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CN107488831A - 一种连续蒸镀系统 - Google Patents

一种连续蒸镀系统 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种连续蒸镀系统,该系统包括:蒸镀坩埚,所述蒸镀坩埚内存储蒸镀材料,所述蒸镀坩埚顶部设有蒸镀出口;存储坩埚,所述存储坩埚内存储蒸镀材料;传输管,所述传输管的一端连接所述存储坩埚,另一端连接所述蒸镀坩埚;阀门,所述阀门设置在所述传输管的管路上;温度控制装置,所述温度控制装置与所述蒸镀坩埚、存储坩埚和传输管连接,用于控制所述蒸镀坩埚、存储坩埚和传输管的温度。本发明的连续蒸镀系统避免了传统的降温添料升温工序,降低了基板发生污染的可能,也提高了生产效率,降低了生产成本。

Description

一种连续蒸镀系统
技术领域
本发明涉及蒸镀技术领域,特别是涉及一种连续蒸镀系统。
背景技术
OLED(Organic Light-Emitting Diode,有机发光二极管,简称OLED)显示屏由于具有薄、轻、宽视角、主动发光、发光颜色连续可调、响应速度快、能耗小、驱动电压低、工作温度范围宽、生产工艺简单、发光效率高及可柔性显示等优点,已被列为极具发展前景的下一代显示技术。
制备OLED器件通常需要采用小分子蒸镀,小分子蒸镀主要是在高真空环境下加热有机材料,使升华型或者熔融型的有机材料在高温状态下汽化,蒸镀材料升华或汽化后的原子、分子或原子团组成的蒸气沉积在基板表面成膜。
但由于蒸镀坩埚的容量有限,经常需要开腔添加蒸镀材料,而从降温到添加蒸镀材料再到高真空环境的建立耗时较长,这大大限制了蒸镀机的产能,增加了OLED显示器的制作成本,此外,向蒸镀腔体内添加蒸镀材料也极易导致粉尘进入,从而造成基板污染。
发明内容
本发明主要解决的技术问题是提供一种连续蒸镀系统,能够实现连续蒸镀。
为解决上述技术问题,本发明采用的技术方案是一种连续蒸镀系统,包括:蒸镀坩埚,所述蒸镀坩埚内存储蒸镀材料,所述蒸镀坩埚顶部设有蒸镀出口;存储坩埚,所述存储坩埚内存储蒸镀材料;传输管,所述传输管的一端连接所述存储坩埚,另一端连接所述蒸镀坩埚;阀门,所述阀门设置在所述传输管的管路上;温度控制装置,所述温度控制装置与所述蒸镀坩埚、存储坩埚和传输管连接,用于控制所述蒸镀坩埚、存储坩埚和传输管的温度。进一步地,所述蒸镀材料为熔融型材料;
进一步地,所述传输管的一端连接所述存储坩埚的底部,另一端连接所述蒸镀坩埚的中上部;
进一步地,所述阀门为电动阀门;
进一步地,所述温度控制装置的数量为三个,分别与所述蒸镀坩埚、存储坩埚和传输管连接,用于控制所述蒸镀坩埚、存储坩埚和传输管的温度;
进一步地,所述温度控制装置包括加热丝,所述加热丝缠绕在所述蒸镀坩埚、存储坩埚和传输管的外表面,用于控制所述蒸镀坩埚、存储坩埚和传输管的温度;
进一步地,所述蒸镀坩埚和存储坩埚还包括蒸镀材料检测器,所述蒸镀材料检测器位于所述蒸镀坩埚和存储坩埚内部;
进一步地,所述温度控制装置还包括温度显示器;
进一步地,所述存储坩埚和蒸镀坩埚的形状为圆柱体或长方体;
进一步地,还包括挡板,所述挡板设置于所述蒸镀出口的上方。
本发明的有益效果是:区别于现有技术的情况,本发明可以在蒸镀坩埚内的蒸镀材料消耗殆尽时,使存储坩埚内的蒸镀材料通过传输管补充至蒸镀坩埚中,从而实现连续蒸镀。本发明的连续蒸镀系统避免了传统的降温添料升温工序,因此,降低了基板发生污染的可能,也提高了生产效率,降低了生产成本。
附图说明
图1是本发明连续蒸镀系统一实施方式的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,均属于本发明保护的范围。
图1是本发明连续蒸镀系统一实施方式的结构示意图。本实施方式提供的连续蒸镀系统,包括:蒸镀腔体101,与蒸镀腔体连接的真空装置102。蒸镀腔体101的侧壁上设置有腔体门103,腔体门103设在蒸镀腔体101的侧部或上方,具体位置不限定。蒸镀腔体101的内部安装有待蒸镀的基板104、蒸镀坩埚106、存储坩埚107、传输管108。蒸镀坩埚106的顶部设有蒸镀出口114,蒸镀出口114上方设有挡板105,蒸镀坩埚106内存储蒸镀材料并安装有第一蒸镀材料检测器112,该蒸镀材料为熔融型材料。存储坩埚107内存储有与蒸镀坩埚106内相同的蒸镀材料,并安装有第二蒸镀材料检测器113。传输管108的一端连接存储坩埚107,另一端连接蒸镀坩埚106。本实施例中,蒸镀坩埚106和存储坩埚107的形状为圆柱体或长方体,此处不做限定。进一步地,在本实施方式中,传输管108的一端连接存储坩埚107的底部,另一端连接蒸镀坩埚106的中上部。在其他实施例中,传输管108与存储坩埚107、蒸镀坩埚106的连接位置可以根据实际情况做适应性的调整,此处不做限定。传输管108的管路上设有阀门115。在本实施例中,阀门115为电动阀门,在其他实施例中,阀门115的类型根据实际情况做适应性的调整,此处不做限定。
本实施例的连续蒸镀系统还包括第一温度控制装置、第二温度控制装置和第三温度控制装置,温度控制装置与所述蒸镀坩埚106、存储坩埚107和传输管108连接,用于控制所述蒸镀坩埚106、存储坩埚107和传输管108的温度。在本实施例中,第一温度控制装置、第二温度控制装置和第三温度控制装置分别包括第一加热丝109、第二加热丝110和第三加热丝111,分别与蒸镀坩埚106、存储坩埚107和传输管108连接,用于控制蒸镀坩埚106、存储坩埚107和传输管108的温度。进一步地,第一温度控制装置、第二温度控制装置和第三温度控制装置还分别包括温度显示器(图中未示出),用于实时了解蒸镀坩埚106、存储坩埚107和传输管108中的温度值。第一加热丝109、第二加热丝110和第三加热丝111,分别缠绕在蒸镀坩埚106、存储坩埚107和传输管108的外表面。
以下,结合本连续蒸镀系统的结构详细说明其工作过程。
先对蒸镀腔体101进行抽真空处理。本实施例中,真空装置102对整个蒸镀腔体101进行抽真空操作,常用的真空装置102为机械泵、分子泵、冷凝泵,此处不做限定。在蒸镀前,需要对蒸镀腔体101进行真空操作,由于蒸镀腔体101的容积比较大,将蒸镀腔体101由常压抽到高真空状态耗时长,选择几个真空装置102同时进行真空操作能减少时长,具体选用几个真空装置102此处不做限定。真空装置102对蒸镀腔体101进行真空操作达到预定的高真空度后,通过第一加热丝109对蒸镀坩埚106进行加热,当温度达到预设温度时开始蒸镀。
蒸镀坩埚106顶部设置有蒸镀出口114,蒸镀出口114的形状为圆形或矩形,在此不做限定,本实施例中示出的是圆形。蒸镀坩埚106的上方还依次设置有挡板105和待蒸镀的基板104,当蒸镀坩埚106内蒸镀材料达到预设温度时,蒸镀材料蒸发,蒸发后的原子、分子或原子团组成的蒸气通过蒸镀出口114在基板104表面成膜。由于刚开始蒸镀时的蒸镀速率不稳定,会造成蒸镀在基板104上的薄膜质量不佳,所以刚开始蒸镀时移动挡板105使其遮住蒸镀出口114,如图1所示。当蒸镀速率稳定后再移走挡板105,此时在基板104上能得到质量良好的薄膜。
当第一蒸镀材料检测器112检测到蒸镀坩埚106内的蒸镀材料即将用完时,开启第二温度控制装置,第二温度控制装置对存储坩埚107进行加热,使存储坩埚107内的蒸镀材料达到熔融状态。打开传输管108管路上的阀门115,存储坩埚107内的蒸镀材料会自动流入到蒸镀坩埚106内,当流入蒸镀坩埚106内的蒸镀材料达到预定量时,关闭阀门115。可见,将蒸镀材料由存储坩埚107加入蒸镀坩埚106中的操作简便,无需降温和破真空,实现连续蒸镀,减少了开腔次数,降低基板104的污染程度,提高了蒸镀机的产能,降低了生产成本。
将存储坩埚107内的蒸镀材料添加到蒸镀坩埚106时,要开启阀门115,将存储坩埚107内的蒸镀材料加热到熔融状态,将蒸镀坩埚106中的蒸镀材料加热到蒸气状态。设置第一温度控制装置的温度高于第二温度控制装置,本实施方式中,设置第一加热丝109的发热值高于第二加热丝110的发热值。当蒸镀坩埚106中的蒸镀材料到达预设量时,关闭阀门115,并停止对存储坩埚107加热。
区别于现有技术的情况,本发明可以在蒸镀坩埚内的蒸镀材料消耗殆尽时,使存储坩埚内的蒸镀材料通过传输管补充至蒸镀坩埚中,从而实现连续蒸镀。本发明的连续蒸镀系统避免了传统的降温添料升温工序,因此,降低了基板发生污染的可能,也提高了生产效率,降低了生产成本。
显然,本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样,倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内,则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (10)

1.一种连续蒸镀系统,其特征在于,包括:
蒸镀坩埚,所述蒸镀坩埚内存储蒸镀材料,所述蒸镀坩埚顶部设有蒸镀出口;
存储坩埚,所述存储坩埚内存储蒸镀材料;
传输管,所述传输管的一端连接所述存储坩埚,另一端连接所述蒸镀坩埚;
阀门,所述阀门设置在所述传输管的管路上;
温度控制装置,所述温度控制装置与所述蒸镀坩埚、存储坩埚和传输管连接,用于控制所述蒸镀坩埚、存储坩埚和传输管的温度。
2.根据权利要求1所述的一种连续蒸镀系统,其特征在于,所述蒸镀材料为熔融型材料。
3.根据权利要求1所述的一种连续蒸镀系统,其特征在于,所述传输管的一端连接所述存储坩埚的底部,另一端连接所述蒸镀坩埚的中上部。
4.根据权利要求1所述的一种连续蒸镀系统,其特征在于,所述阀门为电动阀门。
5.根据权利要求1所述的一种连续蒸镀系统,其特征在于,所述温度控制装置的数量为三个,分别与所述蒸镀坩埚、存储坩埚和传输管连接,用于控制所述蒸镀坩埚、存储坩埚和传输管的温度。
6.根据权利要求5所述的一种连续蒸镀系统,其特征在于,所述温度控制装置包括加热丝,所述加热丝缠绕在所述蒸镀坩埚、存储坩埚和传输管的外表面,用于控制所述蒸镀坩埚、存储坩埚和传输管的温度。
7.根据权利要求1所述的一种连续蒸镀系统,其特征在于,所述蒸镀坩埚和存储坩埚还包括蒸镀材料检测器,所述蒸镀材料检测器位于所述蒸镀坩埚和存储坩埚内部。
8.根据权利要求1所述的一种连续蒸镀系统,其特征在于,所述温度控制装置还包括温度显示器。
9.根据权利要求1所述的一种连续蒸镀系统,其特征在于,所述存储坩埚和蒸镀坩埚的形状为圆柱体或长方体。
10.根据权利要求1所述的一种连续蒸镀系统,其特征在于,还包括挡板,所述挡板设置于所述蒸镀出口的上方。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110724911A (zh) * 2019-11-06 2020-01-24 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 蒸镀坩埚、蒸镀系统及蒸镀oled的方法
WO2020077719A1 (zh) * 2018-10-17 2020-04-23 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 蒸镀装置
CN111748774A (zh) * 2020-08-05 2020-10-09 聚灿光电科技(宿迁)有限公司 坩埚装置及具有其的蒸镀机
CN112011763A (zh) * 2020-08-05 2020-12-01 Tcl华星光电技术有限公司 蒸镀设备及其补料方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007141235A1 (de) * 2006-06-06 2007-12-13 Aixtron Ag Vorrichtung und verfahren zum aufdampfen eines pulverförmigen organischen ausgangsstoffs
US20140326181A1 (en) * 2013-05-02 2014-11-06 Samsung Display Co., Ltd. Deposition apparatus
KR20150049685A (ko) * 2013-10-30 2015-05-08 주식회사 선익시스템 증발물질 공급장치 및 이를 포함하는 증발원
CN105088144A (zh) * 2015-08-07 2015-11-25 京东方科技集团股份有限公司 一种更换坩埚装置
CN205420530U (zh) * 2016-03-17 2016-08-03 合肥鑫晟光电科技有限公司 蒸镀设备
KR101713112B1 (ko) * 2016-07-26 2017-03-08 에스엔유 프리시젼 주식회사 연속 충진이 가능한 증착물질 공급장치
CN106947941A (zh) * 2017-04-13 2017-07-14 合肥鑫晟光电科技有限公司 蒸镀系统

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007141235A1 (de) * 2006-06-06 2007-12-13 Aixtron Ag Vorrichtung und verfahren zum aufdampfen eines pulverförmigen organischen ausgangsstoffs
US20140326181A1 (en) * 2013-05-02 2014-11-06 Samsung Display Co., Ltd. Deposition apparatus
KR20150049685A (ko) * 2013-10-30 2015-05-08 주식회사 선익시스템 증발물질 공급장치 및 이를 포함하는 증발원
CN105088144A (zh) * 2015-08-07 2015-11-25 京东方科技集团股份有限公司 一种更换坩埚装置
CN205420530U (zh) * 2016-03-17 2016-08-03 合肥鑫晟光电科技有限公司 蒸镀设备
KR101713112B1 (ko) * 2016-07-26 2017-03-08 에스엔유 프리시젼 주식회사 연속 충진이 가능한 증착물질 공급장치
CN106947941A (zh) * 2017-04-13 2017-07-14 合肥鑫晟光电科技有限公司 蒸镀系统

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020077719A1 (zh) * 2018-10-17 2020-04-23 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 蒸镀装置
CN110724911A (zh) * 2019-11-06 2020-01-24 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 蒸镀坩埚、蒸镀系统及蒸镀oled的方法
CN111748774A (zh) * 2020-08-05 2020-10-09 聚灿光电科技(宿迁)有限公司 坩埚装置及具有其的蒸镀机
CN112011763A (zh) * 2020-08-05 2020-12-01 Tcl华星光电技术有限公司 蒸镀设备及其补料方法

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