CN109580569A - 涂覆浆料的检测装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提出了一种涂覆浆料的检测装置，涂覆浆料中均匀分布有荧光物质，检测装置包括：发射单元，用于分别发射入射光束至待检测设备的至少2个不同位置，待检测设备表面涂覆有涂覆浆料；待检测设备，用于在入射光束的作用下，生成激发光束；处理单元，用于对激发光束进行处理，生成对应的图谱，对生成的至少2个图谱进行比较，得到涂覆浆料的涂覆均匀性程度。本发明的涂覆浆料的检测装置，可从微观角度对涂覆设备的涂覆能力的进行评价，可更为详细的对涂覆的均匀性进行分析评价，从而检测涂覆设备的涂覆能力。
Description
技术领域
本发明涉及涂覆技术领域，尤其涉及一种涂覆浆料的检测装置。
背景技术
用在交通工具上的电池对电芯的一致性(电压、电容、内阻、自放电率等)及性能具有很高的要求，而电池上浆料涂覆的均匀性对电池电芯的一致性具有极大的影响，因此，评价涂覆设备的涂覆能力成为电池生产过程中的非常重要的工作内容。
相关技术中，对浆料涂覆的评价主要是根据目视外观、取样或在线β-ray监测面密度来评价涂覆效果，以此来对涂覆设备的能力进行评价，但此种方式只能从宏观的角度对涂覆设备的涂覆能力进行评价，无法详细的对涂覆的均匀性进行分析评价。
发明内容
本发明旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。
为此，本发明的一个目的在于提出一种涂覆浆料的检测装置，涂覆浆料中均匀分布有荧光物质，检测装置包括：发射单元，用于分别发射入射光束至待检测设备的至少2个不同位置，待检测设备表面涂覆有涂覆浆料；待检测设备，用于在入射光束的作用下，生成激发光束；处理单元，用于对激发光束进行处理，生成对应的图谱，对生成的至少2个图谱进行比较，得到涂覆浆料的涂覆均匀性程度。可从微观角度对涂覆设备的涂覆能力的进行评价，可更为详细的对涂覆的均匀性进行分析评价，从而检测涂覆设备的涂覆能力。
为达上述目的，本发明第一方面实施例提出了一种涂覆浆料的检测装置，所述涂覆浆料中均匀分布有荧光物质，所述检测装置包括：
发射单元，用于分别发射入射光束至待检测设备的至少2个不同位置，所述待检测设备表面涂覆有所述涂覆浆料；
所述待检测设备，用于在所述入射光束的作用下，生成激发光束；
处理单元，用于对所述激发光束进行处理，生成对应的图谱，对生成的至少2个所述图谱进行比较，得到所述涂覆浆料的涂覆均匀性程度。
根据本发明实施例提出的涂覆浆料的检测装置，涂覆浆料中均匀分布有荧光物质，检测装置包括：发射单元，用于分别发射入射光束至待检测设备的至少2个不同位置，待检测设备表面涂覆有涂覆浆料；待检测设备，用于在入射光束的作用下，生成激发光束；处理单元，用于对激发光束进行处理，生成对应的图谱，对生成的至少2个图谱进行比较，得到涂覆浆料的涂覆均匀性程度。可从微观角度对涂覆设备的涂覆能力的进行评价，可更为详细的对涂覆的均匀性进行分析评价，从而检测涂覆设备的涂覆能力。
根据本发明的一个实施例，所述发射单元包括：信号发射器，用于发射激励信号至激光器；所述激光器，用于在所述激励信号的作用下，生成所述入射光束。
根据本发明的一个实施例，所述发射单元还包括：聚焦模块，用于对所述激光器生成的所述入射光束进行聚焦，生成聚焦后的所述入射光束。
根据本发明的一个实施例，所述聚焦模块为聚焦透镜。
根据本发明的一个实施例，所述处理单元包括：单色仪，用于对所述激发光束进行分解，得到分解光束；处理设备，用于对所述分解光束进行转换，得到数字信号格式的光强和波长，根据所述光强和波长生成所述图谱。
根据本发明的一个实施例，所述处理单元还包括：光电倍增管，用于对所述单色仪输出的所述分解光束进行放大处理，得到放大后的所述分解光束，并将放大后的所述分解光束输出至所述处理设备。
根据本发明的一个实施例，所述处理单元还包括：聚光模块，用于对所述激发光束进行聚光处理，生成聚光后的所述激发光束，并输出聚光后的所述激发光束至所述单色仪。
根据本发明的一个实施例，所述聚光模块为聚光凸透镜。
根据本发明的一个实施例，所述荧光物质包括稀土元素掺杂NaYF4纳米晶体。
根据本发明的一个实施例，所述荧光物质为NaYF4：20％Yb，2％Er；所述处理单元具体用于：对生成的至少2个所述图谱中539nm波长的绿光的强度进行比较，得到所述涂覆浆料的涂覆均匀性程度。
附图说明
图1是根据本发明一个实施例的涂覆浆料的检测装置的结构图；
图2是上转换发光的光谱图；
图3是上转换发光的原理图。
具体实施方式
下面详细描述本发明的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。
下面结合附图来描述本发明实施例的涂覆浆料的检测装置。
图1是根据本发明一个实施例的涂覆浆料的检测装置的结构图，如图1所示，该检测装置包括：
发射单元11，用于分别发射入射光束至待检测设备12的至少2个不同位置，待检测设备12表面涂覆有涂覆浆料；
待检测设备12，用于在入射光束的作用下，生成激发光束；
处理单元13，用于对激发光束进行处理，生成对应的图谱，对生成的至少2个图谱进行比较，得到涂覆浆料的涂覆均匀性程度。
本发明实施例中，涂覆浆料中均匀分布有荧光物质，待检测设备12表面涂覆有涂覆浆料，发射单元11分别发射入射光束至待检测设备12的至少2个不同位置，待检测设备12上涂覆浆料中的荧光物质在入射光束的作用下，生成激发光束，处理单元13对待检测设备12生成的激发光束进行处理，生成对应的图谱，对生成的至少2个图谱进行比较，得到涂覆浆料的涂覆均匀性程度。
作为一种可行的实施方式，发射单元11发射的入射光束具体可为976nm波长的光束；荧光物质可包括稀土元素掺杂NaYF4纳米晶体，具体可为NaYF4：20％Yb，2％Er，则待检测设备12生成的激发光束可为NaYF4：20％Yb，2％Er上转换发光生成的539nm波长的绿光。处理单元13对生成的539nm波长的绿光进行处理生成如图2所示的对应的光谱，然后对生成的至少2个图谱中539nm波长的绿光的强度进行比较，得到涂覆浆料的涂覆均匀性程度。其中，上转换发光即反-斯托克斯发光，是一种荧光物质被入射光激发，发出小于激发光波长的光的现象，以NaYF4：20％Yb，2％Er为例，当976nm波长的光束入射到NaYF4：20％Yb，2％Er上时，如图3所示，Er3+中处于4I15/2能级的电子连续吸收两个976nm的红外光子，从4I15/2能级跃迁至2H11/2能级，然后从2H11/2能级直接返回4I15/2能级，发出539nm的绿光。
根据本发明实施例提出的涂覆浆料的检测装置，涂覆浆料中均匀分布有荧光物质，检测装置包括：发射单元，用于分别发射入射光束至待检测设备的至少2个不同位置，待检测设备表面涂覆有涂覆浆料；待检测设备，用于在入射光束的作用下，生成激发光束；处理单元，用于对激发光束进行处理，生成对应的图谱，对生成的至少2个图谱进行比较，得到涂覆浆料的涂覆均匀性程度。可从微观角度对涂覆设备的涂覆能力的进行评价，可更为详细的对涂覆的均匀性进行分析评价，从而检测涂覆设备的涂覆能力。
进一步的，如图1所示，发射单元11可包括：
信号发射器21，用于发射激励信号至激光器22；
激光器22，用于在激励信号的作用下，生成入射光束。
本发明实施例中，激光器22具体可为功率可调的976nm红外半导体激光器，则入射光束可为某一额定功率的波长为976nm的光束。
进一步的，如图1所示，发射单元11还可包括：
聚焦模块23，用于对激光器22生成的入射光束进行聚焦，生成聚焦后的入射光束。
本发明实施例中，聚焦模块23具体可为聚焦透镜。
进一步的，如图1所示，处理单元13可包括：
单色仪25，用于对激发光束进行分解，得到分解光束；
处理设备27，用于对分解光束进行转换，得到数字信号格式的光强和波长，根据光强和波长生成图谱。
本发明实施例中，单色仪25具体可通过内部的衍射光栅对激发光束进行分析，得到分解光束；处理设备27具体可为电脑。
进一步的，如图1所示，处理单元13还可包括：
光电倍增管26，用于对单色仪25输出的分解光束进行放大处理，得到放大后的分解光束，并将放大后的分解光束输出至处理设备27。
进一步的，如图1所示，处理单元13还可包括：
聚光模块24，用于对激发光束进行聚光处理，生成聚光后的激发光束，并输出聚光后的激发光束至单色仪25。
本发明实施例中，聚光模块24具体可为聚光凸透镜。
本发明实施例的涂覆浆料的检测装置的工作原理如下：信号发射器21发射激励信号至激光器22，激光器22在激励信号的作用下，生成入射光束，聚焦模块23对激光器22生成的入射光束进行聚焦，生成聚焦后的入射光束，入射光束入射到放置在操作台上的待检测设备12上，待检测设备12上荧光物质在入射光束作用下，生成激发光束，聚光模块24对激发光束进行聚光处理，生成聚光后的激发光束，并输出聚光后的激发光束至单色仪25，单色仪25对激发光束进行分解，得到分解光束，光电倍增管26对单色仪25输出的分解光束进行放大处理，得到放大后的分解光束，并将放大后的分解光束输出至处理设备27，处理设备27对分解光束进行转换，得到数字信号格式的光强和波长，根据光强和波长生成图谱。分别沿x轴、y轴调整待检测设备12的位置，可生成待检测设备12不同位置的多个图谱，对生成的多个图谱进行比较，即可得到涂覆浆料的涂覆均匀性程度。
根据本发明实施例提出的涂覆浆料的检测装置，涂覆浆料中均匀分布有荧光物质，检测装置包括：发射单元，用于分别发射入射光束至待检测设备的至少2个不同位置，待检测设备表面涂覆有涂覆浆料；待检测设备，用于在入射光束的作用下，生成激发光束；处理单元，用于对激发光束进行处理，生成对应的图谱，对生成的至少2个图谱进行比较，得到涂覆浆料的涂覆均匀性程度。可从微观角度对涂覆设备的涂覆能力的进行评价，可更为详细的对涂覆的均匀性进行分析评价，从而检测涂覆设备的涂覆能力。
在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本发明的限制，本领域的普通技术人员在本发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。
Claims (10)
1.一种涂覆浆料的检测装置，其特征在于，所述涂覆浆料中均匀分布有荧光物质，所述检测装置包括：
发射单元，用于分别发射入射光束至待检测设备的至少2个不同位置，所述待检测设备表面涂覆有所述涂覆浆料；
所述待检测设备，用于在所述入射光束的作用下，生成激发光束；
处理单元，用于对所述激发光束进行处理，生成对应的图谱，对生成的至少2个所述图谱进行比较，得到所述涂覆浆料的涂覆均匀性程度。
2.根据权利要求1所述的检测装置，其特征在于，所述发射单元包括：
信号发射器，用于发射激励信号至激光器；
所述激光器，用于在所述激励信号的作用下，生成所述入射光束。
3.根据权利要求2所述的检测装置，其特征在于，所述发射单元还包括：
聚焦模块，用于对所述激光器生成的所述入射光束进行聚焦，生成聚焦后的所述入射光束。
4.根据权利要求3所述的检测装置，其特征在于，所述聚焦模块为聚焦透镜。
5.根据权利要求1所述的检测装置，其特征在于，所述处理单元包括：
单色仪，用于对所述激发光束进行分解，得到分解光束；
处理设备，用于对所述分解光束进行转换，得到数字信号格式的光强和波长，根据所述光强和波长生成所述图谱。
6.根据权利要求5所述的检测装置，其特征在于，所述处理单元还包括：
光电倍增管，用于对所述单色仪输出的所述分解光束进行放大处理，得到放大后的所述分解光束，并将放大后的所述分解光束输出至所述处理设备。
7.根据权利要求5所述的检测装置，其特征在于，所述处理单元还包括：
聚光模块，用于对所述激发光束进行聚光处理，生成聚光后的所述激发光束，并输出聚光后的所述激发光束至所述单色仪。
8.根据权利要求7所述的检测装置，其特征在于，所述聚光模块为聚光凸透镜。
9.根据权利要求1所述的检测装置，其特征在于，所述荧光物质包括稀土元素掺杂NaYF4纳米晶体。
10.根据权利要求9所述的检测装置，其特征在于，所述荧光物质为NaYF4：20％Yb，2％Er；
所述处理单元具体用于：对生成的至少2个所述图谱中539nm波长的绿光的强度进行比较，得到所述涂覆浆料的涂覆均匀性程度。
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