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CN109717019A - 一种无公害苦瓜栽培方法 - Google Patents

一种无公害苦瓜栽培方法 Download PDF

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高红霞
杨皓琼
王蕾
陈祖平
周谟兵
施先锋
宋奎林
黄钧
胡江勇
马婷
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Wuhan Academy of Agricultural Sciences
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Abstract

本发明公开了一种无公害苦瓜栽培方法，涉及蔬菜种植领域，该方法包括以下步骤：挑选饱满、无破损和无病斑的苦瓜种子放置在温度为50～65℃、pH值为8～9.5的氢氧化钠溶液中，导入二氧化碳气体搅拌至温度为低于35℃后洗净；将洗净的种子加入水中，向水中加入抗菌材料保温1～2h，抗菌材料包括壳体结构，壳体结构中包裹有杀菌剂和气体释放载体，杀菌剂包括腐殖质；将洗净的种子恒温催芽，待种子破衣后，移至育苗床上进行育苗；待种苗生长至3～4叶进行移栽，并在移栽后搭设爬藤架。本发明能够降低农药的使用，增加苦瓜的经济价值，比较安全。

Description

一种无公害苦瓜栽培方法
技术领域
本发明涉及蔬菜种植领域，具体涉及一种无公害苦瓜栽培方法。
背景技术
苦瓜又名凉瓜，是葫芦科植物，也是人们喜爱的一种蔬菜，在我国南方被作为主要经济作物广泛种植，
苦瓜具有清热解暑、消肿解毒的功效，苦瓜中含有多种抗氧化的物质，可以强化毛细血管，促进血液循环，预防动脉硬化，国外学者研究报道苦瓜具有降血糖、抗菌、消炎、抗病毒、提高机体免疫力及堕胎、抗生育等作用，而特别是对苦瓜在防肿瘤方面所起的作用更为关注。
目前苦瓜大多通过大棚种植，由于种植过程中植株密度较高，且种植品种单一，容易产生疫病并快速传染，此时瓜农主要通过施用大量农药控制病情，容易造成苦瓜中农残较高，不仅造成苦瓜的经济价值下降，而且对食用者有身体健康产生危害。
发明内容
针对现有技术中存在的缺陷，本发明的目的在于提供一种无公害苦瓜栽培方法，能够降低农药的使用，增加苦瓜的经济价值，比较安全。
为达到以上目的，本发明采取的技术方案是：
一种无公害苦瓜栽培方法，包括以下步骤：
S1、挑选饱满、无破损和无病斑的苦瓜种子放置在温度为50～65℃、pH值为8～9.5的氢氧化钠溶液中，导入二氧化碳气体搅拌至温度为低于35℃后洗净；
S2、将洗净的种子加入温度为25～35℃、pH为6～8的水中，向水中加入抗菌材料保温1～2h，所述抗菌材料与苦瓜种子的质量比为0.002～0.008，所述抗菌材料包括一壳体结构，壳体结构中包裹有杀菌剂和气体释放载体，所述杀菌剂包括腐殖质，所述壳体结构采用质量比为1:0.1～1:0.001～0.005的壳聚糖、明胶和脂质体构成；
S3、将洗净的种子放在温度为30～35℃、湿度为60～80％的条件下恒温催芽，待种子破衣后，调整温度至24～25℃、湿度为40～60％，待种芽生长至0.3～0.7cm，移至育苗床上进行育苗；
S4、待种苗生长至3～4叶进行移栽，并在移栽后搭设爬藤架。
在上述技术方案的基础上，所述育苗床包括厚度为10～15cm的营养土，所述营养土上覆盖有厚度为3～5cm的细沙，所述营养土包括25～55份草木灰、6～12份腐殖酸、1～5甲壳素。
在上述技术方案的基础上，所述营养土包括30～45份草木灰、8～10份腐殖酸、2～3甲壳素。
在上述技术方案的基础上，所述抗菌材料与苦瓜种子的质量比为0.004～0.006。
在上述技术方案的基础上，所述气体释放载体为过氧化钙或碳酸氢钠。
在上述技术方案的基础上，所述壳体结构采用质量比为1:0.3～0.6:0.02～0.004的壳聚糖、明胶和脂质体构成。
在上述技术方案的基础上，所述壳体结构采用质量比为1:0.5:0.03的壳聚糖、明胶和脂质体构成。
在上述技术方案的基础上，种芽在育苗床上育苗时，育苗床白天温度控制在18～22℃，夜间温度控制在16～18℃。
在上述技术方案的基础上，种苗移栽前一周，育苗床白天温度控制在20℃，夜间温度控制在12～14℃。
与现有技术相比，本发明的优点在于：
(1)本发明中无公害苦瓜栽培方法，通过壳体结构包裹杀菌剂和气体释放载体，壳体结构包括壳聚糖、明胶和脂质体，当壳体结构遇见细菌时，细菌能够食用脂质体，使得壳体结构被破坏，水进入壳体内部与气体释放载体作用，产生气体，气体释放时会促进抗菌剂大量释放，抗菌剂能够大量集中在细菌较多的位置，杀菌效果较好；同时，本发明以腐殖质作为杀菌主体，能够降低农药的使用，增加苦瓜的经济价值，不仅成本较低，而且比较安全，效果较好。
(2)本发明中无公害苦瓜栽培方法，将浸泡后的种子放置在温度为50～65℃、pH值为8～9.5的氢氧化钠溶液中，种皮在该溶液中，其表面的胶质层会被破坏，隐藏在内部的细菌会释放，且该部分细菌多为耐热性较差的细菌，在50～65℃即能够杀死；而导入二氧化碳气体搅拌至35℃～40℃是为了使得种子处于运动状态，杀菌效果较好，同时，二氧化碳能够中和氢氧化钠，降低溶液的pH值，避免种皮被过度破坏。
具体实施方式
以下结合实施例对本发明作进一步详细说明。
本发明实施例提供一种无公害苦瓜栽培方法，包括以下步骤：
S1、挑选饱满、无破损和无病斑的苦瓜种子放置在温度为50～65℃、pH值为8～9.5的氢氧化钠溶液中，导入二氧化碳气体搅拌至温度为低于35℃后洗净。
S2、将洗净的种子加入温度为25～35℃、pH为6～8的水中，向水中加入抗菌材料保温1～2h，所述抗菌材料与苦瓜种子的质量比为0.002～0.008(在实际使用时，也可以为0.004～0.006)，所述抗菌材料包括一壳体结构，壳体结构中包裹有杀菌剂和气体释放载体，所述杀菌剂包括腐殖质，所述壳体结构采用质量比为1:0.1～1:0.001～0.005的壳聚糖、明胶和脂质体构成。
S3、将洗净的种子放在温度为30～35℃、湿度为60～80％的条件下恒温催芽，待种子破衣后，调整温度至24～25℃、湿度为40～60％，待种芽生长至0.3～0.7cm，移至育苗床上进行育苗，育苗时，育苗床白天温度控制在18～22℃，夜间温度控制在16～18℃，种苗移栽前一周，育苗床白天温度控制在20℃，夜间温度控制在12～14℃。
S4、待种苗生长至3～4叶进行移栽，并在移栽后搭设爬藤架。
本实施例中的育苗床包括厚度为10～15cm的营养土，所述营养土上覆盖有厚度为3～5cm的细沙，所述营养土包括25～55份草木灰、6～12份腐殖酸、1～5甲壳素，营养土的具体成分可以根据实际需要进行选择，本实施例中，营养土可以包括30～45份草木灰、8～10份腐殖酸、2～3甲壳素。
本发明实施例中，气体释放载体选用过氧化钙或碳酸氢钠，壳体结构可以采用质量比为1:0.3～0.6:0.02～0.004的壳聚糖、明胶和脂质体构成，最优采用质量比为1:0.5:0.03的壳聚糖、明胶和脂质体构成。
下面，通过5个实施例对本发明进行详细说明
实施例1
S101、挑选饱满、无破损和无病斑的苦瓜种子放置在温度为65℃、pH值为9.5的氢氧化钠溶液中，导入二氧化碳气体搅拌至温度为35℃后洗净。
S102、将洗净的种子加入温度为35℃、pH为8的水中，向水中加入抗菌材料保温2h，所述抗菌材料与苦瓜种子的质量比为0.008，所述抗菌材料包括一壳体结构，壳体结构中包裹有杀菌剂和气体释放载体，所述杀菌剂包括腐殖质，所述壳体结构采用质量比为1:1:0.005的壳聚糖、明胶和脂质体构成。
S103、将洗净的种子放在温度为35℃、湿度为80％的条件下恒温催芽，待种子破衣后，调整温度至25℃、湿度为60％，待种芽生长至0.7cm，移至育苗床上进行育苗，育苗时，育苗床白天温度控制在22℃，夜间温度控制在18℃，种苗移栽前一周，育苗床白天温度控制在20℃，夜间温度控制在14℃。
S104、待种苗生长至3叶进行移栽，并在移栽后搭设爬藤架。
采用本实施例中对苦瓜催芽后种子的萌发率较高，为93％，且在后期种植中，与不经过杀菌剂处理的种子相比，苦瓜发生病害的几率率较低。
实施例2
S201、挑选饱满、无破损和无病斑的苦瓜种子放置在温度为50～65℃、pH值为8～9.5的氢氧化钠溶液中，导入二氧化碳气体搅拌至温度为30℃后洗净。
S202、将洗净的种子加入温度为30℃、pH为7的水中，向水中加入抗菌材料保温1h，所述抗菌材料与苦瓜种子的质量比为0.002，所述抗菌材料包括一壳体结构，壳体结构中包裹有杀菌剂和气体释放载体，所述杀菌剂包括腐殖质，所述壳体结构采用质量比为1:0.11:0.001的壳聚糖、明胶和脂质体构成。
S203、将洗净的种子放在温度为30℃、湿度为60％的条件下恒温催芽，待种子破衣后，调整温度至24℃、湿度为40％，待种芽生长至0.3cm，移至育苗床上进行育苗，育苗时，育苗床白天温度控制在18℃，夜间温度控制在16℃，种苗移栽前一周，育苗床白天温度控制在20℃，夜间温度控制在12℃。
S204、待种苗生长至4叶进行移栽，并在移栽后搭设爬藤架。
采用本实施例中对苦瓜催芽后种子的萌发率较高，为96％，且在后期种植中，与不经过杀菌剂处理的种子相比，苦瓜发生病害的几率率较低。
实施例3
S301、挑选饱满、无破损和无病斑的苦瓜种子放置在温度为60℃、pH值为9的氢氧化钠溶液中，导入二氧化碳气体搅拌至温度为28℃后洗净。
S302、将洗净的种子加入温度为30℃、pH为6的水中，向水中加入抗菌材料保温1.5h，所述抗菌材料与苦瓜种子的质量比为0.5，所述抗菌材料包括一壳体结构，壳体结构中包裹有杀菌剂和气体释放载体，所述杀菌剂包括腐殖质，所述壳体结构采用质量比为1:0.6:0.004的壳聚糖、明胶和脂质体构成。
S303、将洗净的种子放在温度为33℃、湿度为70％的条件下恒温催芽，待种子破衣后，调整温度至24℃、湿度为50％，待种芽生长至0.6cm，移至育苗床上进行育苗，育苗时，育苗床白天温度控制在20℃，夜间温度控制在16℃，种苗移栽前一周，育苗床白天温度控制在20℃，夜间温度控制在12℃。
S304、待种苗生长至4叶进行移栽，并在移栽后搭设爬藤架。
采用本实施例中对苦瓜催芽后种子的萌发率较高，为92％，且在后期种植中，与不经过杀菌剂处理的种子相比，苦瓜发生病害的几率率较低。
实施例4
S401、挑选饱满、无破损和无病斑的苦瓜种子放置在温度为55℃、pH值为8.5的氢氧化钠溶液中，导入二氧化碳气体搅拌至温度为25℃后洗净。
S402、将洗净的种子加入温度为30℃、pH为7的水中，向水中加入抗菌材料保温2h，所述抗菌材料与苦瓜种子的质量比为0.004，所述抗菌材料包括一壳体结构，壳体结构中包裹有杀菌剂和气体释放载体，所述杀菌剂包括腐殖质，所述壳体结构采用质量比为1:0.5:0.03的壳聚糖、明胶和脂质体构成。
S403、将洗净的种子放在温度为32℃、湿度为65％的条件下恒温催芽，待种子破衣后，调整温度至25℃、湿度为45％，待种芽生长至0.5cm，移至育苗床上进行育苗，育苗时，育苗床白天温度控制在20℃，夜间温度控制在16℃，种苗移栽前一周，育苗床白天温度控制在20℃，夜间温度控制在14℃。
S404、待种苗生长至4叶进行移栽，并在移栽后搭设爬藤架。
采用本实施例中对苦瓜催芽后种子的萌发率较高，为97％，且在后期种植中，与不经过杀菌剂处理的种子相比，苦瓜发生病害的几率率较低。
实施例5
S501、挑选饱满、无破损和无病斑的苦瓜种子放置在温度为56℃、pH值为9的氢氧化钠溶液中，导入二氧化碳气体搅拌至温度为20℃后洗净。
S502、将洗净的种子加入温度为27℃、pH为6的水中，向水中加入抗菌材料保温1h，所述抗菌材料与苦瓜种子的质量比为0.006，所述抗菌材料包括一壳体结构，壳体结构中包裹有杀菌剂和气体释放载体，所述杀菌剂包括腐殖质，所述壳体结构采用质量比为1:0.3:0.002的壳聚糖、明胶和脂质体构成。
S503、将洗净的种子放在温度为32℃、湿度为65％的条件下恒温催芽，待种子破衣后，调整温度至24℃、湿度为45％，待种芽生长至0.5cm，移至育苗床上进行育苗，育苗时，育苗床白天温度控制在20℃，夜间温度控制在17℃，种苗移栽前一周，育苗床白天温度控制在20℃，夜间温度控制在12℃。
S504、待种苗生长至4叶进行移栽，并在移栽后搭设爬藤架。
采用本实施例中对苦瓜催芽后种子的萌发率较高，为91％，且在后期种植中，与不经过杀菌剂处理的种子相比，苦瓜发生病害的几率率较低。
本发明不局限于上述实施方式，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本发明的保护范围之内。本说明书中未作详细描述的内容属于本领域专业技术人员公知的现有技术。

Claims (9)

1.一种无公害苦瓜栽培方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1、挑选饱满、无破损和无病斑的苦瓜种子放置在温度为50～65℃、pH值为8～9.5的氢氧化钠溶液中，导入二氧化碳气体搅拌至温度为低于35℃后洗净；
S2、将洗净的种子加入温度为25～35℃、pH为6～8的水中，向水中加入抗菌材料保温1～2h，所述抗菌材料与苦瓜种子的质量比为0.002～0.008，所述抗菌材料包括一壳体结构，壳体结构中包裹有杀菌剂和气体释放载体，所述杀菌剂包括腐殖质，所述壳体结构采用质量比为1:0.1～1:0.001～0.005的壳聚糖、明胶和脂质体构成；
S3、将洗净的种子放在温度为30～35℃、湿度为60～80％的条件下恒温催芽，待种子破衣后，调整温度至24～25℃、湿度为40～60％，待种芽生长至0.3～0.7cm，移至育苗床上进行育苗；
S4、待种苗生长至3～4叶进行移栽，并在移栽后搭设爬藤架。
2.如权利要求1所述的一种无公害苦瓜栽培方法，其特征在于：所述育苗床包括厚度为10～15cm的营养土，所述营养土上覆盖有厚度为3～5cm的细沙，所述营养土包括25～55份草木灰、6～12份腐殖酸、1～5甲壳素。
3.如权利要求2所述的一种无公害苦瓜栽培方法，其特征在于：所述营养土包括30～45份草木灰、8～10份腐殖酸、2～3甲壳素。
4.如权利要求1所述的一种无公害苦瓜栽培方法，其特征在于：所述抗菌材料与苦瓜种子的质量比为0.004～0.006。
5.如权利要求1所述的一种无公害苦瓜栽培方法，其特征在于：所述气体释放载体为过氧化钙或碳酸氢钠。
6.如权利要求1所述的一种无公害苦瓜栽培方法，其特征在于：所述壳体结构采用质量比为1:0.3～0.6:0.02～0.004的壳聚糖、明胶和脂质体构成。
7.如权利要求1所述的一种无公害苦瓜栽培方法，其特征在于：所述壳体结构采用质量比为1:0.5:0.03的壳聚糖、明胶和脂质体构成。
8.如权利要求1所述的一种无公害苦瓜栽培方法，其特征在于：种苗在育苗床上育苗时，育苗床白天温度控制在18～22℃，夜间温度控制在16～18℃。
9.如权利要求8所述的一种无公害苦瓜栽培方法，其特征在于：种苗移栽前一周，育苗床白天温度控制在20℃，夜间温度控制在12～14℃。
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