CN108258026B - 显示面板的绑定区结构及其制作方法、显示面板 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种显示面板的绑定区结构及其制作方法、显示面板。本发明的显示面板的绑定区结构包括基板、导体层以及第一绝缘层，基板上设有间隔设置的多个绑定接触区、间隔区以及周边绝缘区，导体层包括分别与多个绑定接触区对应的多个绑定接触图案，第一绝缘层对应多个绑定接触区设有多个开口，第一绝缘层对应间隔区的部分的厚度小于对应周边绝缘区的部分的厚度，以使第一绝缘层对应间隔区的部分的支撑力降低，从而在将COF与所述显示面板的绑定区结构绑定后，增大绑定接触图案与COF的接触面积，有助于显示面板向高分辨率方向发展，提升显示面板的产品品质。

Description

显示面板的绑定区结构及其制作方法、显示面板

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板的绑定区结构及其制作方法、显示面板。

背景技术

有机发光二极管显示装置(Organic Light Emitting Display)具有自发光、驱动电压低、发光效率高、响应时间短、清晰度与对比度高、近180°视角、使用温度范围宽，可实现柔性显示与大面积全色显示等诸多优点，被业界公认为是最有发展潜力的显示装置。

OLED按照驱动方式可以分为无源矩阵型OLED(Passive Matrix OLED)和有源矩阵型OLED(Active Matrix OLED)两大类，即直接寻址和薄膜晶体管(TFT)矩阵寻址两类。其中，AMOLED具有呈阵列式排布的像素，属于主动显示类型，发光效能高，通常用作高清晰度的大尺寸显示装置。

OLED器件通常包括：基板、设于基板上的阳极、设于阳极上的空穴注入层、设于空穴注入层上的空穴传输层、设于空穴传输层上的发光层、设于发光层上的电子传输层、设于电子传输层上的电子注入层及设于电子注入层上的阴极。OLED器件的发光原理为半导体材料和有机发光材料在电场驱动下，通过载流子注入和复合导致发光。具体的，OLED器件通常采用氧化铟锡(ITO)电极和金属电极分别作为器件的阳极和阴极，在一定电压驱动下，电子和空穴分别从阴极和阳极注入到电子传输层和空穴传输层，电子和空穴分别经过电子传输层和空穴传输层迁移到发光层，并在发光层中相遇，形成激子并使发光分子激发，后者经过辐射弛豫而发出可见光。

AMOLED显示器的生产过程中，覆晶薄膜(COF)绑定工艺是AMOLED模组阶段生产的重要环节，在COF绑定工艺中，需要将COF与显示面板的绑定接触图案接触，然而为实现高分辨率，现有的COF的线宽(pitch)需要不断缩小，为保证产品的品质，降低COF绑定工艺中COF与绑定接触图案接触面积的减小量是设计者需要考虑的重要问题之一。

请参阅图1及图2，为现有的一种显示装置的绑定区结构的示意图，现有的显示装置的绑定区结构包括：基板100’、设于基板100’上的第一绝缘层200’、设于第一绝缘层200’上的金属层300’以及设于金属层300’及第一绝缘层200’上的第二绝缘层400’，所述基板100’上设有多个间隔设置的绑定接触区110’、设于相邻绑定接触区110’之间的间隔区120’以及设于绑定接触区110’及间隔区120’外侧的周边绝缘区130’，所述金属层300’包括多个绑定接触图案310’，所述多个绑定接触图案310’分别与多个绑定接触区110’对应，所述第二绝缘层200’对应多个绑定接触图案310’上方设有多个开口210’，而第二绝缘层200’对应间隔区120’的部分的厚度与对应周边绝缘区130’的部分的厚度相同，因而第二绝缘层200’对应间隔区120’的部分具有较强的支撑力，这会导致若COF的线宽减小后，在将COF绑定在该显示面板的绑定结构上时，绑定接触图案310’与COF的实际接触面积的减小量较预期增大，因此限制了AMOLED显示器向高分辨率的方向发展。

发明内容

本发明的目的在于提供一种显示面板的绑定区结构，能够在绑定时增大其绑定接触图案与COF的接触面积，提升显示面板的产品品质。

本发明的另一目的在于提供一种显示面板的绑定区结构的制作方法，制得的显示面板的绑定区结构能够在绑定时增大其绑定接触图案与COF的接触面积，提升显示面板的产品品质。

本发明的另一目的还在于提供一种显示面板，能够在绑定时增大绑定接触图案与COF的接触面积，提升显示面板的产品品质。

为实现上述目的，本发明首先提供一种显示面板的绑定区结构，包括基板、设于基板上方的导体层以及设于导体层及基板上方的第一绝缘层；

所述基板上设有间隔设置的多个绑定接触区、设于相邻的绑定接触区之间的间隔区以及设于多个绑定接触区与间隔区所在区域外侧的周边绝缘区；

所述导体层包括多个间隔的绑定接触图案，所述多个绑定接触图案分别与多个绑定接触区对应；

所述第一绝缘层对应多个绑定接触区设有多个开口，所述第一绝缘层对应间隔区的部分的厚度小于对应周边绝缘区的部分的厚度。

还包括设于基板上的第二绝缘层，所述导体层设于第二绝缘层上，所述第一绝缘层设于导体层及第二绝缘层上。

所述基板为玻璃基板或玻璃基板与聚酰亚胺层的层叠结构；

所述第二绝缘层的材料为氮化硅或氧化硅；

所述导体层为钼层、两层钼层夹一层铝层、两层钛层夹一层铝层或两层氧化铟锡层夹一层银层；

所述第一绝缘层的材料为光阻。

本发明还提供一种显示面板的绑定区结构的制作方法，包括如下步骤：

步骤S1、提供一基板；

所述基板上设有间隔设置的多个绑定接触区、设于相邻的绑定接触区之间的间隔区以及设于多个绑定接触区与间隔区所在区域外侧的周边绝缘区；

步骤S2、在所述基板上形成第二绝缘层；

步骤S3、在第二绝缘层上形成导体材料并进行图案化，得到导体层；

所述导体层包括多个间隔的绑定接触图案，所述多个绑定接触图案分别与多个绑定接触区对应；

步骤S4、提供一掩膜板；在所述导体层及第二绝缘层上涂布光阻层，利用所述掩膜板对所述光阻层进行曝光及显影，形成第一绝缘层；

所述第一绝缘层对应多个绑定接触区设有多个开口，所述第一绝缘层对应间隔区的部分的厚度小于对应周边绝缘区的部分的厚度。

所述步骤S2中，利用化学气相沉积的方式在所述基板上形成第二绝缘层；

所述步骤S3中，利用物理气相沉积的方式在第二绝缘层上形成导体材料。

所述光阻层的材料为正性光阻；

所述掩膜板包括：多个间隔的全透光区、设于相邻的全透光区之间的半透光区以及设于全透光区与半透光区所在区域外侧的遮光区。

所述半透光区包括多个全透光子区及除全透光子区以外的遮光子区。

所述多个全透光子区的形状均为正方形，每一全透光子区的四个顶点分别与另外四个全透光子区各自的一个顶点连接，两个相连接的全透光子区关于两者的连接点对称；或者，

所述多个全透光子区的形状均为菱形，每一全透光子区的四个顶点分别与另外四个全透光子区各自的一个顶点连接，两个相连接的全透光子区关于两者的连接点对称；或者，

所述多个全透光子区的形状为圆形，多个全透光子区相互间隔；或者，

所述多个全透光子区的形状为六边形，多个全透光子区相互间隔。

所述步骤S4中，利用所述掩膜板对所述光阻层进行曝光的具体地过程为：以所述掩膜板为遮挡，利用一曝光机对所述光阻层进行曝光；

当所述全透光子区的形状为正方形时，所述全透光子区的边长及相邻的全透光子区之间的间距均小于曝光机的解像极限尺寸并大于掩膜板制作图形极限尺寸；

当所述全透光子区的形状为菱形时，所述全透光子区的对角线长度小于均小于曝光机的解像极限尺寸并大于掩膜板制作图形极限尺寸；

当所述全透光子区的形状为圆形时，所述全透光子区的直径及相邻的全透光子区之间的间距均小于曝光机的解像极限尺寸并大于掩膜板制作图形极限尺寸；

当所述全透光子区的形状为六边形时，所述全透光子区的内切直径及相邻的全透光子区之间的间距均小于曝光机的解像极限尺寸并大于掩膜板制作图形极限尺寸。

本发明还提供一种显示面板，包括上述的显示面板的绑定区结构。

本发明的有益效果：本发明提供的一种显示面板的绑定区结构，包括基板、导体层以及第一绝缘层，基板上设有间隔设置的多个绑定接触区、间隔区以及周边绝缘区，导体层包括分别与多个绑定接触区对应的多个绑定接触图案，第一绝缘层对应多个绑定接触区设有多个开口，第一绝缘层对应间隔区的部分的厚度小于对应周边绝缘区的部分的厚度，以使第一绝缘层对应间隔区的部分的支撑力降低，从而在将COF与所述显示面板的绑定区结构绑定后，增大绑定接触图案与COF的接触面积，有助于显示面板向高分辨率方向发展，提升显示面板的产品品质。本发明提供的一种显示面板的绑定区结构的制作方法，制得的显示面板的绑定区结构能够在绑定时增大其绑定接触图案与COF的接触面积，提升显示面板的产品品质。本发明提供的一种显示面板，能够在绑定时增大绑定接触图案与COF的接触面积，提升显示面板的产品品质。

附图说明

为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本发明加以限制。

附图中，

图1为现有的一种显示装置的绑定区结构的俯视示意图；

图2为沿图1中的A-A’线的剖视示意图；

图3为本发明的显示装置的绑定区结构的俯视示意图；

图4为沿图3中的B-B’线的剖视示意图；

图5为本发明的显示装置的绑定区结构的制作方法的流程图；

图6为本发明的显示装置的绑定区结构的制作方法的步骤S1及步骤S2的示意图；

图7为本发明的显示装置的绑定区结构的制作方法的步骤S3的示意图；

图8为本发明的显示装置的绑定区结构的制作方法的步骤S4的示意图；

图9为本发明的显示装置的绑定区结构的制作方法的第一实施例中掩膜板的半透光区的局部示意图；

图10为本发明的显示装置的绑定区结构的制作方法的第二实施例中掩膜板的半透光区的局部示意图；

图11为本发明的显示装置的绑定区结构的制作方法的第三实施例中掩膜板的半透光区的局部示意图；

图12为本发明的显示装置的绑定区结构的制作方法的第四实施例中掩膜板的半透光区的局部示意图。

具体实施方式

为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。

请参阅图3及图4，本发明提供一种显示面板的绑定区结构，包括基板100、设于基板100上方的导体层200以及设于导体层200及基板100上方的第一绝缘层300；

所述基板100上设有间隔设置的多个绑定接触区110、设于相邻的绑定接触区110之间的间隔区120以及设于多个绑定接触区110与间隔区120所在区域外侧的周边绝缘区130；

所述导体层200包括多个间隔的绑定接触图案210，所述多个绑定接触图案210分别与多个绑定接触区110对应；

所述第一绝缘层300对应多个绑定接触区110设有多个开口310，所述第一绝缘层300对应间隔区120的部分的厚度小于对应周边绝缘区130的部分的厚度。

具体地，所述显示面板的绑定区结构还包括设于基板100上的第二绝缘层400，所述导体层200设于第二绝缘层400上，所述第一绝缘层300设于导体层200及第二绝缘层400上。

具体地，所述基板100可以但不限于为玻璃基板或玻璃基板与聚酰亚胺层的层叠结构。

具体地，所述第二绝缘层400的材料可以但不限于为氮化硅(SiNx)或氧化硅(SiO2)。

具体地，所述导体层200可选择金属材料。进一步地，所述导体层200可以为钼(Mo)层、两层钼层夹一层铝(Al)层、两层钛层(Ti)夹一层铝层或两层氧化铟锡(ITO)层夹一层银(Ag)层。

具体地，所述第一绝缘层300的材料为光阻，优选为正性光阻。

具体地，本发明的显示面板的绑定区结构可应用于AMOLED显示面板，当然也可应用于液晶显示面板，该绑定区结构与COF进行绑定，从而实现现有的绑定区的功能，同时该绑定区结构还可以设置在显示面板的测试区域，用于充当测试端子以对显示面板进行测试。

需要说明的是，本发明的显示面板的绑定区结构，通过使第一绝缘层300对应间隔区120的部分的厚度小于对应周边绝缘区130的部分的厚度，使得第一绝缘层300对应间隔区120的部分的支撑力降低，从而在将COF与所述显示面板的绑定区结构绑定使COF与绑定接触图案210接触后，绑定接触图案210与COF的接触面积能够变得更大，因此即使为了实现高分辨率而缩小COF的线宽，由于第一绝缘层300的结构设置，因COF的线宽减小而产生的绑定接触图案210与COF的接触面积的缩小量会被降低，保证了绑定的可靠性，因而有助于显示面板向高分辨率方向发展，提升显示面板的产品品质。

请参阅图5，基于同一发明构思，本发明还提供一种显示面板的绑定区结构的制作方法，包括如下步骤：

步骤S1、请参阅图6，提供一基板100；

所述基板100上设有间隔设置的多个绑定接触区110、设于相邻的绑定接触区110之间的间隔区120以及设于多个绑定接触区110与间隔区120所在区域外侧的周边绝缘区130。

具体地，所述基板100可以但不限于为玻璃基板或玻璃基板与聚酰亚胺层的层叠结构。

步骤S2、请参阅图6，在所述基板100上形成第二绝缘层400。

具体地，所述第二绝缘层400的材料可以但不限于为氮化硅(SiNx)或氧化硅(SiO2)。

具体地，所述步骤S2中，利用化学气相沉积(CVD)的方式在所述基板100上形成第二绝缘层400。

步骤S3、请参阅图7，在第二绝缘层400上形成导体材料并进行图案化，得到导体层200；

所述导体层200包括多个间隔的绑定接触图案210，所述多个绑定接触图案210分别与多个绑定接触区110对应。

具体地，所述导体层200可选择金属材料。进一步地，所述导体层200可以为钼(Mo)层、两层钼层夹一层铝(Al)层、两层钛层(Ti)夹一层铝层或两层氧化铟锡(ITO)层夹一层银(Ag)层。

具体地，所述步骤S3中，利用物理气相沉积(PVD)的方式在第二绝缘层400上形成导体材料。

步骤S4、请参阅图8，并结合图4，提供一掩膜板900；在所述导体层200及第二绝缘层400上涂布光阻层301，利用所述掩膜板900对所述光阻层301进行曝光及显影，形成第一绝缘层300；

所述第一绝缘层300对应多个绑定接触区110设有多个开口310，所述第一绝缘层300对应间隔区120的部分的厚度小于对应周边绝缘区130的部分的厚度。

具体地，所述光阻层301的材料为正性光阻；

所述掩膜板900包括：多个间隔的全透光区910、设于相邻的全透光区910之间的半透光区920以及设于全透光区910与半透光区920所在区域外侧的遮光区930；

所述步骤S4中利用所述掩膜板900对光阻层301进行曝光及显影后，制得的第一绝缘层300对应全透光区910形成开口310，且对应半透光区920部分的厚度小于对应遮光区930部分的厚度。

具体地，所述步骤S4中，利用所述掩膜板900对所述光阻层301进行曝光的具体地过程为：以所述掩膜板900为遮挡，利用一曝光机对所述光阻层301进行曝光。

值得一提的是，在本发明中，所述掩膜板900的半透光区920采用光学补偿图形结构实现该半透光区920的透光率大于遮光区930且小于全透光区910，从而使得利用该掩膜板900对光阻层301进行曝光显影后得到的第一绝缘层300对应全透光区910形成开口310，且对应半透光区920部分的厚度小于对应遮光区930部分的厚度。

具体地，所述半透光区920包括多个全透光子区921及除全透光子区921以外的遮光子区922，以下列举四种优选的半透光区920的结构，当然，该半透光区920也可根据具体地曝光需求进行设计而采用其他结构，这均不会影响本发明的实现：

请参阅图9，在本发明的第一实施例中，所述多个全透光子区921的形状均为正方形，每一全透光子区921的四个顶点分别与另外四个全透光子区921各自的一个顶点连接，两个相连接的全透光子区921关于两者的连接点对称，进一步地，所述全透光子区921的边长及相邻的全透光子区921之间的间距均小于曝光机的解像极限尺寸并大于掩膜板900制作图形极限尺寸，从而使该半透光区920的透光率大于遮光区930且小于全透光区910，从而使得利用该掩膜板900对光阻层301进行曝光显影后得到的第一绝缘层300对应全透光区910形成开口310，且对应半透光区920部分的厚度小于对应遮光区930部分的厚度。

可选地，请参阅图10，在本发明的第二实施例中，所述多个全透光子区921的形状均为菱形，每一全透光子区921的四个顶点分别与另外四个全透光子区921各自的一个顶点连接，两个相连接的全透光子区921关于两者的连接点对称，进一步地，所述全透光子区921的对角线长度小于均小于曝光机的解像极限尺寸并大于掩膜板900制作图形极限尺寸，从而使得利用该掩膜板900对光阻层301进行曝光显影后得到的第一绝缘层300对应全透光区910形成开口310，且对应半透光区920部分的厚度小于对应遮光区930部分的厚度。

可选地，请参阅图11，在本发明的第三实施例中，所述多个全透光子区921的形状为圆形，多个全透光子区921相互间隔，进一步地，所述全透光子区921的直径及相邻的全透光子区921之间的间距均小于曝光机的解像极限尺寸并大于掩膜板900制作图形极限尺寸，从而使得利用该掩膜板900对光阻层301进行曝光显影后得到的第一绝缘层300对应全透光区910形成开口310，且对应半透光区920部分的厚度小于对应遮光区930部分的厚度。

可选地，请参阅图12，在本发明的第四实施例中，所述多个全透光子区921的形状为六边形，多个全透光子区921相互间隔，进一步地，所述全透光子区921的内切直径及相邻的全透光子区921之间的间距均小于曝光机的解像极限尺寸并大于掩膜板900制作图形极限尺寸，从而使得利用该掩膜板900对光阻层301进行曝光显影后得到的第一绝缘层300对应全透光区910形成开口310，且对应半透光区920部分的厚度小于对应遮光区930部分的厚度。

需要说明的是，本发明的显示面板的绑定区结构的制作方法，采用具有全透光区910、半透光区920及遮光区930的掩膜板900对光阻层301进行曝光而得到第一绝缘层300，使第一绝缘层300对应间隔区120的部分的厚度小于对应周边绝缘区130的部分的厚度，从而使得第一绝缘层300对应间隔区120的部分的支撑力降低，进而在将COF与本发明制得的显示面板的绑定区结构绑定使COF与绑定接触图案210接触后，绑定接触图案210与COF的接触面积能够变得更大，因此即使为了实现高分辨率而缩小COF的线宽，由于第一绝缘层300的结构设置，因COF的线宽减小而产生的绑定接触图案210与COF的接触面积的缩小量会被降低，保证了绑定的可靠性，因而有助于显示面板向高分辨率方向发展，提升显示面板的产品品质。

基于同一发明构思，本发明还提供一种显示面板，包括上述的显示面板的绑定区结构，该显示面板可为AMOLED显示面板、液晶显示面板或其他需要设置绑定区的显示面板，在此不再对显示面板的绑定区结构进行重复描述。

需要说明的是，本发明的显示面板，其绑定区结构中第一绝缘层300对应间隔区120的部分的厚度小于对应周边绝缘区130的部分的厚度，从而使得第一绝缘层300对应间隔区120的部分的支撑力降低，进而在将COF与绑定区结构绑定使COF与绑定接触图案210接触后，绑定接触图案210与COF的接触面积能够变得更大，因此即使为了实现高分辨率而缩小COF的线宽，由于第一绝缘层300的结构设置，因COF的线宽减小而产生的绑定接触图案210与COF的接触面积的缩小量会被降低，保证了绑定的可靠性，因而有助于显示面板向高分辨率方向发展，提升显示面板的产品品质。

综上所述，本发明的显示面板的绑定区结构，包括基板、导体层以及第一绝缘层，基板上设有间隔设置的多个绑定接触区、间隔区以及周边绝缘区，导体层包括分别与多个绑定接触区对应的多个绑定接触图案，第一绝缘层对应多个绑定接触区设有多个开口，第一绝缘层对应间隔区的部分的厚度小于对应周边绝缘区的部分的厚度，以使第一绝缘层对应间隔区的部分的支撑力降低，从而在将COF与所述显示面板的绑定区结构绑定后，增大绑定接触图案与COF的接触面积，有助于显示面板向高分辨率方向发展，提升显示面板的产品品质。本发明的显示面板的绑定区结构的制作方法，制得的显示面板的绑定区结构能够在绑定时增大其绑定接触图案与COF的接触面积，提升显示面板的产品品质。本发明的显示面板，能够在绑定时增大绑定接触图案与COF的接触面积，提升显示面板的产品品质。

以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。

Claims (10)

1.一种显示面板的绑定区结构，其特征在于，包括基板(100)、设于基板(100)上方的导体层(200)以及设于导体层(200)及基板(100)上方的第一绝缘层(300)；

所述基板(100)上设有间隔设置的多个绑定接触区(110)、设于相邻的绑定接触区(110)之间的间隔区(120)以及设于多个绑定接触区(110)与间隔区(120)所在区域外侧的周边绝缘区(130)；

所述导体层(200)包括多个间隔的绑定接触图案(210)，所述多个绑定接触图案(210)分别与多个绑定接触区(110)对应；

所述第一绝缘层(300)对应多个绑定接触区(110)设有多个开口(310)，所述第一绝缘层(300)对应间隔区(120)的部分的厚度小于对应周边绝缘区(130)的部分的厚度。

2.如权利要求1所述的显示面板的绑定区结构，其特征在于，还包括设于基板(100)上的第二绝缘层(400)，所述导体层(200)设于第二绝缘层(400)上，所述第一绝缘层(300)设于导体层(200)及第二绝缘层(400)上。

3.如权利要求2所述的显示面板的绑定区结构，其特征在于，所述基板(100)为玻璃基板或玻璃基板与聚酰亚胺层的层叠结构；

所述第二绝缘层(400)的材料为氮化硅或氧化硅；

所述导体层(200)为钼层、两层钼层夹一层铝层、两层钛层夹一层铝层或两层氧化铟锡层夹一层银层；

所述第一绝缘层(300)的材料为光阻。

4.一种显示面板的绑定区结构的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤S1、提供一基板(100)；

所述基板(100)上设有间隔设置的多个绑定接触区(110)、设于相邻的绑定接触区(110)之间的间隔区(120)以及设于多个绑定接触区(110)与间隔区(120)所在区域外侧的周边绝缘区(130)；

步骤S2、在所述基板(100)上形成第二绝缘层(400)；

步骤S3、在第二绝缘层(400)上形成导体材料并进行图案化，得到导体层(200)；

所述导体层(200)包括多个间隔的绑定接触图案(210)，所述多个绑定接触图案(210)分别与多个绑定接触区(110)对应；

步骤S4、提供一掩膜板(900)；在所述导体层(200)及第二绝缘层(400)上涂布光阻层(301)，利用所述掩膜板(900)对所述光阻层(301)进行曝光及显影，形成第一绝缘层(300)；

所述第一绝缘层(300)对应多个绑定接触区(110)设有多个开口(310)，所述第一绝缘层(300)对应间隔区(120)的部分的厚度小于对应周边绝缘区(130)的部分的厚度。

5.如权利要求4所述的显示面板的绑定区结构的制作方法，其特征在于，

所述步骤S2中，利用化学气相沉积的方式在所述基板(100)上形成第二绝缘层(400)；

所述步骤S3中，利用物理气相沉积的方式在第二绝缘层(400)上形成导体材料。

6.如权利要求4所述的显示面板的绑定区结构的制作方法，其特征在于，所述光阻层(301)的材料为正性光阻；

所述掩膜板(900)包括：多个间隔的全透光区(910)、设于相邻的全透光区(910)之间的半透光区(920)以及设于全透光区(910)与半透光区(920)所在区域外侧的遮光区(930)。

7.如权利要求6所述的显示面板的绑定区结构的制作方法，其特征在于，所述半透光区(920)包括多个全透光子区(921)及除全透光子区(921)以外的遮光子区(922)。

8.如权利要求7所述的显示面板的绑定区结构的制作方法，其特征在于，所述多个全透光子区(921)的形状均为正方形，每一全透光子区(921)的四个顶点分别与另外四个全透光子区(921)各自的一个顶点连接，两个相连接的全透光子区(921)关于两者的连接点对称；或者，

所述多个全透光子区(921)的形状均为菱形，每一全透光子区(921)的四个顶点分别与另外四个全透光子区(921)各自的一个顶点连接，两个相连接的全透光子区(921)关于两者的连接点对称；或者，

所述多个全透光子区(921)的形状为圆形，多个全透光子区(921)相互间隔；或者，

所述多个全透光子区(921)的形状为六边形，多个全透光子区(921)相互间隔。

9.如权利要求8所述的显示面板的绑定区结构的制作方法，其特征在于，所述步骤S4中，利用所述掩膜板(900)对所述光阻层(301)进行曝光的具体地过程为：以所述掩膜板(900)为遮挡，利用一曝光机对所述光阻层(301)进行曝光；

当所述全透光子区(921)的形状为正方形时，所述全透光子区(921)的边长及相邻的全透光子区(921)之间的间距均小于曝光机的解像极限尺寸并大于掩膜板(900)制作图形极限尺寸；

当所述全透光子区(921)的形状为菱形时，所述全透光子区(921)的对角线长度小于均小于曝光机的解像极限尺寸并大于掩膜板(900)制作图形极限尺寸；

当所述全透光子区(921)的形状为圆形时，所述全透光子区(921)的直径及相邻的全透光子区(921)之间的间距均小于曝光机的解像极限尺寸并大于掩膜板(900)制作图形极限尺寸；

当所述全透光子区(921)的形状为六边形时，所述全透光子区(921)的内切直径及相邻的全透光子区(921)之间的间距均小于曝光机的解像极限尺寸并大于掩膜板(900)制作图形极限尺寸。

10.一种显示面板，其特征在于，包括如权利要求1至3任一项所述的显示面板的绑定区结构。

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