CN109067939A - 电子设备的壳体及其制作方法、电子设备 - Google Patents
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Abstract
本发明提出了电子设备的壳体及其制作方法、电子设备。该电子设备的壳体包括层叠设置的壳体本体、阳极氧化层和光学膜层，其中，光学膜层包括交替设置的多个第一子膜层和多个第二子膜层，且第一子膜层由氧化硅形成，而第二子膜层由氧化钛和氧化铌中的至少一种形成。本发明所提出的电子设备的壳体，其壳体本体表面的阳极氧化层上还设置有光学膜层，且该光学膜层为多层交替设置的氧化硅+氧化钛或氧化硅+氧化铌，如此，让光线在折射率不同的膜层之间发生多次折射，从而实现壳体表面如彩虹一般的幻彩变色效果，进而使电子设备的外观能够满足消费者对电子设备的外观效果多变的需求。
Description
技术领域
本发明涉及电子设备的壳体制作技术领域，具体的，本发明涉及电子设备的壳体及其制作方法、电子设备。
背景技术
现阶段，手机、平板电脑、智能手表等电子设备的壳体，在同质化严重以及审美疲劳的原因下，单一颜色的表面效果已无法满足消费者对电子设备的外观效果多变的需求。而且，电子设备的壳体常用的材料为铝合金，其表面需要进行阳极氧化处理，但是，阳极氧化层的表观颜色单一，无法实现变化的外观效果。
发明内容
本发明实施例的一个目的在于提出一种电子设备的壳体结构、制作该壳体结构的方法以及应用该壳体的电子设备，至少解决现有技术中存在的上述问题，实现电子设备的壳体幻彩变色的表面效果。
在本发明实施例的第一方面，提出了一种电子设备的壳体。
根据本发明的实施例，所述壳体包括层叠设置的壳体本体、阳极氧化层和光学膜层，其中，所述光学膜层包括交替设置的多个第一子膜层和多个第二子膜层，且所述第一子膜层由氧化硅形成，所述第二子膜层由氧化钛和氧化铌中的至少一种形成。
本发明实施例的电子设备的壳体，其壳体本体表面的阳极氧化层上还设置有光学膜层，且该光学膜层为多层交替设置的氧化硅+氧化钛或氧化硅+氧化铌，如此，让光线在折射率不同的膜层之间发生多次折射，从而实现壳体表面如彩虹一般的幻彩变色效果，进而使电子设备的外观能够满足消费者对电子设备的外观效果多变的需求。
在本发明的第二方面，提出了一种制作电子设备的壳体的方法。
根据本发明的实施例，所述方法包括：在壳体本体的表面形成阳极氧化层；在所述阳极氧化层远离所述壳体本体的表面形成光学膜层，其中，所述光学膜层包括交替设置的多个第一子膜层和多个第二子膜层，且所述第一子膜层由氧化硅形成，所述第二子膜层由氧化钛和氧化铌中的至少一种形成。
本发明实施例的制作方法，在壳体本体的外表面依次形成阳极氧化层和光学膜层，且形成光学膜层的步骤包括形成交替设置的氧化硅+氧化钛或氧化硅+氧化铌，如此，可制作出表面呈现彩虹一般幻彩变色效果的壳体，并且，该制作方法形成的具体的颜色变幻效果可调控，从而可设计出多种多样的幻彩效果。
在本发明的第三方面，提出了一种电子设备。
根据本发明的实施例，所述电子设备包括上述的壳体。
本发明实施例的电子设备，其壳体具有幻彩变色的表观效果，可使该电子设备的外观更加时尚，从而满足消费者对电子设备的外观效果的需求，进而增加该电子设备的市场竞争力。本领域技术人员能够理解的是，前面针对电子设备的壳体所描述的特征和优点，仍适用于该电子设备，在此不再赘述。
本发明的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本发明的实践了解到。
附图说明
本发明的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：
图1是本发明一个实施例的电子设备的壳体的截面结构示意图；
图2是本发明另一个实施例的电子设备的壳体的截面结构示意图；
图3是本发明一个实施例的制作电子设备的壳体的方法流程示意图；
图4是本发明一个实施例的电子设备的外观图。
附图标记
100 壳体本体
200 阳极氧化层
300 光学膜层
310 第一子膜层
320 第二子膜层
10 电子设备
11 壳体
具体实施方式
下面详细描述本发明的实施例，本技术领域人员会理解，下面实施例旨在用于解释本发明，而不应视为对本发明的限制。除非特别说明，在下面实施例中没有明确描述具体技术或条件的，本领域技术人员可以按照本领域内的常用的技术或条件或按照产品说明书进行。
在本发明实施例的一个方面，提出了一种电子设备的壳体。
根据本发明的实施例，参考图1，该电子设备的壳体包括层叠设置的壳体本体100、阳极氧化层200和光学膜层300，其中，光学膜层300包括交替设置的多个第一子膜层310和多个第二子膜层320，且第一子膜层310由氧化硅形成，而第二子膜层320由氧化钛和氧化铌中的至少一种形成。如此，本发明的发明人设计了一种壳体结构，在阳极氧化层200远离壳体本体100的表面增设光学膜层300，由于阳极氧化层200与光学膜层300的折射率不同，并且，光学膜层300由多层交替设置的氧化硅+氧化钛或氧化硅+氧化铌组成，可使光线在两层膜层之间多次折射后呈现幻彩变色效果，其色散效果更显著，从而使壳体的幻彩变色效果更丰富。
需要理解的是，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是至少一个，例如一个、两个、三个等，除非另有明确具体的限定。
根据本发明的实施例，壳体本体100的具体形状不受特别的限制，具体例如手机的电池盖形状等等，本领域技术人员可根据该电子设备的壳体的具体类型进行相应地设计，在此不再赘述。根据本发明的实施例，壳体本体100的具体材料也不受特别的限制，只要该材料形成的壳体本体100能满足电子设备壳体的性能要求且可被阳极氧化处理即可，具体例如铝合金、镁合金或铝镁合金等，本领域技术人员可根据该电子设备对壳体的具体性能要求进行相应地选择。在本发明的一些实施例中，形成壳体本体100的材料可为铝合金，如此，可获得密度更轻、比强度高且适于制作复杂形状的壳体，并且，其制造成本较低。
根据本发明的实施例，阳极氧化层200的具体材料不受特别的限制，本领域技术人员可根据壳体本体100的具体材料进行相应地选择。在本发明的一些实施例中，对于铝合金材料的壳体本体100，通过阳极氧化处理可在壳体本体100的表面形成氧化铝的阳极氧化层200，如此，可提高壳体表面的硬度、耐磨性、耐腐蚀性等性能，并延长其使用寿命。根据本发明的实施例，阳极氧化层200的厚度可为3～5微米，如此，采用上述厚度范围的阳极氧化层200，在显著提高壳体表面的硬度、耐磨性、耐腐蚀性等性能的同时，也不会显著增加壳体的厚度。
根据本发明的实施例，阳极氧化层200的具体颜色不受特别的限制，本领域技术人员可根据壳体所需的表观颜色效果进行相应地设计，具体例如蓝色的阳极氧化层200配合紫色的幻彩效果、黄色的阳极氧化层200配合红色的幻彩效果，等等，本领域技术人员可根据光学膜层300产生的具体颜色的幻彩效果进行相应地搭配，在此不再赘述。
根据本发明的实施例，形成第一子膜层310的氧化硅可为二氧化硅(SiO2)，形成第二子膜层320的氧化钛可为二氧化钛(TiO2)，或者形成第二子膜层320的氧化铌可为三氧化二铌(Nb2O3)，如此，氧化铝的折射率为1.6，二氧化硅的折射率为1.5，而二氧化钛的折射率为2.6，三氧化二铌的折射率为2.3，从而使光线可在多个子膜层的不同界面处发生多次折射后产生薄膜干涉，进而使壳体表面呈现幻彩变色效果，并且，多个子膜层叠加的色散效果会更显著，从而使壳体的幻彩变色效果更丰富。
根据本发明的实施例，光学膜层300包括的子膜层的具体个数不受特别的限制，其中图1仅画出两个子膜层为示例、图2仅画出四个子膜层为示例，而本领域技术人员可根据该壳体具体所需的幻彩效果进行相应地设计和调整。在本发明的一些实施例中，多个第一子膜层310和多个第二子膜层320的总层数可为2～7层，如此，通过调整子膜层的个数，可使壳体呈现不同颜色的幻彩效果。
根据本发明的实施例，参考图2，第一子膜层的厚度d1可为30～80纳米，而第二子膜层的厚度d2可为30～80纳米，如此，通过设计两个子膜层的具体厚度，可在不过多改变光学膜层300的整体厚度D，也可实现壳体不同颜色的幻彩效果。根据本发明的实施例，参考图2，光学膜层300的厚度D可为200～400纳米，如此，通过在阳极氧化层200远离壳体本体100的表面设置纳米级厚度的光学膜层300，既可实现壳体幻彩的外观效果，而不会影响壳体的厚度。
在一些具体示例中，阳极氧化层200可为蓝色，而二氧化硅形成的第一子膜层310的厚度d1可为30～40纳米，三氧化二铌形成的第二子膜层320的厚度d2可为30～40纳米，且光学膜层300包括7层交替设置的第一子膜层310和第二子膜层320，如此，光学膜层300可呈现紫色的幻彩效果，从而可使壳体实现蓝紫色系的幻彩外观效果。
在另一些具体事例中，阳极氧化层200可为黄色，而二氧化硅形成的第一子膜层310的厚度d1可为70～80纳米，三氧化二铌形成的第二子膜层320的厚度d2可为70～80纳米，且光学膜层300包括2层交替设置的第一子膜层310和第二子膜层320，如此，光学膜层300可呈现红色的幻彩效果，从而可使壳体实现橙色系的幻彩外观效果。
综上所述，根据本发明的实施例，提出了一种电子设备的壳体，其壳体本体表面的阳极氧化层上还设置有光学膜层，且该光学膜层为多层交替设置的氧化硅+氧化钛或氧化硅+氧化铌，如此，让光线在折射率不同的膜层之间发生多次折射，可实现壳体表面如彩虹一般的幻彩变色效果，从而使电子设备的外观能够满足消费者对电子设备的外观效果多变的需求。
在本发明实施例的另一个方面，提出了一种制作电子设备的壳体的方法。根据本发明的实施例，参考图3，该制作方法包括：
S100：在壳体本体的表面形成阳极氧化层。
在该步骤中，在壳体本体100的表面形成阳极氧化层200。
根据本发明的实施例，形成阳极氧化层200的具体方法不受特别的限制，只要形成的阳极氧化层200能提高壳体的表面强度、耐磨性等即可，本领域技术人员可根据壳体本体100的具体材料进行相应地选择。在本发明的一些实施例中，对于铝合金材料的壳体本体100，可选择如下的阳极氧化处理工艺：S110：脱脂，其脱脂液的PH小于9.5，呈弱酸性；S120：清理，以除掉壳体本体100表面的灰尘；S130：阳极氧化，阳极氧化液的浓度为200～220g/L，温度为18～20摄氏度，铝离子的浓度为1～10g/L，氧化电压为12～14V，氧化时间为10～20分钟；S140：表面调整，3次；S150：清洗，超声波水洗；S160：染色，根据壳体的主色彩效果进行染色；S170：封孔，封孔剂的浓度为10～12g/L，温度为95～98摄氏度，封孔时间为45分钟；S180：烘干。如此，可高效地在壳体本体100的表面形成均匀的阳极氧化层200。
根据本发明的实施例，形成的阳极氧化层200的具体厚度不受特别的限制，本领域技术人员可根据该壳体实际所需的表面力学性能要求进行相应地调整。在本发明的一些实施例中，阳极氧化层200的厚度可为3～5微米，如此，形成上述厚度范围的阳极氧化层200，在显著提高壳体表面的硬度、耐磨性、耐腐蚀性等性能的同时，也不会显著增加壳体的厚度。
S200：在阳极氧化层远离壳体本体的表面形成光学膜层。
在该步骤中，在阳极氧化层200远离壳体本体100的表面形成光学膜层300，其中，光学膜层300包括交替设置的多个第一子膜层310和多个第二子膜层320，且第一子膜层310由氧化硅形成，而第二子膜层320由氧化钛和氧化铌中的至少一种形成。并且，该步骤获得的产品可参考图1或图2所示。
根据本发明的实施例，形成光学膜层300的具体方法不受特别的限制，本领域技术人员可根据各个子膜层的材料进行相应地选择。在本发明的一些实施例中，对于二氧化硅形成的第一子膜层310和三氧化二铌形成的第二子膜层320，可选择蒸镀或磁控溅射的方法，如此，可获得纳米级厚度且厚度均匀的子膜层。
根据本发明的实施例，形成光学膜层300的具体步骤也不受特别的限制，本领域技术人员可根据光学膜层300的具体结构进行相应地设计。在本发明的一些实施例中，步骤S200具体可为形成2～7层交替设置的多个第一子膜层310和多个第二子膜层320，如此，通过蒸镀或磁控溅射的方法，可在阳极氧化层200远离壳体本体100的表面形成2～7层交替的氧化硅+氧化铌或氧化硅+氧化钛的子膜层，本领域技术人员可调整子膜层的具体个数而使壳体呈现不同颜色的幻彩效果。
根据本发明的实施例，形成的第一子膜层的厚度d1可为30～80纳米，而形成的第二子膜层的厚度d2可为30～80纳米，如此，通过设计两个子膜层的具体厚度，可在不过多改变光学膜层300的整体厚度D，也可实现壳体不同颜色的幻彩效果。根据本发明的实施例，光学膜层300的厚度D可为200～400纳米，如此，通过在阳极氧化层200远离壳体本体100的表面设置纳米级厚度的光学膜层300，既可实现壳体幻彩的外观效果，而不会影响壳体的厚度。
在一些具体示例中，阳极氧化层200选择染成蓝色，而二氧化硅形成的第一子膜层310的厚度d1为30～40纳米，三氧化二铌形成的第二子膜层320的厚度d2为30～40纳米，且光学膜层300包括7层交替设置的第一子膜层310和第二子膜层320，如此，形成的光学膜层300可呈现紫色的幻彩效果，从而可使壳体实现蓝紫色系的幻彩外观效果。
在另一些具体示例中，阳极氧化层200选择染成黄色，而二氧化硅形成的第一子膜层310的厚度d1为70～80纳米，三氧化二铌形成的第二子膜层320的厚度d2为70～80纳米，且光学膜层300包括2层交替设置的第一子膜层310和第二子膜层320，如此，形成的光学膜层300可呈现红色的幻彩效果，从而可使壳体实现橙色系的幻彩外观效果。
综上所述，根据本发明的实施例，提出了一种制作电子设备的壳体的方法，在壳体本体的外表面依次形成阳极氧化层和光学膜层，且形成光学膜层的步骤包括形成交替设置的氧化硅+氧化钛或氧化硅+氧化铌，如此，可制作出表面呈现彩虹一般幻彩变色效果的壳体，并且，该制作方法形成的具体的颜色变幻效果可调控，从而可设计出多种多样的幻彩效果。
在本发明实施例的另一个方面，提出了一种电子设备。根据本发明的实施例，参考图4，该电子设备10包括上述的壳体11。
根据本发明的实施例，该电子设备的具体类型不受特别的限制，具体例如手机、平板电脑、智能手表等，本领域技术人员可根据该电子设备的具体用途进行相应地选择，在此不再赘述。需要说明的是，该电子设备除了包括上述的壳体以外，还包括其他必要的部件和结构，以手机为例，具体例如显示装置、处理器、存储器、电池、电路板、摄像头，等等，本领域技术人员可根据该电子设备的具体种类进行相应地设计和补充，在此不再赘述。
综上所述，根据本发明的实施例，提出了一种电子设备，其壳体具有幻彩变色的表观效果，可使该电子设备的外观更加时尚，从而满足消费者对电子设备的外观效果的需求，进而增加该电子设备的市场竞争力。本领域技术人员能够理解的是，前面针对电子设备的壳体所描述的特征和优点，仍适用于该电子设备，在此不再赘述。
在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本发明的限制，本领域的普通技术人员在本发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。
Claims (14)
1.一种电子设备的壳体，其特征在于，包括层叠设置的壳体本体、阳极氧化层和光学膜层，其中，所述光学膜层包括交替设置的多个第一子膜层和多个第二子膜层，且所述第一子膜层由氧化硅形成，所述第二子膜层由氧化钛和氧化铌中的至少一种形成。
2.根据权利要求1所述的壳体，其特征在于，形成所述壳体本体的材料包括铝合金。
3.根据权利要求1所述的壳体，其特征在于，所述阳极氧化层的厚度为3～5微米。
4.根据权利要求1所述的壳体，其特征在于，所述氧化硅为二氧化硅，所述氧化钛为二氧化钛，所述氧化铌为三氧化二铌。
5.根据权利要求1所述的壳体，其特征在于，所述多个第一子膜层和所述多个第二子膜层的总层数为2～7层。
6.根据权利要求1所述的壳体，其特征在于，所述第一子膜层和所述第二子膜层的厚度各自独立地为30～80纳米。
7.根据权利要求1所述的壳体，其特征在于，所述光学膜层的厚度为200～400纳米。
8.一种制作电子设备的壳体的方法，其特征在于，包括：
在壳体本体的表面形成阳极氧化层；
在所述阳极氧化层远离所述壳体本体的表面形成光学膜层，其中，所述光学膜层包括交替设置的多个第一子膜层和多个第二子膜层，且所述第一子膜层由氧化硅形成，所述第二子膜层由氧化钛和氧化铌中的至少一种形成。
9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，形成所述光学膜层的方法包括蒸镀或磁控溅射。
10.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，形成的所述阳极氧化层的厚度为3～5微米。
11.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，形成光学膜层的步骤包括形成2～7层交替设置的多个所述第一子膜层和多个所述第二子膜层。
12.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述第一子膜层和所述第二子膜层的厚度各自独立地为30～80纳米。
13.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，形成的所述光学膜层的厚度为200～400纳米。
14.一种电子设备，其特征在于，包括权利要求1～7中任一项所述的壳体。
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