CN106920831B - 显示装置以及电子装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种显示装置以及电子设备，所述显示装置包括：基板；像素限定层，设置在所述基板上，其中，所述像素限定层限定出多个像素区域和多个非像素区域；主柱，设置在所述像素限定层上，并位于所述非像素区域；以及辅柱，位于所述非像素区域，并位于所述主柱和像素区域之间，所述辅柱的高度低于所述主柱的高度，且所述辅柱的高度高于所述像素限定层的高度。当主柱承受较大的冲击时，辅柱可以起到一定的支撑效果，防止主柱承受过大的压力；并且，若主柱上的阴极或/和光提取层被压坏，甚至主柱被压坏，辅柱会阻挡散落的碎屑会掉入像素区域，从而避免黑斑的产生。

Description

显示装置以及电子装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种显示装置以及电子装置。

背景技术

电激发光显示装置的技术特点包括：自发光、直流低电压驱动(10V以下)、发光效率高、功率低、发光颜色丰富、容易达成彩色显示、成本低、温度特性优异，发光性能不受温度影响等，因此。电激发光显示装置广泛应用于手机、平板电脑等电子设备。然而，现有的显示装置在落球试验后会出现黑斑不良的情况，且无法恢复，影响电子设备的显示性能。

发明内容

为解决上述技术问题，本发明提供一种显示装置，包括：

基板；

像素限定层，设置在所述基板上，其中，所述像素限定层限定出多个像素区域和多个非像素区域；

主柱，设置在所述像素限定层上，并位于所述非像素区域；以及

辅柱，位于所述非像素区域，并位于所述主柱和像素区域之间，所述辅柱的高度低于所述主柱的高度，且所述辅柱的高度高于所述像素限定层的高度。

进一步的，在所述显示装置中，所述像素限定层在所述像素区域具有像素开口，所述像素限定层在所述非像素区域具有辅柱开口，至少部分所述辅柱位于所述辅柱开口中。

进一步的，在所述显示装置中，所述辅柱和主柱的材料相同。

进一步的，在所述显示装置中，所述辅柱设置在所述像素限定层上，所述辅柱的厚度小于所述主柱的厚度。

进一步的，在所述显示装置中，所述辅柱围绕在所述主柱的四周。

进一步的，在所述显示装置中，所述显示装置还包括一盖板，所述盖板覆盖所述主柱、辅柱和像素限定层，所述主柱支撑所述盖板。

进一步的，在所述显示装置中，所述阴极膜层覆盖所述主柱和辅柱，所述阴极膜层隔离所述主柱和所述盖板，并隔离所述辅柱和所述盖板。

进一步的，在所述显示装置中，所述显示装置还包括多个像素，每个所述像素位于一个所述像素区域内的基板上，所述阴极膜层覆盖所述像素，所述辅柱的高度高于所述像素的高度。

进一步的，在所述显示装置中，所述阴极膜层包括自下至上依次沉积的阴极和光提取层。

根据本发明的另一面，还提供一种包括如上任意一项所述显示装置的电子装置。

在本发明提供一种显示装置中，所述显示装置包括：基板；像素限定层，设置在所述基板上，其中，所述像素限定层限定出多个像素区域和多个非像素区域；主柱，设置在所述像素限定层上，并位于所述非像素区域；以及辅柱，位于所述非像素区域，并位于所述主柱和像素区域之间，所述辅柱的高度低于所述主柱的高度，且所述辅柱的高度高于所述像素限定层的高度。当主柱承受较大的冲击时，辅柱可以起到一定的支撑效果，防止主柱承受过大的压力；并且，若主柱上的阴极或/和光提取层会被压坏，甚至主柱被压坏，辅柱会阻挡散落的碎屑会掉入像素区域，从而避免黑斑的产生。

进一步的，在本发明提供一种显示装置中，所述像素限定层在所述像素区域具有像素开口，所述像素限定层在所述非像素区域具有辅柱开口，至少部分所述辅柱位于所述辅柱开口中，所述辅柱和主柱的材料相同，所述辅柱和主柱可以通过同一沉积步骤和同一刻蚀步骤同时形成，可以简化工艺。

附图说明

图1为本发明一实施例的显示装置的剖面示意图；

图2为本发明一实施例的显示装置的俯视图，图1为图2沿AA’线的剖面图；

图3为本发明一实施例的像素限定层的俯视图；

图4为本发明另一实施例的显示装置的剖面示意图。

具体实施例

现有的显示装置在落球试验后会出现黑斑不良的情况，且无法恢复，影响电子设备的显示性能。通过对现有技术研究发现，当显示装置的柱子(spacer，简称SPC)用于支撑盖板，当盖板承受较大压力时，会将压力向下转移，转移给柱子SPC，柱子SPC上的阴极或/和光提取层会被压坏，甚至柱子SPC被压坏，散落的碎屑会掉入像素区域，导致像素(开口区)的光被遮挡，导致黑斑。

进一步研究发现，如果将柱子SPC作为支撑盖板的主柱，在主柱与像素区域之间设置高度低于主柱的辅柱，当主柱承受较大的冲击时，辅柱可以起到一定的支撑效果，防止主柱承受过大的压力；并且，若主柱上的阴极或/和光提取层会被压坏，甚至主柱被压坏，辅柱会阻挡散落的碎屑会掉入像素区域，从而避免黑斑的产生。

根据上述研究，本发明提出一种显示装置，所述显示装置包括：

基板；像素限定层，设置在所述基板上，其中，所述像素限定层限定出多个像素区域和多个非像素区域；主柱，设置在所述像素限定层上，并位于所述非像素区域；以及辅柱，位于所述非像素区域，并位于所述主柱和像素区域之间，所述辅柱的高度低于所述主柱的高度，且所述辅柱的高度高于所述像素限定层的高度。

当主柱承受较大的冲击时，辅柱可以起到一定的支撑效果，防止主柱承受过大的压力；并且，若主柱上的阴极或/和光提取层会被压坏，甚至主柱被压坏，辅柱会阻挡散落的碎屑会掉入像素区域，从而避免黑斑的产生。

进一步的，在所述显示装置中，所述像素限定层在所述像素区域具有像素开口，所述像素限定层在所述非像素区域具有辅柱开口，至少部分所述辅柱位于所述辅柱开口中，所述辅柱和主柱的材料相同，所述辅柱和主柱可以通过同一沉积步骤和同一刻蚀步骤同时形成，可以简化工艺。

下面将结合示意图对本发明的显示装置进行更详细的描述，其中表示了本发明的优选实施例，应该理解本领域技术人员可以修改在此描述的本发明，而仍然实现本发明的有利效果。因此，下列描述应当被理解为对于本领域技术人员的广泛知道，而并不作为对本发明的限制。

在下列段落中参照附图以举例方式更具体地描述本发明。根据下面说明，本发明的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本发明实施例的目的。

参考图1和图2(为了清楚显示，在图2中省略阴极膜层和盖板)，所述显示装置1包括基板100、像素限定层110、主柱121、辅柱22。在本实施例中，所述基板100为阵列基板，所述基板100上设置有电路层101，所述电路层101内设置有TFT电路(薄膜晶体管电路，图中未示出)。所述像素限定层110设置在所述基板100上，在本实施例中所述像素限定层110设置在所述电路层101上，其中，所述像素限定层110具有多个像素开口111，从而限定出多个像素区域11和多个非像素区域12，其中，所述像素开口111处限定出所述像素区域11。

所述主柱121设置在所述像素限定层110上，并位于所述非像素区域12，所述主柱(spacer，简称SPC)121用于支撑一盖板140。所述主柱121的材料可以为氮化硅或氧化硅等材料。所述辅柱122位于所述非像素区域12，并位于所述主柱121和像素区域150之间，用于隔离所述主柱121和像素区域150。所述辅柱122的高度略低于所述主柱121的高度，使得所述主柱121能够接触支撑所述盖板140，而所述辅柱122不会接触支撑所述盖板140。并且，所述辅柱122的高度高于所述像素限定层110的高度，当所述盖板140受到冲击时，所述盖板140压向所述辅柱122，所述辅柱122会辅助支撑所述盖板140，而不会压到所述像素限定层110。

如图1所示，所述显示装置1还包括多个像素111，每个所述像素111位于一个所述像素区域11内的基板100上，在本实施例中，所述像素111位于一个所述像素区域11内的电路层101上，所述辅柱122的高度高于所述像素111的高度，当所述盖板140受到冲击时，所述盖板140压向所述辅柱122，所述辅柱122会辅助支撑所述盖板140，而不会压到所述像素111。

所述显示装置1还包括一盖板140，所述盖板140覆盖所述主柱121、辅柱122和像素限定层110、像素111，所述主柱121支撑所述盖板140。所述盖板140为透明盖板，一般为玻璃。所述显示装置1还包括阴极膜层130，所述阴极膜层130覆盖所述主柱121和辅柱122，所述阴极膜层130隔离所述主柱121和所述盖板140，并隔离所述辅柱122和所述盖板140，所述阴极膜层130覆盖所述像素111、主柱121、辅柱122以及像素限定层110。在本实施例中，所述阴极膜层130包括自下至上依次沉积的阴极131和光提取层(CPL)132。

当所述盖板140受到冲击时，所述主柱121承受较大的冲击时，所述盖板140压向所述辅柱122，所述辅柱122可以起到一定的支撑效果，防止所述主柱121承受过大的压力；并且，若所述主柱121上的阴极131或/和光提取层132被压坏，甚至所述主柱121被压坏，所述辅柱122会阻挡散落的碎屑掉入所述像素区域111，避免散落的碎屑遮挡所述像素111，从而避免黑斑的产生。

进一步的，所述辅柱122的高度略低于所述主柱121的高度，例如，所述辅柱122的高度比所述主柱121的高度低10nm～2μm，如50nm、100nm、500nm、1μm、1.5μm等等，可以保证在所述盖板140未受到冲击时，所述辅柱122不会接触所述盖板140，而当所述盖板140受到冲击时，所述辅柱122可以辅助支撑所述盖板140，并能有效阻挡散落的碎屑。

在本发明一实施例中，所述像素限定层110在所述非像素区域12具有辅柱开口112，所述辅柱开口112和所述像素开口111可以采用同一步刻蚀工艺形成，可以使用同一光罩，节约成本。

至少部分所述辅柱122位于所述辅柱开口112中，例如全部所述辅柱122位于所述辅柱开口112中，大部分所述辅柱122位于所述辅柱开口112中，有利于降低所述辅柱122的高度。所述辅柱122和主柱121的材料相同，所述辅柱122和主柱121可以通过同一沉积步骤和同一刻蚀步骤同时形成，可以简化工艺。例如，在所述像素限定层110上沉积一膜层，所述膜层填充所述辅柱开口112，填充进所述辅柱开口112的膜层高度低于未填充进所述辅柱开口112的膜层高度。然后对所述膜层进行选择性刻蚀，同时形成所述辅柱122和主柱121，所述辅柱122和主柱121具有不同的高度。

如图2所示，所述辅柱122围绕在所述主柱121的四周，可以有效的包裹散落的碎屑，避免散落的碎屑遮挡所述像素111，从而避免黑斑的产生。如图3所示，所述辅柱开口112为一方环形。

本实施例中的所述显示装置1可以用于电子装置，例如手机、平板电脑、显示橱窗等等，所述电子装置的显示性能可靠，不易产生黑斑。

如图4所示，在本发明的另一实施例中，所述像素限定层110中未设置所述辅柱开口112，所述辅柱222设置在所述像素限定层110上，所述辅柱222的厚度K2小于所述主柱121的厚度K1，亦可以实现所述辅柱222的高度低于所述主柱121的高度。例如在制备所述辅柱222和主柱121时，可以先沉积主柱膜层，然后对主柱膜层进行选择性刻蚀，以形成主柱121；然后沉积辅柱膜层，然后对辅柱膜层进行选择性刻蚀，以形成辅柱222。当然，所述辅柱222和主柱121的形成方法并不限于上述公开的范围，本领域的普通技术人员可以根据需要选择制备步骤。

在另一实施例中，当所述盖板140受到冲击时，所述主柱121承受较大的冲击时，所述盖板140压向所述辅柱222，所述辅柱222可以起到一定的支撑效果，防止所述主柱121承受过大的压力；并且，若所述主柱121上的阴极131或/和光提取层132被压坏，甚至所述主柱121被压坏，所述辅柱222会阻挡散落的碎屑掉入所述像素区域111，避免散落的碎屑遮挡所述像素111，从而避免黑斑的产生。

综上所述，本发明提供一种显示装置以及电子设备，所述显示装置包括：基板；像素限定层，设置在所述基板上，其中，所述像素限定层限定出多个像素区域和多个非像素区域；主柱，设置在所述像素限定层上，并位于所述非像素区域；以及辅柱，位于所述非像素区域，并位于所述主柱和像素区域之间，所述辅柱的高度低于所述主柱的高度，且所述辅柱的高度高于所述像素限定层的高度。

当主柱承受较大的冲击时，辅柱可以起到一定的支撑效果，防止主柱承受过大的压力；并且，若主柱上的阴极或/和光提取层被压坏，甚至主柱被压坏，辅柱会阻挡散落的碎屑掉入像素区域，从而避免黑斑的产生。

显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (9)

1.一种显示装置，其特征在于，包括：

基板；

像素限定层，设置在所述基板上，其中，所述像素限定层限定出多个像素区域和多个非像素区域；

主柱，设置在所述像素限定层上，并位于所述非像素区域；以及

辅柱，位于所述非像素区域，并位于所述主柱和像素区域之间，所述辅柱的高度低于所述主柱的高度，且所述辅柱的高度高于所述像素限定层的高度，所述像素限定层在所述像素区域具有像素开口，所述像素限定层在所述非像素区域具有辅柱开口，至少部分所述辅柱位于所述辅柱开口中。

2.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述辅柱和主柱的材料相同。

3.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述辅柱设置在所述像素限定层上，所述辅柱的厚度小于所述主柱的厚度。

4.如权利要求1-3中任意一项所述的显示装置，其特征在于，所述辅柱围绕在所述主柱的四周。

5.如权利要求1-3中任意一项所述的显示装置，其特征在于，所述显示装置还包括一盖板，所述盖板覆盖所述主柱、辅柱和像素限定层，所述主柱支撑所述盖板。

6.如权利要求5所述的显示装置，其特征在于，所述显示装置还包括阴极膜层，所述阴极膜层覆盖所述主柱和辅柱，所述阴极膜层隔离所述主柱和所述盖板，并隔离所述辅柱和所述盖板。

7.如权利要求6所述的显示装置，其特征在于，所述显示装置还包括多个像素，每个所述像素位于一个所述像素区域内的基板上，所述阴极膜层覆盖所述像素，所述辅柱的高度高于所述像素的高度。

8.如权利要求1-3中任意一项所述的显示装置，其特征在于，所述辅柱的高度比所述主柱的高度低10nm～2μm。

9.一种包括如权利要求1-8中任意一项所述显示装置的电子装置。