CN108227281A - 可拉伸显示装置及可拉伸显示装置制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明实施例提供一种可拉伸显示装置及可拉伸显示装置制备方法，该可拉伸显示装置包括各自独立成岛且相互电连接的多个像素模块；以及层叠设置在多个像素模块表面的多个功能膜层单元，其中的每个功能膜层单元对应覆盖一个像素模块的表面。本发明实施例提供的可拉伸显示装置通过设定每个功能膜层单元对应覆盖一个像素模块的方式，实现了在不影响可拉伸显示装置的可伸缩性能或可弯折性能的基础上提升可拉伸显示装置的其他性能(比如显示性能或封装性能)的目的。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种可拉伸显示装置及可拉伸显示装置制备方法。
背景技术
随着电子显示技术的不断发展，用户对电子设备显示装置的要求越来越高，而作为电子设备显示装置重要发展方向之一的可拉伸显示装置，也逐渐受到了越来越多的关注。图1所示为现有技术中可拉伸显示装置的俯视结构示意图。如图1所示，现有技术中的可拉伸显示装置包括可拉伸基底膜1和设置于可拉伸基底膜1上的若干条交叉排布的走线3，以及包括设置于走线3的交叉点处的若干像素模块2，也就是说，各像素模块2借助于走线3实现相互连接。现有可拉伸显示装置借助于相邻像素模块2之间的间隙实现可拉伸显示装置的可伸缩、可弯折等特性。
实际生产制造过程中，为了优化可拉伸显示装置的显示性能，常常需要在现有可拉伸显示装置中增加一些功能膜层单元。然而，增加的功能膜层单元会影响可拉伸显示装置的可伸缩或可弯折特性。
发明内容
有鉴于此，本发明实施例提供一种可拉伸显示装置及可拉伸显示装置制备方法，以解决在现有可拉伸显示装置中增加功能膜层单元会影响可拉伸显示装置的可伸缩或可弯折特性的问题。
第一方面，本发明一实施例提供一种可拉伸显示装置，包括各自独立成岛且相互电连接的多个像素模块；以及层叠设置在多个像素模块表面的多个功能膜层单元，其中的每个功能膜层单元对应覆盖一个像素模块的表面。
在本发明一实施例中，功能膜层单元包括偏光层和/或封装层和/或硬化层。
在本发明一实施例中，功能膜层单元为偏光层，偏光层包括层叠设置的1/4λ玻片层和水相液晶层。
在本发明一实施例中，功能膜层单元为偏光层，偏光层包括层叠设置的1/4λ玻片层和聚乙烯醇层。
在本发明一实施例中，像素模块显示一个子像素。
在本发明一实施例中，该可拉伸显示装置进一步包括可拉伸基底膜，多个像素模块层叠在可拉伸基底膜表面。
第二方面，本发明另一实施例提供还一种可拉伸显示装置制备方法，包括制备或提供各自独立成岛且相互电连接的多个像素模块；在多个像素模块的表面制备功能膜层单元；以及沿着多个像素模块之间的间隙，将功能膜层单元刻蚀为分别对应覆盖多个像素模块的多个功能膜层单元。
在本发明一实施例中，利用曝光刻蚀工艺将功能膜层单元刻蚀为分别对应覆盖多个像素模块的多个功能膜层单元。
在本发明一实施例中，功能膜层单元包括偏光层和/或封装层和/或硬化层。
本发明实施例提供的可拉伸显示装置通过设定每个功能膜层单元对应覆盖一个像素模块的方式，实现了在不影响可拉伸显示装置的可伸缩性能或可弯折性能的基础上提升可拉伸显示装置的其他性能(比如显示性能或封装性能)的目的。
附图说明
图1所示为现有技术中可拉伸显示装置的俯视结构示意图。
图2所示为本发明第一实施例提供的可拉伸显示装置的俯视结构示意图。
图3所示为本发明第二实施例提供的可拉伸显示装置制备方法的流程示意图。
图4所示为本发明第二实施例提供的可拉伸显示装置制备方法的在待制备膜层上设置光刻胶层，并基于图形化的基底对光刻胶层进行曝光显影操作步骤的详细流程示意图。
图5a至图5f所示为本发明第三实施例提供的可拉伸显示装置在运用可拉伸显示装置制备方法制备偏光层时的主要状态主视结构示意图。
图6a至图6j所示为本发明第四实施例提供的可拉伸显示装置在运用可拉伸显示装置制备方法制备偏光层时的主要状态主视结构示意图。
图7所示为本发明第五实施例提供的可拉伸显示装置制备方法的流程示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
图2所示为本发明第一实施例提供的可拉伸显示装置的俯视结构示意图。如图2所示，本发明第一实施例提供的可拉伸显示装置包括可拉伸基底膜1以及设置于可拉伸基底膜1上的各自独立成岛的多个像素模块2(即各像素模块2相互独立，相邻像素模块2之间存在间隙)，其中，各像素模块2之间利用多条交叉排布的走线3实现相互连接。此外，在各像素模块2的上方层叠设置采用曝光刻蚀的可拉伸显示装置制备方法制备而成的功能膜层单元4。
应当理解，曝光刻蚀的可拉伸显示装置制备方法即为通过利用曝光显影操作和刻蚀操作制备膜层的可拉伸显示装置制备方法。
此外，应当理解，功能膜层单元4包括但不限于为偏光层和/或封装层和/或硬化层等功能膜层单元，本发明实施例对此不作统一限定。
本发明第一实施例提供的可拉伸显示装置通过利用曝光刻蚀的可拉伸显示装置制备方法在设置有各自独立成岛的像素模块的可拉伸基底膜上制备功能膜层单元的方式，实现了在不影响可拉伸显示装置的可伸缩性能的基础上提升可拉伸显示装置的其他性能(比如显示性能或封装性能)的目的。
应当理解，图形化的基底为具有多个凸起部的基底，且凸起部之间存在间隙。
此外，应当理解，在本发明实施例中，可拉伸基底膜1以及层叠设置到可拉伸基底膜1上的各自独立成岛的像素模块2即构成了图形化的基底，该图形化的基底借助相邻像素模块2之间的间隙实现图形化的基底的伸缩或弯折应力释放，从而实现该图形化的基底的可伸缩或可弯折特性。其中，相邻像素模块2之间的间隙的具体尺寸可根据像素模块2的密度、可拉伸基底膜1尺寸以及可拉伸基底膜1伸缩量等因素进行设定。
在本发明一实施例中，相邻像素模块2之间的间隙的具体尺寸计算方法如下：
首先设定对角线长度为1英寸的矩形显示区域(即可拉伸基底膜1区域)内像素模块2数量为m*n(m为长度方向像素模块2数量，n为宽度方向像素模块2数量)，然后设定单个像素模块2的尺寸为X*Y(X为长度方向尺寸，Y为宽度方向尺寸)，最后通过上述数据计算相邻像素模块2之间的间隙的具体尺寸L*W(L为长度方向尺寸，W为宽度方向尺寸)，其具体计算公式为：
注意，亦可采用电铸或激光微雕等加工方式基于图形化的基底针对于功能膜层单元4进行刻蚀等操作，以充分提高本发明实施例提供的可拉伸显示装置的适应能力和应用广泛性，本发明实施例对此不再详细叙述。
图3所示为本发明第二实施例提供的可拉伸显示装置制备方法的流程示意图。如图3所示，本发明第二实施例提供的可拉伸显示装置制备方法包括：
步骤10：将待制备膜层层叠设置到图形化的基底上。
应当理解，待制备膜层包括但不限于为偏光层和/或封装层和/或硬化层等功能膜层单元，本发明实施例对此不作统一限定。
步骤20：在待制备膜层上设置光刻胶层，并基于图形化的基底对光刻胶层进行曝光显影操作。
图4所示为本发明第二实施例提供的可拉伸显示装置制备方法的在待制备膜层上设置光刻胶层，并基于图形化的基底对光刻胶层进行曝光显影操作步骤的详细流程示意图。如图4所示，本发明第二实施例中的步骤20包括：
步骤21：在待制备膜层上涂覆光刻胶以形成光刻胶层。
步骤22：基于图形化的基底对光刻胶层的待去除区域进行遮蔽或反遮蔽操作。
应当理解，按照响应紫外光的特性可将光刻胶分为正胶(Positive PhotoResisit)和负胶(Negative Photo Resisit)。其中，正胶响应紫外光的特性为：在曝光前对显影液不可溶，而曝光后对显影液可溶，因此利用正胶能够得到与掩模板遮蔽区相同的图形；负胶响应紫外光的特性刚好与正胶相反，具体为：在曝光前对显影液可溶，而曝光后对显影液不可溶，因此利用负胶能够得到与掩模板非遮蔽区相同的图形。
在本发明实施例的步骤22中，当所采用的光刻胶为正胶时，基于图形化的基底对光刻胶层的待去除区域进行反遮蔽操作；当所采用的光刻胶为负胶时，基于图形化的基底对光刻胶层的待去除区域进行遮蔽操作。
此外，应当理解，光刻胶层的待去除区域的确定可根据实际的图形化的基底情况以及实际需求进行自行设定，以充分提高本发明实施例提供的可拉伸显示装置制备方法的适应能力和应用广泛性，本发明实施例对此不作统一限定。
在本发明一实施例中，图形化的基底包括可拉伸基底膜以及层叠设置到该可拉伸基底膜上的各自独立成岛的像素模块，并且设定光刻胶层的待去除区域为光刻胶层覆盖各独立成岛的像素模块之间的间隙的区域。本发明实施例将光刻胶层的待去除区域设定为光刻胶层覆盖各独立成岛的像素模块之间的间隙的区域以便为后续的基于待制备膜层的刻蚀操作提供前提条件。
步骤23：对光刻胶层进行曝光显影操作。
应当理解，步骤21至步骤23给出了步骤20中记载的“在待制备膜层上设置光刻胶层，并基于图形化的基底对光刻胶层进行曝光显影操作”步骤的详细实现过程，从而为本发明实施例提供的可拉伸显示装置制备方法的具体实现提供了有力支持。
步骤30：借助曝光显影后的光刻胶层对待制备膜层进行刻蚀操作。
应当理解，步骤20已实现将光刻胶层的待去除区域采用曝光显影的方法去除，因此，步骤30中所提及的对待制备膜层进行刻蚀操作是在光刻胶层的已去除区域基础上所实现的。
此外，应当理解，刻蚀操作所采用的刻蚀溶液包括但不限于为二氯甲烷溶液或纯水等刻蚀溶液，其他能够满足刻蚀操作需求的溶液均可以作为本发明实施例的刻蚀溶液，本发明实施例对此不再一一赘述。
步骤40：在刻蚀操作完成后除去光刻胶层。
实际应用过程中，首先将待制备膜层层叠设置到图形化的基底上，然后在待制备膜层上涂覆光刻胶层，并基于图形化的基底对光刻胶层进行曝光显影操作，最后借助曝光显影后的光刻胶层对待制备膜层进行刻蚀操作并在刻蚀操作完成后除去剩余的光刻胶层。
本发明第二实施例提供的可拉伸显示装置制备方法通过在层叠设置到图形化的基底的待制备膜层上涂覆光刻胶层，并基于图形化的基底对光刻胶层进行曝光显影操作以及基于光刻胶层对待制备膜层进行刻蚀操作的方式，实现了待制备膜层与图形化的基底的形状适配，当图形化的基底具备可伸缩或可弯折特性时，利用本发明实施例提供的可拉伸显示装置制备方法能够防止所制备的不具备可伸缩或可弯折特性的功能膜层单元对图形化的基底的可伸缩或可弯折特性产生影响。
图5a至图5f所示为本发明第三实施例提供的可拉伸显示装置在运用可拉伸显示装置制备方法制备偏光层时的主要状态主视结构示意图。如图5a所示，首先在图形化的基底(图形化的基底包括可拉伸基底膜1以及设置于可拉伸基底膜1上方的各自独立成岛的多个像素模块2，以及用于使各自独立成岛的像素模块2相互连接的走线3)上方(即可拉伸基底膜1设置有像素模块2的一侧)层叠设置一1/4λ玻片层41，并在1/4λ玻片层41的上方层叠设置一与1/4λ玻片层41相邻的聚乙烯醇(PVA)层42；如图5b所示，在PVA层42的上方(即PVA层42未与1/4λ玻片层41相邻的一侧)涂覆一光刻胶层5；如图5c所示，利用曝光显影操作基于图形化的基底对光刻胶层5需要去除的部分进行去除；如图5d所示，借助光刻胶层5的已去除部分对PVA层42进行刻蚀操作；如图5e所示，在PVA层42的刻蚀操作操作完成后，继续借助光刻胶层5的已去除部分对1/4λ玻片层41进行刻蚀操作；如图5f所示，在1/4λ玻片层41的刻蚀操作完成后去除光刻胶层5的剩余部分。
应当理解，本发明第三实施例利用层叠设置的1/4λ玻片层41和PVA层42来实现偏光层(即功能膜层单元4)的功能。
在本发明第三实施例提供的可拉伸显示装置的功能膜层单元4的实际制备过程中，首先在图形化的基底(图形化的基底包括可拉伸基底膜1以及设置于可拉伸基底膜1上方的各自独立成岛的多个像素模块2，以及用于使各自独立成岛的像素模块2相互连接的走线3)上方(即可拉伸基底膜1设置有像素模块2的一侧)层叠设置一1/4λ玻片层41，在1/4λ玻片层41的上方层叠设置一与1/4λ玻片层41相邻的PVA层42，然后在PVA层42的上方(即PVA层42未与1/4λ玻片层41相邻的一侧)涂覆一光刻胶层5，并利用曝光显影操作基于图形化的基底对光刻胶层5需要去除的部分进行去除，最后借助光刻胶层5的已去除部分对PVA层42和1/4λ玻片层41分别进行刻蚀操作，并在刻蚀操作完成后去除光刻胶层5的剩余部分。
应当理解，本发明实施例在曝光显影操作过程中，光刻胶层5需要去除的部分为光刻胶层5与各像素模块2之间的间隙在层叠方向上垂直对应的部分，以便为后续1/4λ玻片层41以及PVA层42的刻蚀操作提供前提条件。
在本发明一实施例中，1/4λ玻片层41的刻蚀操作采用二氯甲烷溶液进行，PVA层42的刻蚀操作采用纯水进行，以便实现更好地刻蚀效果。
本发明第三实施例提供的可拉伸显示装置制备方法通过借助曝光显影以及刻蚀等操作以在可拉伸显示装置的图形化的基底上制备与图形化的基底相适配的偏光层的方式，实现了在不影响可拉伸显示装置的可伸缩性能的同时提高可拉伸显示装置的显示效果的目的。
在本发明一实施例中，偏光层还包括与PVA层42相邻且层叠设置到PVA层42上的保护层(图中未示出)，本发明实施例通过设置保护层以充分提高偏光层的稳定性。
实际制备过程中，首先依次层叠设置1/4λ玻片层41、PVA层42和保护层到图形化的基底上方(即可拉伸基底膜1设置有像素模块2的一侧)，在层叠设置完成后涂覆光刻胶层5并针对光刻胶层5进行曝光显影操作，在曝光显影操作完成后分别依次刻蚀保护层、PVA层42和1/4λ玻片层41，并在所有刻蚀操作完成后去除光刻胶层5的剩余部分。
应当理解，保护层包括但不限于为三醋酸纤维素(TAC)层等对偏光层的其他膜层起到保护作用的膜层。
在本发明一实施例中，三醋酸纤维素(TAC)层的刻蚀操作采用二氯甲烷溶液进行，以便实现更好地刻蚀效果。
图6a至图6j所示为本发明第四实施例提供的可拉伸显示装置在运用可拉伸显示装置制备方法制备偏光层时的主要状态主视结构示意图。如图6a所示，首先在图形化的基底上方(即可拉伸基底膜1设置有像素模块2的一侧)层叠设置一1/4λ玻片层41；如图6b所示，在1/4λ玻片层41的上方层叠设置一光刻胶层5；如图6c所示，基于图形化的基底对光刻胶层5进行曝光显影操作；如图6d所示，基于曝光显影后的光刻胶层5对1/4λ玻片层41进行刻蚀操作；如图6e所示，1/4λ玻片层41的刻蚀操作完成后去除光刻胶层5的剩余部分；如图6f所示，在完全去除光刻胶层5的可拉伸显示装置的上方(即1/4λ玻片层41的上方)层叠设置一水相液晶层(Lyotropic Liquid Crystal)43；如图6g所示，在水相液晶层43的上方层叠设置另一光刻胶层51；如图6h所示，基于图形化的基底对涂覆的光刻胶层51进行曝光显影操作；如图6i所示，基于曝光显影后的光刻胶层51对水相液晶层43进行刻蚀操作；如图6j所示，在水相液晶层43的刻蚀操作完成后去除光刻胶层51的剩余部分。
应当理解，本发明第四实施例提供的可拉伸显示装置的功能膜层单元4为偏光层，该偏光层包括层叠设置的1/4λ玻片层41和水相液晶层43。
在本发明第四实施例提供的可拉伸显示装置的功能膜层单元4的实际制备过程中，首先在图形化的基底上方(即可拉伸基底膜1设置有像素模块2的一侧)层叠设置一1/4λ玻片层41，并在1/4λ玻片层41的上方层叠设置一光刻胶层5，针对光刻胶层5进行曝光显影操作后对1/4λ玻片层41进行刻蚀操作，刻蚀操作完成后去除该光刻胶层5的剩余部分；然后在制备完1/4λ玻片层41的可拉伸显示装置的上方层叠设置一水相液晶层43，并在该水相液晶层43的上方层叠设置另一光刻胶层51，同样针对该光刻胶层51进行曝光显影操作后对水相液晶层43进行刻蚀操作，并在刻蚀操作完成后去除该光刻胶层51的剩余部分。也就是说，1/4λ玻片层41和水相液晶层43的涂覆光刻胶以进行的曝光显影操作以及针对自身的刻蚀操作分别独立进行。
在本发明实施例中，1/4λ玻片层41的刻蚀操作亦采用二氯甲烷溶液进行，以便实现更好地刻蚀效果。
本发明第四实施例提供的可拉伸显示装置制备方法通过将待制备膜层中的各子膜层分别涂覆光刻胶层以进行曝光显影操作及刻蚀操作的方式，有效提高了膜层制备的良率。
此外，应当理解，其他能够实现偏光层的功能的膜层组合结构亦可利用本发明上述实施例所提供的可拉伸显示装置制备方法进行制备，本发明实施例在此不再详细赘述。
在本发明一实施例中，每一像素模块显示一个子像素。
图7所示为本发明第五实施例提供的可拉伸显示装置制备方法的流程示意图。如图7所示，在本发明第五实施例中，可拉伸显示装置制备方法包括：
步骤S1：制备或提供各自独立成岛且相互电连接的多个像素模块。
步骤S2：在多个像素模块的表面制备功能膜层单元。
步骤S3：沿着多个像素模块之间的间隙，将功能膜层单元刻蚀为分别对应覆盖多个像素模块的多个功能膜层单元。
在本发明另一实施例中，利用曝光刻蚀工艺将功能膜层单元刻蚀为分别对应覆盖多个像素模块的多个功能膜层单元。
在本发明一实施例中，还提供一种具备可拉伸显示装置的电子设备，该电子设备的可拉伸显示装置的功能膜层单元采用上述任一实施例所提供的可拉伸显示装置制备方法进行制备。其中，该电子设备包括但不限于为手机、平板电脑、显示器等电子设备。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种可拉伸显示装置，其特征在于，包括：
各自独立成岛且相互电连接的多个像素模块；以及
层叠设置在所述多个像素模块表面的多个功能膜层单元，其中的每个所述功能膜层单元对应覆盖一个所述像素模块的表面。
2.如权利要求1所述的可拉伸显示装置，其特征在于，所述功能膜层单元包括偏光层和/或封装层和/或硬化层。
3.如权利要求1所述的可拉伸显示装置，其特征在于，所述功能膜层单元为偏光层，所述偏光层包括层叠设置的1/4λ玻片层和水相液晶层。
4.如权利要求1所述的可拉伸显示装置，其特征在于，所述功能膜层单元为偏光层，所述偏光层包括层叠设置的1/4λ玻片层和聚乙烯醇层。
5.如权利要求4所述的可拉伸显示装置，其特征在于，所述偏光层进一步包括层叠设置在所述聚乙烯醇层表面的保护层。
6.如权利要求1所述的可拉伸显示装置，其特征在于，所述像素模块显示一个子像素。
7.如权利要求1所述的可拉伸显示装置，其特征在于，进一步包括：
可拉伸基底膜，所述多个像素模块层叠在所述可拉伸基底膜表面。
8.一种可拉伸显示装置制备方法，其特征在于，包括：
制备或提供各自独立成岛且相互电连接的多个像素模块；
在所述多个像素模块的表面制备功能膜层单元；以及
沿着所述多个像素模块之间的间隙，将所述功能膜层单元刻蚀为分别对应覆盖所述多个像素模块的多个功能膜层单元。
9.如权利要求8所述的可拉伸显示装置，其特征在于，利用曝光刻蚀工艺将所述功能膜层单元刻蚀为分别对应覆盖所述多个像素模块的所述多个功能膜层单元。
10.如权利要求8所述的可拉伸显示装置，其特征在于，所述功能膜层单元包括偏光层和/或封装层和/或硬化层。
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