CN107500376B - 一种污水处理设备 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种污水处理设备，包括固定安装在机体上的污水箱、安装在地面中的待检箱以及通管，通管中上端固定设置有第一密闭板，第一密闭板左下端设置有凸出部，凸出部中设置有第一弯沟槽，第一弯沟槽的顶部口部向上并固定安装有与污水箱底部连接的柔性管，柔性管与第一弯沟槽的顶部相接处以及与所述污水箱底部相接处分别设有密闭圈，第一弯沟槽的末梢口部朝右，通管中还设置有位于凸出部下方的隔阻板，隔阻板将通管内部下端阻隔成过水仓和污水仓，污水仓中可上下平滑地安装有第二密闭板。
Description
技术领域
本发明涉及污水处理领域，具体地说是一种污水处理设备。
背景技术
在一些污水处理厂内一般都会设有污水处理系统，而对于污水定期抽样检测是污水治理中的重要环节，然而现有的污水处理装置设置模式过于简单，不能对待检测的污水进行区分存储，同时在对污水箱洗刷时易将洗刷水与污水混合，因此，大大降低了污水浓度，给检测增加难度，同时也直接造成了检测成本的提高。
发明内容
针对上述技术的不足，本发明提出了一种污水处理设备。
本发明的 一种污水处理设备，包括固定安装在机体上的污水箱、安装在地面中的待检箱以及通管，所述通管中上端固定设置有第一密闭板，所述第一密闭板左下端设置有凸出部，所述凸出部中设置有第一弯沟槽，所述第一弯沟槽的顶部口部向上并固定安装有与所述污水箱底部连接的柔性管，所述柔性管与所述第一弯沟槽的顶部相接处以及与所述污水箱底部相接处分别设有密闭圈，从而可增加连接处的密闭性，可防止漏水现象的发生，所述第一弯沟槽的末梢口部朝右，所述通管中还设置有位于所述凸出部下方的隔阻板，所述隔阻板将所述通管内部下端阻隔成过水仓和污水仓，所述污水仓中可上下平滑地安装有第二密闭板，所述第二密闭板中设置有第二弯沟槽，所述第二弯沟槽的末梢口部朝左，所述第二弯沟槽的顶部口部朝下，所述过水仓底部设置有互通净化设备的净化管，所述污水仓底部设置有排送管，所述排送管与所述待检箱互通，所述第二密闭板上端面中设置有磁石，所述第一密闭板邻近所述磁石端面中设置有铁石，所述铁石上固定安装有电磁线圈，所述污水箱上方设置有清洗装置以及光照装置，所述清洗装置用以冲洗所述污水箱，地面中还设置有触钮装置，所述触钮装置用以控制所述电磁线圈通电。
进一步的技术方案，其中，所述触钮装置包括设置在地面中且口部朝上的滑腔以及平滑安装在所述滑腔中的滑块，所述滑腔底壁上固定安装有第一触钮，所述第一触钮用以控制所述电磁线圈通电，所述滑块底面固定设置有触头，所述触头用以与所述第一触钮接触，所述滑腔底壁上左右对应设置有弹力块，所述滑块底壁还固定安装有与所述滑腔底壁固定连接的第一弹力件，所述第一弹力件用以将所述滑块向上顶压而使所述触头不与所述第一触钮接触。
进一步的技术方案，其中，所述清洗装置包括固定安装在机体中的安放块以及固定安装在所述安放块右端的套管，所述安放块中设置有第一滑槽，所述套管中设置有第二滑槽，所述第二滑槽中平滑安装有顶推板，所述顶推板左端固定设置有第一导柱和第二导柱，所述第一滑槽左端壁上安装有清洗触钮，所述清洗触钮用以与所述第一导柱配合而实现控制冲水阀门开启，所述第一导柱和第二导柱左端穿透所述安放块并探入所述第一滑槽中，所述第一滑槽左端壁上安装有第二触钮，所述第二触钮用以与所述第二导柱配合而控制所述电磁线圈中电流反向运行，所述第二滑槽中还安装有第二弹力件，所述第二弹力件用以将所述顶推板向右顶压，所述第一导柱和第二导柱上位于所述第一滑槽中设置有卡持环，从而可防止所述顶推板滑出所述第二滑槽。
进一步的技术方案，其中，所述铁石下端安装有密闭垫，从而可防止水汽与铁石接触。
进一步的技术方案，其中，所述待检箱左端上端设置有皮管，所述皮管与所述净化管互通。
进一步的技术方案，所述污水仓中还设置有挡块，从而在所述第二密闭板底部与所述挡块相抵时，所述第二密闭板上端面与所述隔阻板上端平齐，由此，所述第二弯沟槽的末梢被所述隔阻板封盖。
进一步的技术方案，所述光照装置包括灯架以及灯珠，所述灯架固定设置于左侧所述机体顶部且位于所述清洗装置上方，所述灯珠固定设置于所述灯架右侧伸展段底部，所述灯珠与所述灯架底部之间固定设置有罩盖，通过所述灯珠可满足本装置夜间照明所需。
本发明的有益效果是：
操作时，操作人员站立在所述滑块上，所述滑块在人的重力作用下向下滑动，所述滑块向下滑动后，所述触头会与所述第一触钮接触，由此，所述电磁线圈可通电，所述电磁线圈通电后可使所述铁石产生与吸引所述磁石的磁极，由此所述铁石可驱动所述第二密闭板向上滑动；
当所述第二密闭板上端面与所述第一密闭板底面相抵时，所述第二弯沟槽的末梢与所述第一弯沟槽的末梢互通，此时污水会以此通过所述柔性管、第一弯沟槽、第二弯沟槽和排送管而流入到所述待检箱中；
操作完成后，按下所述顶推板，所述顶推板可驱动所述第一导柱和第二导柱向左滑动而分别触动所述清洗触钮和所述第二触钮，所述第二触钮被触动后，所述电磁线圈上的电流会反向，因此，所述铁石可产生排斥所述磁石的磁极，故可将所述第二密闭板向下顶压并与所述挡块相抵，所述清洗触钮被触动后，可控制冲水系统出水对污水箱进行冲洗，而水可依次流经所述柔性管、第一弯沟槽、过水仓、净化管，最终流到净化设备中；
而当操作人员离开所述滑块后，在所述第一弹力件的作用下，所述滑块被向上顶压而使所述触头脱离与所述第一触钮接触，从而所述电磁线圈可断电；
当所述待检箱中的污水水位超过所述皮管上端时，污水可从所述皮管流入到所述净化管中，最终也流到净化设备中；
本发明装置可实现对待检测的污水进行区分存储，而冲洗污水箱的水不会流入到待检箱中，故可保持原有污水的浓度，可减小检测难度以及降低检测成本。
附图说明
为了更清楚地说明发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明的一种污水处理设备的结构示意图；
图2为图1中通管处的结构放大示意图；
图3为图2中电磁线圈通电时的结构示意图；
图4为图1中清洗装置处的结构放大示意图；
图5为图4中箭头方向结构示意图。
具体实施方式
本说明书中公开的所有特征，或公开的所有方法或过程中的步骤，除了互相排斥的特征和/或步骤以外，均可以以任何方式组合。
本说明书（包括任何附加权利要求、摘要和附图）中公开的任一特征，除非特别叙述，均可被其他等效或具有类似目的的替代特征加以替换。即，除非特别叙述，每个特征只是一系列等效或类似特征中的一个例子而已。
如图1至图5所示，本发明装置的一种污水处理设备，包括固定安装在机体上的污水箱10、安装在地面中的待检箱14以及通管20，所述通管20中上端固定设置有第一密闭板24，所述第一密闭板24左下端设置有凸出部240，所述凸出部240中设置有第一弯沟槽241，所述第一弯沟槽241的顶部口部向上并固定安装有与所述污水箱10底部连接的柔性管11，所述柔性管11与所述第一弯沟槽241的顶部相接处以及与所述污水箱10底部相接处分别设有密闭圈110，从而可增加连接处的密闭性，可防止漏水现象的发生，所述第一弯沟槽241的末梢口部朝右，所述通管20中还设置有位于所述凸出部240下方的隔阻板23，所述隔阻板23将所述通管20内部下端阻隔成过水仓21和污水仓22，所述污水仓22中可上下平滑地安装有第二密闭板25，所述第二密闭板25中设置有第二弯沟槽251，所述第二弯沟槽251的末梢口部朝左，所述第二弯沟槽251的顶部口部朝下，所述过水仓21底部设置有互通净化设备的净化管12，所述污水仓22底部设置有排送管13，所述排送管13与所述待检箱14互通，所述第二密闭板25上端面中设置有磁石252，所述第一密闭板24邻近所述磁石252端面中设置有铁石26，所述铁石26上固定安装有电磁线圈261，所述污水箱10上方设置有清洗装置6以及光照装置，所述清洗装置6用以冲洗所述污水箱10，地面中还设置有触钮装置8，所述触钮装置8用以控制所述电磁线圈261通电。
有益地或示例性地，其中，所述触钮装置8包括设置在地面中且口部朝上的滑腔80以及平滑安装在所述滑腔80中的滑块81，所述滑腔80底壁上固定安装有第一触钮82，所述第一触钮82用以控制所述电磁线圈通电，所述滑块81底面固定设置有触头83，所述触头83用以与所述第一触钮82接触，所述滑腔80底壁上左右对应设置有弹力块85，所述滑块81底壁还固定安装有与所述滑腔80底壁固定连接的第一弹力件84，所述第一弹力件84用以将所述滑块81向上顶压而使所述触头83不与所述第一触钮82接触。
有益地或示例性地，其中，所述清洗装置6包括固定安装在机体中的安放块60以及固定安装在所述安放块60右端的套管67，所述安放块60中设置有第一滑槽63，所述套管67中设置有第二滑槽68，所述第二滑槽68中平滑安装有顶推板65，所述顶推板65左端固定设置有第一导柱69和第二导柱64，所述第一滑槽63左端壁上安装有清洗触钮61，所述清洗触钮61用以与所述第一导柱69配合而实现控制冲水阀门开启，所述第一导柱69和第二导柱64左端穿透所述安放块60并探入所述第一滑槽63中，所述第一滑槽63左端壁上安装有第二触钮62，所述第二触钮62用以与所述第二导柱64配合而控制所述电磁线圈261中电流反向运行，所述第二滑槽68中还安装有第二弹力件66，所述第二弹力件66用以将所述顶推板65向右顶压，所述第一导柱69和第二导柱64上位于所述第一滑槽63中设置有卡持环640，从而可防止所述顶推板65滑出所述第二滑槽68。
有益地或示例性地，其中，所述铁石26下端安装有密闭垫262，从而可防止水汽与铁石26接触。
有益地或示例性地，其中，所述待检箱14左端上端设置有皮管15，所述皮管15与所述净化管12互通。
有益地或示例性地，其中，所述污水仓22中还设置有挡块220，从而在所述第二密闭板25底部与所述挡块220相抵时，所述第二密闭板25上端面与所述隔阻板23上端平齐，由此，所述第二弯沟槽251的末梢被所述隔阻板23封盖。
有益地或示例性地，其中，所述光照装置包括灯架70以及灯珠71，所述灯架70固定设置于左侧所述机体顶部且位于所述清洗装置6上方，所述灯珠71固定设置于所述灯架70右侧伸展段底部，所述灯珠71与所述灯架70底部之间固定设置有罩盖72，通过所述灯珠71可满足本装置夜间照明所需。
本发明装置在初始状态时，在所述第一弹力件84的作用下，所述滑块81被向上顶压而使所述触头83不与所述第一触钮82接触，从而所述电磁线圈261不通电，所述第二密闭板25底部与所述挡块220相抵，所述第二弯沟槽251的末梢被所述隔阻板23封盖；
操作时，操作人员站立在所述滑块81上，所述滑块81在人的重力作用下向下滑动，所述滑块81向下滑动后，所述触头83会与所述第一触钮82接触，由此，所述电磁线圈261可通电，所述电磁线圈261通电后可使所述铁石26产生与吸引所述磁石252的磁极，由此所述铁石26可驱动所述第二密闭板25向上滑动，当所述第二密闭板25上端面与所述第一密闭板24底面相抵时，所述第二弯沟槽251的末梢与所述第一弯沟槽241的末梢互通，此时污水会以此通过所述柔性管11、第一弯沟槽241、第二弯沟槽251和排送管13而流入到所述待检箱14中；操作完成后，按下所述顶推板65，所述顶推板65可驱动所述第一导柱69和第二导柱64向左滑动而分别触动所述清洗触钮61和所述第二触钮62，所述第二触钮62被触动后，所述电磁线圈261上的电流会反向，因此，所述铁石26可产生排斥所述磁石252的磁极，故可将所述第二密闭板252向下顶压并与所述挡块220相抵，所述清洗触钮61被触动后，可控制冲水系统出水对污水箱10进行冲洗，而水可依次流经所述柔性管11、第一弯沟槽241、过水仓21、净化管12，最终流到净化设备中；而当操作人员离开所述滑块81后，在所述第一弹力件84的作用下，所述滑块81被向上顶压而使所述触头83脱离与所述第一触钮82接触，从而所述电磁线圈261可断电；
当所述待检箱14中的污水液位超过所述皮管15上端时，污水可从所述皮管15流入到所述净化管12中，最终也流到净化设备中。
本发明的有益效果是：操作时，操作人员站立在所述滑块上，所述滑块在人的重力作用下向下滑动，所述滑块向下滑动后，所述触头会与所述第一触钮接触，由此，所述电磁线圈可通电，所述电磁线圈通电后可使所述铁石产生与吸引所述磁石的磁极，由此所述铁石可驱动所述第二密闭板向上滑动；
当所述第二密闭板上端面与所述第一密闭板底面相抵时，所述第二弯沟槽的末梢与所述第一弯沟槽的末梢互通，此时污水会以此通过所述柔性管、第一弯沟槽、第二弯沟槽和排送管而流入到所述待检箱中；
操作完成后，按下所述顶推板，所述顶推板可驱动所述第一导柱和第二导柱向左滑动而分别触动所述清洗触钮和所述第二触钮，所述第二触钮被触动后，所述电磁线圈上的电流会反向，因此，所述铁石可产生排斥所述磁石的磁极，故可将所述第二密闭板向下顶压并与所述挡块相抵，所述清洗触钮被触动后，可控制冲水系统出水对污水箱进行冲洗，而水可依次流经所述柔性管、第一弯沟槽、过水仓、净化管，最终流到净化设备中；
而当操作人员离开所述滑块后，在所述第一弹力件的作用下，所述滑块被向上顶压而使所述触头脱离与所述第一触钮接触，从而所述电磁线圈可断电；
当所述待检箱中的污水水位超过所述皮管上端时，污水可从所述皮管流入到所述净化管中，最终也流到净化设备中；
本发明装置可实现对待检测的污水进行区分存储，而冲洗污水箱的水不会流入到待检箱中，故可保持原有污水的浓度，可减小检测难度以及降低检测成本。
以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
Claims (5)
1.一种污水处理设备，包括固定安装在机体上的污水箱、安装在地面中的待检箱以及通管，其特征在于：所述通管中上端固定设置有第一密闭板，所述第一密闭板左下端设置有凸出部，所述凸出部中设置有第一弯沟槽，所述第一弯沟槽的顶部口部向上并固定安装有与所述污水箱底部连接的柔性管，所述柔性管与所述第一弯沟槽的顶部相接处以及与所述污水箱底部相接处分别设有密闭圈，所述第一弯沟槽的末梢口部朝右，所述通管中还设置有位于所述凸出部下方的隔阻板，所述隔阻板将所述通管内部下端阻隔成过水仓和污水仓，所述污水仓中可上下平滑地安装有第二密闭板，所述第二密闭板中设置有第二弯沟槽，所述第二弯沟槽的末梢口部朝左，所述第二弯沟槽的顶部口部朝下，所述过水仓底部设置有互通净化设备的净化管，所述污水仓底部设置有排送管，所述排送管与所述待检箱互通，所述第二密闭板上端面中设置有磁石，所述第一密闭板邻近所述磁石端面中设置有铁石，所述铁石上固定安装有电磁线圈，所述污水箱上方设置有清洗装置以及光照装置，地面中还设置有触钮装置；所述触钮装置包括设置在地面中且口部朝上的滑腔以及平滑安装在所述滑腔中的滑块，所述滑腔底壁上固定安装有第一触钮，所述滑块底面固定设置有触头，所述滑腔底壁上左右对应设置有弹力块，所述滑块底壁还固定安装有与所述滑腔底壁固定连接的第一弹力件；所述清洗装置包括固定安装在机体中的安放块以及固定安装在所述安放块右端的套管，所述安放块中设置有第一滑槽，所述套管中设置有第二滑槽，所述第二滑槽中平滑安装有顶推板，所述顶推板左端固定设置有第一导柱和第二导柱，所述第一滑槽左端壁上安装有清洗触钮，所述第一导柱和第二导柱左端穿透所述安放块并探入所述第一滑槽中，所述第一滑槽左端壁上安装有第二触钮，所述第二滑槽中还安装有第二弹力件，所述第一导柱和第二导柱上位于所述第一滑槽中设置有卡持环。
2.根据权利要求1所述的一种污水处理设备，其特征在于：所述铁石下端安装有密闭垫。
3.根据权利要求1所述的一种污水处理设备，其特征在于：所述待检箱左端上端设置有皮管，所述皮管与所述净化管互通。
4.根据权利要求1所述的一种污水处理设备，其特征在于：所述污水仓中还设置有挡块。
5.根据权利要求1所述的一种污水处理设备，其特征在于：所述光照装置包括灯架以及灯珠，所述灯架固定设置于左侧所述机体顶部且位于所述清洗装置上方，所述灯珠固定设置于所述灯架右侧伸展段底部，所述灯珠与所述灯架底部之间固定设置有罩盖。
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