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CN108693199B - 检查装置、检查方法及膜卷绕体的制造方法 - Google Patents

检查装置、检查方法及膜卷绕体的制造方法 Download PDF

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CN108693199B CN201810292650.6A CN201810292650A CN108693199B CN 108693199 B CN108693199 B CN 108693199B CN 201810292650 A CN201810292650 A CN 201810292650A CN 108693199 B CN108693199 B CN 108693199B
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Abstract

本发明提供一种检查装置、检查方法及膜卷绕体的制造方法。缺陷检查装置(1)具备:射线源(2),其对隔膜卷绕体(10)呈放射状射出电磁波(R);TDI传感器(4),其对透过隔膜卷绕体(10)的电磁波(R)进行检测;以及移动机构(3),其一边将射线源(2)与隔膜卷绕体(10)的距离以及射线源(2)与TDI传感器(4)的距离保持为大致固定,一边使隔膜卷绕体(10)中的检查区域移动。

Description

检查装置、检查方法及膜卷绕体的制造方法
技术领域
本发明涉及检查装置、检查方法及膜卷绕体的制造方法。
背景技术
在锂离子二次电池的内部,正极及负极由多孔质的隔膜分离。在制造隔膜时,有时产生异物附着等缺陷,因此需要检查隔膜上有无缺陷。尤其是,在缺陷为金属等导电性异物的情况下,有可能在锂离子二次电池的内部造成短路。
例如,专利文献1中公开了向被搬运的检查对象物照射X射线来检测异物的X射线异物检测装置。
在先技术文献
专利文献
专利文献1:日本国公开专利公报“特开2004-61479号公报(2004年2月26日公开)”
在此,隔膜卷绕体通过如下方式来制造:根据使用的锂离子二次电池的尺寸而从一个坯料分切(切断)出多个隔膜,并将该多个隔膜分别卷绕于芯部。
该隔膜在被从坯料分切时容易从金属刃附着金属异物,因此优选检查分切出的隔膜有无缺陷。另外,也会从搬运辊的滑动部等产生金属异物,因此缺陷的检查优选在以后不与辊接触的将隔膜卷取于芯部之后的隔膜卷绕体中实施。
然而,在专利文献1所记载的X射线异物检测装置中,在为隔膜卷绕体这样的厚度比较大的检查对象物的情况下,在厚度方向上对置的表面及背面中的检查位置有可能产生偏移,导致检查精度降低。
发明内容
本发明的一方案是鉴于上述的问题点而完成的,其目的在于,实现能够抑制由检查对象物的厚度引起的检查精度的降低的检查装置等。
用于解决课题的方案
为了解决上述问题,本发明的一方案的检查装置具备:射线源,其从检查对象物的厚度方向对所述检查对象物呈放射状射出电磁波;TDI传感器,其相对于所述检查对象物设置于与所述射线源相反的一侧,对透过所述检查对象物的所述电磁波进行检测;以及移动机构,其一边将所述射线源与所述检查对象物的距离以及所述射线源与所述TDI传感器的距离保持为大致固定,一边使所述检查对象物中的检查区域移动。
为了解决上述问题,本发明的一方案的检查方法包括:射出工序,在该射出工序中,自射线源从检查对象物的厚度方向对所述检查对象物呈放射状射出电磁波;移动工序,在该移动工序中,使所述检查对象物中的检查区域移动;以及检测工序,在该检测工序中,由TDI传感器对透过所述检查对象物的所述电磁波进行检测,在所述移动工序中,一边将所述射线源与所述检查对象物的距离以及所述射线源与所述TDI传感器的距离保持为大致固定,一边使所述检查区域移动。
发明效果
根据本发明的一方案,起到能够抑制由检查对象物的厚度引起的检查精度的降低这一效果。
附图说明
图1的(a)及(b)是表示实施方式1的分切装置的简要结构的示意图。
图2的(a)~(e)是用于说明实施方式1的隔膜卷绕体的简要结构的示意图。
图3的(a)~(c)是表示实施方式1的缺陷检查装置的简要结构的示意图。
图4的(a)及(b)是用于说明由图3所示的缺陷检查装置进行的缺陷检查方法的一例的示意图。
图5是表示图3所示的缺陷检查装置的变形例的简要结构的主视图。
图6是表示图3所示的移动机构的变形例的简要结构的示意图。
图7是表示图3所示的移动机构的另一变形例的简要结构的示意图。
图8是表示实施方式2的缺陷检查装置的简要结构的示意图。
图9的(a)是表示上述缺陷检查装置的俯视图,(b)是表示上述缺陷检查装置的动作状态的侧视图。
图10的(a)~(c)是用于说明上述缺陷检查装置所具备的姿态变化机构的示意图。
图11的(a)及(b)是表示上述缺陷检查装置所具备的台座的变形例的侧视图。
图12的(a)~(h)是表示实施方式3的缺陷检查装置的简要结构及动作状态的示意图。
图13是表示图12所示的缺陷检查装置的变形例的示意图。
附图标记说明:
1 缺陷检查装置(检查装置)
2 射线源
3、3a、3b、13、23、38 移动机构
4 TDI传感器
8 芯部
10 隔膜卷绕体(检查对象物、膜卷绕体)
C 圆形轨道
12 隔膜(膜)
P1 第一地点
P2 第二地点
R 电磁波(X射线)。
具体实施方式
〔实施方式1〕
以下基于图1~图5来说明本发明的一实施方式。在本实施方式中,以将本发明的检查装置适用于用于检查隔膜卷绕体中是否混入了异物的缺陷检查装置的情况为例进行说明。不过,本发明的检查装置不限定于隔膜卷绕体,可以良好地适用于厚度比较大的各种检查对象物。
〔隔膜卷绕体的制造工序〕
首先,说明本实施方式的缺陷检查装置(检查装置)的检查对象物即隔膜卷绕体(膜卷绕体)的制造工序。
图1的(a)及(b)是表示对隔膜进行分切的分切装置6的简要结构的示意图。具体而言,图1的(a)示出分切装置6整体的简要结构,图1的(b)示出对坯料进行分切的前后的简要结构。
隔膜12是将锂离子二次电池(电池)等的阳极与阴极之间分离且能够使它们之间的锂离子移动的多孔质膜或无纺布。隔膜12作为其材料而例如包括聚乙烯、聚丙烯等聚烯烃。
隔膜12也可以通过具有多孔质膜和设置于该多孔质膜的表面的耐热层而具有耐热性。该耐热层作为其材料而例如包括全芳香族聚酰胺(芳酰胺树脂)。
即,隔膜12也可以是具备包含聚烯烃的多孔质膜以及耐热层或粘接层等功能层的层叠多孔质膜。功能层包含树脂。作为该树脂,可举出聚乙烯、聚丙烯等聚烯烃;聚偏氟乙烯(PVDF)、聚四氟乙烯、偏氟乙烯-六氟丙烯的共聚物等含氟高分子;芳香族聚酰胺;苯乙烯-丁二烯共聚物及其氢化物、甲基丙烯酸酯共聚物、丙烯腈-丙烯酸酯共聚物、苯乙烯-丙烯酸酯共聚物等橡胶类;熔点或玻化温度为180℃以上的高分子;聚乙烯醇、聚乙二醇、纤维素醚、藻酸钠、聚丙烯酸、聚丙烯酰胺、聚甲基丙烯酸等水溶性高分子等。另外,功能层也可以包含由有机物或无机物构成的填料。作为无机填料,可举出二氧化硅、氧化镁、氧化铝、氢氧化铝、勃姆石等无机氧化物等。该氧化铝存在α、β、γ、θ等晶形,但均可以使用。上述的树脂及填料可以仅使用一个种,也可以组合两种以上。在上述功能层包含填料的情况下,填料的含量可以设为功能层的1体积%以上且99体积%以下。
另外,对于隔膜12,为了减少给后述的缺陷检查带来的影响,优选隔膜12所包含的水分少。在后述的缺陷检查工序的缺陷检查中,使X射线等电磁波透过隔膜12来检查混入到芯部上卷绕的隔膜12内的异物等的有无。然而,水分会降低X射线等电磁波的透射率,因此当隔膜12中包含大量水分时,缺陷检查的精度下降,因此不优选。
隔膜12所包含的水分优选为2000ppm以下的程度。由此,在后述的缺陷检查工序中,能够抑制X射线等电磁波的透射率的降低,并同时精度良好地检查卷绕于芯部的隔膜12内的缺陷。
隔膜12优选为适于锂离子二次电池等应用产品的宽度(以下称作“产品宽度”)。然而,为了提高生产率,首先以使隔膜12的宽度成为产品宽度以上的方式制造隔膜12。并且,在制造成产品宽度以上之后,隔膜被切断(分切)为产品宽度。
在此,在分切工序中被分切并卷绕于芯部的隔膜12的宽度(TD的长度)例如优选为30mm以上且100mm以下这种程度。当隔膜12的宽度变得过大时,在后述的缺陷检查工序的缺陷检查中,X射线等电磁波不容易透过隔膜12,缺陷检查的精度下降。于是,通过使隔膜12的宽度为100mm以下的程度,从而在后述的缺陷检查工序中能够抑制X射线等电磁波的透射率的降低,并同时精度良好地检查卷绕于芯部的隔膜12内的缺陷。
需要说明的是,“隔膜的宽度”是指与隔膜的长边方向及厚度方向大致垂直的方向上的隔膜的长度。以下,将分切之前的宽度宽的隔膜称作“坯料”。另外,分切是指将隔膜沿着长边方向(制造中的膜的流动方向)切断,切割是指将隔膜沿着横切方向切断。横切方向是指与隔膜的长边方向及厚度方向大致垂直的方向,与隔膜的宽度方向同义。
分切装置6是对坯料进行分切的装置。分切装置6具备被支承为能够旋转的圆柱形状的卷出辊61、搬运辊62~69及多个卷取辊70U、70L。
在分切装置6中,卷缠有坯料的圆筒形状的芯部c嵌合安装于卷出辊61。
然后,坯料被从芯部c向路径U或路径L卷出。卷出的坯料经由搬运辊63~67而被向搬运辊68搬运。在从搬运辊67向搬运辊68搬运的工序中,坯料被分切为多个隔膜12(分切工序)。需要说明的是,在搬运辊68附近配置有将坯料分切成多个隔膜12的切断装置(未图示)。
在分切工序之后,从坯料分切为多个的隔膜12分别被向嵌合安装于卷取辊70U的圆筒形状的各芯部u卷取,其他的一部分分别被向嵌合安装于卷取辊70L的圆筒形状的各芯部1卷取(隔膜卷绕工序)。
需要说明的是,将从坯料分切后的隔膜12呈卷状卷取于芯部(卷轴)的部件称作“隔膜卷绕体”。在本实施方式中,在该隔膜卷绕工序中制造出隔膜卷绕体之后,在后述的缺陷检查工序中,检查卷绕于芯部的隔膜12内是否混入了异物。在上述的分切工序中,例如容易发生由金属构成的分切刃的一部分破损而附着于分切后的隔膜12的表面等产生异物的情况。因此,缺陷检查工序优选设置于分切工序之后。由此,能够通过缺陷检查工序而高效地检查在容易产生异物的分切工序中所产生的异物。
并且,在缺陷检查工序中判定为合格品的隔膜卷绕体之后在包装工序中汇总地包装多个而加以保管、出厂。
〔隔膜卷绕体的结构〕
接着,说明本实施方式的隔膜卷绕体(检查对象物、膜卷绕体)的结构。图2的(a)~(e)是表示本实施方式的隔膜卷绕体10的简要结构的示意图。具体而言,图2的(a)示出从芯部8卷出隔膜12之前的状态,图2的(b)从另一角度示出图2的(a)的状态,图2的(c)示出从芯部8卷出隔膜12的状态,图2的(d)从另一角度示出图2的(c)的状态,图2的(e)示出隔膜12被卷出并被去除后的芯部8的状态。
如图2的(a)及(b)所示,隔膜卷绕体10具备卷绕有隔膜12的芯部8。该隔膜12如上述那样从坯料分切出。将隔膜卷绕体10中的呈卷状卷绕的隔膜12的外周面称作外周面10a,将隔着外周面10a而彼此对置的外形为大致圆形的两侧面中的一方的侧面称作第一侧面10b,将第一侧面10b的相反侧的另一方的侧面称作第二侧面10c。
芯部8具备外侧圆筒构件(外侧筒状构件)81、内侧圆筒构件(内侧筒状构件)82及多个肋83。
外侧圆筒构件81是用于将隔膜12卷绕于该外侧圆筒构件81的外周面81a的圆筒构件。内侧圆筒构件82是设置于外侧圆筒构件81的内周面81b侧的比外侧圆筒构件81小径的圆筒构件。肋83是在外侧圆筒构件81的内周面81b与内侧圆筒构件82的外周面82a之间延伸且从内周面81b侧支承外侧圆筒构件81的支承构件。在本实施方式中,沿着芯部8的周向以等间隔设置有合计8个肋83。
在芯部8中,在该芯部8的大致中心具有由内侧圆筒构件82(内侧圆筒构件82的内周面82b)规定的第一贯通孔8a,在第一贯通孔8a的周围具有由外侧圆筒构件81、内侧圆筒构件82及肋83规定的多个(在本实施方式中为8个)第二贯通孔8b。
如图2的(c)及(d)所示,隔膜12的一端通过粘接带130而贴附于芯部8。具体而言,隔膜12的一端通过粘接带130而固定于芯部8(外侧圆筒构件81)的外周面81a。将隔膜12的一端固定于外周面81a的方法除了粘接带130以外,也可以将粘接剂向隔膜12的一端直接涂布来进行固定,或者利用夹持件进行固定等。
如图2的(e)所示那样,在芯部8中,优选外侧圆筒构件81与内侧圆筒构件82的中心轴大致一致,但不限定于此。而且,外侧圆筒构件81及内侧圆筒构件82的厚度、宽度、半径等尺寸可以根据要卷绕的隔膜12的种类或尺寸等而适当设计。
另外,肋83彼此均等地空开间隔,且以与外侧圆筒构件81及内侧圆筒构件82大致垂直的方式分别配置于将圆周8等分的位置。然而,肋83的个数、配置的间隔不限定于此。
芯部8的材料包括ABS树脂。不过,作为芯部8的材料,除了ABS树脂以外,还可以包括聚乙烯树脂、聚丙烯树脂、聚苯乙烯树脂及氯化乙烯树脂等树脂。另外,芯部8的材料优选不是金属、纸、氟树脂。
〔缺陷检查装置的结构〕
接着,说明本实施方式的缺陷检查装置的结构。图3的(a)~(c)是表示本实施方式的缺陷检查装置1的简要结构的示意图。具体而言,图3的(a)是缺陷检查装置1的主视图,图3的(b)是缺陷检查装置1的俯视图,图3的(c)是缺陷检查装置1的侧视图。
缺陷检查装置1是对隔膜卷绕体10中卷绕于芯部8的隔膜12中是否混入了异物进行检查的装置(缺陷检查工序)。具体而言,本实施方式的缺陷检查装置1通过对隔膜卷绕体10照射电磁波(电磁放射线)来检查隔膜12中是否混入了异物。
缺陷检查装置1由包含铅等的不容易透过X射线等的壁覆盖,以避免处理的电磁波向外部泄漏。
如图3的(a)~(c)所示,缺陷检查装置1具备射线源2、移动机构3及TDI传感器4。在本实施方式中,将与移动机构3的转动轴322的中心线A平行的方向设为X轴方向,将与X轴垂直相交的从射线源2朝向TDI传感器4的方向设为Y轴方向,将与X轴及Y轴垂直相交的方向设为Z轴方向。
(射线源)
射线源2从隔膜卷绕体10的厚度方向(Y轴方向)对隔膜卷绕体10呈放射状射出电磁波R。“隔膜卷绕体的厚度方向”是与卷绕于芯部8的隔膜12的宽度方向相同的方向,是指与隔膜卷绕体10的第一侧面10b及第二侧面10c垂直相交的方向。
在本实施方式中,缺陷检查装置1具备呈放射状射出电磁波R的两个射线源2。各射线源2分别配置于中心线A上。另外,为了避免从各射线源2呈放射状射出的电磁波R中的与Y轴方向平行的电磁波R被芯部8遮挡,各射线源2的间隔(各射线源2的中心的间隔)设定为与隔膜卷绕体10的芯部8的直径大致一致。通过像这样设定各射线源2的间隔,从而在利用TDI传感器4检测电磁波R时,能够防止芯部8的影子进入TDI传感器4。另外,为了避免各个电磁波R混在一起,也可以适当选择采用在射线源2的附近放置遮蔽物这样的对各射线源2的照射角度进行分配等方法。
作为射线源2所射出的电磁波R,例如可以优选使用X射线、γ射线这样的电磁放射线等。尤其是,通过作为电磁波R而使用X射线,不增大成本就能够实现处理容易的缺陷检查装置1。不过,电磁波R的种类可以根据检查对象物的种类或尺寸等而适当选择。
需要说明的是,射线源2也可以以不仅向卷绕于芯部8的隔膜12照射而且还向芯部8照射的方式将电磁波R向隔膜卷绕体10照射。
(移动机构)
移动机构3使隔膜卷绕体10移动。移动机构3包括保持隔膜卷绕体10的台座31及使台座31转动的驱动部32。
台座31包括框架311、支承板312、保持机构313及连结棒314。框架311为大致矩形的框状构件。在框架311的对置的两边(在Z轴方向上对置的两边)的内表面架设有支承板312。另外,在框架311的对置的两边(在X轴方向上对置的两边)的外表面突出设置有连结棒314。
支承板312是用于支承保持机构313的板状构件。支承板312包括沿着Z轴方向延伸的长边和沿着X轴方向延伸的短边,该短边的长度(支承板312的宽度)设定为小于芯部8的直径。通过像这样将支承板312的短边的长度设定为小于芯部8的直径,从而在利用TDI传感器4检测电磁波R时,能够防止支承板312的影子进入TDI传感器4。
保持机构313是将隔膜卷绕体10保持为能够旋转的轴构件。保持机构313突出设置于支承板312的中央部,且嵌合安装于隔膜卷绕体10的芯部8的第一贯通孔8a。
保持机构313能够沿着顺时针或逆时针旋转。因此,伴随保持机构313的旋转,能够使隔膜卷绕体10以沿着该隔膜卷绕体10的厚度方向延伸的保持机构313为大致中心进行旋转。
在本实施方式中,保持机构313从隔膜卷绕体10的第一侧面10b侧插入芯部8的第一贯通孔8a而对隔膜卷绕体10进行保持。由此,隔膜卷绕体10以在使第一侧面10b侧朝向射线源2侧且使第二侧面10c侧朝向TDI传感器4侧的状态下使卷绕于芯部8的隔膜12的一部分至少介在射线源2与TDI传感器4之间的方式装配于缺陷检查装置1。
连结棒314是用于将框架311连结于驱动部32的棒状构件。在框架311的对置的两边(在X轴方向上对置的两边)的外表面分别各设置有两个连结棒314,且这两个连结棒314彼此平行地突出设置。
驱动部32使台座31以中心线A为大致中心进行转动。在框架311的对置的两边(在X轴方向上对置的两边)上经由连结棒314而各连结有一个驱动部32。
驱动部32包括转动辊321及转动轴322。转动辊321是在其外周面固定有连结棒314的圆筒构件。在转动辊321的内周面上嵌合安装有转动轴322。
转动轴322是借助马达(未图示)等而能够以中心线A为大致中心沿着顺时针及逆时针转动的轴构件。驱动部32通过使各转动轴322彼此连动地转动来使转动辊321转动。
根据移动机构3,通过控制驱动部32的动作,能够使保持于台座31的隔膜卷绕体10沿着以射线源2(中心线A)为大致中心的圆形轨道进行移动。
(TDI传感器)
TDI(Time Delay Integration)传感器4是能够检测透过隔膜12的电磁波R的检测器。在射线源2射出X射线的情况下,TDI传感器4是能够检测X射线的检测器即可,在射线源2射出γ射线的情况下,TDI传感器4是能够检测γ射线的检测器即可。
TDI传感器4相对于隔膜卷绕体10设置于与射线源2相反的一侧。TDI传感器4是在与隔膜卷绕体10的移动(转动)方向垂直的方向(X轴方向)和与隔膜卷绕体10的移动(转动)方向平行的方向(Z轴方向)上分别配置有多个单体(传感器元件)的结构。即,TDI传感器4是在Z轴方向上排列有多个单位射线传感器的结构。
TDI传感器4在检测出射线源2射出的电磁波R时,将与检测出的电磁波R的强度相应的电信号向图像处理部(未图示)输出,在图像处理部中基于从TDI传感器4输出的电信号来生成拍摄图像。
〔缺陷检查方法〕
接着,说明由本实施方式的缺陷检查装置1进行的缺陷检查方法(缺陷检查工序)的一例。图4的(a)及(b)是用于说明图3所示的缺陷检查装置1中的缺陷检查方法的一例的示意图。具体而言,图4的(a)是表示缺陷检查装置1中的隔膜卷绕体10的移动状态的侧视图,图4的(b)是表示隔膜卷绕体10的被拍摄的区域的俯视图。需要说明的是,为了便于说明,在图4的(a)中省略了移动机构3。
在缺陷检查装置1中,一边将射线源2与隔膜卷绕体10的距离及射线源2与TDI传感器4的距离分别保持为大致固定,一边使隔膜卷绕体10中的检查区域移动,并同时由TDI传感器检测透过隔膜卷绕体10的电磁波R。具体而言,在本实施方式中,如图4的(a)所示,在从X轴方向观察的情况下,不使隔膜卷绕体10进行平行移动(直线移动),而使隔膜卷绕体10沿着以射线源2为大致中心的圆形轨道C进行移动(圆周运动),并同时由TDI传感器4检测透过隔膜12的电磁波R。因此,与使隔膜卷绕体10进行平行移动的结构相比,电磁波R对隔膜卷绕体10的照射角度大致均等化,因此能够改善由隔膜卷绕体10的厚度引起的TDI传感器4的检测位置的误差。
需要说明的是,在本实施方式中,移动机构3为使隔膜卷绕体10沿着圆形轨道C进行移动的结构,但只要能够一边将射线源2与隔膜卷绕体10的距离及射线源2与TDI传感器4的距离保持为大致固定,一边使隔膜卷绕体10中的检查区域移动,就也可以采用其他结构。
另外,TDI传感器4也可以以与圆形轨道C大致平行的方式弯曲。由此,能够由TDI传感器4较佳地检测出从射线源2呈放射状射出的电磁波R,并且电磁波R相对于TDI传感器4的入射角度大致均等化,因此能够提高TDI传感器4的检测精度。
在本实施方式中,缺陷检查装置1使隔膜卷绕体10在位于圆形轨道C上的第一地点P1与第二地点P2之间多次进行往复移动(单摆运动)。并且,通过在隔膜卷绕体10从第一地点P1朝向第二地点P2移动的期间对隔膜12一部分一部分地进行拍摄,来生成隔膜12整体的拍摄图像。
具体而言,在缺陷检查装置1中,由射线源2从隔膜卷绕体10的第一侧面10b侧照射电磁波R(射出工序),并同时由移动机构3(驱动部32)使隔膜卷绕体10从第一地点P1朝向第二地点P2移动(移动工序)。
在本实施方式中,第一地点P1处的隔膜卷绕体10与第二地点P2处的隔膜卷绕体10所成的角度(进给角度)被设定为约30度。换言之,在本实施方式中,隔膜卷绕体10的摆角θ被设定为约15度。隔膜卷绕体10的摆角θ可以根据隔膜卷绕体10及TDI传感器4的尺寸等而适当设定,但摆角θ优选为60度以下。在摆角θ超过60度的情况下,电磁波R对隔膜卷绕体10照射的照射角度变小,电磁波R透过隔膜卷绕体10时的透射长度(即,隔膜卷绕体10内的电磁波R的路径长度)变大。因此,由TDI传感器4检测出的电磁波R的强度降低,有可能无法适当地检测出异物。因此,摆角θ优选为60度以下,更加优选为40度以下。
在隔膜卷绕体10从第一地点P1朝向第二地点P2移动的期间,缺陷检查装置1通过由TDI传感器4检测透过隔膜12的电磁波R来对隔膜12的一部分进行拍摄(检测工序)。在本实施方式中,缺陷检查装置1以在隔膜卷绕体10位于第三地点P3时包含隔膜12的拍摄图像的方式用TDI传感器4对隔膜12进行拍摄,所述第三地点P3是第一地点P1与第二地点P2的中间位置。
在缺陷检查装置1中,在隔膜卷绕体10到达第二地点P2的情况下,由移动机构3(驱动部32)使隔膜卷绕体10从第二地点P2朝向第一地点P1移动。在隔膜卷绕体10从第二地点P2向第一地点P1移动的期间,缺陷检查装置1不进行TDI传感器4对电磁波R的检测而由移动机构3(保持机构313)使隔膜卷绕体10旋转规定角度。
通过反复进行这样的动作,在缺陷检查装置1中,每当隔膜卷绕体10在第一地点P1与第二地点P2之间往复一次时,能够由TDI传感器4拍摄隔膜12的不同的区域。例如,如图4的(b)所示,缺陷检查装置1能够在第一次的拍摄中拍摄第一区域R1,在第二次的拍摄中拍摄隔膜12的第二区域R2,在第三次的拍摄中拍摄第三区域R3。
因此,在每往复一次时由移动机构3(保持机构313)使隔膜卷绕体10旋转约14度来进行拍摄的情况下,通过合计13次的拍摄而能够拍摄隔膜12整体。需要说明的是,每往复一次时使隔膜卷绕体10旋转的角度(规定角度)可以根据隔膜卷绕体10及TDI传感器4的尺寸等而适当设定。
需要说明的是,在每次的拍摄中拍摄多少秒可以根据检查所需的时间、TDI传感器4的灵敏度、处理检体数等而适当调整。例如也可以在4秒以内进行拍摄,每次的拍摄时间越短,则每个隔膜卷绕体10的检查所需的生产节拍时间变短,因此优选。
另外,根据每个隔膜卷绕体10的检查所需的时间、TDI传感器4的传感器灵敏度、处理检体数(要检查的隔膜卷绕体10的数量)等,例如也可以通过重叠多个隔膜卷绕体10而同时进行拍摄、或者排列多个隔膜卷绕体10而同时进行拍摄,由此来同时检查多个隔膜卷绕体10。
而且,在隔膜卷绕体10相对于射线源2进行相对移动的前后,可以使电磁波R的照射开启/关闭,或者也可以使TDI传感器4的检测开启/关闭。即,也可以将电磁波R设为持续照射的状态而切换TDI传感器4的检测。由此,与断续地照射电磁波R的情况同样,能够得到隔膜12的不同的区域的拍摄图像。需要说明的是,优选在隔膜卷绕体10相对地移动的前后切换TDI传感器4的检测。这是因为,若使射线源2频繁地开启/关闭,则照射的电磁波R不稳定,有可能产生射线源2的寿命变短等不良情况。
缺陷检查装置1通过从这样得到的部分的拍摄图像提取必要的区域并将其拼接来生成圆环状的隔膜12整体的拍摄图像。然后,通过对所生成的隔膜12整体的拍摄图像进行解析,能够检查隔膜12中是否混入了异物。
通过像这样拼接多个拍摄图像,由此还能够确定异物的三维的异物位置。另外,还能够无遗漏地检测出薄的形状的异物。
需要说明的是,对于缺陷检查装置1能够检测出的异物的材质,认为存在各种物质,例如可以举出金属及碳等。另外,作为缺陷检查装置1能够检测出的异物的尺寸,认为存在各种尺寸,作为一例,可举出长度100μm、厚度为50μm左右的尺寸。在本说明书中,在异物的尺寸中没有特定的厚度、宽度等时,即仅记载了100μm等的长度时,该长度是指异物的外接球的直径的长度。
对于要检测的缺陷即异物,存在对于比重较大的异物能够检测到小的尺寸的倾向。在要检测的缺陷为金属异物的情况下,例如在一定检查条件下,在对于比重为6左右的金属能够检测到100μm左右时,对于比重为2左右的金属能够检测到300μm左右。在缺陷检查装置1中,适当根据作为检测对象的金属异物的种类(即比重)来设定作为检测对象的异物的尺寸即可。
需要说明的是,在缺陷检查装置1中,若通过延长曝光时间的对隔膜卷绕体10中的相同区域进行多次拍摄等方式来延长检查所需的时间,则能够检测尺寸小的异物。因此,上述那样的作为检测对象的金属异物的比重与尺寸的关系是使检查所需的时间相同的情况下的关系。
需要说明的是,作为代表性的金属的比重,可例示Fe,7.8左右;Al,2.7左右;Zn,7.1左右;SUS,7.7左右;Cu,8.5左右;黄铜,8.5左右等,但不限定于此。
例如,通过将缺陷检查装置1设定为检测100μm以上的异物,并通过缺陷检查装置1来进行隔膜卷绕体10的缺陷检查,由此能够从在隔膜卷绕体10的制造工序中制造的包含(有可能包含)各种尺寸的异物的各种隔膜卷绕体10筛选出包含100μm以上的异物的隔膜卷绕体10。
然后,通过将由缺陷检查装置1检测出100μm以上的异物的隔膜卷绕体10从制造工序排除,由此能够从包含(有可能包含)各种尺寸的异物的各种隔膜卷绕体10筛选出100μm以上的异物少或者不包含100μm以上的异物的隔膜卷绕体10。
换言之,在隔膜卷绕体10的制造工序中,通过组入使用了缺陷检查装置1的缺陷检查工序,能够从包含(有可能包含)各种尺寸的异物的各种隔膜卷绕体10中制造出100μm以上的异物少或者不包含100μm以上的异物的隔膜卷绕体10。
尤其是,100μm以上的异物少的隔膜卷绕体10能够降低因附着于隔膜12的异物而产生不良的可能性。
这样,在隔膜卷绕体10的制造工序中,通过组入使用了缺陷检查装置1的缺陷检查工序,能够制造异物的混入等缺陷少的隔膜卷绕体。
另外,如上述那样,缺陷检查工序优选在隔膜卷绕体10的制造工序中设置于分切工序之后且包装工序之前。由此,能够效率良好地检查在分切工序中产生的异物。
另外,通过在隔膜卷绕体10的制造工序中设置缺陷检查工序,从而在隔膜卷绕体10的包装工序以后,在使用卷绕于芯部8的隔膜12来组装电池的制造工序中,能够省去检查附着于隔膜12的异物的有无的工夫。
另外,使用缺陷检查装置1对卷绕于芯部8的隔膜12内的缺陷的有无的检查优选将缺陷检查装置1配置于清洁室等而在清洁的环境下进行。作为清洁的环境,例如优选等级(class)10万以下。通过在这样的环境下进行,能够减少在检查中及检查后新附着异物的可能性。而且,优选的是,优选在缺陷检查装置1的装置内或装置外,由铅等的壁包围的区域也是这样的清洁的环境。由此,能够使用缺陷检查装置1而精度良好地检查卷绕于芯部8的隔膜12内有无缺陷。
另外,优选的是,在结束一个隔膜卷绕体10的拍摄且开始下一个隔膜卷绕体10的拍摄之前(一个拍摄循环结束后),使为了进行隔膜卷绕体10的拍摄而移动了的各部分(保持机构313等)返回初始状态。由此,能够防止漏检、重检,还能够防止在拍摄中途进入到下一次拍摄等错误动作。需要说明的是,优选在该一个拍摄循环结束后使各部分返回初始状态的情况在实施方式2以后说明的各缺陷检查装置中也是同样的。
〔缺陷检查装置的总结〕
如上所述,本实施方式的缺陷检查装置1具备:射线源2,其从隔膜卷绕体10的厚度方向对隔膜卷绕体10呈放射状射出电磁波R;移动机构3,其使隔膜卷绕体10移动;以及TDI传感器4,其相对于隔膜卷绕体10设置于与射线源2相反的一侧,对透过隔膜12的电磁波R进行检测,移动机构3使隔膜卷绕体10沿着以射线源2为大致中心的圆形轨道C进行移动。
在缺陷检查装置1中,一边使隔膜卷绕体10沿着以射线源2为大致中心的圆形轨道C移动,一边由TDI传感器4检测透过隔膜12的电磁波R。因此,电磁波R对隔膜12的照射角度大致均等化,因此能够改善由隔膜卷绕体10的厚度引起的TDI传感器4的检测位置的误差。
因此,根据本实施方式,能够实现可抑制由隔膜卷绕体10的厚度引起的检查精度的降低的缺陷检查装置1。
〔缺陷检查装置的变形例〕
(变形例1)
在上述的说明中,说明了缺陷检查装置1每当隔膜卷绕体10在第一地点P1与第二地点P2之间往复一次时对隔膜卷绕体10拍摄一次的结构。然而,本发明不限定于该结构。也可以是缺陷检查装置1每当隔膜卷绕体10在第一地点P1与第二地点P2之间往复一次时对隔膜卷绕体10拍摄两次的结构。
具体而言,在缺陷检查装置1中,在隔膜卷绕体10从第一地点P1朝向第二地点P2移动的期间以及隔膜卷绕体10从第二地点P2朝向第一地点P1移动的期间这两个期间,通过TDI传感器检测透过隔膜12的电磁波R来对隔膜12进行拍摄。
在该情况下,隔膜卷绕体10在从第一地点P1到达第二地点P2时及从第二地点P2到达第一地点P1时这两个时候,使隔膜卷绕体10旋转规定角度即可。
由此,每当隔膜卷绕体10在第一地点P1与第二地点P2之间往复一次时,缺陷检查装置1能够对隔膜卷绕体10的不同的两个区域进行拍摄,因此能够缩短隔膜卷绕体10整体的检查所需的生产节拍时间。
(变形例2)
另外,在上述的说明中,说明了缺陷检查装置1具有两个射线源2的结构。然而,本发明不限定于该结构。例如,缺陷检查装置1也可以是具有一个射线源2的结构,或者也可以是具有三个以上的射线源2的结构。即,使用的射线源2的数量根据检查对象物的种类、形状或尺寸等而适当变更。
图5是表示图3所示的缺陷检查装置1的变形例的简要结构的主视图。如图5所示,缺陷检查装置1也可以是具有一个射线源2的结构。在这样的结构中,也使隔膜卷绕体10沿着以射线源2为大致中心的圆形轨道C移动,从而电磁波R对隔膜卷绕体10的照射角度大致均等化,因此能够改善由隔膜卷绕体10的厚度引起的TDI传感器4的检测位置的误差。
不过,在射线源2的数量为一个的情况下,在由TDI传感器4检测电磁波R时芯部8的影子会进入TDI传感器4。因此,在如本实施方式这样检查对象物为隔膜卷绕体10的情况下,优选射线源2的数量为两个以上。
(变形例3)
另外,在上述的说明中,说明了包括将隔膜卷绕体10保持为能够旋转的台座31、以及使台座31转动的驱动部32的移动机构3。然而,本发明的移动机构不限定于该结构。移动机构是能够使隔膜卷绕体10沿着以射线源2为大致中心的圆形轨道移动的结构即可。
图6是表示图3的(a)~(c)所示的移动机构3的变形例的简要结构的示意图。具体而言,图6的(a)是移动机构3a的主视图,图6的(b)是移动机构3a的俯视图,图6的(c)是移动机构3a的侧视图。
图6的(a)~(c)示出了使用机器人手臂构成移动机构3a的情况的一例。如图6的(a)~(c)所示,移动机构3a具备将隔膜卷绕体10保持为能够旋转的保持机构313、以及对保持机构313进行支承的臂315。
臂315在其前端部具有转动轴316,在该转动轴316连接有保持机构313。因此,保持机构313能够以转动轴316的中心线A为大致中心进行转动。因此,通过在转动轴316的中心线A上配置射线源2,由此能够使隔膜卷绕体10一边沿着以射线源2为大致中心的圆形轨道移动(圆周运动),一边由TDI传感器4检测透过隔膜12的电磁波R。
通过像这样使用机器人手臂来构成移动机构3a,能够使用移动机构3a来进行隔膜卷绕体10的搬运及缺陷检查。因此,能够缩短隔膜卷绕体10的缺陷检查所需的生产节拍时间。
图7是表示图3的(a)~(c)所示的移动机构3的另一变形例的简要结构的示意图。具体而言,图7的(a)是移动机构3b的主视图,图7的(b)是移动机构3b的俯视图,图7的(c)是移动机构3b的侧视图。
如图7的(a)~(c)所示,移动机构3b具备将隔膜卷绕体10保持为能够旋转的保持机构313、以及将保持机构313支承为能够转动的转动轴316。对于这样的结构的移动机构3b,也在转动轴316的中心线A上配置射线源2,从而能够一边使隔膜卷绕体10沿着以射线源2为大致中心的圆形轨道移动(圆周运动),一边由TDI传感器4检测透过隔膜12的电磁波R。
〔实施方式2〕
以下,基于图8~图11来说明本发明的另一实施方式。需要说明的是,为了便于说明,对具有与在所述实施方式中说明的构件相同的功能的构件标注相同附图标记,并省略其说明。
〔缺陷检查装置的结构〕
图8是表示本实施方式的缺陷检查装置11的简要结构的示意图。在本实施方式的缺陷检查装置11中,由包括链式输送机33的移动机构13使隔膜卷绕体10向一方向移动,并同时检查隔膜12中是否混入了异物。
具体而言,在缺陷检查装置11中,在隔膜卷绕体10通过在从放入位置S到取出位置E为止的搬运路径(去路)上设定的检查位置D1~D4时,由TDI传感器4检测透过隔膜12的电磁波R。另外,缺陷检查装置11在搬运路径上设定的姿态变更位置C1~C3处使隔膜卷绕体10旋转约45°。由此,在检查位置D1~D4处对隔膜12的不同的区域进行拍摄,并对这些拍摄图像进行解析,由此检查隔膜12中是否混入了异物。
在隔膜卷绕体10的搬运路径上,在检查位置D1与检查位置D2之间设定有姿态变更位置C1,在检查位置D2与检查位置D3之间设定有姿态变更位置C2,在检查位置D3与检查位置D4之间设定有姿态变更位置C3。另外,在从取出位置E到放入位置S为止的返回路径(回路)上设定有姿态变更位置C4。
需要说明的是,缺陷检查装置11由包含铅等的不容易透过X射线等的壁覆盖,以避免处理的电磁波R向外部泄漏。
如图8所示,缺陷检查装置11具备射线源2、移动机构13及TDI传感器4。射线源2及TDI传感器4在检查位置D1~D4分别配置。射线源2及TDI传感器4配置于在借助移动机构13而移动的隔膜卷绕体10通过检查位置D1~D4时,能够利用TDI传感器检测透过隔膜12的来自射线源2的电磁波R的位置。
(移动机构13)
移动机构13包括对隔膜卷绕体10进行保持的台座31、以及使台座31移动的链式输送机33。链式输送机33包括两条链331及多个齿轮(链轮)332。台座31通过弹簧等与链331连接。移动机构13通过对齿轮332进行驱动而使链331旋转,来使保持于台座31的隔膜卷绕体10移动。
图9的(a)是表示缺陷检查装置11的俯视图,图9的(b)是表示检查位置D1处的移动机构13的动作状态的侧视图。以下,说明检查位置D1处的移动机构13的动作状态,对于检查位置D2~D4也是同样的。
如图9的(a)所示,在检查位置D1处,在各齿轮332的内侧以彼此对置的方式配置有两个圆形搬运辊34。另外,在检查位置D1处,呈放射状射出电磁波R的两个射线源2在圆形搬运辊34的中心线A上分别配置。
如图9的(b)所示,移动到检查位置D1的台座31的连结棒314与圆形搬运辊34的外周面抵接,由此圆形搬运辊34以中心线A为轴进行旋转。因此,在检查位置D1处,能够一边使隔膜卷绕体10沿着以射线源2为大致中心的圆形轨道移动(圆周运动),一边由TDI传感器4检测透过隔膜12的电磁波R。由此,电磁波R对隔膜卷绕体10的照射角度大致均等化,因此能够改善由隔膜卷绕体10的厚度引起的TDI传感器4的检测位置的误差。
图10的(a)~(c)是用于说明缺陷检查装置11所具备的转动保持机构35的示意图。具体而言,图10的(a)表示在台座31的支承板312上设置的转动保持机构35的简要结构的侧视图,图10的(b)是表示姿态变更位置C1~C3处的转动板351的姿态变更的俯视图,图10的(c)是表示姿态变更位置C4处的转动板351的姿态变更的俯视图。
如图10的(a)所示,在缺陷检查装置11中,将隔膜卷绕体10保持为能够转动的转动保持机构35设置于台座31的支承板312。转动保持机构35包括以能够将转动轴351a作为中心进行转动的方式设置于支承板312的转动板351、突出设置于转动板351的上表面且对隔膜卷绕体10进行保持的保持构件352、以及突出设置于转动板351的下表面的多个姿态变更棒353a~353d。
姿态变更棒353a~353d按照姿态变更棒353b、姿态变更棒353c、姿态变更棒353a、353d的顺序而长度变短,姿态变更棒353a与姿态变更棒353d为相同的长度。
如图10的(b)所示,在设定于检查位置D1的下游侧的姿态变更位置C1,呈大致ハ型地设置有与姿态变更棒353b抵接的第一导轨r1。通过姿态变更棒353b与该第一导轨r1抵接,转动板351旋转约45°。由此,能够使隔膜卷绕体10的姿态从通过检查位置D1时的姿态(即放入位置S处的初始姿态)以约45°的旋转角度进行变更,并将其向接下来的检查位置D2导入。
另外,在设定于检查位置D2的下游侧的姿态变更位置C2,呈大致ハ型地设置有与姿态变更棒353c抵接的第二导轨r2。通过姿态变更棒353c与该第二导轨r2抵接,从而转动板351进一步旋转约45°。由此,能够使隔膜卷绕体10的姿态从通过检查位置D2时的姿态以约45°的旋转角度进行变更,并将其向接下来的检查位置D3导入。
另外,在设定于检查位置D3的下游侧的姿态变更位置C3,呈大致ハ型地设置有与姿态变更棒353d抵接的第三导轨r3。通过姿态变更棒353d与该第三导轨r3抵接,从而转动板351进一步旋转约45°。由此,能够使隔膜卷绕体10的姿态从通过检查位置D3时的姿态以约45°的旋转角度进行变更,并将其向接下来的检查位置D4导入。
这样,在缺陷检查装置11中,在姿态变更位置C1~C3使隔膜卷绕体10以约45°的步幅旋转。由此,在检查位置D1~D4处分四次拍摄隔膜12的不同的区域,并对这些拍摄图像进行解析,由此能够检查隔膜12中是否混入了异物。
另外,如图10的(c)所示,在设定于从取出位置E到放入位置S为止的返回路径(回路)上的姿态变更位置C4,呈大致ハ型地设置有与姿态变更棒353b抵接的第四导轨r4、以及与姿态变更棒353a抵接的第五导轨r5。通过姿态变更棒353b与第四导轨r4抵接且姿态变更棒353a与第五导轨r5抵接,由此转动板351反向旋转约135°。由此,能够使转动板351返回初始姿态,并将其向放入位置S导入。这样,通过调整姿态变更棒的长度、导轨的高度及配置,从而导轨设定为分别仅与特定的姿态变更棒抵接。
需要说明的是,在本实施方式中,说明了在检查位置D1~D4分四次拍摄隔膜12的不同的区域的结构。然而,本发明不限定于该结构。缺陷检查装置11也可以分三次以下或五次以上地拍摄隔膜12的不同的区域。在该情况下,根据拍摄次数设定检查位置及位置变更位置,并调整各检查位置处的拍摄范围及各位置变更位置处的姿态变更的角度即可。
〔缺陷检查装置的总结〕
以上,本实施方式的缺陷检查装置11具备包含链式输送机33的移动机构13,由链式输送机33使隔膜卷绕体10向一方向移动,并同时检查隔膜12中是否混入了异物。
因此,根据本实施方式,能够实现可短缺陷检查所需的生产节拍时间的缺陷检查装置11。
〔缺陷检查装置的变形例〕
图11的(a)及(b)是表示缺陷检查装置11所具备的台座31的变形例的侧视图。具体而言,图11的(a)示出隔膜卷绕体10处于下降位置的状态,图11的(b)示出隔膜卷绕体10处于上升位置的状态。
如图11的(a)及(b)所示,台座31也可以具备将隔膜卷绕体10的位置切换为下降位置或上升位置的高度调整机构36。由此,能够变更隔膜卷绕体10移动的圆形轨道的旋转半径。通过由高度调整机构36使从射线源2到隔膜12的距离变化,能够变更由TDI传感器4拍摄的拍摄图像的放大率。
〔实施方式3〕
以下,基于图12及图13来说明本发明的另一实施方式。需要说明的是,为了便于说明,对具有与在所述实施方式中说明的构件相同的功能的构件,标注相同附图标记并省略其说明。
〔缺陷检查装置的结构〕
图12的(a)~(h)是表示本实施方式3的缺陷检查装置21的简要结构及动作状态的示意图。本实施方式的缺陷检查装置21具备第一台座31a及第二台座31b,通过使它们滑动来依次检查隔膜12中是否混入了异物。
如图12的(a)~(h)所示,缺陷检查装置21具备射线源2、移动机构23及TDI传感器4。
射线源2及TDI传感器4配置于检查位置D11。在缺陷检查装置21中,在检查位置D11处由驱动部32使隔膜卷绕体10以射线源2为大致中心而多次进行往复移动(单摆运动)的期间,多次拍摄隔膜12的不同的区域。然后,通过对这些拍摄图像进行解析来检查隔膜12中是否混入了异物。
在该缺陷检查装置21中,如图12的(a)所示,在第一台座31a位于第一放入/取出位置C11且第二台座31b位于检查位置D11的初始状态下,将检查前的隔膜卷绕体10装配于第一台座31a。
接着,如图12的(b)所示,使第一台座31a及第二台座31b滑动。由此,第一台座31a向检查位置D11移动,第二台座31b向第二放入/取出位置C12移动。然后,开始进行装配于第一台座31a的隔膜卷绕体10的检查。
接着,如图12的(c)所示,在装配于第一台座31a的隔膜卷绕体10的检查中,向第二台座31b装配检查前的隔膜卷绕体10。
接着,如图12的(d)所示,在装配于第一台座31a的隔膜卷绕体10的检查结束了的情况下,使第一台座31a及第二台座31b滑动。由此,第一台座31a向第一放入/取出位置C11移动,第二台座31b向检查位置D11移动。然后,开始进行装配于第二台座31b的隔膜卷绕体10的检查。
接着,如图12的(e)所示,在装配于第二台座31b的隔膜卷绕体10的检查中,卸下装配于第一台座31a的检查后的隔膜卷绕体10。
接着,如图12的(f)所示,在装配于第二台座31b的隔膜卷绕体10的检查中,向第一台座31a装配检查前的隔膜卷绕体10。
接着,如图12的(g)所示,在装配于第二台座31b的隔膜卷绕体10的检查结束了的情况下,使第一台座31a及第二台座31b滑动。由此,第一台座31a向检查位置D11移动,第二台座31b向第二放入/取出位置C12移动。
接着,如图12的(h)所示,在装配于第一台座31a的隔膜卷绕体10的检查中,卸下装配于第二台座31b的隔膜卷绕体10。以后,通过反复进行图12的(c)~图12的(h)所示的动作,能够依次检查隔膜12中是否混入了异物。
〔缺陷检查装置的总结〕
以上,本实施方式的缺陷检查装置21具备使第一台座31a及第二台座31b滑动的移动机构23。
因此,根据本实施方式,能够实现可缩短缺陷检查所需的生产节拍时间的缺陷检查装置21。
(缺陷检查装置的变形例)
图13是表示缺陷检查装置21的变形例的侧视图。如图13所示,缺陷检查装置21a具备移动机构38,该移动机构38包括四个台座31及使各台座31移动的链式输送机37。链式输送机37包括链331及多个齿轮(链轮)332。
在该缺陷检查装置11中,首先,向放入位置S11的台座31装配检查前的隔膜卷绕体10。
接着,使链式输送机37前进,使放入位置S11的隔膜卷绕体10向检查位置D11移动。
接着,通过使链式输送机37前后行进,来使隔膜卷绕体10以射线源2为大致中心多次进行往复移动(单摆运动)。另外,每当往复一次时便使隔膜卷绕体10旋转规定角度。由此,多次拍摄隔膜12的不同的区域,并对这些拍摄图像进行解析,从而检查隔膜12中是否混入了异物。
接着,在检查位置D11处检查隔膜卷绕体10的期间,向放入位置S11的台座31装配检查前的隔膜卷绕体10。
接着,在检查位置D11处隔膜卷绕体10的检查结束了的情况下,使链式输送机37前进。由此,检查后的隔膜卷绕体10向取出位置E11移动,检查前的隔膜卷绕体10向检查位置D11移动。然后,将在位于取出位置E11的台座31上装配的检查后的隔膜卷绕体10卸下,并且向放入位置S11的台座31装配检查前的隔膜卷绕体10。
通过反复进行以上的动作,能够依次检查隔膜12中是否混入了异物。
〔总结〕
本发明的一方案的检查装置具备:射线源,其从检查对象物的厚度方向对所述检查对象物呈放射状射出电磁波;TDI传感器,其相对于所述检查对象物设置于与所述射线源相反的一侧,对透过所述检查对象物的所述电磁波进行检测;以及移动机构,其一边将所述射线源与所述检查对象物的距离以及所述射线源与所述TDI传感器的距离保持为大致固定,一边使所述检查对象物中的检查区域移动。
在上述的结构中,一边将射线源与检查对象物的距离以及射线源与TDI传感器的距离分别保持为大致固定,一边使检查对象物中的检查区域移动,并同时由TDI传感器检测透过检查对象物后的电磁波,因此能够改善由检查对象物的厚度引起的TDI传感器的检测位置的误差。因此,根据上述的结构,能够实现可抑制由检查对象物的厚度引起的检查精度的降低的检查装置。
另外,在本发明的一方案的检查装置中,也可以是,所述移动机构使所述检查对象物沿着以所述射线源为大致中心的圆形轨道移动。
在上述的结构中,通过使检查对象物沿着以射线源为大致中心的圆形轨道移动,由此能够一边将射线源与检查对象物的距离以及射线源与TDI传感器的距离保持为大致固定,一边使检查对象物中的检查区域移动。因此,电磁波对检查对象物的照射角度大致均等化,因此通过由TDI传感器检测透过检查对象物的电磁波,能够改善由检查对象物的厚度引起的TDI传感器的检测位置的误差。
另外,在本发明的一方案的检查装置中,也可以是,所述移动机构使所述检查对象物在位于所述圆形轨道上的第一地点与第二地点之间多次进行往复移动。
在上述的结构中,使检查对象物多次进行往复移动,因此能够由TDI传感器多次检测透过检查对象物的电磁波。因此,根据上述的结构,能够缩短检查所需的生产节拍时间。另外,例如在由TDI传感器对检查对象物一部分一部分地进行多次检测的情况下,能够缩短检查对象物整体的检查所需的生产节拍时间。
另外,在本发明的一方案的检查装置中,也可以是,所述TDI传感器在所述检查对象物从所述第一地点朝向所述第二地点移动的期间对透过所述检查对象物的所述电磁波进行检测。
在上述的结构中,在检查对象物从第一地点朝向第二地点移动的期间,TDI传感器检测透过检查对象物的电磁波。因此,根据上述的结构,能够由TDI传感器较佳地检测透过向一方向移动的检查对象物的电磁波。
另外,在本发明的一方案的检查装置中,也可以是,所述移动机构在所述检查对象物从所述第二地点朝向所述第一地点移动的期间使所述检查对象物以沿着所述厚度方向延伸的轴为大致中心进行旋转。
在上述的结构中,在检查对象物从第二地点朝向第一地点移动的期间使检查对象物旋转。因此,根据上述的结构,每当检查对象物往复一次时,能够由TDI传感器检测透过检查对象物的不同的区域的电磁波。另外,通过在检查对象物从第二地点向第一地点移动的期间使检查对象物旋转,因此能够缩短检查所需的生产节拍时间。
另外,在本发明的一方案的检查装置中,也可以是,所述TDI传感器在所述检查对象物从所述第一地点朝向所述第二地点移动的期间以及所述检查对象物从所述第二地点朝向所述第一地点移动的期间对透过所述检查对象物的所述电磁波进行检测。
在上述的结构中,在检查对象物从圆形轨道上的第一地点朝向第二地点移动的期间以及检查对象物从第二地点朝向第一地点移动的期间这两个期间,TDI传感器检测透过检查对象物的电磁波。因此,根据上述的结构,能够由TDI传感器高效地检测透过向双方向移动的检查对象物的电磁波。
另外,在本发明的一方案的检查装置中,也可以是,所述移动机构在所述检查对象物从所述第一地点到达所述第二地点时以及所述检查对象物从所述第二地点到达所述第一地点时,使所述检查对象物以沿着所述厚度方向延伸的轴为大致中心进行旋转。
在上述的结构中,在检查对象物从第一地点到达第二地点时以及从第二地点到达第一地点时这两个时候,使检查对象物旋转。因此,根据上述的结构,每当检查对象物往复一次时,能够由TDI传感器检测透过检查对象物的不同的两个区域的电磁波,因此能够缩短检查对象物整体的检查所需的生产节拍时间。
另外,在本发明的一方案的检查装置中,也可以是,所述检查对象物的从所述厚度方向观察时的外形为大致圆形。
本发明的一方案的检查装置也能够较佳地使用于从厚度方向观察时的外形为大致圆形的检查对象物。
另外,在本发明的一方案的检查装置中,也可以是,所述检查对象物是具备圆筒形状的芯部和卷绕于所述芯部的外周面的膜的膜卷绕体。
本发明的一方案的检查装置尤其是能够较佳地使用于具备筒形状的芯部和卷绕于该芯部的外周面的膜的膜卷绕体等这样的厚度比较大的检查对象物。
另外,在本发明的一方案的检查装置中,也可以是,所述电磁波为X射线。
根据上述的结构,能够对检查对象物进行使用了X射线的检查。另外,不增大成本就能够实现处理容易的检查装置。
本发明的一方案的检查方法包括:射出工序,在该射出工序中,自射线源从检查对象物的厚度方向对所述检查对象物呈放射状射出电磁波;移动工序,在该移动工序中,使所述检查对象物中的检查区域移动;以及检测工序,在该检测工序中,由TDI传感器对透过所述检查对象物的所述电磁波进行检测,在所述移动工序中,一边将所述射线源与所述检查对象物的距离以及所述射线源与所述TDI传感器的距离保持为大致固定,一边使所述检查区域移动。
在上述的方法中,一边将射线源与检查对象物的距离以及射线源与TDI传感器的距离分别保持为大致固定,一边使检查对象物中的检查区域移动,并同时由TDI传感器检测透过检查对象物的电磁波,因此能够改善由检查对象物的厚度引起的TDI传感器的检测位置的误差。因此,根据上述的方法,能够实现可抑制由检查对象物的厚度引起的检查精度的降低的检查方法。
本发明的一方案的膜卷绕体的制造方法包括缺陷检查工序,在该缺陷检查工序中,通过本发明的检查方法而针对具备圆筒形状的芯部和卷绕于所述芯部的外周面的膜的膜卷绕体来检查所述膜的缺陷。
根据上述的方法,能够制造膜中异物的混入等缺陷少的膜卷绕体。
另外,在本发明的一方案的膜卷绕体的制造方法中,也可以是,所述膜卷绕体的制造方法包括:分切工序,在该分切工序中,从宽度比所述膜的宽度宽的坯料分切出所述膜;膜卷绕工序,在该膜卷绕工序中,将在所述分切工序中分切出的所述膜卷绕于所述芯部而得到所述膜卷绕体;以及包装工序,在该包装工序中,对在所述膜卷绕工序中制造出的所述膜卷绕体进行包装,所述缺陷检查工序设置于所述分切工序之后且所述包装工序之前。
根据上述的方法,能够通过缺陷检查工序高效地检查容易产生异物的分切工序中产生的异物。而且,在对膜卷绕体进行包装的后续工序中,能够省去对附着于膜的异物进行检查的工夫。
另外,在本发明的一方案的膜卷绕体的制造方法中,也可以是,在所述缺陷检查工序中检查有无100μm以上的异物。
根据上述的方法,能够制造出100μm以上的异物少或者不包含100μm以上的异物的膜卷绕体。
需要说明的是,本发明的一方案的膜卷绕体也可以通过本发明的膜卷绕体的制造方法来制造。由此,能够得到异物的混入等缺陷少的隔膜卷绕体。
另外,本发明的一方案的膜卷绕体是用于电池的隔膜卷绕于筒状的芯部而成的隔膜卷绕体,其特征在于,在卷绕于该芯部的隔膜内不包含100μm以上的异物。由此,能够得到因附着于隔膜的异物而产生不良的可能性低的隔膜卷绕体。
本发明并不限定于上述的各实施方式,能够在技术方案所示的范围内进行各种变更,将在不同的实施方式中分别公开的技术手段适当组合而得到的实施方式也包含于本发明的技术范围。

Claims (16)

1.一种检查装置,其特征在于,具备:
射线源,其从检查对象物的厚度方向对所述检查对象物呈放射状射出电磁波;
TDI传感器,其相对于所述检查对象物设置于与所述射线源相反的一侧,对透过所述检查对象物的所述电磁波进行检测;以及
移动机构,其一边将所述射线源与所述检查对象物的距离以及所述射线源与所述TDI传感器的距离保持为大致固定,一边使所述检查对象物中的检查区域移动,
所述检查对象物是具备圆筒形状的芯部和卷绕于所述芯部的外周面的膜的膜卷绕体,
所述射线源包括第一射线源以及第二射线源,
对所述第一射线源以及所述第二射线源而言,各射线源的间隔设定为与所述芯部的直径大致一致,以避免从各射线源呈放射状射出的电磁波被所述芯部遮挡。
2.根据权利要求1所述的检查装置,其中,
所述移动机构使所述检查对象物沿着以穿过所述第一射线源以及所述第二射线源的线为大致中心的圆形轨道移动。
3.根据权利要求2所述的检查装置,其中,
所述TDI传感器以与所述圆形轨道大致平行的方式弯曲。
4.根据权利要求2所述的检查装置,其中,
所述移动机构使所述检查对象物在位于所述圆形轨道上的第一地点与第二地点之间多次进行往复移动。
5.根据权利要求4所述的检查装置,其中,
所述TDI传感器在所述检查对象物从所述第一地点朝向所述第二地点移动的期间对透过所述检查对象物的所述电磁波进行检测。
6.根据权利要求5所述的检查装置,其中,
所述移动机构在所述检查对象物从所述第二地点朝向所述第一地点移动的期间使所述检查对象物以沿着所述厚度方向延伸的轴为大致中心进行旋转。
7.根据权利要求4所述的检查装置,其中,
所述TDI传感器在所述检查对象物从所述第一地点朝向所述第二地点移动的期间以及所述检查对象物从所述第二地点朝向所述第一地点移动的期间对透过所述检查对象物的所述电磁波进行检测。
8.根据权利要求7所述的检查装置,其中,
所述移动机构在所述检查对象物从所述第一地点到达所述第二地点时以及所述检查对象物从所述第二地点到达所述第一地点时,使所述检查对象物以沿着所述厚度方向延伸的轴为大致中心进行旋转。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的检查装置,其中,
所述检查对象物的从所述厚度方向观察时的外形为大致圆形。
10.根据权利要求1至8中任一项所述的检查装置,其中,
所述电磁波为X射线。
11.一种检查方法,其特征在于,包括:
射出工序,在该射出工序中,自射线源从检查对象物的厚度方向对所述检查对象物呈放射状射出电磁波;
移动工序,在该移动工序中,使所述检查对象物中的检查区域移动;以及
检测工序,在该检测工序中,由TDI传感器对透过所述检查对象物的所述电磁波进行检测,
在所述移动工序中,一边将所述射线源与所述检查对象物的距离以及所述射线源与所述TDI传感器的距离保持为大致固定,一边使所述检查区域移动,
所述检查对象物是具备圆筒形状的芯部和卷绕于所述芯部的外周面的膜的膜卷绕体,
所述射线源包括第一射线源以及第二射线源,
对所述第一射线源以及所述第二射线源而言,各射线源的间隔设定为与所述芯部的直径大致一致,以避免从各射线源呈放射状射出的电磁波被所述芯部遮挡。
12.根据权利要求11所述的检查方法,其中,
在所述移动工序中,使所述检查区域沿着以穿过所述第一射线源以及所述第二射线源的线为大致中心的圆形轨道移动。
13.根据权利要求12所述的检查方法,其中,
在所述检测工序中,使用以与所述圆形轨道大致平行的方式弯曲的所述TDI传感器。
14.一种膜卷绕体的制造方法,其特征在于,
所述膜卷绕体的制造方法包括缺陷检查工序,在该缺陷检查工序中,通过权利要求11至13中任一项所述的检查方法而针对所述膜卷绕体来检查所述膜的缺陷。
15.根据权利要求14所述的膜卷绕体的制造方法,其中,
所述膜卷绕体的制造方法包括:
分切工序,在该分切工序中,从宽度比所述膜的宽度宽的坯料分切出所述膜;
膜卷绕工序,在该膜卷绕工序中,将在所述分切工序中分切出的所述膜卷绕于所述芯部而得到所述膜卷绕体;以及
包装工序,在该包装工序中,对在所述膜卷绕工序中制造出的所述膜卷绕体进行包装,
所述缺陷检查工序设置于所述分切工序之后且所述包装工序之前。
16.根据权利要求14或15所述的膜卷绕体的制造方法,其中,
在所述缺陷检查工序中检查有无100μm以上的异物。
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