CN107429397A - 用于运行在线涂覆设备的方法和在线涂覆设备 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 59
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 30
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 30
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 91
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims abstract description 60
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 20
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 24
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 20
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 10
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 7
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 3
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 3
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 3
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 2
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 238000013022 venting Methods 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
- B05D3/04—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to gases
- B05D3/0493—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to gases using vacuum
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/564—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases
- C23C14/566—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases using a load-lock chamber
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/54—Apparatus specially adapted for continuous coating
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
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Abstract
本发明涉及运行在线涂覆设备的方法，在线涂覆设备具有带有进料门(260)的进料室(220)、连接至进料室(220)且可借助第一闸门(261)与进料室(220)分隔开的第一缓冲室(221)、连接至第一缓冲室(221)且可借助第二闸门(264)与缓冲室(221)分隔开的加工室(235)、连接至加工室(235)且可借助第三闸门(265)与加工室(235)分隔开的第二缓冲室(222)、连接至第二缓冲室(222)且具有出料门(263)的出料室(240)，出料室可借助第四闸门(262)与第二缓冲室(222)分隔开，进料室(220)、缓冲室(221)、缓冲室(222)及出料室(240)设计成用于容置直到预定尺寸的基板的模块，为了涂覆，基板(200)从进料室(220)经第一缓冲室(221)被送至加工室(235)并从加工室(235)经第二缓冲室(222)被送至出料室(240)，其中第一缓冲室(221)具有包括至少一个狭缝活门(221b)的缝隙闸门机构，在第一闸门(261)启闭时可在第一缓冲室(221)内借助缝隙闸门机构调节在第二闸门(264)区域内的压力与第一闸门(261)区域内的压力之间的压力梯度。本发明还涉及用于实施该方法的在线涂覆设备。
Description
技术领域
本发明涉及具有独立权利要求的特征的方法和在线涂覆设备。
背景技术
在线涂覆设备已知例如被用于对平面基材如玻璃基板、塑料基板或金属基板、用于显示器、晶圆等的基板进行涂覆。一种称为三室真空涂覆设备的实施方式包括用于将基板放入加工室的进料室、用于从加工室放出基板的出料室及用于使基板沿输送路径运动的输送装置。也可设有多个加工室来替代一个加工室。一个或多个加工室在入口侧和/或出口侧也可具有输送区。
已知的设备针对具有规定尺寸的基板的加工来设计和设定尺寸，其中大多须使用有相应较大腔室的设备以加工其尺寸与规定尺寸有所偏差(过长)的基板。
EP1571234B1公开了如此运行由2n+1个腔室构成的设备，其中n为大于或等于2的整数，即也能加工过长的基板。在五室设备中，缓冲室与进料室相接，而加工室与缓冲室相接，另一缓冲室与该加工室相接，而出料室与该另一缓冲室相接。在这些腔室之间设有可启闭的门，其中所述进料室、缓冲室及出料室设计成用于容置直至预定最大尺寸的基板的相同模块。为了涂覆比这些模块长的基板，进料室与缓冲室之间的门以及缓冲室与出料室之间的门被打开。此时使缓冲室的和进料室或出料室的压力状况相互匹配，在此，用于进料室及第一缓冲室或第二缓冲室及出料室的泵送程序共同从大气压被泵吸至例如0.05毫巴。该已知方法能够加工过长的基板，但不利地延长了进料时间及设备的总周期时间。
WO2009/000813也公开了将基板放入三室真空涂覆设备及从三室真空涂覆设备放出基板，其中，由闸室及邻接闸室的传送室构成闸系统，其具有以真空密封方式关闭待邻接传送室的加工室的闸阀。在开闸放行期间，只要基板处于此闸室内，就使传送室与闸室连通并打开传送室与闸室之间的闸门。这种涂覆设备适用于灵活涂覆其长度大于闸室长度的基板。传送室在邻接闸室的末端上具有通路，通路横截面在输送方向上看显示出腔室横截面变窄。此外，传送室具有出料口，在出料口中设有相比于已知的三室设备的附加闸阀，使得加工室以真空技术与传送室分隔，并且在传送室内存在大气压时也可维持加工室内的加工真空。在设备工作期间，打开设备门并将基板输送至闸系统。在关闭设备门后，将相关体积内的压力降低至高真空压力。为了提高真空涂覆设备的工作效率而提议，通过进料口或出料口来调整相关体积内的压力梯度，即减小传送室与闸室之间的压力平衡。
发明内容
本发明的任务是提出一种用于运行在线涂覆设备的方法以及一种用于实施该方法的在线涂覆设备，从而缩短设备的进料时间及总周期时间。
该任务利用独立权利要求的特征来完成。在从属权利要求中归纳出本发明的有利实施例、实施方式及改进方案。
本发明的方法涉及在线涂覆设备的运行，该设备包括：具有进料门的进料室以及连接至进料室的第一缓冲室，第一缓冲室可借助第一闸门与进料室分隔开；连接至第一缓冲室的加工室，其可借助第二闸门与缓冲室分隔开；连接至加工室的第二缓冲室，其可借助第三闸门与加工室分隔开；连接至第二缓冲室且具有出料门的出料室，出料室可借助第四闸门与第二缓冲室隔开，其中，所述进料室、缓冲室、缓冲室及出料室设计为用于容置直至预定尺寸为止的基板的模块。
如本身已知地，为了涂覆，基板从进料室经由第一缓冲室被输送至加工室，并从加工室经由第二缓冲室被输送至出料室。
本发明的方法的特征在于，第一缓冲室具有包括至少一个狭缝活门的缝隙闸门机构，借助缝隙闸门机构，在第一缓冲室内调节在第二闸门区域内的压力与第一闸门区域内的压力之间的压力梯度。在第一闸门打开的情况下，可对在第二闸门区域内的压力与第一闸门区域内的压力之间的压力梯度进行调节。同样，在第一闸门关闭的情况下，可对在第二闸门区域内的压力与第一闸门区域内的压力之间的压力梯度进行调节。最好除了闸室的通风阶段外，优选对第一缓冲室进行持续抽真空。
缝隙闸门机构包括至少一个狭缝活门，优选包括沿腔室纵向串列的多个狭缝活门。缝隙闸门机构允许闸室与加工室之间的压力无关联以及在缓冲室内提供压力梯度。在多个狭缝活门的情况下，根据这些狭缝活门的位置，有利地沿腔室纵向实现压力梯度的递增走向。
优选通过缝隙闸门机构减小腔室体积，尤其有利地将腔室体积最小化。
相比于例如从EP1571234B1及WO2009/000813中知道的情况，缝隙闸门机构与压力梯度一起允许在压力方面更好地使闸室与加工室无关联，进而缩短进料时间，即减少从基本进入闸室至进入加工室间的基板输送时间。
在涂覆其长度小于模块长度的基板时，与无压力梯度的运行模式相比，可有利地提高闸室内压力的压力触发点，在压力触发点上打开第二闸门，进而缩短进料时间并同样减少从闸室中抽走的空气量。在现有技术中，即在不使用压力梯度的情况下，通常例如将进料室抽真空至约15毫巴压力，将缓冲室抽真空至10**-2毫巴。在本发明的方法中，在采用与现有技术中一样长的腔室的情况下，为了放入，只需将进料室抽真空至例如约36毫巴压力，而此外泵送程序或泵送状态与现有技术相比不会改变。因此，通过本发明的方法例如能够获得与现有技术相比减少15％的进料时间。
该方法的另一实施方式的特征在于，为了涂覆小于该模块的基板，将第一闸门关闭，打开进料门，将基板输送至进料室，关闭进料门，将进料室抽真空至预定压力，打开第一闸门，将基板输送至缓冲室，其中在缓冲室中在第二闸门区域内调节出低于进料室内压力的压力，重新关闭第一闸门，将缓冲室抽真空至约等于加工室压力的压力，并打开第二闸门，将基板输送至加工室，关闭第二闸门并在加工室中对基板进行加工。
该方法的另一实施方式的特征在于，为了涂覆大于这些模块的基板，打开进料门及第一闸门，将基板送入进料室及缓冲室，关闭进料门，将进料室抽真空至预定压力，在第二闸门区域内将缓冲室抽真空至约等于加工室压力的预定压力，打开第二闸门并将基板送入加工室以便在此加工。与从EP1571234B1中知道的现有技术不同，为了涂覆过长基板，缓冲室与进料室的压力状况并不相互匹配，从而缩短周期时间。
该方法的另一实施方式的特征在于，在基板以其后边缘通过第一闸门且后边缘尚未通过第二闸门后，关闭第一闸门，从而更有效地对第一缓冲室进行抽真空。
该方法的另一实施方式的特征在于，在基板以其后边缘通过第二闸门之后关闭第二闸门，从而更有效地对加工室进行抽真空。
本发明的另一实施方式的特征在于，在基板以其后边缘通过第二闸门之后打开第一闸门，从而将另一基板较快地输送至第一缓冲室。
本发明的另一实施方式的特征在于，在进料门及第一闸门打开的情况下也通过连接闸室的泵的运行在缓冲室内维持在第二闸门区域内的压力与第一闸门区域内的压力之间的压力梯度，借此进一步缩短进料时间。
该方法的另一实施方式的特征在于，在进料门及第一闸门打开的情况下也通过连接该闸室的泵的运行在在该闸室内为大气压的情况下在该缓冲室内将第二闸门区域内的压力维持为小于500毫巴、优选小于600毫巴，从而比较安全地维持加工室内的加工真空并保护加工真空不受污染。
该方法的另一实施方式的特征在于，在缓冲室内对第二闸门区域内的压力与第一闸门区域内的压力之间的压力梯度进行调整，其中第二闸门区域内的压力比第一闸门区域内的压力小了至少2倍，从而比较安全地维持加工室内的加工真空并保护加工真空不受污染。最好可以规定在泵吸周期结束时有远大于2的倍数，例如为10或200。
显然，在放出基板时也可采用与上述放入基板时的方式相符的方式。
在根据本发明的在线涂覆设备中，其包括具有进料门的进料室及连接至进料室的且可借助第一闸门与进料室分隔开的第一缓冲室，还设有连接至第一缓冲室且可借助第二闸门与缓冲室分隔开的加工室、连接至加工室且可借助第三闸门与加工室分隔开的第二缓冲室、连接至第二缓冲室且具有出料门的出料室，出料室可借助第四闸门与第二缓冲室分隔开，其中所述进料室、缓冲室、缓冲室及出料室设计成用于容置直到预定尺寸为止的基板的模块，为了涂覆，将基板从进料室经第一缓冲室输送至加工室并从加工室经第二缓冲室输送至出料室。该设备的特征在于，第一缓冲室具有包括至少一个狭缝活门的缝隙闸门机构，在第一闸门打开的情况下，在第二闸门区域内的压力与第一闸门区域内的压力之间的压力梯度可借助缝隙闸门机构被调节。在第一闸门关闭的情况下，第二闸门区域内的压力与第一闸门区域内的压力之间的压力梯度同样可被调节。
本发明的设备具有与本发明的方法相同的优点。
显然，在放出时用于放出的相应腔室的尺寸设定是可相应选择的且被涵盖在本发明内。
附图说明
下面，结合这些附图的实施例对本发明进行详细说明，从这些实施例也得到本发明的其它方面及优点。
图1为现有技术已知的五室设备的剖视俯视图。
图2为本发明的在线涂覆设备的剖视俯视图。
具体实施方式
图1示出了已知的五室涂覆设备，其具有进料室2、缓冲室21及具有传送室31的加工室3，传送室包括具有狭缝活门悬架18的狭缝活门30以及具有狭缝活门29及狭缝活门悬架19的传送室33。真正的加工室3通常由多个单独且大小相同的区段组成，其中视需要使多个区段彼此跟随，从而可在其中进行各自任务。缓冲室22连接至加工室3且出料室4连接至该缓冲室。为了放入基板，进料室2具有闸门60。进料室2与缓冲室21可通过闸门61以真空技术彼此分隔开。缓冲室21与加工室3可通过闸门64以真空技术彼此分隔开。加工室3与缓冲室22可通过闸门65彼此分隔开，而缓冲室22与出料室4可通过闸门62彼此分隔开。最后，出料室4具有门63。在腔室2、21、3、22及4中各有一个基板输送装置。所有腔室2、21、3、22及4可通过泵被抽真空。
为了放入，在已知设备中首先将基板放入进料室2，在此，进料室内压力被减小至约15毫巴。然后使基板越界至缓冲室21，在此，压力被进一步减小至接近加工室3内压力的水平。因为在腔室2及21中可在这两个腔室中同时进行泵吸，故与三室设备的运行相比可缩短周期时间。
在针对过长基板的特殊运行模式中，已知的五室设备作为三室设备来运行，在此，腔室2及21被灌满水。在这种情况下打开门60，其中门61总保持敞开。然后，将一基板输送至腔室2、21并重新关闭门60。即，为了加工过长的基板，用于两个腔室2、21的泵送程序被调整，使得只有两个腔室2、21从大气压被泵吸至约0.05毫巴。在已知的设备中，腔室2的泵组由可从大气压起降压抽吸的转叶泵组成。除转叶泵外，腔室21的泵组也包含只从约7毫巴起接通的鲁茨泵。为将扩大的进料室2、21抽吸至约0.05毫巴，接连使用两个泵组，这两个泵组并非像在五室标准运行模式中那样并行工作，在此，周期时间被延长。
图2示出了本发明的在线涂覆设备，其具有：具有进料门260的进料室220；连接至进料室220的第一缓冲室221，其可借助第一闸门261与进料室220分隔开；连接至缓冲室221的加工室235，其可借助第二闸门264与缓冲室221分隔开；连接至加工室235的第二缓冲室222，其可借助第三闸门265与加工室235分隔开；连接至第二缓冲室222且具有出料门263的出料室240，出料室可借助第四闸门262与第二缓冲室222分隔开，其中，进料室220、缓冲室221、缓冲室222及出料室240设计成用于容置直至预定尺寸为止的基板的模块，为了涂覆，基板200从进料室220经缓冲室221被输送至加工室235并从加工室235经缓冲室222被输送至出料室240。图2示出了大于这些模块的基板200，其伸入腔室220、221中。显然，该方法和设备也适合且被指定用于涂覆小于该模块的基板。
缓冲室221具有包括至少一个狭缝活门221b的缝隙闸门机构，该狭缝活门具有可选的狭缝活门悬架221c。该缝隙闸门机构优选包括两个以上的狭缝活门。
加工室235可设计成与从现有技术中已知的加工室3相似。加工室235有利地具有包括狭缝活门230的传送室231，该狭缝活门具有狭缝活门悬架218，以及包括狭缝活门229和狭缝活门悬架219的传送室233。
为了对这些腔室进行抽真空，设有泵接头220a、221a、235a、222a及240a以及所连接的且在图2中未示出的泵。也可想到其它泵接头。腔室220和/或腔室240的泵组优选包括可从大气压起降压抽吸的转叶泵。除转叶泵外，腔室221和/或腔室222的泵组优选也包含可抽真空至较低压力水平的鲁茨泵。
至少腔室220具有通风装置(图2未示出)。显然，其它腔室221、235、222和240也可具有通风装置。
腔室220、221、235、222和240也具有基板输送装置且配备有控制装置，这些控制装置特别是用于泵运行、基板输送、门的启闭以及在加工室235内执行任务。
根据本发明，在第一闸门261被打开的情况下，在第二闸门264区域内的压力与第一闸门261区域内的压力之间建立压力梯度。
第二闸门264区域内的压力梯度的值低于第一闸门261区域内的压力梯度的值。第二闸门264区域内的压力优选被调节至比第一闸门261区域内的压力降低或减小2倍。特别有利的是，至少在打开第二闸门264的时刻，第二闸门264区域内的压力被调节至比第一闸门261区域内的压力降低或减小10、20、30、40、50、60、70、80、90倍。可以想到的是，也可将第二闸门264区域内的压力调节至比第一闸门261区域内的压力降低或减小100、150、200倍或者更低。
在基板进料过程的时间曲线内，动态改变该压力梯度，其中，在进料过程开始时的压力梯度有利地小于越界至加工室235或传送室231的时刻的压力梯度。
压力梯度值与泵送功率及缓冲室221中的泵接头的位置及电导以及缝隙闸门机构的设计、特别是缝隙闸门机构长度和/或各狭缝活门的电导或缝隙闸门机构的总电导相关。
有利地将缓冲室221连续抽真空，尤其有利的是除了将进料室220通风和中断通过泵对缓冲室221抽真空的时段外。有利地，在进料门260被打开时也对缓冲室221抽真空。
该设备优选以周期时间按节拍运行，其中该周期时间是从将第一基板送入进料室220至送入第二基板间的时间。
为了涂覆其长度小于这些腔室模块长度的基板而规定，将第一闸门261关闭，将进料门260打开，将一基板送入进料室220，关闭进料门260，将进料室220抽真空至预定压力，打开第一闸门261，将基板送入缓冲室221，其中在缓冲室221内在闸门264区域内调节出低于进料室220内压力的压力，重新关闭第一闸门261，将缓冲室221抽真空至较低压力即所谓传送压力，其约等于加工室235的传送室231内的压力。在这种情况下打开第二闸门264，将基板送入加工室235，关闭第二闸门264并在加工室235中对基板进行加工。
在重新打开进料门260之前，将闸室220通风至约等于大气压的压力，即在达到大气触发压力时打开进料门260。
在加工室235中对基板进行加工之后，通过腔室222、240从设备中放出基板，在此显然，与腔室221相似地也可在腔室222中设置具有狭缝活门的缝隙闸门机构(图2未示出)。在此情况下，在放出基板时，可采用与送入基板时相似的方法。在闸门262被打开时，可借助缝隙闸门机构调整闸门265区域内的压力与闸门262区域内的压力之间的压力梯度。闸门265区域内的压力梯度的值低于闸门262区域内的压力梯度的值。
有利地，在出料门263打开的情况下也对缓冲室222进行抽真空。
为了涂覆大于这些模块的基板200，将进料门260及第一闸门261打开。将基板200送入进料室220及缓冲室221，关闭进料门260，将进料室220抽真空至预定压力。在第二闸门264区域内将缓冲室221抽真空至较低压力即所谓的传送压力，其约等于加工室235的传送室231内的压力。然后，打开第二闸门264并将基板200送入加工室235以在此加工。
当输出过长的基板200时，可采用与送入过长的基板200时相似的做法。
本发明的一个实施例的特征在于，在基板200以其后边缘200a通过第一闸门261且后边缘200a尚未通过第二闸门264后，关闭第一闸门261。
本发明的一个实施例的特征在于，在基板200以其后边缘200a通过第二闸门264后，关闭第二闸门264。
本发明的另一实施方式的特征在于，在基板200以其后边缘200a通过第二闸门264且闸门264被关闭后，打开第一闸门261。
尤其是为了放入新基板，在重新打开进料门260之前将闸室220通风至约等于大气压的压力，即在达到大气触发压力时打开进料门260。最早在输送基板200的后边缘200a输送穿过闸门261且闸门261被关闭时，对闸室220进行通风。就闸门261打开的情况而言，在闸门264被关闭时方进行通风。
本发明的另一实施例的特征是，在进料门260及第一闸门261被打开时，也通过连接至腔室221的泵的运行在缓冲室221内维持在第二闸门264区域内的压力与第一闸门261区域内的压力之间的压力梯度。在此情况下，优选可在缓冲室221内将第二闸门264区域内的压力维持为约400毫巴至750毫巴。
此外，可在缓冲室221内调节在第二闸门264区域内的压力与第一闸门261区域内的压力之间的压力梯度，其中第二闸门264区域内的压力与第一闸门261的区域内的压力相比小了至少2倍。
附图标记说明
2：进料室
3：加工室
4：出料室
18：狭缝活门悬架
19：狭缝活门悬架
21：缓冲室
22：缓冲室
29：狭缝活门
30：狭缝活门
31：传送室
33：传送室
60：闸门
61：闸门
62：闸门
63：闸门
64：闸门
65：闸门
200：基板
200a：后边缘
218：狭缝活门悬架
219：狭缝活门悬架
220：进料室
220a：泵接头
221：缓冲室
221a：泵接头
221b：狭缝活门
221c：狭缝活门悬架
222：缓冲室
222a：泵接头
229：狭缝活门
230：狭缝活门
231：传送室
233：传送室
235：加工室
240：出料室
240a：泵接头
260：闸门
261：闸门
262：闸门
263：闸门
264：闸门
265：闸门
Claims (11)
1.一种用于运行在线涂覆设备的方法，该在线涂覆设备具有：
具有进料门(260)的进料室(220)，
连接至该进料室(220)的第一缓冲室(221)，该第一缓冲室能借助第一闸门(261)与该进料室(220)分隔开，
连接至该第一缓冲室(221)的加工室(235)，该加工室能借助第二闸门(264)与该缓冲室(221)分隔开，
连接至该加工室(235)的第二缓冲室(222)，该第二缓冲室能借助第三闸门(265)与该加工室(235)分隔开，
连接至该第二缓冲室(222)的且具有出料门(263)的出料室(240)，该出料室能借助第四闸门(262)与该第二缓冲室(222)分隔开，其中该进料室(220)、该缓冲室(221)、该缓冲室(222)及该出料室(240)被设计成用于容置直到预定尺寸为止的基板的模块，
其中为了涂覆，基板(200)从该进料室(220)经由该第一缓冲室(221)被输送至该加工室(235)并从该加工室(235)经由该第二缓冲室(222)被输送至该出料室(240)，
其特征在于，该第一缓冲室(221)具有包括至少一个狭缝活门(221b)的缝隙闸门机构，在第一闸门(261)被打开或关闭时在该第一缓冲室(221)内借助该缝隙闸门机构调节在该第二闸门(264)区域内的压力与该第一闸门(261)区域内的压力之间的压力梯度。
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，为了涂覆小于所述模块的基板，
该第一闸门(261)被关闭，
该进料门(260)被打开，
一基板被送入该进料室(220)，
关闭该进料门(260)，
将该进料室(220)抽真空直至预定压力，
打开该第一闸门(261)，
将该基板送入该缓冲室(221)，其中在该缓冲室(221)内在该第二闸门(264)区域中调节出低于该进料室(220)内压力的压力，
再关闭该第一闸门(261)，
将该缓冲室(221)抽真空至传送压力并打开该第二闸门(264)，
将该基板送入该加工室(235)，
关闭该第二闸门(264)并在该加工室(235)中对该基板进行加工。
3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，为了涂覆大于所述模块的基板，
打开该进料门(260)和该第一闸门(261)，
将一基板送入该进料室(220)和该缓冲室(221)，其中在该缓冲室(221)中在该闸门(264)区域内调节出低于该进料室(220)内压力的压力，
关闭该进料门(260)，
将该进料室(220)抽真空至预定压力，
在该第二闸门(264)区域中将该缓冲室(221)抽真空至传送压力，
打开该第二闸门(264)并将该基板(200)送入该加工室(235)以便在这里加工。
4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，在该基板(200)以其后边缘(200a)通过该第一闸门(261)且该后边缘(200a)尚未通过该第二闸门(264)后，关闭该第一闸门(261)。
5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，在该基板(200)以其后边缘(200a)通过该第二闸门(264)后，关闭该第二闸门(264)。
6.如权利要求5所述的方法，其特征在于，在该基板(200)以其后边缘(200a)通过该第二闸门(264)后，打开该第一闸门(261)。
7.如前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，在该进料门(260)及该第一闸门(261)被打开时，也通过运行连接至该闸室(221)的泵在该缓冲室(221)内维持在该第二闸门(264)区域内的压力与该第一闸门(261)区域内的压力之间的压力梯度。
8.如前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，在该进料门(260)及该第一闸门(261)被打开时，也在该缓冲室(221)内在该第二闸门(264)区域中调节出低于大气压的压力。
9.如前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，借助连接该缓冲室(221)的泵进行该缓冲室(221)的连续抽真空。
10.如前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，在该缓冲室(221)内调节在该第二闸门(264)区域内的压力与该第一闸门(261)区域内的压力之间的压力梯度，其中该第二闸门(264)区域内的压力比该第一闸门(261)区域内的压力小至少2倍。
11.一种在线涂覆设备，具有：
具有进料门(260)的进料室(220)，
连接至该进料室(220)的第一缓冲室(221)，该第一缓冲室能借助第一闸门(261)与该进料室(220)分隔开，
连接至该第一缓冲室(221)的加工室(235)，该加工室能借助第二闸门(264)与该缓冲室(221)分隔开，
连接至该加工室(235)的第二缓冲室(222)，该第二缓冲室能借助第三闸门(265)与该加工室(235)分隔开，
连接至该第二缓冲室(222)的且具有出料门(263)的出料室(240)，该出料室能借助第四闸门(262)与该第二缓冲室(222)分隔开，其中该进料室(220)、该缓冲室(221)、该缓冲室(222)及该出料室(240)被设计成用于容置直至预定尺寸为止的基板的模块，
其中为了涂覆，基板(200)从该进料室(220)经由该第一缓冲室(221)被输送至该加工室(235)并且从该加工室(235)经由该第二缓冲室(222)被输送至该出料室(240)，
其特征在于，该第一缓冲室(221)具有包括至少一个狭缝活门(221b)的缝隙闸门机构，在该第一闸门(261)被打开或关闭时，在该第一缓冲室(221)内能借助该缝隙闸门机构调节在该第二闸门(264)区域内的压力与该第一闸门(261)区域内的压力之间的压力梯度。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102015001706.3 | 2015-02-13 | ||
| DE102015001706 | 2015-02-13 | ||
| PCT/EP2016/053187 WO2016128581A1 (de) | 2015-02-13 | 2016-02-15 | Verfahren zum betrieb einer inline-beschichtungsanlage und inline-beschichtungsanlage |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN107429397A true CN107429397A (zh) | 2017-12-01 |
| CN107429397B CN107429397B (zh) | 2022-02-15 |
Family
ID=55404702
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201680015255.2A Active CN107429397B (zh) | 2015-02-13 | 2016-02-15 | 用于运行在线涂覆设备的方法和在线涂覆设备 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US10150139B2 (zh) |
| EP (1) | EP3256618B1 (zh) |
| JP (1) | JP6463846B2 (zh) |
| KR (1) | KR102062441B1 (zh) |
| CN (1) | CN107429397B (zh) |
| EA (1) | EA034259B1 (zh) |
| MX (1) | MX393887B (zh) |
| WO (1) | WO2016128581A1 (zh) |
Cited By (1)
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| CN117305801A (zh) * | 2023-11-29 | 2023-12-29 | 龙焱能源科技（杭州）有限公司 | 用于基板镀膜的传动装置及镀膜传动系统 |
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| EP2762608B1 (en) * | 2013-01-31 | 2019-10-02 | Applied Materials, Inc. | Gas separation by adjustable separation wall |
-
2016
- 2016-02-15 EP EP16705476.6A patent/EP3256618B1/de active Active
- 2016-02-15 MX MX2017010439A patent/MX393887B/es unknown
- 2016-02-15 WO PCT/EP2016/053187 patent/WO2016128581A1/de active Application Filing
- 2016-02-15 KR KR1020177025202A patent/KR102062441B1/ko active Active
- 2016-02-15 EA EA201791800A patent/EA034259B1/ru unknown
- 2016-02-15 JP JP2017542407A patent/JP6463846B2/ja active Active
- 2016-02-15 US US15/550,689 patent/US10150139B2/en active Active
- 2016-02-15 CN CN201680015255.2A patent/CN107429397B/zh active Active
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EA201791800A1 (ru) | 2017-11-30 |
| JP2018505563A (ja) | 2018-02-22 |
| EP3256618B1 (de) | 2020-01-08 |
| US20180036768A1 (en) | 2018-02-08 |
| US10150139B2 (en) | 2018-12-11 |
| CN107429397B (zh) | 2022-02-15 |
| KR102062441B1 (ko) | 2020-01-03 |
| KR20170113661A (ko) | 2017-10-12 |
| EA034259B1 (ru) | 2020-01-22 |
| MX2017010439A (es) | 2018-01-23 |
| MX393887B (es) | 2025-03-24 |
| EP3256618A1 (de) | 2017-12-20 |
| WO2016128581A1 (de) | 2016-08-18 |
| JP6463846B2 (ja) | 2019-02-06 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |