾斜角θ’而言，将光学膜10与功能层20的层叠面设为倾斜角θ’＝0°。需要说明的是，图4的(a)及(b)的层叠膜30的方向可以上下相反。
图4的(c)为示出本实施方式的层叠膜30的又一方式的截面图。如图4的(c)所示，层叠膜30中，光学膜10及功能层20的一侧的端面E1、E11成为倾斜面，相反侧的端面E2、E12可以成为与光学膜10及功能层20的表面垂直的垂直面。需要说明的是，光学膜1O的其他端面E3、E4及功能层20的其他端面E13、E14可以为倾斜面，也可以为垂直面。图4的(c)所示的层叠膜30中，就光学膜10的倾斜角θ而言，将光学膜10与功能层20的层叠面设为倾斜角θ＝0°。另外，图4的(c)所示的层叠膜30中，就功能层20的倾斜角θ’而言，将同光学膜10与功能层20的层叠面呈相反侧的面设为倾斜角θ’＝0°。
另外，图4的(c)所示的层叠膜30可以如图4的(b)所示的层叠膜30那样，具有下底短于上底的倒梯形的截面形状，换言之，具有端面从层叠膜30的光学膜10侧的表面朝向功能层20侧的表面缩窄的截面形状。该情况下的光学膜10的倾斜角θ及功能层20的倾斜角θ’的位置与图4的(b)同样。此外，图4的(c)的层叠膜30的方向可以上下相反。
本说明书中，层叠膜30中的光学膜10的端面的倾斜角θ是指：从光学膜10的一个表面与端面所成的角度求出的上述平均角度、及从光学膜10的另一个表面与端面所成的角度求出的上述平均角度中的较小一方的平均角度。同样地，层叠膜30中的功能层20的端面的倾斜角θ是指：从功能层20的一个表面与端面所成的角度求出的上述平均角度、及从功能层20的另一个表面与端面所成的角度求出的上述平均角度中的较小一方的平均角度。此处所谓的光学膜10及功能层20的表面包括光学膜10与功能层20的层叠面在内。
倾斜角θ’为5°以上且75°以下，从更充分地抑制膜操作时的缺陷的产生的观点考虑，更优选为10°以上且73°以下，进一步优选为20°以上且70°以下，尤其优选为25°以上且70°以下。倾斜角θ’小于5°时，端部的强度降低，有膜操作时容易在端部产生缺陷的倾向。若倾斜角θ’超过75°，则有膜操作时容易产生折痕、刮伤这样的缺陷的倾向。需要说明的是，倾斜角θ’可以通过使用光学显微镜对层叠膜30的端面或截面进行观察而测定。
在光学膜10的端面与功能层20的端面连续地形成倾斜面的情况下，光学膜10的端面的倾斜角θ与功能层20的端面的倾斜角θ’可以相同，也可以不同。从能够进一步抑制膜操作时折痕、刮伤这样的缺陷的产生、并且光学膜10与功能层20更不易剥离的方面考虑，倾斜角θ与倾斜角θ’之差优选为20°以下，更优选为10°以下，尤其优选倾斜角θ与倾斜角θ’大致相同。
作为功能层20，可举出紫外线吸收层、硬涂层、粘合层、色调调节层、折射率调节层等各种具有功能的层。需要说明的是，层叠膜30可以具备功能不同的多个功能层，可以具备上述功能层中的两种以上的层。功能层20优选包含硬涂层。
(功能层)
作为功能层的硬涂层是具有表面呈现出高硬度功能的层，例如，是对层叠膜赋予具有比光学膜表面的铅笔硬度更高的铅笔硬度的表面的层。硬涂层的表面的铅笔硬度例如可以为2H以上。
该硬涂层没有特别限定，可以使用丙烯酸系、环氧系、聚氨酯系、氯化苄系、乙烯系等已知的硬涂层。丙烯酸系硬涂层包含以聚(甲基)丙烯酸酯类为代表的、紫外线固化型、电子射线固化型、或热固化型的树脂。硬涂层可以包含光聚合引发剂、有机溶剂，也可以包含二氧化硅、氧化铝、聚有机硅氧烷等无机氧化物。
作为功能层的紫外线吸收层是具有吸收紫外线的功能的层，例如，由选自紫外线固化型的透明树脂、电子射线固化型的透明树脂、及热固化型的透明树脂的主材、和分散于该主材中的紫外线吸收剂构成。通过设置紫外线吸收层作为功能层，从而能够容易地抑制由光照射导致的黄色指数的变化。
作为功能层的粘合层是具有粘合性的功能的层，具有使光学膜与其他部件粘接的功能。作为粘合层的形成材料，可使用通常已知的材料。例如，可以使用热固性树脂组合物或光固化性树脂组合物。
粘合层可以由包含具有聚合性官能团的成分的树脂组合物构成。在该情况下，通过在使光学膜与其他部件密合后进一步使构成粘合层的树脂组合物聚合，能够实现牢固的粘接。光学膜与粘合层的粘接强度可以为0.1N/cm以上、或0.5N/cm以上。
粘合层可以包含热固性树脂组合物或光固化性树脂组合物作为材料。在该情况下，可以通过在事后供给能量从而使树脂组合物高分子化并固化。
粘合层可以是被称为压敏型粘接剂(Pressure Sensitive Adhesive，PSA)的、通过按压而贴合于对象物的层。压敏型粘接剂可以是作为“于常温具有粘合性、以轻的压力粘接于被粘接材料的物质”(JIS K6800)的粘合剂，也可以是作为“将特定成分内置于保护被膜(微胶囊)中、直至利用适当手段(压力、热等)将被膜破坏为止能够保持稳定性的粘接剂”(JIS K6800)的胶囊型粘接剂。
作为功能层的色调调节层为具有色调调节功能的层，是能够将光学膜调节至目标色调的层。色调调节层例如为含有树脂及着色剂的层。作为该着色剂，例如，可举出氧化钛、氧化锌、氧化铁红、氧化钛系烧成颜料、群青、铝酸钴、及炭黑等无机颜料；偶氮系化合物、喹吖啶酮系化合物、蒽醌系化合物、苝系化合物、异吲哚啉酮系化合物、酞菁系化合物、喹酞酮系化合物、还原(threne)系化合物及吡咯并吡咯二酮系化合物等有机颜料；硫酸钡及碳酸钙等体质颜料；碱性染料、酸性染料及媒染染料等染料。
作为功能层的折射率调节层为具有折射率调节功能的层，是具有与光学膜不同的折射率、能够对层叠膜赋予规定折射率的层。
折射率调节层例如可以为含有适当选择的树脂及根据情况还含有颜料的树脂层，也可以为金属薄膜。
作为调节折射率的颜料，例如，可举出氧化硅、氧化铝、氧化锑、氧化锡、氧化钛、氧化锆及氧化钽。颜料的平均粒径可以为0.1μm以下。通过使颜料的平均粒径为0.1μm以下，能够防止透过折射率调节层的光的漫反射，防止透明度的降低。
作为折射率调节层中使用的金属，例如，可举出氧化钛、氧化钽、氧化锆、氧化锌、氧化锡、氧化硅、氧化铟、氮氧化钛、氮化钛、氮氧化硅、氮化硅等金属氧化物或金属氮化物。
功能层根据光学膜的用途而适当具有上述功能。功能层可以为单层，也可以为多层。各层可以具有1个功能或2个以上的功能。
功能层的厚度可根据应用光学膜的柔性装置等的用途进行适当调节，例如，可以为1～100μm、或2～80μm。
[光学膜的制造方法]
接下来，对本实施方式的光学膜的制造方法的一例进行说明。
本实施方式涉及的光学膜的制作中使用的清漆(光学膜用清漆)例如可以通过下述方式制备：从上述四羧酸化合物、上述二胺及上述其他原料中进行选择并使它们反应，将得到的聚酰亚胺系高分子及/或聚酰胺的反应液、溶剂以及根据需要使用的上述添加剂混合，并搅拌。也可以代替聚酰亚胺系高分子等的反应液而使用购入的聚酰亚胺系高分子等的溶液、购入的固体聚酰亚胺系高分子等的溶液。
上述清漆中包含的溶剂只要能够溶解聚酰亚胺系高分子即可。作为溶剂，例如，可以使用N，N-二甲基甲酰胺、N，N-二甲基乙酰胺等酰胺系溶剂、γ-丁内酯、γ-戊内酯等内酯系溶剂、二甲基砜、二甲基亚砜、环丁砜等含硫系溶剂、碳酸亚乙酯、碳酸亚丙酯等碳酸酯系溶剂。这些溶剂中，优选酰胺系溶剂或内酯系溶剂。另外，这些溶剂可以单独使用或混合两种以上而使用。
接着，利用已知的卷对卷、分批(batch)方式，将上述清漆涂布于树脂基材、不锈钢带、或玻璃基材上而形成涂膜，对该涂膜进行干燥，从基材剥离，由此得到包含聚酰亚胺系高分子的膜。剥离后可以进一步进行膜的干燥。
涂膜的干燥通过于50～350℃的温度、适当地在大气下、非活性气氛下或减压的条件下使溶剂蒸发而进行。
作为树脂基材的例子，可举出PET、PEN、聚酰亚胺、聚酰胺酰亚胺等。其中，优选耐热性优异的树脂。从与膜的密合性及成本的观点考虑，尤其优选PET基材。
接下来，对光学膜的端面实施处理，以使其成为相对于光学膜表面以5°以上且75°以下的角度倾斜的倾斜面。
作为上述处理方法，可举出以具有上述倾斜角的方式对端面进行切割或切削的方法。作为对端面进行切割或切削的方法，可举出：照射激光的方法；倾斜地使用剪切刀片(shear blade)等切割刀的方法。其中，从容易形成倾斜角的变动小的平滑倾斜面的方面考虑，优选照射激光的方法。即，通过上述处理形成的端面优选为激光切面。
作为激光，没有特别限定，可以使用能够形成上述倾斜面的任意激光。作为能够使用的激光，具体而言，可举出CO2激光、准分子激光等气体激光；YAG激光等固体激光；半导体激光等。优选的激光为CO2激光。具体而言，通过使用CO2激光将膜坯料切割成期望的大小，从而能够容易地形成具有上述倾斜角的端面。
从容易地形成具有上述倾斜角的端面的观点考虑，激光照射优选在以下的条件下进行。激光优选为10μm以下的波长。输出功率优选为10W以上，进一步优选为12W以上。输出功率大时，有倾斜角容易变小的倾向，输出功率小时，有倾斜角容易变大的倾向。基于激光的加工速度优选为50mm/秒以上，进一步优选为100mm/秒以上。可以对端部多次照射激光。为了形成具有上述倾斜角的切面，激光可以以激光的中心轴相对于光学膜的表面倾斜的方式从倾斜方向照射。另外，也可以在从与光学膜的表面垂直的方向进行激光照射的同时，使激光的焦点位置偏移(例如，将焦点位置设定于较光学膜表面更靠上方的位置)，由此形成具有上述倾斜角的切面。
[层叠膜的制造方法]
本实施方式涉及的层叠膜的制作中，功能层的形成中使用的清漆(功能层用清漆)可以通过配合与上述功能层的种类相对应的材料来制备。
本实施方式涉及的层叠膜的制造方法中，首先，利用已知的卷对卷、分批方式，将上述光学膜用清漆涂布于树脂基材、不锈钢带或玻璃基材上而形成涂膜，对该涂膜进行干燥，并从基材剥离，从而得到光学膜。接着，将上述功能层用清漆涂布于光学膜上而形成涂膜，由此得到层叠有光学膜和功能层的层叠膜。光学膜与功能层的涂膜的形成顺序可以相反，可以在基材上形成功能层的涂膜后再于该涂膜上形成光学膜的涂膜。另外，还可以使用已知的粘接剂、粘合剂贴合于光学膜。
光学膜及功能层的涂膜的干燥通过于50～350℃的温度使溶剂蒸发而进行。可以在大气下、非活性气氛下、或减压的条件下使其干燥。
接下来，对层叠膜的端面实施处理，以使其成为相对于层叠膜表面以5°以上且75°以下的角度倾斜的倾斜面。其处理方法与在光学膜的制作方法中说明的方法同样。通常，对光学膜及功能层这两者同时实施该处理。在该情况下，在光学膜和功能层形成连续的倾斜面，因此优选。
[柔性装置]
这样的光学膜及层叠膜能够合适地用作柔性装置的前面板。本实施方式涉及的柔性装置具有：柔性功能层；和与柔性功能层叠合而作为前面板发挥功能的上述光学膜或层叠膜。即，柔性装置的前面板被配置于柔性功能层之上的观看侧。该前面板具有保护柔性功能层的功能。
作为柔性装置的例子，可举出图像显示装置(柔性显示器、电子纸等)、太阳能电池等。例如，显示器功能层、太阳能电池功能层为柔性功能层。
将柔性显示器的一例示于图5。该柔性显示器100从表面侧(观看侧)起依次具有前面板110/偏光板保护膜120B/偏光片120A/偏光板保护膜120B/触摸传感器膜130/有机EL元件层140/TFT基板150这样的构成。柔性显示器100中的除前面板110以外的层为柔性功能层190。偏光板保护膜120B/偏光片120A/偏光板保护膜120B构成偏光板120。在各层的表面及各层之间，可以包含硬涂层、粘合层、粘接层、相位差层等。前面板110由光学膜110A及硬涂层110B构成。作为前面板110，可以使用包含上述光学膜10及上述作为功能层20的硬涂层的层叠膜30。需要说明的是，硬涂层110B可以置换为具有其他功能的层，根据其功能，可以配置于光学膜110A的内侧(光学膜110A与柔性功能层190之间)。该柔性显示器可以作为平板PC、智能手机、便携式游戏机等的图像显示部使用。
根据本实施方式涉及的柔性装置，使用上述层叠膜30作为前面板110。层叠膜30在操作时不易产生折痕、刮伤这样的缺陷，因此在制作柔性装置时也不易产生缺陷，能够成品率良好地得到没有缺陷、观看性优异的柔性装置。
实施例
以下，基于实施例及比较例更具体地说明本发明，但本发明并不限定于以下的实施例。
(实施例1)
(清漆1的配方)
将作为聚酰亚胺系高分子的三菱瓦斯化学(株)制“Neoprim C6A20”(γ-丁内酯溶剂，22质量％)、在γ-丁内酯中分散固态成分浓度为30质量％的二氧化硅粒子而得到的溶液、具有氨基的烷氧基硅烷的二甲基乙酰胺溶液、及水混合，搅拌30分钟。此处，使二氧化硅与聚酰亚胺的质量比为30：70，使具有氨基的烷氧基硅烷的量相对于二氧化硅及聚酰亚胺的合计100质量份而言为1.67质量份，使水相对于二氧化硅及聚酰亚胺的合计100质量份而言为10质量份。
(制膜)
在基材上对利用上述方法制作的清漆1进行流延制膜，得到厚度为50μm的聚酰亚胺系高分子膜坯料。膜坯料的折射率为1.57。然后，使用CO2激光，从膜坯料切取矩形(10cm×5cm)的区域，得到光学膜。加工按以下的条件进行。
装置：Keyence公司制ML-Z9510T
波长：9.3μm
输出功率：80％
加工速度：150mm/秒
(实施例2)
利用与实施例1同样的方法制作聚酰亚胺系高分子膜坯料。然后，除了使加工速度为300mm/秒以外，与实施例1同样地操作，使用CO2激光从膜坯料切取矩形的区域，得到光学膜。
(比较例1)
利用与实施例1同样的方法，制作聚酰亚胺系高分子膜坯料。然后，使用剪切刀片从膜坯料切取矩形(10cm×5cm)的区域，得到光学膜。
(实施例3)
将聚酰亚胺系高分子(河村产业(株)制“KPI-MX300F(100)”溶解于γ-丁内酯，得到聚酰亚胺系高分子的浓度为16质量％的高分子溶液(清漆2)。在基材上对得到的清漆2进行流延制膜，得到厚度为50μm的聚酰亚胺系高分子膜坯料。膜坯料的折射率为1.56。然后，利用与实施例1同样的条件对膜坯料进行CO2激光加工，得到光学膜。
(比较例2)
利用与实施例3同样的方法制作聚酰亚胺系高分子膜坯料。然后，使用剪切刀片从膜坯料切取矩形的区域，得到光学膜。
(实施例4)
在由实施例1的清漆1流延制膜而成的膜厚为30μm的聚酰亚胺系膜上，对30μm的环氧系硬涂层进行流延制膜，得到层叠有厚度为30μm的光学膜和厚度为30μm的硬涂层的层叠膜坯料。然后，利用与实施例1同样的条件进行CO2激光加工，从膜坯料切取矩形(10cm×5cm)的区域，得到层叠膜。切取时，从层叠膜的光学膜侧照射激光。
(比较例3)
利用与实施例4同样的方法制作层叠膜坯料。然后，使用剪切刀片从膜坯料切取矩形(10cm×5cm)的区域，得到层叠膜。切取时，刀片从层叠膜的光学膜侧进入。
(实施例5)
除了使膜厚为80μm以外，与实施例3同样地操作，得到聚酰亚胺系膜坯料。
然后，按照以下条件对膜坯料进行CO2激光加工。加工时将激光固定，使膜移动。对矩形(10cm×5cm)的形状照射激光3次，将端部切割，得到光学膜。
装置：COHERENT公司制E400iCL
波长：9.4μm
输出功率：13W
加工速度：400mm/秒
频率：60kHz
(比较例4)
利用与实施例5同样的方法制作聚酰亚胺系膜坯料。然后，使用剪切刀片从膜坯料切取矩形(10cm×5cm)的区域，得到光学膜。
<弹性模量的偏差(Ra)的测定>
针对实施例5及比较例4中得到的膜，按照以下的条件，对距端面10～20μm的区域的DMT弹性模量的偏差(Ra)进行测定。
首先，使用剃刀，在与膜的一边垂直的方向上进行切割，制作切片，然后按照以下的条件对截面进行处理。
装置：LEICA公司制Microtome EMFC6
切削条件：-60℃干式
刀：玻璃刀
切削：切削成10μm以上
然后，针对得到的截面，使用SPM，按照以下的条件得到DMT模量图像。
装置：Dimension ICOM(Bruker公司制)
悬臂(Cantilever)：RTESP
测量的偏转误差灵敏度(The measured deflection error sensitivity)：63.59nm/V
计算的弹簧常数(Calculated spring constant)：20.8727N/m
共振频率(Resonance frequency)：320.192kHz
曲率半径(Tip radius)：10nm
样品泊松比(Sample Poisson’s ratio)：0.42
反馈增益(Feedback gain)：10～20
峰值力设定值(Peak Force setpoint)：70nN
扫描尺寸(Scan size)：2μm×40μm
扫描比(Scan ratio)：0.1Hz
点/线(Points/Line)：256
根据得到的DMT模量图像制作线轮廓，关于线轮廓，针对距端面10～20μm内侧(膜内部侧)的区域，于膜厚度的90～70％、60～40％、30～10％的位置分别计算Ra，算出平均值。实施例5中得到的膜的Ra的测定结果为345MPa，比较例4中得到的膜的Ra的测定结果为1026MPa。
<倾斜角的测定>
使用光学显微镜，对实施例及比较例中得到的光学膜或层叠膜的截面进行观察，测定膜端面的倾斜角。需要说明的是，膜端面的倾斜角在全部4个端面中为基本相同的值。将结果示于表1。另外，在图6中示出实施例4所得到的层叠膜的截面照片。如图6所示，就实施例4中得到的光学膜10的端面而言，根据测定位置不同观察到少许粗糙，但平均角度大致为45°。另外，就实施例4中得到的层叠膜而言，光学膜10的端面与硬涂层(功能层20)的端面以相同的倾斜角连续地连接。
另一方面，就比较例3中得到的层叠膜而言，光学膜10的端面粗糙，是在厚度方向上端面的角度偏差非常大(10～170°左右)的结果，平均为80°。另外，就比较例3中得到的层叠膜而言，光学膜10的端面与硬涂层(功能层20)的端面不连续。就比较例2、比较例4中得到的膜而言，倾斜在厚度方向上大幅变动，如具有局部成为钝角的部分等。
<操作时有无缺陷产生的评价>
在实验台上铺放ECOLE公司制骨架切割垫(Skeleton cutting mat)“EKM-L”，在垫子上设置实施例及比较例中得到的光学膜或层叠膜，对膜重复进行下述(1)～(5)的操作10次。膜以成为端面朝向与垫子接触的面侧缩窄的状态(即，垫子上的膜截面成为与垫子呈相反侧的上底长于与垫子接触的下底的倒梯形)的方式设置。在层叠膜的情况下，以功能层的面与垫子接触的方式设置。
(1)将直径为1cm的橡胶A及橡胶B按压至膜上的沿膜长边方向相距8cm的两个部位。
(2)固定橡胶A，将橡胶B一边向垫子推压一边朝橡胶A的方向靠近5cm。此时，膜被橡胶B拖动，橡胶A与橡胶B之间的膜被提起。
(3)使橡胶A及橡胶B从垫子离开，向上方提起5cm。膜被橡胶A和橡胶B夹持而提起。
(4)保持该状态3秒。此期间，膜可以落至垫子上。
(5)将橡胶A及橡胶B的间隔扩大为8cm。膜落在垫子上。
上述操作后，调查膜整体有无缺陷(折痕及刮伤)，将未确认到缺陷的情况判定为“A”，将确认到缺陷的情况判定为“B”。将结果示于表1。
<耐弯曲性的评价>
针对实施例4及比较例3中得到的层叠膜，利用以下方法进行耐弯曲性的评价。使用Yuasa制弯曲试验机DLDM111LH，以R＝2mm、1Hz的条件对层叠膜重复进行弯曲试验。测定直至层叠膜中发生破裂、或者光学膜与硬涂层之间的剥离为止的弯曲次数。就实施例4的层叠膜而言，即使30000次的弯曲次数，也未发生破裂、剥离。就比较例3的层叠膜而言，由于在端部产生微小的刮伤，经20000次以下的弯曲即在硬涂层中产生裂纹，与此相对，认为实施例4的层叠膜整体具有无裂纹等的光滑端部，因此端部不会成为裂纹的起点，可耐受30000次的弯曲。就这样的端部的微细裂纹而言，不仅在膜的切割时产生，而且也会因搬运、操作时摩擦端部、或者碰撞端部而产生。另外，在有膜的折痕、刮伤这样的缺陷的情况下，会以此为起点发生膜的破裂、剥离，因此本发明也具有提高耐弯曲性的效果。
[表1]
Figure BDA0002009022230000301
由表1所示的结果确认了，实施例中得到的光学膜及层叠膜在操作时均不易产生折痕、刮伤这样的缺陷。另一方面，比较例中得到的光学膜及层叠膜在操作时均产生了折痕、刮伤这样的缺陷。认为其原因在于，在操作时将膜拖动的情况下，端部容易被垫子挂住，不规则地弯曲或折弯。
需要说明的是，包含二氧化硅粒子的膜、具有硬涂层的层叠膜特别容易产生折痕，但确认了实施例中在任意情况下均能够抑制折痕等缺陷产生。另外，就实施例及比较例的光学膜及层叠膜而言，因吸水率低故而容易产生静电并粘贴在垫子上，成为难以提起的状态。因此，就比较例的光学膜及层叠膜而言，在提起膜时局部地施加应力而产生了折痕，但确认了实施例中能够抑制折痕等缺陷产生。由此，就本发明的光学膜及层叠膜而言，即使在包含二氧化硅粒子的情况、具备硬涂层的情况、及容易产生静电的情况这样的操作时容易产生缺陷的情况下，也能够抑制缺陷的产生。
附图标记说明
10...光学膜，20...功能层，30...层叠膜，100...柔性显示器。

Claims (27)

1.光学膜，其为含有聚酰亚胺系高分子的光学膜，
其中，所述光学膜的全部端面为相对于所述光学膜的表面以5°以上且75°以下的角度倾斜的倾斜面，
在下述区域中测得的、由下述式(A)定义的DMT弹性模量的偏差(Ra)的值为500MPa以下，所述区域为垂直地切割所述光学膜的所述端面而成的截面的距所述端面10～20μm内侧的区域，
[数学式1]
Figure FDA0002299876160000011
式(A)中，L表示Ra的计算范围的长度，M(x)表示测定位置x处的DMT弹性模量的测定值。
2.如权利要求1所述的光学膜，其中，所述倾斜面为激光切面。
3.如权利要求1所述的光学膜，其中，以所述聚酰亚胺系高分子的总质量为基准，所述聚酰亚胺系高分子含有5质量％以上的氟原子。
4.如权利要求2所述的光学膜，其中，以所述聚酰亚胺系高分子的总质量为基准，所述聚酰亚胺系高分子含有5质量％以上的氟原子。
5.光学膜，其为含有聚酰亚胺系高分子的光学膜，
其中，在下述区域中测得的、由下述式(A)定义的DMT弹性模量的偏差(Ra)的值为500MPa以下，所述区域为垂直地切割所述光学膜的端面而成的截面的距所述端面10～20μm内侧的区域，
[数学式2]
Figure FDA0002299876160000012
式(A)中，L表示Ra的计算范围的长度，M(x)表示测定位置x处的DMT弹性模量的测定值。
6.如权利要求5所述的光学膜，其中，以所述聚酰亚胺系高分子的总质量为基准，所述聚酰亚胺系高分子含有5质量％以上的氟原子。
7.如权利要求1～6中任一项所述的光学膜，所述光学膜还含有二氧化硅粒子。
8.如权利要求1～6中任一项所述的光学膜，所述光学膜的厚度为20μm以上且100μm以下。
9.如权利要求7所述的光学膜，所述光学膜的厚度为20μm以上且100μm以下。
10.层叠膜，其具备：权利要求1～6中任一项所述的光学膜；和层叠于所述光学膜的至少一个表面上的功能层，
所述光学膜的端面与所述功能层的端面连接。
11.如权利要求10所述的层叠膜，其中，所述功能层为硬涂层。
12.层叠膜，其具备：权利要求7所述的光学膜；和层叠于所述光学膜的至少一个表面上的功能层，
所述光学膜的端面与所述功能层的端面连接。
13.如权利要求12所述的层叠膜，其中，所述功能层为硬涂层。
14.层叠膜，其具备：权利要求8所述的光学膜；和层叠于所述光学膜的至少一个表面上的功能层，
所述光学膜的端面与所述功能层的端面连接。
15.如权利要求14所述的层叠膜，其中，所述功能层为硬涂层。
16.层叠膜，其具备：权利要求9所述的光学膜；和层叠于所述光学膜的至少一个表面上的功能层，
所述光学膜的端面与所述功能层的端面连接。
17.如权利要求16所述的层叠膜，其中，所述功能层为硬涂层。
18.含有聚酰亚胺系高分子的光学膜的制造方法，其具有通过激光照射对端部进行切割加工的工序，
在下述区域中测定的、由下述式(A)定义的DMT弹性模量的偏差(Ra)的值为500MPa以下，所述区域为将通过所述切割加工而形成的所述光学膜的端面垂直地切割而成的截面的、距所述端面10～20μm内侧的区域，
[数学式3]
Figure FDA0002299876160000031
式(A)中，L表示Ra的计算范围的长度，M(x)表示测定位置x处的DMT弹性模量的测定值。
19.如权利要求18所述的光学膜的制造方法，其中，通过所述切割加工而形成的所述光学膜的端面为相对于所述光学膜的表面以5°以上且75°以下的角度倾斜的倾斜面。
20.柔性装置用前面板，其具备权利要求1～6中任一项所述的光学膜。
21.柔性装置用前面板，其具备权利要求7所述的光学膜。
22.柔性装置用前面板，其具备权利要求8所述的光学膜。
23.柔性装置用前面板，其具备权利要求9所述的光学膜。
24.柔性装置，其具有柔性功能层和权利要求1～6中任一项所述的光学膜。
25.柔性装置，其具有柔性功能层和权利要求7所述的光学膜。
26.柔性装置，其具有柔性功能层和权利要求8所述的光学膜。
27.柔性装置，其具有柔性功能层和权利要求9所述的光学膜。
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Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111989357B (zh) * 2018-04-19 2023-08-11 东洋纺株式会社 折叠型显示器的表面保护膜用聚酯薄膜及其用途
JP2020128077A (ja) * 2018-08-01 2020-08-27 東洋紡株式会社 積層フィルム、エッジクリーニング装置、及び、クリーニングされた積層フィルムの製造方法
JP2020037675A (ja) * 2018-08-29 2020-03-12 住友化学株式会社 光学フィルム
JP2020093397A (ja) 2018-12-10 2020-06-18 住友化学株式会社 積層体およびそれを用いた画像表示装置
JP2020095079A (ja) 2018-12-10 2020-06-18 住友化学株式会社 積層体およびそれを用いた画像表示装置
JP2020094190A (ja) * 2018-12-12 2020-06-18 住友化学株式会社 樹脂組成物
CN111381295A (zh) * 2018-12-28 2020-07-07 住友化学株式会社 光学膜
JP6859376B2 (ja) * 2019-01-22 2021-04-14 グンゼ株式会社 カバーフィルム
JP6792660B2 (ja) * 2019-03-04 2020-11-25 住友化学株式会社 光学積層体及びその製造方法
TWI700781B (zh) * 2019-05-09 2020-08-01 陽程科技股份有限公司 軟性顯示器與承載板預分離之方法
CN110303256A (zh) * 2019-07-01 2019-10-08 东莞市德普特电子有限公司 一种偏光片的激光异形加工工艺
CN112388151B (zh) * 2019-08-16 2022-08-02 阳程科技股份有限公司 软性显示器与附加电路板预分离的方法
CN115244438A (zh) * 2020-03-12 2022-10-25 住友化学株式会社 光学层叠体
KR20230067679A (ko) * 2020-10-23 2023-05-16 코니카 미놀타 가부시키가이샤 편광판 및 그 제조 방법, 그리고 표시 장치의 제조 방법

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000080163A (ja) * 1998-09-04 2000-03-21 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> フッ素化ポリイミドおよびその前駆体
JP2006184773A (ja) * 2004-12-28 2006-07-13 Mitsui Chemicals Inc 光導波路およびこれを備えた光電気混載基板
US7251076B1 (en) * 1999-10-28 2007-07-31 Sharp Kabushiki Kaisha Optical component and method for producing thick polyimide film
CN101048681A (zh) * 2004-11-11 2007-10-03 日东电工株式会社 组合型光学薄膜、层叠组合型光学薄膜及图像显示装置
CN102821907A (zh) * 2010-03-24 2012-12-12 住友化学株式会社 切断机、具有该切断机的裁切机及薄膜的切断方法
JP5340447B2 (ja) * 2012-03-28 2013-11-13 日東電工株式会社 レーザー加工方法及びレーザー加工品

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100236432B1 (ko) * 1996-07-31 1999-12-15 미야즈 쥰이치로 광학 편광기, 이의 제조 방법 및 광학 편광기 제조용 블레이드
JP2001033604A (ja) * 1999-05-20 2001-02-09 Sharp Corp 光学部品及びポリイミド厚膜の製造方法
JP4240789B2 (ja) 2000-09-20 2009-03-18 富士ゼロックス株式会社 電子写真用転写シート及びこれを用いたカラー画像形成装置
TWI341983B (en) * 2003-02-12 2011-05-11 Nissha Printing Touch panel
JP2006154447A (ja) 2004-11-30 2006-06-15 Nitto Denko Corp フィルム状光導波路の製法
JP4957592B2 (ja) 2008-03-10 2012-06-20 新日本理化株式会社 ポリイミド樹脂組成物及びその成形体
JP2010083092A (ja) 2008-10-02 2010-04-15 Toray Ind Inc 樹脂フィルムロールおよびその製造方法
JP5489796B2 (ja) 2010-03-16 2014-05-14 株式会社日本触媒 光選択透過フィルター及びその製造方法
WO2014059263A1 (en) * 2012-10-12 2014-04-17 Corning Incorporated Articles having retained strength
JP6298321B2 (ja) * 2014-02-25 2018-03-20 株式会社カネカ 透明導電層付フィルム
JP2015042423A (ja) * 2014-12-02 2015-03-05 住友化学株式会社 切断機、これを備えるスリッター機およびフィルムの切断方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000080163A (ja) * 1998-09-04 2000-03-21 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> フッ素化ポリイミドおよびその前駆体
US7251076B1 (en) * 1999-10-28 2007-07-31 Sharp Kabushiki Kaisha Optical component and method for producing thick polyimide film
CN101048681A (zh) * 2004-11-11 2007-10-03 日东电工株式会社 组合型光学薄膜、层叠组合型光学薄膜及图像显示装置
JP2006184773A (ja) * 2004-12-28 2006-07-13 Mitsui Chemicals Inc 光導波路およびこれを備えた光電気混載基板
CN102821907A (zh) * 2010-03-24 2012-12-12 住友化学株式会社 切断机、具有该切断机的裁切机及薄膜的切断方法
JP5340447B2 (ja) * 2012-03-28 2013-11-13 日東電工株式会社 レーザー加工方法及びレーザー加工品

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