CN107352502A - 一种生物结合性纯钛表面微凸起阵列结构的制备方法 - Google Patents
一种生物结合性纯钛表面微凸起阵列结构的制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN107352502A CN107352502A CN201710680145.4A CN201710680145A CN107352502A CN 107352502 A CN107352502 A CN 107352502A CN 201710680145 A CN201710680145 A CN 201710680145A CN 107352502 A CN107352502 A CN 107352502A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- pure titanium
- micro
- array structure
- adhesive layer
- photoresist
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000010936 titanium Substances 0.000 title claims abstract description 79
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 66
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 66
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 57
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims abstract description 25
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 15
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 40
- 238000006056 electrooxidation reaction Methods 0.000 claims description 27
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims description 20
- JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M sodium bromide Chemical compound [Na+].[Br-] JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 20
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 10
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims description 8
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims description 8
- 229920001486 SU-8 photoresist Polymers 0.000 claims description 7
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 7
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 5
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 claims description 5
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 claims description 5
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 5
- 238000011161 development Methods 0.000 claims description 5
- 238000003698 laser cutting Methods 0.000 claims description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 5
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims description 5
- 238000013461 design Methods 0.000 claims 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 claims 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 abstract description 5
- 238000003801 milling Methods 0.000 abstract description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 4
- 230000021164 cell adhesion Effects 0.000 abstract description 3
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 abstract description 3
- 239000007943 implant Substances 0.000 abstract description 3
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 abstract description 3
- 238000003491 array Methods 0.000 description 4
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 238000005459 micromachining Methods 0.000 description 3
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 210000000988 bone and bone Anatomy 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009760 electrical discharge machining Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 210000002950 fibroblast Anatomy 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000000879 optical micrograph Methods 0.000 description 1
- 210000000963 osteoblast Anatomy 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81C—PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
- B81C1/00—Manufacture or treatment of devices or systems in or on a substrate
- B81C1/00388—Etch mask forming
- B81C1/00404—Mask characterised by its size, orientation or shape
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81C—PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
- B81C1/00—Manufacture or treatment of devices or systems in or on a substrate
- B81C1/00388—Etch mask forming
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81C—PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
- B81C2201/00—Manufacture or treatment of microstructural devices or systems
- B81C2201/01—Manufacture or treatment of microstructural devices or systems in or on a substrate
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81C—PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
- B81C2201/00—Manufacture or treatment of microstructural devices or systems
- B81C2201/01—Manufacture or treatment of microstructural devices or systems in or on a substrate
- B81C2201/0198—Manufacture or treatment of microstructural devices or systems in or on a substrate for making a masking layer
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Prostheses (AREA)
Abstract
本发明涉及一种生物结合性纯钛表面微凸起阵列结构的制备方法,为了提高纯钛表面的生物结合性,本发明在难以用微铣加工的纯钛表面实现了微凸起阵列结构的加工,使用一种新的电化学刻蚀方法,高效地在曲面钛表面加工出表面微纳米结构,微凸起阵列的尺寸范围可以很大,每个凸起大小为100‑300μm,高度最大达到140μm,微凸起阵列的尺寸精度不高,在微凸起之间存在更小尺度微纳米粗糙表面结构,有益于生物细胞与钛金属植入体间生物结合性的增强,本发明在无热影响的基础上,能够高效地在晶粒细化的曲面纯钛表面加工出微米结构的凸起阵列结构,达到增强生物结合性和细胞黏附性的目的。
Description
技术领域
本发明属于3D-电化学刻蚀领域,更具体地说,本发明涉及一种生物结合性纯钛表面微凸起阵列结构的制备方法。
背景技术
由于钛金属与人体骨组织之间优良生物相容性和结合性,钛可以作为植入性假肢的主要材料。经过大塑性变形处理的纯钛具有良好的成骨细胞和成纤维细胞的附着性,然而,植入钛的生物结合性还需要在细晶化基础上,在钛表面制备开放的多孔或微纳米结构。
现有的激光加工、等离子表面刻蚀或聚焦离子束刻蚀(FIB)等方法基于高温过程,对加工对象的组织和性能产生不利影响。
现有的室温表面微加工方法:微铣、放电微细加工(EDM)和电解微细加工(ECM,电极间短距离的电化学加工方法),这些方法均适用于室温加工,但是应用微铣方法表面加工钛凸起阵列困难,这是由于钛的硬度高,微铣过程中刀具常常断裂,加工出的凸起最高高度仅5μm,使用微铣方法加工精度高,加工后表面光滑,但是无益于生物结合性的提高;现有的放电加工(EDM)和微电解加工(ECM)方法可用于难加工材料的表面阵列制备,但是多数用于钛表面孔阵列的加工,少数应用EDM方法加工钛凸起阵列的方法存在加工速度慢,效率低等缺点。
现有的EDM方法可以用来钛表面微凸起阵列的加工,但是这种方法的缺点是加工周期长,效率较低。现有的ECM法可以提高加工的效率,缩短在纯钛表面加工微米结构阵列的时间。但是现有的工艺主要是在纯钛表面加工出微坑阵列,需要微电极阵列,电极在加工过程中存在较大损耗。
发明内容
本发明所要解决的问题是提供一种生物结合性纯钛表面微凸起阵列结构的制备方法。
为了实现上述目的,本发明采取的技术方案为:
一种生物结合性纯钛表面微凸起阵列结构的制备方法,包括如下步骤:
(1)曲面加工
用线切割方法将片状纯钛的一面加工成曲面,并对曲面进行机械研磨和抛光,获得具有一定光洁度的曲面,以备后续胶层的粘附;
(2)掩模板加工
根据所需制备微凸起阵列的形状和尺寸,设计一定掩模板的图案形状和尺寸,掩模板的加工采用0.2-0.4mm厚不锈钢薄片激光切割加工制得;
(3)掩模曝光
在纯钛曲面表面涂覆耐蚀性光敏胶层,所述光敏胶由SU-8光刻胶中添加增黏剂制得,可防止在电化学刻蚀过程中胶层被化学反应产生的液流冲走,并将掩模板覆盖在曲面的纯钛表面,进行曝光处理;
(4)光刻胶层的显影
利用光线照射胶层,被照射和未被照射的胶层与显影液的反应不同,使有光线照射的胶层部分被腐蚀和溶解,而未照射胶层部分留下,形成凸起的位置;
(5)电化学侵蚀
将进行了光刻胶处理的曲面Ti片作为阳极,铂片作为阴极,以1M的NaBr水溶液作为电解液,进行电化学的腐蚀,所述阴极和阳极间的距离为60mm,施加的直流电源电压为6-15V,电化学腐蚀试验的时间为1-3min。
优选的,所述步骤(3)光敏胶层的厚度为10-20μm。
优选的,其特征在于:所述步骤(3)所述光刻胶可为其他粘性较好的光刻胶。
优选的,其特征在于:所述步骤(3)光敏胶中SU-8光刻胶和增黏剂的比例为9:1。
优选的,其特征在于:所述步骤(5)电化学腐蚀的条件可为选用1M的NaBr水溶液作为电解液,施加的直流电源电压为15-19V之间,所述阴极和阳极间的距离为50mm,电化学腐蚀试验的时间为1-2min。
优选的,其特征在于:所述步骤(5)电化学的腐蚀后Ti片微凸起的最高为140μm,凸起的尺寸在100-300μm。
优选的,其特征在于:所述步骤(5)电化学腐蚀后Ti表面存在一些纳米级的粗糙结构。
有益效果:本发明涉及一种生物结合性纯钛表面微凸起阵列结构的制备方法,为了提高纯钛表面的生物结合性,本发明在难以用微铣加工的纯钛表面实现了微凸起阵列结构的加工,使用一种新的电化学刻蚀方法,高效地在曲面钛表面加工出表面微纳米结构,微凸起阵列的尺寸范围可以很大,每个凸起大小为100-300μm,高度最大达到140μm,微凸起阵列的尺寸精度不高,在微凸起之间存在更小尺度微纳米粗糙表面结构,有益于生物细胞与钛金属植入体间的生物结合性的增强,本发明在无热影响的基础上,能够高效地在晶粒细化的曲面纯钛表面加工出微米结构的凸起阵列结构,达到增强生物结合性和细胞黏附性的目的。
附图说明
图1是曲面纯钛电化学刻蚀方法制备表面微凸起阵列结构的工艺流程;
图2是Ti片电化学刻蚀的示意图;
图3是曲面纯钛微电化学刻蚀获得的表面形貌低倍超景深光学显微图;
图4是曲面纯钛微电化学刻蚀获得的表面形貌扫描电镜图;
图5是表面轮廓仪记录的表面轮廓线、微凸起大小(C-D)和高度(A-B),以及SEM观察的基体纳米粗糙结构。
具体实施方式
实施例1:
一种生物结合性纯钛表面微凸起阵列结构的制备方法,包括如下步骤:
(1)曲面加工
用线切割方法将片状纯钛的一面加工成曲面,并对曲面进行机械研磨和抛光,获得具有一定光洁度的曲面,以备后续胶层的粘附;
(2)掩模板加工
根据所需制备微凸起阵列的形状和尺寸,设计一定掩模板的图案形状和尺寸,掩模板的加工采用0.2mm厚不锈钢薄片激光切割加工制得;
(3)掩模曝光
在纯钛曲面表面涂覆耐蚀性光敏胶层,所述光敏胶层的厚度为10μm,所述光敏胶由9份的SU-8光刻胶中添加1份增黏剂制得,可防止在电化学刻蚀过程中胶层被化学反应产生的液流冲走,并将掩模板覆盖在曲面的纯钛表面,进行曝光处理,光刻胶可为其他粘性较好的光刻胶;
(4)光刻胶层的显影
利用光线照射胶层,被照射和未被照射的胶层与显影液的反应不同,使有光线照射的胶层部分被腐蚀和溶解,而未照射胶层部分留下来,形成凸起的位置;
(5)电化学侵蚀
将进行了光刻胶处理的曲面Ti片作为阳极,铂片作为阴极,以1M的NaBr水溶液作为电解液,进行电化学的腐蚀,所述阴极和阳极间的距离为60mm,施加的直流电源电压为6V,电化学腐蚀试验的时间为5min,所述电化学腐蚀的条件可为选用1M的NaBr水溶液作为电解液,电化学腐蚀后微凸起的最高为140μm,凸起的尺寸在100μm,所述Ti表面存在一些纳米级的粗糙结构。
实施例2:
一种生物结合性纯钛表面微凸起阵列结构的制备方法,包括如下步骤:
(1)曲面加工
用线切割方法将片状纯钛的一面加工成曲面,并对曲面进行机械研磨和抛光,获得具有一定光洁度的曲面,以备后续胶层的粘附;
(2)掩模板加工
根据所需制备微凸起阵列的形状和尺寸,设计一定掩模板的图案形状和尺寸,掩模板的加工采用0.3mm厚不锈钢薄片激光切割加工制得;
(3)掩模曝光
在纯钛曲面表面涂覆耐蚀性光敏胶层,所述光敏胶层的厚度为20μm,所述光敏胶由9份的SU-8光刻胶中添加1份增黏剂制得,可防止在电化学刻蚀过程中胶层被化学反应产生的液流冲走,并将掩模板覆盖在曲面的纯钛表面,进行曝光处理,光刻胶可为其他粘性较好的光刻胶;
(4)光刻胶层的显影
利用光线照射胶层,被照射和未被照射的胶层与显影液的反应不同,使有光线照射的胶层部分被腐蚀和溶解,而未照射胶层部分留下,形成凸起的位置;
(5)电化学侵蚀
将进行了光刻胶处理的曲面Ti片作为阳极,铂片作为阴极,以1M的NaBr水溶液作为电解液,进行电化学的腐蚀,所述阴极和阳极间的距离为60mm,施加的直流电源电压为10.5V,电化学腐蚀试验的时间为1.5min,所述电化学腐蚀的条件可为选用1M的NaBr水溶液作为电解液,电化学的腐蚀后微凸起的最高为140μm,凸起的尺寸在200μm,所述Ti表面存在一些纳米级的粗糙结构。
实施例3:
一种生物结合性纯钛表面微凸起阵列结构的制备方法,包括如下步骤:
(1)曲面加工
用线切割方法将片状纯钛的一面加工成曲面,并对曲面进行机械研磨和抛光,获得具有一定光洁度的曲面,以备后续胶层的粘附;
(2)掩模板加工
根据所需制备微凸起阵列的形状和尺寸,设计一定掩模板的图案形状和尺寸,掩模板的加工采用0.4mm厚不锈钢薄片激光切割加工制得;
(3)掩模曝光
在纯钛曲面表面涂覆耐蚀性光敏胶层,所述光敏胶层的厚度为30μm,所述光敏胶由9份的SU-8光刻胶中添加1份增黏剂制得,可防止在电化学刻蚀过程中胶层被化学反应产生的液流冲走,并将掩模板覆盖在曲面的纯钛表面,进行曝光处理,光刻胶可为其他粘性较好的光刻胶;
(4)光刻胶层的显影
利用光线照射胶层,被照射和未被照射的胶层与显影液的反应不同,使有光线照射的胶层部分被腐蚀和溶解,而未照射胶层部分留下来,形成凸起的位置;
(5)电化学侵蚀
将进行了光刻胶处理的曲面Ti片作为阳极,铂片作为阴极,以1M的NaBr水溶液作为电解液,进行电化学的腐蚀,所述阴极和阳极间的距离为50mm,施加的直流电源电压为30V,电化学腐蚀试验的时间为1min,所述电化学腐蚀的条件可为选用1M的NaBr水溶液作为电解液,电化学的腐蚀后微凸起的最高为100μm,凸起的尺寸在200μm,所述Ti表面存在一些纳米级的粗糙结构。
将已制备好的纯钛表面微凸起阵列结构经过以上工艺后,分别取出样品,测量结果如下:
检测项目 | 实施例1 | 实施例2 | 实施例3 | 现有指标 |
加工时间 | 长 | 短 | 短 | 长 |
效率 | 低 | 高 | 高 | 低 |
电极损耗 | 低 | 低 | 高 | 高 |
根据上述表格数据可以得出,当实施例2参数时得到的纯钛表面微凸起阵列结构加工周期短,效率较高,利用该生产工艺制备纯钛表面微凸起阵列结构时电极损耗的也低于现有水平,即此条件更有利于纯钛表面微凸起阵列结构的制造。
本发明公开了一种生物结合性纯钛表面微凸起阵列结构的制备方法,为了提高纯钛表面的生物结合性,本发明在难以用微铣加工的纯钛表面实现了微凸起阵列结构的加工,使用一种新的电化学刻蚀方法,高效地在曲面钛表面加工出表面微纳米结构,微凸起阵列的尺寸范围可以很大,每个凸起大小为100-300μm,高度最大达到140μm,微凸起阵列的尺寸精度不高,在微凸起之间存在更小尺度微纳米粗糙表面结构,有益于生物细胞与钛金属植入体间的生物结合性的增强,本发明在无热影响的基础上,能够高效地在晶粒细化的曲面纯钛表面加工出微米结构的凸起阵列结构,达到增强生物结合性和细胞黏附性的目的。
以上所述的仅是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明创造构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护范围。
Claims (7)
1.一种生物结合性纯钛表面微凸起阵列结构的制备方法,其特征在于:包括如下步骤:
(1)曲面加工
用线切割方法将片状纯钛的一面加工成曲面,并对曲面进行机械研磨和抛光,获得具有一定光洁度的曲面,以备后续胶层的粘附;
(2)掩模板加工
根据所需制备微凸起阵列的形状和尺寸,设计一定掩模板的图案形状和尺寸,掩模板的加工采用0.2-0.4mm厚不锈钢薄片激光切割加工制得
(3)掩模曝光
在纯钛曲面表面涂覆耐蚀性光敏胶层,所述光敏胶由SU-8光刻胶中添加增黏剂制得,可防止在电化学刻蚀过程中胶层被化学反应产生的液流冲走,并将掩模板覆盖在曲面纯钛的表面,进行曝光处理;
(4)光刻胶层的显影
利用光线照射胶层,被照射和未被照射的胶层与显影液的反应不同,使有光线照射的胶层部分被腐蚀和溶解,而未照射胶层部分留下,形成凸起的位置;
(5)电化学侵蚀
将进行了光刻胶处理的曲面Ti片作为阳极,铂片作为阴极,以1M的NaBr水溶液作为电解液,进行电化学的腐蚀,所述阴极和阳极间的距离为60mm,施加的直流电源电压为6-15V,电化学腐蚀试验的时间为1-3min。
2.按照权利要求1所述的一种生物结合性纯钛表面微凸起阵列结构的制备方法,其特征在于:所述步骤(3)光敏胶层的厚度为10-20μm。
3.按照权利要求2所述的一种生物结合性纯钛表面微凸起阵列结构的制备方法,其特征在于:所述步骤(3)所述光刻胶可为其他粘性较好的光刻胶。
4.按照权利要求3所述的一种生物结合性纯钛表面微凸起阵列结构的制备方法,其特征在于:所述步骤(3)光敏胶中SU-8光刻胶和增黏剂的比例为9:1。
5.按照权利要求1所述的一种生物结合性纯钛表面微凸起阵列结构的制备方法,其特征在于:所述步骤(5)电化学腐蚀的条件为选用1M的NaBr水溶液作为电解液,施加的直流电源电压为6-15V之间,所述阴极和阳极间的距离为60mm,电化学腐蚀试验的时间为1-3min。
6.按照权利要求5所述的一种生物结合性纯钛表面微凸起阵列结构的制备方法,其特征在于:所述步骤(5)电化学腐蚀后Ti片微凸起高度最高140μm,凸起尺寸100-300μm。
7.按照权利要求1所述的一种生物结合性纯钛表面微凸起阵列结构的制备方法,其特征在于:所述步骤(5)电化学腐蚀后Ti表面存在一些纳米级的粗糙结构。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201710680145.4A CN107352502B (zh) | 2017-08-10 | 2017-08-10 | 一种生物结合性纯钛表面微凸起阵列结构的制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201710680145.4A CN107352502B (zh) | 2017-08-10 | 2017-08-10 | 一种生物结合性纯钛表面微凸起阵列结构的制备方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN107352502A true CN107352502A (zh) | 2017-11-17 |
CN107352502B CN107352502B (zh) | 2020-05-19 |
Family
ID=60286990
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201710680145.4A Expired - Fee Related CN107352502B (zh) | 2017-08-10 | 2017-08-10 | 一种生物结合性纯钛表面微凸起阵列结构的制备方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN107352502B (zh) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110811874A (zh) * | 2019-11-14 | 2020-02-21 | 山东大学 | 一种纯钛金属牙冠、修复体及加工方法 |
CN111083620A (zh) * | 2020-01-03 | 2020-04-28 | 歌尔科技有限公司 | 一种用于发声装置的导电振膜以及发声装置 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1562402A (zh) * | 2004-03-31 | 2005-01-12 | 中国科学院理化技术研究所 | 金属微针阵列芯片及其制备方法和用途 |
CN105259733A (zh) * | 2015-10-30 | 2016-01-20 | 上海交通大学 | 一种用于曲面图形化的柔性掩膜板制备方法 |
US20160077263A1 (en) * | 2014-09-12 | 2016-03-17 | Samsung Display Co., Ltd. | Wire grid polarizer and method of fabricating the same |
US20160355942A1 (en) * | 2010-11-02 | 2016-12-08 | International Business Machines Corporation | Feedback control of dimensions in nanopore and nanofluidic devices |
CN106558466A (zh) * | 2016-12-07 | 2017-04-05 | 中国人民解放军陆军总医院 | 一种单晶六硼化镧场发射阵列阴极的制备方法 |
CN105399049B (zh) * | 2015-12-03 | 2017-05-03 | 中山大学 | 一种二维原子材料的微纳结构及图形化制备方法 |
CN106865491A (zh) * | 2015-12-14 | 2017-06-20 | 国网智能电网研究院 | 一种纳米电极阵列及其制备方法 |
-
2017
- 2017-08-10 CN CN201710680145.4A patent/CN107352502B/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1562402A (zh) * | 2004-03-31 | 2005-01-12 | 中国科学院理化技术研究所 | 金属微针阵列芯片及其制备方法和用途 |
US20160355942A1 (en) * | 2010-11-02 | 2016-12-08 | International Business Machines Corporation | Feedback control of dimensions in nanopore and nanofluidic devices |
US20160077263A1 (en) * | 2014-09-12 | 2016-03-17 | Samsung Display Co., Ltd. | Wire grid polarizer and method of fabricating the same |
CN105259733A (zh) * | 2015-10-30 | 2016-01-20 | 上海交通大学 | 一种用于曲面图形化的柔性掩膜板制备方法 |
CN105399049B (zh) * | 2015-12-03 | 2017-05-03 | 中山大学 | 一种二维原子材料的微纳结构及图形化制备方法 |
CN106865491A (zh) * | 2015-12-14 | 2017-06-20 | 国网智能电网研究院 | 一种纳米电极阵列及其制备方法 |
CN106558466A (zh) * | 2016-12-07 | 2017-04-05 | 中国人民解放军陆军总医院 | 一种单晶六硼化镧场发射阵列阴极的制备方法 |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
C. MADORE 等: ""Through-Mask Electrochemical Micromachining of Titanium"", 《JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY》 * |
格迪斯: "《MEMS 材料与工艺手册》", 31 March 2014, 东南大学出版社 * |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110811874A (zh) * | 2019-11-14 | 2020-02-21 | 山东大学 | 一种纯钛金属牙冠、修复体及加工方法 |
CN111083620A (zh) * | 2020-01-03 | 2020-04-28 | 歌尔科技有限公司 | 一种用于发声装置的导电振膜以及发声装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN107352502B (zh) | 2020-05-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101724039B1 (ko) | 나노패터닝 요홈 표면을 갖는 임플란트 및 그 제조방법 | |
CN109913919B (zh) | 一种在工件表面制备微纳二维结构的加工方法及装置 | |
Acciari et al. | Surface modifications by both anodic oxidation and ion beam implantation on electropolished titanium substrates | |
CN105624763A (zh) | 一种钛基体表面制备微纳复合结构的方法 | |
CN103736148A (zh) | 制备钛种植体的方法及得到的钛种植体 | |
CN103194782A (zh) | 利用微弧氧化-电泳沉积制备镁基陶瓷涂层的方法 | |
CN110359075B (zh) | 一种钛合金涂层材料及其制备方法和应用 | |
CN101559239A (zh) | 镁基可降解植入体材料及其制备方法 | |
Yoon et al. | Aligned nanowire growth using lithography-assisted bonding of a polycarbonate templatefor neural probe electrodes | |
CN109989089B (zh) | 一种具有微纳结构的促体外成骨分化钽基涂层及其制备方法 | |
CN107352502A (zh) | 一种生物结合性纯钛表面微凸起阵列结构的制备方法 | |
CN113529158B (zh) | 一种电化学去合金法在tc4钛合金表面制备多孔结构的工艺 | |
CN103334145A (zh) | 医用钛表面两步法制备宏观/微观双级孔隙结构生物活性微弧氧化陶瓷涂层的方法 | |
CN103966578B (zh) | 在镁合金表面构筑羟基磷灰石超疏水膜层的方法 | |
CN105081488A (zh) | 金属材料表面大面积微/纳米织构的快速可控制造方法 | |
CN103498184B (zh) | 一种生物医用镁合金微弧电泳改性方法 | |
CN107998445A (zh) | 一种表面修饰多孔钽生物材料及其制备方法 | |
CN108042847A (zh) | 一种改善钛合金种植体表面生物仿生矿化能力的方法 | |
CN103173765B (zh) | 一种镁合金微弧氧化膜沉积羟基磷灰石的复合膜层的制备方法 | |
CN101961263B (zh) | 金属植入物及其表面处理的方法 | |
CN105496577A (zh) | 具有类似骨吸收陷窝表面形貌的钛种植体及制备方法 | |
CN101250738B (zh) | 钛合金表面抗凝血氧化钛薄膜的光电催化氧化制备方法 | |
CN109056030A (zh) | 一种超疏水二氧化钛纳米管阵列薄膜及其制备方法 | |
CN110919115B (zh) | 利用磷酸乙醇混合电解液的微细电解线切割抛光方法 | |
CN104694992B (zh) | 一种钛表面含有钙磷的多层次孔结构的制备方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20200519 Termination date: 20200810 |