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CN107244889A - 一种全抛釉砖的制备方法 - Google Patents

一种全抛釉砖的制备方法 Download PDF

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Abstract

本发明所述一种全抛釉砖的制备方法，其制备的产品具有釉面透感强、亮度高、层次丰富、白度高、防污好等特点，而且增加铝的加入，可获得强度高(强度＞35MPa，可稳定在40MPa左右)、釉面透感强、亮度高(亮度＞100度)、发色艳丽、层次丰富、防污效果好的产品。

Description

一种全抛釉砖的制备方法
技术领域
本发明涉及釉面砖技术领域，具体地说，涉及一种全抛釉砖的制备方法。
背景技术
全抛釉砖集抛光砖与仿古砖优点于一体的，釉面如抛光砖般光滑亮洁，同时其釉面花色如仿古砖般图案丰富，色彩厚重或绚丽，其特点是透明不遮盖底下的抛釉和各道花釉。全抛釉砖全抛釉是釉下彩，属于釉面砖，它是在施完底釉料后就印花，再施一层透明的抛釉，烧制后把整个抛釉抛去一部分，保留一部分抛釉层、印花层、底釉料。全抛釉仿古砖属于一次烧成，在釉面进行抛光，属于最后一道工序。
但是，现有制备方法在生产过程中釉料损耗大，成本高，而且制备方法稳定性和产品质量较差。
发明内容
本发明克服了现有技术中的缺点，提供了一种全抛釉砖的制备方法，实现了提高工艺的稳定性和产品质量、减少生产过程中釉料损耗、降低成本。
为了解决上述技术问题，本发明是通过以下技术方案实现的：
一种全抛釉砖的制备方法，包括以下步骤：
(1)制备坯体，所述坯体的主要化学成分为：SiO2 65～70％、Al2O3 16～20％、Fe2O32～3％、TiO2 0.2～0.4％、CaO 0.7～0.8％、K2O 2～2.5％、SnO2 2～3％，烧失量IL为4～7％，各成分的百分比为质量百分比；
(2)制备底釉料：称取底釉原料，经球磨、过140～160目筛、除铁、入釉缸，陈腐备用；所述底釉原料的主要化学成分为：SiO265～72％、Al2O3 18～22％、Fe2O3 0.1～0.2％、TiO2 0.03～0.05％、CaO 2～3％、ZrO 2 0.1～0.2％、K2O 1.5～2.0％、SnO2 2.0～2.5％，烧失量IL为2～4％，各成分的百分比为质量百分比；
(3)制备抛釉料：称取抛釉原料，经球磨、过140～160目筛、除铁、入釉缸，陈腐备用；所述抛釉原料的主要化学成分为：SiO2 68～73％、Al2O3 13～17％、Fe2O3 0.1～0.15％、TiO2 0.02～0.04％、CaO 3～5％、K2O 0.4～0.5％、SnO2 2.0～2.5％，烧失量IL为8～10％，各成分的百分比为质量百分比；
(4)在步骤(1)的坯体表面淋底釉料形成底釉层、在底釉层上表面丝网印刷形成花釉层、之后在花釉层上表面淋抛釉料形成抛釉层；
(5)在步骤(4)后入窑烧成、水冷、抛光、打高洁亮液、打蜡、贴膜，入窑烧成的温度为1150～1200℃。
进一步，步骤(1)中所述坯体的主要化学成分为：步骤(1)中所述坯体的主要化学成分为：SiO2 69％、Al2O3 18％、Fe2O3 2.5％、TiO2 0.3％、CaO 0.75％、K2O 2.2％、SnO22.25％，烧失量IL为5％，各成分的百分比为质量百分比。
进一步，步骤(2)中的底釉原料的主要化学成分为：SiO2 70％、Al2O3 20％、Fe2O30.15％、TiO2 0.04％、CaO 2.56％、ZrO 2 0.15％、K2O 1.8％、SnO2 2.3％，烧失量IL为3％，各成分的百分比为质量百分比。
进一步，所述抛釉原料的主要化学成分为：SiO2 69.2％、Al2O3 15％、Fe2O30.12％、TiO2 0.03％、CaO 4％、K2O 0.45％、SnO2 2.2％，烧失量IL为9％，各成分的百分比为质量百分比。
进一步，步骤(4)中的丝网印刷，包括用100目全通网和100目效果网，在通过基础色网以后，采用三道全通网和一道效果网。
进一步，步骤(1)中制备坯体的原料由软质原料和硬质原料组成，制备坯体时将制备坯体用的硬质原料进行破碎、破碎后与制备坯体用的软质原料一起球磨、过80～100目筛、除铁、入浆池、喷雾塔造粒、入粉箱陈腐备用；
其中，所述软质原料为高铝泥2～3％、水洗泥7.2～7.8％、博罗泥1.7～2.2％、惠东精选泥2.8～3.2％、膨润土1.2～1.7％、65#水洗泥6.2～6.8％；硬质原料为中山石粉15～18％、盛发石粉12～15％、高铝钾砂4～6％、氧化锆1～1.5％、氧化锡4～5％、东平砂28～32％、新丰石粉2.5～3.0％、滑石粒2.5～3.0％，各成分的百分比为质量百分比。
进一步，所述软质原料为高铝泥2.5％、水洗泥7.5％、博罗泥2％、惠东精选泥3％、膨润土1.5％、65#水洗泥6.5％；硬质原料为中山石粉17％、盛发石粉14％、高铝钾砂5％、氧化锆1.2％、氧化锡4.5％、东平砂30％、新丰石粉2.7％、滑石粒2.6％，各成分的百分比为质量百分比。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：
本发明所述一种全抛釉砖的制备方法，其制备的产品具有釉面透感强、亮度高、层次丰富、白度高、防污好等特点，而且增加铝的加入，可获得强度高(强度＞35MPa，可稳定在40MPa左右)、釉面透感强、亮度高(亮度＞100度)、发色艳丽、层次丰富、防污效果好的产品。
具体实施方式
以下对本发明的优选实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本发明，并不用于限定本发明。
一种全抛釉砖的制备方法，包括以下步骤：
(1)制备坯体，所述坯体的主要化学成分为：SiO2 69％、Al2O3 18％、Fe2O3 2.5％、TiO2 0.3％、CaO 0.75％、K2O 2.2％、SnO2 2.25％，烧失量IL为5％，各成分的百分比为质量百分比；
(2)制备底釉料：称取底釉原料，经球磨、过140～160目筛、除铁、入釉缸，陈腐备用；所述底釉原料的主要化学成分为：SiO2 70％、Al2O3 20％、Fe2O3 0.15％、TiO2 0.04％、CaO 2.56％、ZrO2 0.15％、K2O 1.8％、SnO2 2.3％，烧失量IL为3％，各成分的百分比为质量百分比；
(3)制备抛釉料：称取抛釉原料，经球磨、过140～160目筛、除铁、入釉缸，陈腐备用；所述抛釉原料的主要化学成分为：SiO2 69.2％、Al2O3 15％、Fe2O3 0.12％、TiO20.03％、CaO 4％、K2O 0.45％、SnO2 2.2％，烧失量IL为9％，各成分的百分比为质量百分比；
(4)在步骤(1)的坯体表面淋底釉料形成底釉层、在底釉层上表面丝网印刷形成花釉层、之后在花釉层上表面淋抛釉料形成抛釉层，其中丝网印刷，包括用100目效果网和100目全通网交叉印刷，包括用100目全通网和100目效果网，在通过基础色网以后，采用三道全通网和一道效果网；
(5)在步骤(4)后入窑烧成、水冷、抛光、打高洁亮液、打蜡、贴膜，入窑烧成的温度为1150～1200℃。
其中，步骤(1)中制备坯体的原料由软质原料和硬质原料组成，制备坯体时将制备坯体用的硬质原料进行破碎、破碎后与制备坯体用的软质原料一起球磨、过80～100目筛、除铁、入浆池、喷雾塔造粒、入粉箱陈腐备用；
其中，软质原料为高铝泥2.5％、水洗泥7.5％、博罗泥2％、惠东精选泥3％、膨润土1.5％、65#水洗泥6.5％；硬质原料为中山石粉17.5％、盛发石粉14.5％、高铝钾砂5％、氧化锡4.5％、东平砂30％、新丰石粉2.7％、滑石粒2.8％，各成分的百分比为质量百分比。
得到的产品具有釉面透感强、亮度高、层次丰富、白度高、防污好等特点，而且增加铝的加入，可获得强度高(强度＞35MPa，可稳定在40MPa左右)、釉面透感强、亮度高(亮度＞100度)、发色艳丽、层次丰富、防污效果好的产品。
最后应说明的是：以上仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，尽管参照实施例对本发明进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换，但是凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (7)

1.一种全抛釉砖的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
(1)制备坯体，所述坯体的主要化学成分为：SiO2 65～70％、Al2O3 16～20％、Fe2O3 2～3％、TiO2 0.2～0.4％、CaO 0.7～0.8％、K2O 2～2.5％、SnO2 2～3％，烧失量IL为4～7％，各成分的百分比为质量百分比；
(2)制备底釉料：称取底釉原料，经球磨、过140～160目筛、除铁、入釉缸，陈腐备用；所述底釉原料的主要化学成分为：SiO265～72％、Al2O3 18～22％、Fe2O3 0.1～0.2％、TiO20.03～0.05％、CaO 2～3％、ZrO2 0.1～0.2％、K2O 1.5～2.0％、SnO2 2.0～2.5％，烧失量IL为2～4％，各成分的百分比为质量百分比；
(3)制备抛釉料：称取抛釉原料，经球磨、过140～160目筛、除铁、入釉缸，陈腐备用；所述抛釉原料的主要化学成分为：SiO2 68～73％、Al2O3 13～17％、Fe2O3 0.1～0.15％、TiO20.02～0.04％、CaO 3～5％、K2O 0.4～0.5％、SnO2 2.0～2.5％，烧失量IL为8～10％，各成分的百分比为质量百分比；
(4)在步骤(1)的坯体表面淋底釉料形成底釉层、在底釉层上表面丝网印刷形成花釉层、之后在花釉层上表面淋抛釉料形成抛釉层；
(5)在步骤(4)后入窑烧成、水冷、抛光、打高洁亮液、打蜡、贴膜，入窑烧成的温度为1150～1200℃。
2.根据权利要求1所述一种全抛釉砖的制备方法，其特征在于，步骤(1)中所述坯体的主要化学成分为：SiO2 69％、Al2O3 18％、Fe2O3 2.5％、TiO2 0.3％、CaO 0.75％、K2O2.2％、SnO2 2.25％，烧失量IL为5％，各成分的百分比为质量百分比。
3.根据权利要求1所述一种全抛釉砖的制备方法，其特征在于，步骤(2)中的底釉原料的主要化学成分为：SiO2 70％、Al2O3 20％、Fe2O3 0.15％、TiO2 0.04％、CaO 2.56％、ZrO20.15％、K2O 1.8％、SnO2 2.3％，烧失量IL为3％，各成分的百分比为质量百分比。
4.根据权利要求1所述一种全抛釉砖的制备方法，其特征在于，所述抛釉原料的主要化学成分为：SiO2 69.2％、Al2O3 15％、Fe2O3 0.12％、TiO2 0.03％、CaO 4％、K2O 0.45％、SnO22.2％，烧失量IL为9％，各成分的百分比为质量百分比。
5.根据权利要求1所述一种全抛釉砖的制备方法，其特征在于，步骤(4)中的丝网印刷，包括用100目全通网和100目效果网，在通过基础色网以后，采用三道全通网和一道效果网。
6.根据权利要求1所述一种全抛釉砖的制备方法，其特征在于，步骤(1)中制备坯体的原料由软质原料和硬质原料组成，制备坯体时将制备坯体用的硬质原料进行破碎、破碎后与制备坯体用的软质原料一起球磨、过80～100目筛、除铁、入浆池、喷雾塔造粒、入粉箱陈腐备用；
其中，所述软质原料为高铝泥2～3％、水洗泥7.2～7.8％、博罗泥1.7～2.2％、惠东精选泥2.8～3.2％、膨润土1.2～1.7％、65#水洗泥6.2～6.8％；硬质原料为中山石粉15～18％、盛发石粉12～15％、高铝钾砂4～6％、氧化锡4～5％、东平砂28～32％、新丰石粉2.5～3.0％、滑石粒2.5～3.0％，各成分的百分比为质量百分比。
7.根据权利要求6所述一种全抛釉砖的制备方法，其特征在于，所述软质原料为高铝泥2.5％、水洗泥7.5％、博罗泥2％、惠东精选泥3％、膨润土1.5％、65#水洗泥6.5％；硬质原料为中山石粉17.5％、盛发石粉14.5％、高铝钾砂5％、氧化锡4.5％、东平砂30％、新丰石粉2.7％、滑石粒2.8％，各成分的百分比为质量百分比。
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