CN109324418A - 防伪结构、全息烫印防伪膜及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供的防伪结构,采用低频浮雕结构层与高频光栅结构层叠加的防伪结构,纳米级厚的高频光栅结构层直接附着在微米级厚的低频浮雕结构层上,两种结构层的衍射光角度不同、互不干扰,小角度观察呈现低频浮雕图像的消色散、立体、金属感效果,大角度观察到高频光栅图像的绚丽彩虹色,防伪效果新颖独特,具备更强的防伪力度。另外,本发明还提供了一种全息烫印防伪膜及其制备方法。
Description
技术领域
本发明涉及光学防伪材料技术领域,尤其涉及一种防伪结构、全息烫印防伪膜及其制备方法。
背景技术
光学防伪技术是目前商标的主要防伪手段之一。激光全息防伪技术不仅能够呈现物体或设计图形的主体形象,还能通过光学衍射的原理使得图像随着观察角度的改变而呈色彩丰富化和多样化,装饰性强;技术含量高,门槛高;运用模压全息技术可以进行大规模生产,成本低。因此,作为大众防伪技术,深受人们的喜爱,目前极其广泛应用于烟草、证卡、钞票、酒业、药品、保健品、礼品、化妆品等行业。
随着彩虹全息商标的普及应用,人们开始出现审美疲劳。最近几年逐渐流行带有金属浮雕感、立体视觉感的光学防伪效果,防伪视觉效果与彩虹全息不同,但制版技术接近。随着这些技术的普及与公开化,防伪功能有所下降,让造假商家有机可乘,依靠单一的光学防伪技术很难达到较高的防伪效果。
发明内容
有鉴如此,有必要针对现有技术存在的缺陷,提供一种防伪性能更佳的防伪结构。
为实现上述目的,本发明采用下述技术方案:
一方面,本发明提供了一种防伪结构,包括:低频浮雕结构层及附着在所述低频浮雕结构层上的高频光栅结构层,所述低频浮雕结构层的空间频率范围为20-125线/mm,所述高频光栅结构层的空间频率范围为1000-3000线/mm。
在一些较佳的实施例中,所述低频浮雕结构层的高度比所述高频光栅结构层的高度大6倍以上,所述低频浮雕结构层的高度小于2.5μm。
在一些较佳的实施例中,所述低频浮雕结构层的剖面为锯齿形或正弦形,所述高频光栅结构层的剖面为正弦形或矩形。
在一些较佳的实施例中,所述低频浮雕结构层的二维分布是等高线图或光栅点阵。
在一些较佳的实施例中,所述高频光栅结构层的分布是一维等周期的光栅或光栅点阵。
在一些较佳的实施例中,所述高频光栅结构层的厚度为30nm-400nm之间,所述低频浮雕结构层的厚度在0.3μm-2.5μm之间。
另一方面,本发明还提供了一种全息烫印防伪膜,包括:依次层叠设置的基膜、离型层、低频浮雕结构层、高频光栅结构层、镀层及背胶层,所述低频浮雕结构层的空间频率范围为20-125线/mm,所述高频光栅结构层的空间频率范围为1000-3000线/mm。
此外,本发明还提供了一种全息烫印防伪膜的制备方法,包括下述步骤:
在基膜上涂布离型层;在所述离型层上涂布信息树脂层;将所述低频浮雕层与所述高频光栅结构层的叠加结构热压印在信息树脂层上;再在所述叠加结构上真空镀一层镀层;在所述镀层上涂布热熔背胶层。
在一些较佳的实施例中,所述基膜为PET或BOPP,所述离型层为熔点为80-90℃的水蜡,所述信息树脂层厚度为1-3μm,所述镀层为高折射率的介质或高反射的铝层,所述镀层厚度小于50nm。
本发明采用上述技术方案的优点是:
本发明提供的防伪结构,包括低频浮雕结构层及附着在所述低频浮雕结构层上的高频光栅结构层,所述低频浮雕结构层的空间频率范围为20-125线/mm,所述高频光栅结构层的空间频率范围为1000-3000线/mm,由于低频浮雕结构层和高频光栅结构层两种结构层的衍射光角度不同、互不干扰,小角度观察呈现低频浮雕图像的消色散、立体、金属感效果,大角度观察到高频光栅图像的绚丽彩虹色,防伪效果新颖独特,吸引大众眼球。
此外,本发明提供的防伪结构,由低频浮雕与高频光栅叠加的防伪结构可制成全息防伪膜,如烫印膜、转移膜、复合膜、标签等,适用于目前成熟的全息防伪膜量产工艺,成本低。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其它的附图。
图1为本发明实施例1提供的防伪结构示意图。
图2为本发明实施例1提供的防伪结构的使用效果图。
图3为本发明实施例2提供的全息烫印防伪膜的结构示意图。
图4为本发明实施例2提供的全息烫印防伪膜的制备方法的步骤流程图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本发明保护的范围。
实施例1
请参阅图1,为本发明提供的防伪结构的结构示意图,包括:低频浮雕结构层110及附着在所述低频浮雕结构层110上的高频光栅结构层120,其中,所述低频浮雕结构层110的空间频率范围为20-125线/mm,所述高频光栅结构层120的空间频率范围为1000-3000线/mm。
在一些较佳的实施例中,所述低频浮雕结构层110的高度比所述高频光栅结构层120的高度大6倍以上,所述低频浮雕结构层110的高度小于2.5μm。
在一些较佳的实施例中,所述低频浮雕结构层110的剖面为锯齿形或正弦形,所述高频光栅结构层120的剖面为正弦形或矩形。
在一些较佳的实施例中,所述低频浮雕结构层110的二维分布是等高线图或光栅点阵,所述光栅点阵具有不同方向、不同周期、不同占空比。
在一些较佳的实施例中,所述高频光栅结构层120的分布是一维等周期的光栅或光栅点阵,所述光栅点阵具有不同方向、不同周期、不同占空比。
在一些较佳的实施例中,所述高频光栅结构层120的厚度为30nm-400nm之间,所述低频浮雕结构层110的厚度在0.3μm-2.5μm之间。
本发明提供的防伪结构,可通过下述工艺步骤制备得到:
制作低频浮雕图像的模具。
具体地,可由超精密数控机床在金属或PMMA等材料上直接加工雕刻,也可以用全息点阵直写光刻系统在光刻胶版上曝光、显影、表面金属化、电镀工序制成金属模具。
在低频浮雕图像模具上精确套位刻蚀高频光栅结构。
具体地,先在低频浮雕图像模具上涂布与高频光栅结构层高度相同的光刻胶层;然后用双激光束干涉的方法光刻一维等周期高频光栅,也可以用全息点阵直写光刻系统曝光具有不同方向、不同周期、不同占空比的高频光栅。
通过曝光、显影、表面金属化、电镀制成低频浮雕与高频光栅叠加结构的金属模具。
请参阅图2,为本发明提供的防伪结构的使用效果图,采用低频浮雕结构层与高频光栅结构层叠加的防伪结构,纳米级厚的高频光栅结构层直接附着在微米级厚的低频浮雕结构层上,两种结构层的衍射光角度不同、互不干扰,小角度观察呈现低频浮雕图像的消色散、立体、金属感效果,大角度观察到高频光栅图像的绚丽彩虹色,防伪效果新颖独特,具备更强的防伪力度。
实施例2
请参阅图3,为本发明实施例提供的全息烫印防伪膜的结构示意图,包括:依次层叠设置的基膜210、离型层220、低频浮雕结构层230、高频光栅结构层240、镀层250及背胶层260,所述低频浮雕结构层230的空间频率范围为20-125线/mm,所述高频光栅结构层240的空间频率范围为1000-3000线/mm。
请参阅图4,本发明还提供了一种全息烫印防伪膜的制备方法,包括下述步骤:
步骤S310:在基膜上涂布离型层。
在一些较佳的实施例中,所述基膜为PET或BOPP。
步骤S320:在所述离型层上涂布信息树脂层;
在一些较佳的实施例中,所述离型层为熔点为80-90℃的水蜡,
步骤S330:将所述低频浮雕层与所述高频光栅结构层的叠加结构热压印在信息树脂层上;
在一些较佳的实施例中,所述信息树脂层厚度为1-3μm。
步骤S340:再在所述叠加结构上真空镀一层镀层;
在一些较佳的实施例中,所述镀层为高折射率的介质或高反射的铝层,所述镀层厚度小于50nm。
步骤S350:在所述镀层上涂布热熔背胶层。
可以理解,在所述镀层上涂布热熔背胶层,烫印时背胶层热熔变粘,将防伪结构层附着在被烫底材上。
本发明提供的防伪结构,由低频浮雕与高频光栅叠加的防伪结构可制成全息防伪膜,如烫印膜、转移膜、复合膜、标签等,适用于目前成熟的全息防伪膜量产工艺,成本低。
当然本发明的防伪结构还可具有多种变换及改型,并不局限于上述实施方式的具体结构。总之,本发明的保护范围应包括那些对于本领域普通技术人员来说显而易见的变换或替代以及改型。
Claims (9)
1.一种防伪结构,其特征在于,包括:低频浮雕结构层及附着在所述低频浮雕结构层上的高频光栅结构层,所述低频浮雕结构层的空间频率范围为20-125线/mm,所述高频光栅结构层的空间频率范围为1000-3000线/mm。
2.如权利要求1所述的防伪结构,其特征在于,所述低频浮雕结构层的高度比所述高频光栅结构层的高度大6倍以上,所述低频浮雕结构层的高度小于2.5μm。
3.如权利要求1所述的防伪结构,其特征在于,所述低频浮雕结构层的剖面为锯齿形或正弦形,所述高频光栅结构层的剖面为正弦形或矩形。
4.如权利要求1所述的防伪结构,其特征在于,所述低频浮雕结构层的二维分布是等高线图或光栅点阵。
5.如权利要求1所述的防伪结构,其特征在于,所述高频光栅结构层的分布是一维等周期的光栅或光栅点阵。
6.如权利要求1所述的防伪结构,其特征在于,所述高频光栅结构层的厚度为30nm-400nm之间,所述低频浮雕结构层的厚度在0.3μm-2.5μm之间。
7.一种全息烫印防伪膜,其特征在于,包括:依次层叠设置的基膜、离型层、低频浮雕结构层、高频光栅结构层、镀层及背胶层,所述低频浮雕结构层的空间频率范围为20-125线/mm,所述高频光栅结构层的空间频率范围为1000-3000线/mm。
8.一种全息烫印防伪膜的制备方法,其特征在于,包括下述步骤:
在基膜上涂布离型层;在所述离型层上涂布信息树脂层;将所述低频浮雕层与所述高频光栅结构层的叠加结构热压印在信息树脂层上;再在所述叠加结构上真空镀一层镀层;在所述镀层上涂布热熔背胶层。
9.如权利要求8所述的全息烫印防伪膜的制备方法,其特征在于,所述基膜为PET或BOPP,所述离型层为熔点为80-90℃的水蜡,所述信息树脂层厚度为1-3μm,所述镀层为高折射率的介质或高反射的铝层,所述镀层厚度小于50nm。
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Legal Events
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PB01 | Publication | ||
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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