CN108732806A

CN108732806A - 显示面板、显示装置和显示面板的制造方法

Info

Publication number: CN108732806A
Application number: CN201810533288.7A
Authority: CN
Inventors: 谢明; 孔祥建; 刘金娥
Original assignee: Shanghai Tianma Microelectronics Co Ltd
Current assignee: Shanghai Tianma Microelectronics Co Ltd
Priority date: 2018-05-29
Filing date: 2018-05-29
Publication date: 2018-11-02

Abstract

本发明公开了一种显示面板、显示装置和显示面板的制造方法，属于显示技术领域，包括：多个像素，像素包括至少三种颜色的子像素，子像素包括面积相等或相似的第一次像素和第二次像素。通过为每个次像素设置不同透过率的色阻，增加了显示面板的颜色，改善了显示面板的显示性能，提高了显示面板的显示品质。并且，采用两个次像素面积相等或相似的设置方法，能够有效保持电压，在采用低频驱动的方式时，提高显示面板的显示效果；此外，两个次像素的面积差异较小，需要的公共电压Vcom基本一致，从而减小或者避免可能出现的画面闪烁的情况。

Description

显示面板、显示装置和显示面板的制造方法

技术领域

本发明涉及显示技术领域，更具体地，涉及一种显示面板、显示装置和显示面板的制造方法。

背景技术

现有技术提供的一种显示面板中，为了实现低功耗显示采用低功耗模式的驱动芯片，而低功耗驱动芯片的数据线只输出高低两种电位，分别对应白态和黑态，这种常规的设计方式就只有全亮和全黑两种状态，即每个子像素只有两种状态，如果每个像素由三个不同颜色的子像素构成则每个像素只能实现2*2*2＝8种颜色。

因此，如何增加低功耗显示面板的颜色是所属技术领域亟需解决的技术问题。

发明内容

有鉴于此，本发明提供了一种显示面板，包括：显示区和非显示区；显示区包括多个像素，像素包括至少三种颜色的子像素，子像素包括第一次像素和第二次像素；第一次像素的面积为S1，第二次像素的面积为S2，|S1-S2|≤10％*S2；在子像素中，第一次像素的色阻层的透过率小于第二次像素的色阻层的透过率。

本发明还提供一种显示装置，包括本发明所提供的显示面板。

本发明还提供一种显示面板的制造方法，其中，显示面板包括：显示区和非显示区；显示区包括多个像素，像素包括至少三种颜色的子像素，子像素包括第一次像素和第二次像素；第一次像素的面积为S1，第二次像素的面积为S2，|S1-S2|≤10％*S2；第一次像素的色阻层和第二次像素的色阻层的制造方法包括：涂布色阻材料层；使用半色调掩膜版曝光，第一次像素和第二次像素所在区域的半色调掩膜版的透光率不同；使用显影液冲刷曝光后的色阻材料层，第一次像素的色阻层的厚度大于第二次像素的色阻层的厚度。

本发明还提供另一种显示面板的制造方法，其中，显示面板包括：显示区和非显示区；显示区包括多个像素，像素包括至少三种颜色的子像素，子像素包括第一次像素和第二次像素；第一次像素的面积为S1，第二次像素的面积为S2，|S1-S2|≤10％*S2；在子像素中，第一次像素的色阻层的透过率小于第二次像素的色阻层的透过率；第一次像素的色阻层和第二次像素的色阻层的制造方法包括：涂布第一色阻材料层，图案化第一色阻材料层形成第一次像素的色阻层；涂布第二色阻材料层，图案化第二色阻材料层形成第二次像素的色阻层。

与现有技术相比，本发明提供的显示面板、显示装置和显示面板的制造方法，至少实现了如下的有益效果：

1、本发明将每个子像素分为两个次像素，并且这两个次像素的面积大小设置为一致或者相接近的值，且两个次像素的色阻透过率不同，将8种颜色提高至64种，增加了显示面板的颜色，改善了显示面板的显示性能，提高了显示面板的显示品质。

2、采用两个次像素面积相等或相似的设置方法，能够使得分割后的两个次像素的电压保持率都足够高，有效保持电压，在采用低频驱动的方式时，提高显示面板的显示效果。

3、由于本发明中的两个次像素的面积差异较小，则这两个次像素对应的存储电容差异也较小，因此这两个次像素需要的公共电压Vcom基本一致，从而减小或者避免显示面板在正常显示时可能出现的画面闪烁的情况。

当然，实施本发明的任一产品必不特定需要同时达到以上所述的所有技术效果。

通过以下参照附图对本发明的示例性实施例的详细描述，本发明的其它特征及其优点将会变得清楚。

附图说明

被结合在说明书中并构成说明书的一部分的附图示出了本发明的实施例，并且连同其说明一起用于解释本发明的原理。

图1是本发明实施例提供的一种显示面板平面结构示意图；

图2是沿图1中CC’线的一种剖面结构示意图；

图3是沿图1中CC’线的另一种剖面结构示意图；

图4是本发明实施例提供的另一种显示面板的平面结构示意图；

图5是本发明实施例提供的又一种显示面板的平面结构示意图；

图6是本发明实施例提供的又一种显示面板的平面结构示意图；

图7是本发明实施例提供的一种显示面板的像素结构示意图；

图8是本发明实施例提供的一种显示面板的电路原理图；

图9是沿图7中OO’线的一种剖面结构示意图；

图10是本发明实施例提供的另一种显示面板的像素结构示意图；

图11是沿图10中NN’线的一种剖面结构示意图；

图12是本发明实施例提供的一种显示装置的平面结构示意图；

图13是本发明实施例提供的一种显示面板的制造方法的流程图；

图14～图16是图13提供的制造方法对应的显示面板的剖面结构示意图；

图17是本发明实施例提供的另一种显示面板的制造方法的流程图；

图18～图19是图17提供的制造方法对应的显示面板的剖面结构示意图。

具体实施方式

现在将参照附图来详细描述本发明的各种示例性实施例。应注意到：除非另外具体说明，否则在这些实施例中阐述的部件和步骤的相对布置、数字表达式和数值不限制本发明的范围。

以下对至少一个示例性实施例的描述实际上仅仅是说明性的，决不作为对本发明及其应用或使用的任何限制。

对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨论，但在适当情况下，所述技术、方法和设备应当被视为说明书的一部分。

在这里示出和讨论的所有例子中，任何具体值应被解释为仅仅是示例性的，而不是作为限制。因此，示例性实施例的其它例子可以具有不同的值。

应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步讨论。

为了便于说明本发明的技术效果，在此解释现有技术存在的问题。现有技术提供的一种技术方案中，为了实现64色低功耗显示，通常将一个像素分割成不等大的子像素，一般是按照1:2的比例进行分割。采用低频驱动时，芯片只输送高低两种电平。在这种情况下，由于分割后的子像素大小差别比较大，因此，在低频驱动时，面积小的子像素的存储电容不足够大，不能够有效保持电压，从而导致低频驱动的显示效果比较差。并且，由于两个子像素大小差异较大，这两个子像素对应的存储电容和液晶电容差异也比较大，则这两个子像素的需要的公共电压Vcom也不一致，使得显示面板在正常显示时画面有闪烁，且不易调节。

有鉴于此，如图1-图2所示，图1是本发明实施例提供的一种显示面板平面结构示意图，图2是沿图1中CC’线的一种剖面结构示意图，具体的，图2示出了图1中沿剖面线CC’的一个子像素11的剖面结构示意图。本发明实施例提供一种显示面板100，包括：显示区A和非显示区B；显示区A包括多个像素10，像素10包括至少三种颜色的子像素11、12、13，子像素包括第一次像素和第二次像素；第一次像素的面积为S1，第二次像素的面积为S2，|S1-S2|≤10％*S2；在子像素中，第一次像素的色阻层的透过率小于第二次像素的色阻层的透过率。其中，子像素可以是11、12或者13，相应的，第一次像素可以是111、121、131，第二次像素可以是112、122、132。

可选的，显示面板100包括第一基板20、第二基板30、黑矩阵23以及绝缘层16。其中绝缘层16主要用来保护像素10的色阻层，可以采用光硬化材料，也可以采用热硬化材料，本发明对此不作具体限制。可选的，子像素11还包括第一次电极17和第二次电极18，可选的，第一次电极17和第二次电极18之间设有绝缘层16’。

具体的，如图1-2所示，显示面板100的显示区A上包括多个像素10，每个像素10至少包括三种不同颜色的子像素11、12、13，例如每个子像素10可以包括红、绿、蓝三种颜色。需要说明的是，本发明对子像素10的具体颜色以及颜色的数量不作具体限制，例如子像素10还可以是由红绿蓝白四种颜色组成，或者由品红、草绿、靛蓝三种颜色组成等。子像素11包括第一次像素111和第二次像素112，子像素12包括第一次像素121和第二次像素122，子像素13包括第一次像素131和第二次像素132。本发明实施例将子像素11的第一次像素111的面积设为S1，第二次像素112的面积设为S2，为了使得分割后的两个次子像素电压保持率都足够高，本发明实施例将第一次子像素111和第二次子像素112的面积大小设置为一致或者相接近的值，即本发明实施例中第一次像素111的面积S1和第二次像素112的面积S2满足条件：|S1-S2|≤10％*S2。同理，子像素12的第一次像素121的面积S1’和第二次像素122的面积S2’满足条件：|S1’-S2’|≤10％*S2’、子像素13的第一次像素131的面积S1”和第二次像素132的面积S2”满足条件：|S1”-S2”|≤10％*S2”。并且，本发明实施例中，子像素11的第一次像素111的色阻层14的透过率小于第二次像素112的色阻层15的透过率。同理，子像素12的第一次像素121的色阻层的透过率小于第二次像素122的色阻层的透过率，子像素13的第一次像素131的透过率小于第二次像素132的色阻层的透过率。

需要说明的是，本发明实施例中第一次像素的面积和第二次像素的面积可以相等(即S1＝S2，S1’＝S2’，S1”＝S2”)，但由于工艺误差等原因，第一次像素的面积和第二次像素的面积可能做不到完全相等，允许存在误差，第一次像素的面积和第二次像素的面积相差的范围在10％以内。

本发明实施例提供的显示面板在低功耗显示时芯片只输送高低两种电平，由于第一次像素和第二次像素的色阻的透过率不同，因而每个子像素可以包括4种显示状态，以子像素11为例进行说明，子像素11的第一次像素111和第二次像素112的显示状态包括：1)第一次像素111黑态、第二次像素112黑态；2)第一次像素111白态，第二次像素112白态；3)第一次像素111黑态，第二次像素112白态；4)第一次像素111白态，第二次像素112黑态。由于第一次像素和第二次像素的色阻的透过率不同，因而第3)种显示状态和第4)种显示状态的显示效果是不同的。子像素12和子像素13也同样具有四种不同的显示状态，则本发明实施例提供的显示面板中，以一个像素包括3个子像素为例，一个像素能够显示的颜色数为64种。

采用本发明实施例提供的显示面板，至少可以实现如下的技术效果：

1、将一个子像素11分为两个面积相等或者相近的第一次像素111和第二次像素112，且两个次像素的色阻透过率不同，将8种颜色提高至64种，增加了显示面板100的颜色，改善了显示面板100的显示性能，提高了显示面板100的显示品质。

2、采用第一次像素111和第二次像素112面积相等的设置方法，能够使得分割后的第一次像素111和第二次像素112的电压保持率都足够高，有效保持电压，在采用低频驱动的方式时，提高显示面板100的显示效果。

3、由于本发明实施例中的第一次像素111和第二次像素112的面积差异较小，则第一次像素111和第二次像素112对应的存储电容差异也较小，因此第一次像素111和第二次像素112需要的公共电压Vcom基本一致，从而减小或者避免显示面板100在正常显示时可能出现的画面闪烁的情况。

可选的，请继续参见图1-图2，第一次像素111的色阻层14的厚度大于第二次像素112的色阻层15的厚度，第一次像111的色阻层14的厚度和第二次像素112的色阻层15的厚度之差为δd₁，0.2μm≤δd₁≤2μm。

具体的，子像素11的第一次像素111的色阻层14的透过率小于第二次像素112的色阻层15的透过率的有多种设置方式，其中一种设置方式请继续参见图2，色阻层14的厚度大于色阻层15的厚度。可选的，色阻层14和色阻层15的厚度差异使用绝缘层16来抚平，从而保证整个显示面板100的盒厚一致。色阻层的厚度越厚则像素的透过率越小，本发明实施例中，色阻层14的厚度和色阻层15的厚度之差为δd₁，差异范围为：0.2μm≤δd₁≤2μm。如果色阻层14的厚度和色阻层15的厚度差异过小，则第一次像素111和第二次像素112的穿透率差异不明显，降低了64色显示的显示效果；如果色阻层14的厚度和色阻层15的厚度差异过大，则使用绝缘层16来抚平差异的难度较大，增加了制作绝缘层16的成本以及工艺难度，此外，厚度差异较大时可能造成厚度较小的色阻层太薄影响滤光效果，如果要保证厚度较小的色阻层满足滤光要求，则必须增加显示面板的盒厚，不符合显示面板轻薄化的需求。

可选的，请继续参见图1-图2，第一次像素111的色阻层14的材料和第二次像素112的色阻层15的材料相同。具体的，在色阻层14的厚度大于色阻层15的厚度的设置方式中，色阻层14和色阻层15的材料相同。采用相同的材料设置色阻层14和色阻层15，能够减少两个色阻层制作工艺上的难度与制作成本。

可选的，请参见图3，图3是沿图1中CC’线的另一种剖面结构示意图，具体的，图3示出了图1中沿剖面线CC’的一个子像素11的剖面结构示意图。第一次像素111的色阻层14的材料的透过率小于第二次像素112的色阻层15的材料的透过率。

具体的，如图1、图3所示，子像素11的第一次像素111的色阻层14的透过率小于第二次像素112的色阻层15的透过率的有多种设置方式，另一种设置方式请参见图3，第一次像素111的色阻层14的材料的透过率小于第二次像素112的色阻层15的材料的透过率。本实施例中，使用透过率不同的材料制作第一次像素和第二次像素的色阻层，以实现第一次像素和第二次像素的色阻的透过率不同。可选的，色阻层14和色阻层15厚度基本相同，即为δd₂可以为0，可以减少显示面板的盒厚差异，能够简化绝缘层16的制作工艺。

可选的，请继续参见图1、图3，第一次像素111的色阻层14的厚度和第二次像素112的色阻层15的厚度之差为δd₂，δd₂≤0.2μm。具体的，在色阻层14的材料的透过率小于色阻层15的材料的透过率的设置方式中，色阻层14和色阻层15采用具有不同透过率的材料制作，即可实现第一次像素111和第二次像素112具有不同透过率。进一步的，第一次像素111的色阻层14的厚度和第二次像素112的色阻层15的厚度可以不同，以进一步实现第一次像素111和第二次像素112的透过率差异满足显示面板的需求。需要说明的是，第一次像素111和第二次像素112的厚度差δd₂不宜过大，满足条件：δd₂≤0.2μm。本发明实施例采用厚度差较小的设计能够使得显示面板的盒厚更均一，并且有利于减少显示面板的盒厚，实现显示面板的轻薄化。

可选的，请参见图1、图3，第一次像素111的色阻层14的材料的透过率为Y₁，第二次像素112的色阻层15的材料的透过率为Y₂，Y₂＝K*Y₁，其中，1＜K＜4。

具体的，请参见图1、图3，色阻层14和色阻层15选用具有不同透过率的材料，色阻层14的透过率Y₁和色阻层15的透过率Y₂满足线性关系：Y₂＝K*Y₁，且1＜K＜4。色阻层14的透过率Y₁和色阻层15的透过率Y₂的差异不宜过小，如果等于1则二者透过率差异较小，可能会降低显示面板的显示品质；色阻层14的透过率Y₁和色阻层15的透过率Y₂的差异不宜过大，大于4可能会使色阻层14的透过率Y₁较小接近黑态、或者使色阻层15的透过率Y₂较大接近白态，可能会降低显示面板的显示品质。可选的，1.3＜K＜2。具体的，色阻层14的透过率Y₁和色阻层15的透过率Y₂的线性系数K取值区间为(1.3，2)，当一个像素有三个不同颜色的子像素时，采用本发明实施例可以实现较好的64色显示效果。

可选的，请继续参见图1，图1是本发明实施例提供的一种显示面板的平面结构示意图。像素10包括第一颜色子像素11、第二颜色子像素12和第三颜色子像素13；像素10中，第一颜色子像素11、第二颜色子像素12和第三颜色子像素13沿第一方向X依次排布；像素10沿第一方向X和第二方向Y呈阵列式排布，第二方向Y和第一方向X实质上垂直；同一子像素11中的第一次像素111和第二次像素112沿第二方向Y排布。

具体的，请继续参见图1，在显示区A中包含多个像素10，多个像素10沿第一方向X和第二方向Y阵列式排布；每个像素10均包括沿第一方向X依次排布的第一颜色子像素11、第二颜色子像素12和第三颜色子像素13；每个第一颜色子像素11包含沿第二方向Y排布的第一次像素111和第二次像素112，同理，每个第二颜色子像素12包含沿第二方向Y排布的第一次像素121和第二次像素122，每个第三颜色子像素13包含沿第二方向Y排布的第一次像素131和第二次像素132。采用本发明实施例提供的显示面板，将一个子像素11分为两个面积相等或者相近的第一次像素111和第二次像素112，且两个次像素的色阻透过率不同，将8种颜色提高至64种，增加了显示面板100的颜色，改善了显示面板100的显示性能，提高了显示面板100的显示品质。

需要说明的是，本发明实施例中第一颜色子像素11的第一次像素111的色阻层14和第二次像素112的色阻层15可以采用不同厚度、相同材料来实现不同颜色的显示，也可以采用相同厚度(基本相同或者相差很小)、不同材料来实现不同透过率。

可选的，请继续参见图1，像素10中，第一颜色子像素11的第一次像素111、第二颜色子像素12的第一次像素121、第三颜色子像素13的第一次像素131沿第一方向X依次排布。

具体的，请继续参见图1，第一颜色子像素11、第二颜色子像素12和第三颜色子像素13沿第一方向X依次排布；第一颜色子像素11的第一次像素111、第二颜色子像素12的第一次像素121、第三颜色子像素13的第一次像素131也沿第一方向X依次排布。采用本发明实施例提供的显示面板，将一个子像素11分为两个面积相等或者相近的第一次像素111和第二次像素112，且两个次像素的色阻透过率不同，将8种颜色提高至64种，增加了显示面板100的颜色，改善了显示面板100的显示性能，提高了显示面板100的显示品质。

可选的，请参见图4，图4是本发明实施例提供的另一种显示面板的平面结构示意图。像素10中，第一颜色子像素11的第二次像素112、第二颜色子像素12的第一次像素121、第三颜色子像素13的第二次像素132沿第一方向X依次排布。

具体的，请参见图4，第一颜色子像素11、第二颜色子像素12和第三颜色子像素13沿第一方向X依次排布；第一颜色子像素11的第二次像素112、第二颜色子像素12的第一次像素121、第三颜色子像素13的第二次像素132沿第一方向X依次排布。采用本发明实施例提供的显示面板，将一个子像素11分为两个面积相等或者相近的第一次像素111和第二次像素112，且两个次像素的色阻透过率不同，将8种颜色提高至64种，增加了显示面板100的颜色，改善了显示面板100的显示性能，提高了显示面板100的显示品质。

可选的，请参见图5，图5是本发明实施例提供的又一种显示面板的平面结构示意图。像素10中，第一颜色子像素11的第二次像素112、第二颜色子像素12的第一次像素121、第三颜色子像素13的第一次像素131沿第一方向X依次排布。

具体的，请参见图5，第一颜色子像素11、第二颜色子像素12和第三颜色子像素13沿第一方向X依次排布；第一颜色子像素11的第二次像素112、第二颜色子像素12的第一次像素121、第三颜色子像素13的第一次像素131沿第一方向X依次排布。采用本发明实施例提供的显示面板，将一个子像素11分为两个面积相等或者相近的第一次像素111和第二次像素112，且两个次像素的色阻透过率不同，将8种颜色提高至64种，增加了显示面板100的颜色，改善了显示面板100的显示性能，提高了显示面板100的显示品质。

可选的，请参见图6，图6是本发明实施例提供的又一种显示面板的平面结构示意图。像素10中，第一颜色子像素11的第一次像素111、第二颜色子像素12的第一次像素121、第三颜色子像素13的第二次像素132沿第一方向X依次排布。

具体的，请参见图6，第一颜色子像素11、第二颜色子像素12和第三颜色子像素13沿第一方向X依次排布；第一颜色子像素11的第一次像素111、第二颜色子像素12的第一次像素121、第三颜色子像素13的第二次像素132沿第一方向X依次排布。采用本发明实施例提供的显示面板，将一个子像素11分为两个面积相等或者相近的第一次像素111和第二次像素112，且两个次像素的色阻透过率不同，将8种颜色提高至64种，增加了显示面板100的颜色，改善了显示面板100的显示性能，提高了显示面板100的显示品质。

可选的，请结合参见图7、图8，图7是本发明实施例提供的一种显示面板的像素结构示意图，图8是本发明实施例提供的一种显示面板的电路原理图。如图7-图8所示，显示区A包括多条设置的数据线D1、以及多个设置的栅极线组G；栅极线组G位于同一子像素11中的第一次像素111和第二次像素112之间的区域；栅极线组G包括第一栅极线G1、第二栅极线G2和第三栅极线G3；第一次像素11包括第一晶体管TFT1、第二晶体管TFT2、第一次像素电极17，第二次像素112包括第三晶体管TFT3、第四晶体管TFT4、第二次像素电极18；同一子像素11中，第一晶体管TFT1的栅极g1和第一栅极线G1电连接、第一极s1和第二晶体管TFT2的第二极d2电连接、第二极d1和第一次像素电极17电连接，第二晶体管TFT2的栅极g2和第二栅极线G2电连接、第一极s2和数据线D1电连接，第三晶体管TFT3的栅极g3和第二栅极线G2电连接、第一极s3和数据线D1电连接、第二极d3和第四晶体管TFT4的第一极s4电连接，第四晶体管TFT4的栅极g4和第三栅极线G3电连接、第二极d4和第二次像素电极18电连接。可选的，第一晶体管TFT1、第二晶体管TFT2、第三晶体管TFT3、第四晶体管TFT4构成晶体管组TFT。需要说明的是，图8中为了便于说明电路原理将第二栅极线G2绘制为两条，实际上是一条。

其中，存储电容Cst为像素电极和公共电极COM之间的耦合电容。

可选的，请参见图7、图9，图9是沿图7中OO’线的一种剖面结构示意图。第一次像素111包括第一次像素电极17，第二次像素112包括第二次像素电极18；第一次像素电极17和第二次像素电极18靠近显示面板100的出光侧的表面均设置有反射层19。具体的，请参见图7、图9，本发明实施例提供的显示面板可以为全反射式显示面板。栅极线组G设置在第一次像素电极17和第二次像素电极18之间。数据线D1通过晶体管组TFT分别与第一次像素电极17和第二次像素电极18电连接。第一次像素电极17和第二次像素电极18均为反射式电极。反射层19设置在像素电极18靠近第二基板30的一侧，可以反射显示面板100外部的环境光，即光线L从第二基板30入射，再经反射层19反射至色阻层15。可选的，在第一基板20和第二基板30之间还设有第一金属层21、第二金属层22和公共电极层50。需要说明的是，为了清楚的说明全反射式显示面板的像素的结构，图7中仅示意了像素的部分结构，可以理解的是，图7所示为显示面板的像素结构，显示面板还包括第一基板和第二基板(图7中未示出)。

可选的，请参见图10-图11，图10是本发明实施例提供的另一种显示面板的像素结构示意图，图11是沿图10中NN’线的一种剖面结构示意图。反射层19包括第一镂空部171和第二镂空部181；第一镂空部171和第一次像素电极17交叠，第二镂空部181和第二次像素电极18交叠。

具体的，请参见图10-图11，本发明实施例提供的显示面板可以为半透半反式显示面板。栅极线组G设置在第一次像素电极17和第二次像素电极18之间。数据线D1通过晶体管组TFT分别与第一次像素电极17和第二次像素电极18电连接。第一次像素电极17和第二次像素电极18均为半透半反式电极。反射层19包括第一镂空部171和第二镂空部181；第一镂空部171和第一次像素电极17交叠，第二镂空部181和第二次像素电极18交叠。反射层19设置在像素电极18靠近第二基板30的一侧，可以反射显示面板100外部的环境光，即光线L从第二基板30入射，再经反射层19反射至色阻层15，并且，背光源发出的光L’可以透过镂空部171达到色阻层15。可选的，在第一基板20和第二基板20之间还设有第一金属层21、第二金属层22和公共电极层50。需要说明的是，为了清楚的说明半反半透式显示面板的像素的结构，图10中仅示意了像素的部分结构，可以理解的是，图10所示为显示面板的像素结构，显示面板还包括第一基板和第二基板(图10中未示出)。

本发明实施例还提供一种显示装置，包括本发明提供的显示面板。具体的，请参考图12，图12是本发明实施例提供的一种显示装置的平面结构示意图。图12提供的显示装置1000包括本发明上述任一实施例提供的显示面板1000A。图12实施例仅以手表为例，对显示装置1000进行说明，可以理解的是，本发明实施例提供的显示装置，可以是手机、电脑、电视、车载显示装置等其他具有显示功能的显示装置，本发明对此不作具体限制。本发明实施例提供的显示装置，具有本发明实施例提供的显示面板的有益效果，具体可以参考上述各实施例对于显示面板的具体说明，本实施例在此不再赘述。

本发明实施例还提供一种显示面板的制造方法，请结合参考图1、图2、图13、图14～图16。图13是本发明实施例提供的一种显示面板的制造方法的流程图，图14～图16是图13提供的制造方法对应的显示面板的剖面结构示意图。本实施例提供的阵列基板的制造方法包括：

显示面板包括：显示区和非显示区；

具体的，请参考图1，显示面板包括显示区A和非显示区B。通常情况下，非显示区B围绕显示区A设置。

显示区包括多个像素，像素包括至少三种颜色的子像素，子像素包括第一次像素和第二次像素；

具体的，请参考图1，显示区A上包括多个像素10，每个像素10均包括11、12、13三种颜色的子像素，例如每个子像素10可以包括红、绿、蓝三种颜色。需要说明的是，本发明对子像素10的具体颜色以及颜色的数量不作具体限制，例如子像素10还可以是由红绿蓝白四种颜色组成，或者由品红、草绿、靛蓝三种颜色组成等。子像素11包括第一次像素111和第二次像素112，子像素12包括第一次像素121和第二次像素122，子像素13包括第一次像素131和第二次像素132。需要说明的是，本发明实施例仅以图1作为示例性说明，对子像素的排布方式不作具体限制。

第一次像素的面积为S1，第二次像素的面积为S2，|S1-S2|≤10％*S2；

具体的，请继续参见图1，以子像素11为例进行说明，将子像素11的第一次像素111的面积设为S1，第二次像素112的面积设为S2，为了使得分割后的两个次子像素电压保持率都足够高，本发明实施例将第一次子像素111和第二次子像素112的面积大小设置为一致或者相接近的值，它们之间满足关系式：|S1-S2|≤10％*S2。同理，参照子像素11的方法，将子像素12、13的第一次子像素和第二次子像素的面积大小设置为一致或者相接近的值。需要说明的是，本发明实施例中第一次像素的面积和第二次像素的面积可以相等(对于子像素11即为S1＝S2)，但由于工艺误差等原因，第一次像素的面积和第二次像素的面积可能做不到完全相等，允许存在误差，第一次像素的面积和第二次像素的面积相差的范围在10％以内。

可选的，请参见图13，第一次像素的色阻层和第二次像素的色阻层的一种制造方法包括：

步骤S11：涂布色阻材料层；

具体的，请参见图14，为第一次像素111和第二次像素112涂布色阻层14/15，色阻层14/15设置在第二基板30上。需要说明的是，在设置色阻层14/15之前，需要先在第二基板30上设置黑矩阵23。步骤S12：使用半色调掩膜版曝光，第一次像素和第二次像素所在区域的半色调掩膜版的透光率不同；

具体的，请参见图15，光线L0穿过半色调掩膜版MASK对第一次像素111的色阻层14和第二次像素112的色阻层15进行曝光，第一次像素111和第二次像素112所在区域的MASK的透光率不同。例如，第一次像素111所在区域可以是完全透光的，而第二次像素112所在区域是具有一定透光率的。

步骤S13：使用显影液冲刷曝光后的色阻材料层，第一次像素的色阻层的厚度大于第二次像素的色阻层的厚度。

需要说明的是，图14-图16中为了清楚说明本发明实施例，图中仅以一个子像素为例进行说明，在实际结构中，不同颜色的对应的子像素需要重复上述制造方法，例如，当子像素包括红色、绿色、蓝色时，先使用上述制造方法形成红色、绿色、蓝色子像素中的一种对应的色阻，然后，重复上述方法再形成红色、绿色、蓝色子像素中的另一种对应的色阻，最后，重复上述方法再形成红色、绿色、蓝色子像素中的最后一种对应的色阻。

具体的，请参见图16，使用显影液冲刷曝光后的色阻层14/15，使得第一次像素111的色阻层14的厚度大于第二次像素112的色阻层15的厚度，从而第一次像素111和第二次像素112的透过率不同，将8种颜色提高至64种，增加了显示面板的颜色，改善了显示面板的显示性能，提高了显示面板的显示品质。

本发明实施例还提供一种显示面板的制造方法，请结合参考图、图3、图17、图18～图19。

显示面板包括：显示区和非显示区；

第一次像素的面积为S1，第二次像素的面积为S2，|S1-S2|≤10％*S2；并且，在子像素中，第一次像素的色阻层的透过率小于第二次像素的色阻层的透过率。

具体的，请继续参见图1和图3，以子像素11为例进行说明，将子像素11的第一次像素111的面积设为S1，第二次像素112的面积设为S2，为了使得分割后的两个次子像素电压保持率都足够高，本发明实施例将第一次子像素111和第二次子像素112的面积大小设置为一致或者相接近的值，它们之间满足关系式：|S1-S2|≤10％*S2。同理，参照子像素11的方法，将子像素12、13的第一次子像素和第二次子像素的面积大小设置为一致或者相接近的值。需要说明的是，本发明实施例中第一次像素的面积和第二次像素的面积可以相等(对于子像素11即为S1＝S2)，但由于工艺误差等原因，第一次像素的面积和第二次像素的面积可能做不到完全相等，允许存在误差，第一次像素的面积和第二次像素的面积相差的范围在10％以内。并且，第一次像素111的色阻层14的材料的透过率小于第二次像素112的色阻层15的材料的透过率。

为了实现第一次像素的色阻层的透过率小于第二次像素的色阻层的透过率，请参见图17，第一次像素的色阻层和第二次像素的色阻层的一种制造方法包括：

步骤S21：涂布第一色阻材料层，图案化第一色阻材料层形成第一次像素的色阻层；

请结合参考图18，需要说明的是，在设置色阻层之前，需要先在第二基板30上设置黑矩阵23。而后使用掩膜版(MASK)图案化第一色阻材料层，形成第一次像素111的色阻层14。

步骤S22：涂布第二色阻材料层，图案化第二色阻材料层形成第二次像素的色阻层。

请结合参考图19，使用掩膜版(MASK)图案化第二色阻材料层，形成第二次像素112的色阻层15。

本实施例中，使用透过率不同的色阻材料分别制作第一次像素111的色阻层14和第二次像素112的色阻层15，以实现第一次像素111的色阻层14的材料的透过率小于第二次像素112的色阻层15的材料的透过率。

可以理解的是，步骤S21和步骤S22的顺序可以互换。

采用本实施例提供的制造方法，利用不同的色阻材料使得第一次像素和第二次像素的透过率不同，将8种颜色提高至64种，增加了显示面板的颜色，改善了显示面板的显示性能，提高了显示面板的显示品质。

需要说明的是，上述两种制造方法中，在形成了色阻层之后会形成有机绝缘层，该有机绝缘层可以为透明材料。其中，有机绝缘层通常采用涂布工艺形成，其膜厚大于其他绝缘层的厚度。在图14-图16所示的制造方法中，虽然第一次像素的色阻层厚度和第二次像素的色阻层厚度不同造成了表面凹凸不平，但是形成有机绝缘层后能够平坦化上述凹凸不平的表面。

通过上述实施例可知，本发明提供的显示面板、显示装置和显示面板的制造方法，至少实现了如下的有益效果：

虽然已经通过例子对本发明的一些特定实施例进行了详细说明，但是本领域的技术人员应该理解，以上例子仅是为了进行说明，而不是为了限制本发明的范围。本领域的技术人员应该理解，可在不脱离本发明的范围和精神的情况下，对以上实施例进行修改。本发明的范围由所附权利要求来限定。

Claims

1.一种显示面板，其特征在于，包括：

显示区和非显示区；

所述显示区包括多个像素，所述像素包括至少三种颜色的子像素，所述子像素包括第一次像素和第二次像素；

所述第一次像素的面积为S1，所述第二次像素的面积为S2，|S1-S2|≤10％*S2；

在所述子像素中，所述第一次像素的色阻层的透过率小于所述第二次像素的色阻层的透过率。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

所述第一次像素的色阻层的厚度大于所述第二次像素的色阻层的厚度，所述第一次像素的色阻层的厚度和所述第二次像素的色阻层的厚度之差为δd₁，0.2μm≤δd₁≤2μm。

3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，

所述第一次像素的色阻层的材料和所述第二次像素的色阻层的材料相同。

4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

所述第一次像素的色阻层的材料的透过率小于所述第二次像素的色阻层的材料的透过率。

5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，

所述第一次像素的色阻层的厚度和所述第二次像素的色阻层的厚度之差为δd₂，δd₂≤0.2μm。

6.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，

所述第一次像素的色阻层的材料的透过率为Y₁，所述第二次像素的色阻层的材料的透过率为Y₂，Y₂＝K*Y₁，其中，1＜K＜4。

7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，

1.3＜K＜2。

8.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

所述像素包括第一颜色子像素、第二颜色子像素和第三颜色子像素；所述像素中，所述第一颜色子像素、所述第二颜色子像素和所述第三颜色子像素沿第一方向依次排布；

所述像素沿所述第一方向和第二方向呈阵列式排布，所述第二方向和所述第一方向实质上垂直；

同一所述子像素中的所述第一次像素和所述第二次像素沿所述第二方向排布。

9.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，

所述像素中，所述第一颜色子像素的所述第一次像素、所述第二颜色子像素的所述第一次像素、所述第三颜色子像素的所述第一次像素沿所述第一方向依次排布。

10.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，

所述像素中，所述第一颜色子像素的所述第二次像素、所述第二颜色子像素的所述第一次像素、所述第三颜色子像素的所述第二次像素沿所述第一方向依次排布。

11.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，

所述像素中，所述第一颜色子像素的所述第二次像素、所述第二颜色子像素的所述第一次像素、所述第三颜色子像素的所述第一次像素沿所述第一方向依次排布。

12.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，

所述像素中，所述第一颜色子像素的所述第一次像素、所述第二颜色子像素的所述第一次像素、所述第三颜色子像素的所述第二次像素沿所述第一方向依次排布。

13.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

所述显示区包括多条设置的数据线、以及多个设置的栅极线组；所述栅极线组位于同一所述子像素中的所述第一次像素和所述第二次像素之间的区域；

所述栅极线组包括第一栅极线、第二栅极线和第三栅极线；

所述第一次像素包括第一晶体管、第二晶体管、第一次像素电极，所述第二次像素包括第三晶体管、第四晶体管、第二次像素电极；

同一所述子像素中，所述第一晶体管的栅极和所述第一栅极线电连接、第一极和所述第二晶体管的第二极电连接、第二极和所述第一次像素电极电连接，所述第二晶体管的栅极和所述第二栅极线电连接、第一极和所述数据线电连接，所述第三晶体管的栅极和所述第二栅极线电连接、第一极和所述数据线电连接、第二极和所述第四晶体管的第一极电连接，所述第四晶体管的栅极和所述第三栅极线电连接、第二极和所述第二次像素电极电连接。

14.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

所述第一次像素包括第一次像素电极，所述第二次像素包括第二次像素电极；

所述第一次像素电极和所述第二次像素电极靠近所述显示面板的出光侧的表面均设置有反射层。

15.根据权利要求14所述的显示面板，其特征在于，

所述反射层包括第一镂空部和第二镂空部；

所述第一镂空部和所述第一次像素电极交叠，所述第二镂空部和所述第二次像素电极交叠。

16.一种显示装置，其特征在于，包括根据权利要求1-15任一项所述的显示面板。

17.一种显示面板的制造方法，其特征在于，

所述显示面板包括：

显示区和非显示区；

所述第一次像素的色阻层和所述第二次像素的色阻层的制造方法包括：

涂布色阻材料层；

使用半色调掩膜版曝光，所述第一次像素和所述第二次像素所在区域的所述半色调掩膜版的透光率不同；

使用显影液冲刷曝光后的所述色阻材料层，所述第一次像素的色阻层的厚度大于所述第二次像素的色阻层的厚度。

18.一种显示面板的制造方法，其特征在于，

所述显示面板包括：

显示区和非显示区；

在所述子像素中，所述第一次像素的色阻层的透过率小于所述第二次像素的色阻层的透过率；

涂布第一色阻材料层，图案化所述第一色阻材料层形成所述第一次像素的色阻层；

涂布第二色阻材料层，图案化所述第二色阻材料层形成所述第二次像素的色阻层。