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CN107591247A - 一种低接触电阻低压铝电解电容器用电极箔腐蚀方法 - Google Patents

一种低接触电阻低压铝电解电容器用电极箔腐蚀方法 Download PDF

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严季新
陈健
王建中
赵宇飞
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NANHAI HAIXING ELECTRONIC Co Ltd
Nantong Haixing Electronics LLC
Nantong Haiyi Electronics Co Ltd
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NANHAI HAIXING ELECTRONIC Co Ltd
Nantong Haiyi Electronics Co Ltd
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Abstract

本发明公开了一种低接触电阻低压铝电解电容器用电极箔腐蚀方法,包括以下步骤:用氢氧化钠溶液浸泡前处理;盐酸、硫酸溶液加电腐蚀10~85秒,盐酸、硫酸溶液浸泡10~85秒,自来水清洗,重复腐蚀、浸泡及清洗步骤4次;在盐酸、硫酸及磷酸腐蚀液中进行扩孔加电腐蚀10~85秒,盐酸、硫酸及磷酸溶液浸泡10~85秒,自来水清洗,重复腐蚀、浸泡及清洗步骤8次;采用盐酸溶液浸泡、硝酸溶液浸泡,纯水清洗后退火处理。本发明采用多级发孔多级低频扩孔控制腐蚀形貌,并对应进行多步槽液中处理及温水清洗,使腐蚀过程的铝粉及杂质离子得到充分清洗,最终得到残芯层厚度均匀、腐蚀层铝含量适中、铝粉及杂质离子含量低的低接触电阻低压铝电解电容器用电极箔,化成后接触电阻可降低40%以上。

Description

一种低接触电阻低压铝电解电容器用电极箔腐蚀方法
技术领域
本发明涉及一种电容器用低压阳极箔的电化学腐蚀方法。
背景技术
目前,铝电解电容器用低压腐蚀箔变频腐蚀方法为:①酸液前处理;②发孔腐蚀;③扩孔腐蚀;④后处理、清洗及退火。腐蚀过程使用电源频率为工频(50Hz),腐蚀后,残芯层厚度不均,腐蚀层腐蚀量较大,腐蚀铝粉未得到充分清洗,导致化成后电极箔接触电阻大;此外,清洗效果不佳,亦会导致残留杂质离子,影响电极箔漏电流及铝电解电容器的使用寿命。
发明内容
本发明的目的是为了克服以上的不足,提供一种清洗效果好,杂质离子少,接触电阻低,使用寿命长的电容器用低压阳极箔的电化学腐蚀方法。
本发明的目的通过以下技术方案来实现:一种低接触电阻低压铝电解电容器用电极箔腐蚀方法,包括以下步骤:
(a)采用0.01~5wt%的氢氧化钠溶液,在20~60℃温度下浸泡电解电容器低压阳极箔0.5~3分钟;
(b)步骤(a)得到的阳极箔采用6~12wt%盐酸、0.05~1wt%硫酸,在温度为5~50℃、电流密度为0.1~1A/cm²条件下作用10~85秒;
(c)步骤(b)得到的阳极箔采用6~12wt%盐酸、0.05~1wt%硫酸,在温度为5~50℃条件下作用10~85秒;
(d)步骤(c)得到的阳极箔采用温度为40~60℃的自来水清洗10~85秒;
(e)重复步骤(b)、(c、)(d)4次;
(f)步骤(e)处理得到的阳极箔在6~12wt%盐酸、0.05~1wt%硫酸、0.01~1wt%磷酸腐蚀液中进行扩孔腐蚀,电流密度为0.1~1A/cm²,温度为10~45℃,按正弦波变化的5~35Hz电源频率进行低频腐蚀10~85秒;
(g)步骤(f)处理得到的阳极箔采用6~12wt%盐酸、0.05~1wt%硫酸、0.01~1wt%磷酸,在温度为10~45℃条件下作用10~85秒;
(h)步骤(g)得到的阳极箔采用温度为40~60℃的自来水清洗10~85秒;
(i)重复步骤(f)、(g)、(h)8次;
(j)采用2~6wt%的盐酸溶液,温度为20~80℃下浸泡30~180秒;
(k)采用0.1~4wt%的硝酸溶液,温度为20~80℃下浸泡30~180秒;
(l)采用纯水清洗30~180秒后,在400~460℃温度下退火处理20~180秒。
本发明与现有技术相比具有以下优点:
碱液前处理,发孔及扩孔过程分步进行,并在每一步后增加槽液中处理及温水清洗流程,扩孔过程中,通过控制电源频率,获得均匀残芯层腐蚀形貌,得到一种低接触电阻的低频腐蚀方法。
附图说明:
图1为对比例电极箔截面形貌图;
图2为本发明电极箔截面形貌图:
具体实施方式:
下面结合具体实施例及附图对本发明作进一步的阐述,但本发明并不限于以下实施例。所述方法无特别说明的均为常规方法。
实施例1
(a)将电解电容器低压阳极光箔置于0.01wt%的氢氧化钠溶液,在40℃温度下浸泡3分钟;
(b)步骤(a)得到的阳极箔采用6wt%盐酸、0.1wt%硫酸,在温度为30℃、电流密度为0.3A/cm²条件下作用20秒;
(c)步骤(b)得到的阳极箔采用6wt%盐酸、0.1wt%硫酸,在温度为30℃条件下作用20秒;
(d)步骤(c)得到的阳极箔采用温度为40℃的自来水清洗30秒;
(e)重复步骤(b)、(c)、(d)4次;
(f)步骤(e)处理得到的阳极箔在6wt%盐酸、0.1wt%硫酸、0.01wt%磷酸腐蚀液中进行扩孔腐蚀,电流密度为0.1A/cm²,温度为30℃,按正弦波变化的5~35Hz频率由低到高进行低频腐蚀20秒;
(g)步骤(f)处理得到的阳极箔采用6wt%盐酸、0.1wt%硫酸、0.01wt%磷酸,在温度为30℃条件下作用20秒;
(h)步骤(g)得到的阳极箔采用温度为40℃的自来水清洗30秒;
(i)重复步骤(f)、(g)、(h)8次;
(j)采用2wt%的盐酸溶液,温度为50℃下浸泡30秒;
(k)采用0.1wt%的硝酸溶液,温度为50℃下浸泡30秒;
(l)采用纯水清洗60秒后,在420℃温度下退火处理150秒。
实施例2
(a)将电解电容器低压阳极光箔置于0.5wt%的氢氧化钠溶液,在50℃温度下浸泡2分钟;
(b)步骤(a)得到的阳极箔采用8wt%盐酸、0.3wt%硫酸,在温度为40℃、电流密度为0.5A/cm²条件下作用40秒;
(c)步骤(b)得到的阳极箔采用8wt%盐酸、0.3wt%硫酸,在温度为40℃条件下作用40秒;
(d)步骤(c)得到的阳极箔采用温度为45℃的自来水清洗40秒;
(e)重复步骤(b)、(c)、(d)4次;
(f)步骤(e)处理得到的阳极箔在8wt%盐酸、0.3wt%硫酸、0.1wt%磷酸腐蚀液中进行扩孔腐蚀,电流密度为0.3A/cm²,温度为35℃,按正弦波变化的5~35Hz频率由低到高进行低频腐蚀40秒;
(g)步骤(f)处理得到的阳极箔采用8wt%盐酸、0.3wt%硫酸、0.1wt%磷酸,在温度为35℃条件下作用40秒;
(h)步骤(g)得到的阳极箔采用温度为45℃的自来水清洗40秒;
(i)重复步骤(f)、(g)、(h)8次;
(j)采用3wt%的盐酸溶液,温度为60℃下浸泡60秒;
(k)采用1wt%的硝酸溶液,温度为60℃下浸泡60秒;
(l)采用纯水清洗90秒后,在430℃温度下退火处理120秒。
实施例3
(a)将电解电容器低压阳极光箔置于2wt%的氢氧化钠溶液,在55℃温度下浸泡1分钟;
(b)步骤(a)得到的阳极箔采用10wt%盐酸、0.5wt%硫酸,在温度为45℃、电流密度为0.7A/cm²条件下作用60秒;
(c)步骤(b)得到的阳极箔采用10wt%盐酸、0.5wt%硫酸,在温度为45℃条件下作用60秒;
(d)步骤(c)得到的阳极箔采用温度为50℃的自来水清洗60秒;
(e)重复步骤(b)、(c)、(d)4次;
(f)步骤(e)处理得到的阳极箔在10wt%盐酸、0.5wt%硫酸、0.5wt%磷酸腐蚀液中进行扩孔腐蚀,电流密度为0.4A/cm²,温度为40℃,按正弦波变化的5~35Hz频率由低到高进行低频腐蚀60秒;
(g)步骤(f)处理得到的阳极箔采用10wt%盐酸、0.5wt%硫酸、0.5wt%磷酸,在温度为40℃条件下作用60秒;
(h)步骤(g)得到的阳极箔采用温度为50℃的自来水清洗60秒;
(i)重复步骤(f)、(g)、(h)8次;
(j)采用4wt%的盐酸溶液,温度为70℃下浸泡90秒;
(k)采用2wt%的硝酸溶液,温度为70℃下浸泡90秒;
(l)采用纯水清洗120秒后,在440℃温度下退火处理90秒。
实施例4
(a)采用4wt%的氢氧化钠溶液,在60℃温度下浸泡电解电容器低压阳极箔0.5分钟;
(b)步骤(a)得到的阳极箔采用12wt%盐酸、0.8wt%硫酸,在温度为50℃、电流密度为0.9A/cm²条件下作用80秒;
(c)步骤(b)得到的阳极箔采用12wt%盐酸、0.8wt%硫酸,在温度为50℃条件下作用80秒;
(d)步骤(c)得到的阳极箔采用温度为55℃的自来水清洗40秒;
(e)重复步骤(b)、(c)、(d)4次;
(f)步骤(e)处理得到的阳极箔在12wt%盐酸、0.8wt%硫酸、0.8wt%磷酸腐蚀液中进行扩孔腐蚀,电流密度为0.5A/cm²,温度为45℃,按正弦波变化的5~35Hz频率由低到高进行低频腐蚀80秒;
(g)步骤(f)处理得到的阳极箔采用12wt%盐酸、0.8wt%硫酸、0.8wt%磷酸,在温度为45℃条件下作用80秒;
(h)步骤(g)得到的阳极箔采用温度为80℃的自来水清洗40秒;
(i)重复步骤(f)、(g)、(h)8次;
(j)采用5wt%的盐酸溶液,温度为80℃下浸泡120秒;
(k)采用3wt%的硝酸溶液,温度为55℃下浸泡120秒;
(l)采用纯水清洗150秒后,在450℃温度下退火处理60秒。
对比例(现有腐蚀工艺)
(a)采用0.05wt%的磷酸溶液,在60℃温度下浸泡电解电容器低压阳极箔1分钟;
(b)步骤(a)得到的阳极箔采用8wt%盐酸、0.5wt%硫酸,在温度为50℃、电流密度为0.3A/cm²条件下作用3分钟;
(c)步骤(b)处理得到的阳极箔在8wt%盐酸、0.5wt%硫酸腐蚀液中进行扩孔腐蚀,电流密度为0.3A/cm²,温度为50℃,按正弦波变化的50Hz电源频率进行电化学腐蚀4分钟;
(d)步骤(c)处理得到的阳极箔采用1wt%的硝酸溶液,温度为70℃下浸泡60秒;
(e)采用纯水清洗60秒后,在420℃温度下退火处理60秒。
本发明腐蚀电极箔与现有工艺的腐蚀电极箔生产线化成后,对比数据结果如下(化成条件:己二酸铵槽液,Vfe=21V):
从对比结果可以看出,采用本发明腐蚀工艺产出的腐蚀电极箔化成后接触电阻显著降低,对比现有腐蚀工艺,降低超过40%。
本发明通过在碱液前处理,发孔及扩孔过程分步进行,并在每一步后增加槽液中处理及温水清洗流程,扩孔过程中,通过控制电源频率,获得均匀残芯层腐蚀形貌。
申请人又一声明,本发明通过上述实施例来说明本发明的实现方法及装置结构,但本发明并不局限于上述实施方式,即不意味着本发明必须依赖上述方法及结构才能实施。所属技术领域的技术人员应该明了,对本发明的任何改进,对本发明所选用实现方法等效替换及步骤的添加、具体方式的选择等,均落在本发明的保护范围和公开的范围之内。
本发明并不限于上述实施方式,凡采用和本发明相似结构及其方法来实现本发明目的的所有方式,均在本发明的保护范围之内。

Claims (1)

1.一种低接触电阻低压铝电解电容器用电极箔腐蚀方法,其特征在于:包括以下步骤:
(a)采用0.01~5wt%的氢氧化钠溶液,在20~60℃温度下浸泡电解电容器低压阳极箔0.5~3分钟;
(b)步骤(a)得到的阳极箔采用6~12wt%盐酸、0.05~1wt%硫酸,在温度为5~50℃、电流密度为0.1~1A/cm²条件下作用10~85秒;
(c)步骤(b)得到的阳极箔采用6~12wt%盐酸、0.05~1wt%硫酸,在温度为5~50℃条件下作用10~85秒;
(d)步骤(c)得到的阳极箔采用温度为40~60℃的自来水清洗10~85秒;
(e)重复步骤(b)、(c、)、(d)4次;
(f)步骤(e)处理得到的阳极箔在6~12wt%盐酸、0.05~1wt%硫酸、0.01~1wt%磷酸腐蚀液中进行扩孔腐蚀,电流密度为0.1~1A/cm²,温度为10~45℃,按正弦波变化的5~35Hz电源频率进行低频腐蚀10~85秒;
(g)步骤(f)处理得到的阳极箔采用6~12wt%盐酸、0.05~1wt%硫酸、0.01~1wt%磷酸,在温度为10~45℃条件下作用10~85秒;
(h)步骤(g)得到的阳极箔采用温度为40~60℃的自来水清洗10~85秒;
(i)重复步骤(f)、(g)、(h)8次;
(j)采用2~6wt%的盐酸溶液,温度为20~80℃下浸泡30~180秒;
(k)采用0.1~4wt%的硝酸溶液,温度为20~80℃下浸泡30~180秒;
(l)采用纯水清洗30~180秒后,在400~460℃温度下退火处理20~180秒。
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