CN106597719A - 触控显示屏及其制造方法、触控显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开一种触控显示屏及其制造方法、触控显示装置，属于触控显示技术领域。触控显示屏包括：由阵列基板和彩膜基板对盒成形的液晶盒，以及位于液晶盒内的液晶层、触控发射电极和触控接收电极，其中，彩膜基板的衬底基板复用为触控显示屏的保护盖板。本发明解决了触控显示屏的厚度较大，难以实现薄型化的问题，达到了减小触控显示屏的厚度，便于实现薄型化的效果。本发明用于触控显示装置。
Description
技术领域
本发明涉及触控显示技术领域，特别涉及一种触控显示屏及其制造方法、触控显示装置。
背景技术
随着触控显示技术的不断发展，触控显示装置广泛应用于显示领域，常见的触控显示装置如智能手机、平板电脑、智能车载终端等。
触控显示装置通常包括触控显示屏。相关技术中，触控显示屏包括显示面板、触控面板和集成电路(英文：Integrated Circuit；简称：IC)等，触控面板叠加在显示面板上，IC分别与显示面板和触控面板连接。其中，显示面板包括由阵列基板和彩膜基板对盒成形的液晶盒以及位于液晶盒内的液晶层；触控面板包括衬底基板以及位于衬底基板上的触控发射电极和触控接收电极。其中，IC可以控制显示面板的阵列基板、彩膜基板和液晶层共同实现触控显示屏的显示功能，还可以控制触控面板的触控发射电极和触控接收电极共同实现触控显示屏的触控功能，使得触控显示屏能够显示图像并与用户进行人机交互。
在实现本发明的过程中，发明人发现相关技术至少存在以下问题：
由于触控显示屏的触控面板叠加在显示面板上，且显示面板包括阵列基板、彩膜基板和液晶层，触控面板包括衬底基板、触控发射电极和触控接收电极，因此，触控显示屏的厚度较大，难以实现薄型化。
发明内容
为了解决触控显示屏的厚度较大，难以实现薄型化的问题，本发明提供一种触控显示屏及其制造方法、触控显示装置。所述技术方案如下：
第一方面，提供一种触控显示屏，所述触控显示屏包括：
由阵列基板和彩膜基板对盒成形的液晶盒，以及位于所述液晶盒内的液晶层、触控发射电极和触控接收电极；
其中，所述彩膜基板的衬底基板复用为所述触控显示屏的保护盖板。
可选地，所述触控发射电极位于所述阵列基板与所述液晶层之间，所述触控接收电极位于所述彩膜基板与所述液晶层之间；
所述彩膜基板与所述液晶层之间的所述液晶盒内设置有第一偏光片，所述阵列基板上设置有第二偏光片。
可选地，所述第一偏光片设置在所述彩膜基板上，所述触控接收电极设置在所述第一偏光片上；
所述第二偏光片设置在所述阵列基板的衬底基板远离所述液晶层的一面上，所述触控发射电极设置在所述阵列基板上。
可选地，所述彩膜基板的衬底基板远离所述液晶层的一面包括油墨印刷区域，所述油墨印刷区域上设置有轴线方向与所述彩膜基板的衬底基板的厚度方向平行的丝印孔，且所述油墨印刷区域上印刷有油墨。
可选地，所述阵列基板和所述彩膜基板都包括显示区域和非显示区域，所述非显示区域位于所述显示区域的周围，所述阵列基板的显示区域在所述彩膜基板上的正投影区域与所述彩膜基板的显示区域重合，所述阵列基板的非显示区域在所述彩膜基板上的正投影区域的面积小于所述彩膜基板的非显示区域的面积，所述丝印孔位于所述油墨印刷区域上，所述油墨印刷区域与所述阵列基板在所述彩膜基板的衬底基板上的正投影区域不同。
第二方面，提供一种触控显示屏的制造方法，所述方法包括：
分别形成阵列基板和彩膜基板；
将所述阵列基板和所述彩膜基板对盒成形得到液晶盒，所述液晶盒内形成有液晶层、触控发射电极和触控接收电极；
其中，所述彩膜基板的衬底基板复用为所述触控显示屏的保护盖板。
可选地，所述将所述阵列基板和所述彩膜基板对盒成形得到液晶盒，所述液晶盒内形成有液晶层、触控发射电极和触控接收电极，包括：
在所述阵列基板上形成所述触控发射电极；
在形成有所述触控发射电极的阵列基板上形成所述液晶层；
在所述彩膜基板上形成所述触控接收电极；
将所述阵列基板和所述彩膜基板对盒成形得到所述液晶盒，所述液晶盒内形成有液晶层、所述触控发射电极和所述触控接收电极。
可选地，所述在所述彩膜基板上形成所述触控接收电极，包括：
在所述彩膜基板上形成第一偏光片；
在形成有所述第一偏光片的彩膜基板上形成所述触控接收电极；
在所述将所述阵列基板和所述彩膜基板对盒成形得到所述液晶盒之后，所述方法还包括：
在所述阵列基板的衬底基板远离所述液晶层的一面上形成第二偏光片。
可选地，所述彩膜基板的衬底基板远离所述液晶层的一面包括油墨印刷区域，在所述阵列基板的衬底基板远离所述液晶层的一面上形成第二偏光片之前，所述方法还包括：
在所述油墨印刷区域上形成轴线方向与所述彩膜基板的衬底基板的厚度方向平行的丝印孔；
在所述油墨印刷区域上印刷油墨。
第三方面，提供一种触控显示装置，所述触控显示装置包括第一方面所述的触控显示屏。
本发明提供的技术方案带来的有益效果是：
本发明提供的触控显示屏及其制造方法、触控显示装置，由于触控发射电极和触控接收电极位于阵列基板和彩膜基板对盒成形的液晶盒内，且彩膜基板的衬底基板复用为触控显示屏的保护盖板，因此，可以减小触控显示屏的厚度，解决了相关技术中触控显示屏的厚度较大，难以实现薄型化的问题，达到了减小触控显示屏的厚度，便于实现薄型化的效果。
应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性的，并不能限制本发明。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明实施例提供的一种触控显示屏的结构示意图；
图2是本发明实施例提供的另一种触控显示屏的结构示意图；
图3是本发明实施例提供的一种触控显示屏的正视图；
图4是本发明实施例提供的一种触控显示屏的后视图；
图5是本发明实施例提供的一种触控显示屏的制造方法的方法流程图；
图6-1是本发明实施例提供的另一种触控显示屏的制造方法的方法流程图；
图6-2是图6-1所示实施例提供的一种在阵列基板上形成触控发射电极后的结构示意图；
图6-3是图6-1所示实施例提供的一种在形成有触控发射电极的阵列基板上形成液晶层后的结构示意图；
图6-4是图6-1所示实施例提供的一种在彩膜基板上形成第一偏光片后的结构示意图；
图6-5是图6-1所示实施例提供的一种在形成有第一偏光片的彩膜基板上形成触控接收电极后的结构示意图；
图6-6是图6-1所示实施例提供的一种将阵列基板和彩膜基板对盒成形后的结构示意图；
图6-7是图6-1所示实施例提供的一种在彩膜基板的衬底基板上形成丝印口后的结构示意图。
此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本发明的实施例，并与说明书一起用于解释本发明的原理。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部份实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。
随着液晶显示技术的不断发展，智能手机对触控显示屏的要求越来越高，上市智能手机最薄已经能做到4.7mm(中文：毫米)，这间接要求触控显示屏的厚度越来越薄，同时消费者对智能手机的显示效果的要求越来越高，整个行业对触控显示屏的品质要求也越来越高，面对全球市场对智能手机的需求已接近饱和的情况，各大触控显示屏厂竞争日趋激烈，企业盈利面临严峻的考验，如何提升企业制样良率，是实现企业盈利的至要措施。
请参考图1，其示出了本发明实施例提供的一种触控显示屏00的结构示意图，参见图1，该触控显示屏00包括：由阵列基板001和彩膜基板002对盒成形的液晶盒(图1中未标出)，以及位于液晶盒内的液晶层(英文：Liquid Crystal；简称：LC)003、触控发射电极004和触控接收电极005；
其中，彩膜基板002的衬底基板(图1中未示出)复用为触控显示屏00的保护盖板。
综上所述，本发明实施例提供的触控显示屏，由于触控发射电极和触控接收电极位于阵列基板和彩膜基板对盒成形的液晶盒内，且彩膜基板的衬底基板复用为触控显示屏的保护盖板，因此，可以减小触控显示屏的厚度，解决了相关技术中触控显示屏的厚度较大，难以实现薄型化的问题，达到了减小触控显示屏的厚度，便于实现薄型化的效果。
请参考图2，其示出了本发明实施例提供的另一种触控显示屏00的结构示意图，参见图2，该触控显示屏00包括：由阵列基板001和彩膜基板002对盒成形的液晶盒(图2中未标出)，以及位于液晶盒内的液晶层003、触控发射(英文：Sensor Tx)电极004和触控接收(英文：Sensor Rx)电极005。
其中，阵列基板001可以包括衬底基板(图2中未示出)以及设置在衬底基板上的薄膜晶体管(英文：Thin Film Transistor；简称：TFT)(图2中未示出)、像素电极(图2中未示出)等结构，因此阵列基板001可以称为TFT基板(英文：TFT glass)001，彩膜基板002可以包括衬底基板(图2中未示出)以及设置在衬底基板上的彩色滤光片(英文：Color Filter；简称：CF)、黑矩阵等结构，因此彩膜基板002可以称为CF基板(英文：CF glass)002，衬底基板可以为透明基板，其具体可以是采用玻璃、石英、透明树脂等具有一定坚固性的导光且非金属材料制成的基板，阵列基板001和彩膜基板002的具体结构可以参考相关技术，本发明实施例在此不再赘述，在本发明实施例中，彩膜基板002的衬底基板可以复用为触控显示屏00的保护盖板，以减小触控显示屏的厚度。触控发射电极004和触控接收电极005均可以采用氧化铟锡(英文：Indium Tin Oxide；简称：ITO)、氧化铟锌(英文：Indium zinc oxide；简称：IZO)等半导体氧化物制成，触控发射电极004和触控接收电极005的制造材料可以相同或不同，触控发射电极004可以为条状电极、板状电极等，触控接收电极005的形状可以与触控发射电极004的形状相同或不同，其中，当触控发射电极004和触控接收电极005都采用ITO制成时，该触控发射电极004可以称为触控ITO Tx电极，该触控接收电极005可以称为触控ITO Rx电极，本发明实施例对此不作限定。
可选地，如图2所示，触控发射电极004位于阵列基板001与液晶层003之间，触控接收电极005位于彩膜基板002与液晶层003之间；进一步地，彩膜基板002与液晶层003之间的液晶盒内设置有第一偏光片006，阵列基板001上设置有第二偏光片007。可选地，第一偏光片006设置在彩膜基板002上，触控接收电极005设置在第一偏光片006上；第二偏光片007设置在阵列基板001的衬底基板(图2中未示出)远离液晶层003的一面上，触控发射电极004设置在阵列基板001上。
相关技术中，偏光片通常采用光学透明胶(英文：Optically Clear Adhesive；简称：OCA)或者紫外线硬化树酯(英文：Optically Clear Resin；简称：OCR)粘贴在液晶盒外，在粘贴偏光片的过程中，经常会存在偏光片贴偏、翘起、划伤、气泡、贴附异物等工艺不良，本发明实施例将第一偏光片006设置在液晶盒内，且可以直接在彩膜基板002上制造第一偏光片006，而不需进行贴附，可以避免偏光片贴偏、翘起、划伤、气泡、贴附异物等工艺不良，大大提高产品的良率。需要说明的是，本发明实施例是以第一偏光片006设置在液晶盒内，第二偏光片007设置在液晶盒外为例说明的，在实际条件允许的情况下，第二偏光片007也可以设置在液晶盒内，本发明实施例对此不作限定。还需要说明的是，上述第一偏光片006的偏振方向与第二偏光片007的偏振方向垂直，以保证光线能够透过触控显示屏00，本发明实施例在此不再赘述。
可选地，请参考图3，其示出了本发明实施例提供的触控显示屏00的正视图，该正视图可以是图2所示的触控显示屏00的俯视图，请结合图2和图3，彩膜基板002的衬底基板(图2和图3中未示出)远离液晶层003的一面包括油墨印刷区域(图2和图3中未标出)，油墨印刷区域上设置有轴线方向(图2和图3中均未标出)与彩膜基板002的衬底基板的厚度方向(图2和图3中未标出)平行的丝印孔，且该油墨印刷区域上印刷有油墨。其中，如图3所示，丝印孔可以包括远红外线(英文：Infrared Ray；简称：IR)孔K1、指示灯孔K2、听筒孔K3和摄像头孔K4，实际应用中，丝印孔还可以包括指纹识别孔等用于实现其他功能的丝印孔，每个丝印孔可以采用丝印工艺形成，本发明实施例对此不做限定。
可选地，请参考图4，其示出了本发明实施例提供的触控显示屏00的后视图，该后视图可以是图2所示的触控显示屏00的仰视图，请结合图2至图4，阵列基板001和彩膜基板002都包括显示区域和非显示区域，非显示区域位于显示区域的周围，如图4所示，阵列基板001包括显示区域(图2至图4中均未标出)和非显示区域0011，彩膜基板002包括显示区域0021和非显示区域0022，阵列基板001的显示区域在彩膜基板002上的正投影区域与彩膜基板002的显示区域0021重合，阵列基板001的非显示区域0011在彩膜基板002上的正投影区域的面积小于彩膜基板002的非显示区域0022的面积，丝印孔位于油墨印刷区域上，油墨印刷区域与阵列基板001在彩膜基板002的衬底基板(图4中均未示出)上的正投影区域不同。可选地，彩膜基板002的衬底基板包括显示区域和非显示区域，该油墨印刷区域可以位于彩膜基板002的衬底基板的非显示区域上，优选地，彩膜基板002的衬底基板的非显示区域与彩膜基板002的非显示区域0022在同一平面内的正投影重合。
相关技术中，触控显示屏包括保护盖板(英文：Cover Glass)，油墨印刷区域、丝印孔、触控显示屏的标志(英文：Logo)等都设置在保护盖板上，保护盖板通常叠加在显示面板上，并通过OCA或OCR与显示面板粘贴在一起，这样一来，一方面会增大触控显示屏的厚度，另一方面在粘贴保护盖板的过程中，容易出现溢胶(胶体从保护盖板与显示面板之间溢出)、气泡、异物等工艺不良，本发明实施例可以将油墨印刷区域、丝印孔、触控显示屏的Logo等设置在彩膜基板002的衬底基板上，采用彩膜基板002的衬底基板替代保护盖板的功能，避免保护盖板的使用，这样一来，一方面可以减小触控显示屏的厚度，使触控显示屏变的更薄，另一方面可以避免由于粘贴保护盖板导致的溢胶、气泡、异物等工艺不良，显著提高产品的良率，符合当下显示屏发展的要求及方向。
可选地，请参考图2至图4，阵列基板001上还设置有集成电路008和柔性电路板009，集成电路008和柔性电路板009都位于液晶盒外，且集成电路008分别与触摸发射电极004和触摸接收电极005连接，集成电路008还与阵列基板001上的信号线、彩膜基板002上的信号线等连接，集成电路008可以控制触摸发射电极004和触摸接收电极005实现触控显示屏00的触控功能，还可以控制阵列基板001和彩膜基板002实现触控显示屏00的显示功能，因此，可以通过一个集成电路008(一个芯片)控制触控显示屏00的触控与显示，减少了芯片的使用，降低了触控显示屏00的功耗。其中，柔性电路板009是以聚酰亚胺或聚酯薄膜为基材制成的一种具有高度可靠性、绝佳的可挠性印刷电路板，简称软板或软性线路板(英文：Flexible Printed Circuit；简称：FPC)，集成电路008和柔性电路板009的具体结构以及设置位置均可以参考相关技术，本发明实施例在此不再赘述。
可选地，如图2所示，阵列基板001与彩膜基板002之间还设置有封胶框(英文：Seelglue)010，该封胶框010可以设置在阵列基板001上或彩膜基板002上，且封胶框010位于阵列基板001或彩膜基板002的非显示区域上，液晶层003位于封胶框010围成的空间内，其中，阵列基板001与彩膜基板002之间还可以设置用于支撑阵列基板001和彩膜基板002的隔垫物(图2中未示出)，液晶层003可以位于隔垫物支撑起来的空间内，本发明实施例在此不再赘述。
需要说明的是，本发明实施例提供了一种至上而下结构的In-cell(中文：内嵌式)触控显示屏，如图2所示，该至上而下结构的In-cell触控显示屏至上而下依次包括：彩膜基板002、第一偏光片006、CF(也称作彩膜CF结构，图2中未示出)、触控接收电极005、液晶层003、触控发射电极004、阵列基板001(阵列基板001包括TFT结构及衬底基板)、第二偏光片007，该In-cell触控显示屏将第一偏光片006设置在彩膜基板下面(彩膜基板靠近液晶层的一面)，避免了偏光片贴合带来的异物及气泡不良，大大提升贴合良率。
综上所述，本发明实施例提供的触控显示屏，由于触控发射电极和触控接收电极位于阵列基板和彩膜基板对盒成形的液晶盒内，且彩膜基板的衬底基板复用为触控显示屏的保护盖板，因此，可以减小触控显示屏的厚度，解决了相关技术中触控显示屏的厚度较大，难以实现薄型化的问题，达到了减小触控显示屏的厚度，便于实现薄型化的效果。
本发明实施例提供的触控显示屏，将触控发射电极、触控接收电极以及第一偏光片设置在液晶盒内，实现了触控发射电极、触控接收电极以及第一偏光片的In-cell结构。
本发明实施例提供的触控显示屏顺应市场对智能手机的显示屏的发展要求，将显示屏中的上偏光嵌入到彩膜基板的下面，同时将保护盖板上的丝印孔、油墨丝印区域等设置在彩膜基板的衬底基板上，采用彩膜基板的衬底基板替代保护盖板，大大降低了在贴附偏光片的过程中，由于OCA或OCR等带来的异物、气泡等不良，同时也提升了触控显示屏的透过率，使企业利益最大化。
本发明实施例提供的触控显示屏可以应用于下文的方法，本发明实施例中触控显示屏的制造方法和制造原理可以参见下文各实施例中的描述。
请参考图5，其示出了本发明实施例提供的一种触控显示屏的制造方法的方法流程图，该触控显示屏的制造方法可以用于制造图1至图4任一所示的触控显示屏00，参见图5，该触控显示屏的制造方法包括：
步骤501、分别形成阵列基板和彩膜基板。
步骤502、将阵列基板和彩膜基板对盒成形得到液晶盒，液晶盒内形成有液晶层、触控发射电极和触控接收电极。
其中，彩膜基板的衬底基板复用为触控显示屏的保护盖板。
综上所述，本发明实施例提供的触控显示屏的制造方法，由于触控发射电极和触控接收电极位于阵列基板和彩膜基板对盒成形的液晶盒内，且彩膜基板的衬底基板复用为触控显示屏的保护盖板，因此，可以减小触控显示屏的厚度，解决了相关技术中触控显示屏的厚度较大，难以实现薄型化的问题，达到了减小触控显示屏的厚度，便于实现薄型化的效果。
可选地，步骤502包括：
在阵列基板上形成触控发射电极；
在形成有触控发射电极的阵列基板上形成液晶层；
在彩膜基板上形成触控接收电极；
将阵列基板和彩膜基板对盒成形得到液晶盒，液晶盒内形成有液晶层、触控发射电极和触控接收电极。
可选地，在彩膜基板上形成触控接收电极，包括：
在彩膜基板上形成第一偏光片；
在形成有第一偏光片的彩膜基板上形成触控接收电极；
在将阵列基板和彩膜基板对盒成形得到液晶盒之后，该方法还包括：
在阵列基板的衬底基板远离液晶层的一面上形成第二偏光片。
可选地，彩膜基板的衬底基板远离液晶层的一面包括油墨印刷区域，在阵列基板的衬底基板远离液晶层的一面上形成第二偏光片之前，该方法还包括：
在油墨印刷区域上形成轴线方向与彩膜基板的衬底基板的厚度方向平行的丝印孔；
在油墨印刷区域上印刷油墨。
综上所述，本发明实施例提供的触控显示屏的制造方法，由于触控发射电极和触控接收电极位于阵列基板和彩膜基板对盒成形的液晶盒内，且彩膜基板的衬底基板复用为触控显示屏的保护盖板，因此，可以减小触控显示屏的厚度，解决了相关技术中触控显示屏的厚度较大，难以实现薄型化的问题，达到了减小触控显示屏的厚度，便于实现薄型化的效果。
请参考图6-1，其示出了本发明实施例提供的另一种触控显示屏的制造方法的方法流程图，该触控显示屏的制造方法可以用于制造图1至图4任一所示的触控显示屏00，参见图6-1，该触控显示屏的制造方法包括：
步骤601、分别形成阵列基板和彩膜基板。
其中，阵列基板可以包括衬底基板以及设置在衬底基板上的TFT、像素电极等结构，彩膜基板可以包括衬底基板以及设置在衬底基板上的CF、黑矩阵等结构，且衬底基板可以为透明基板，其具体可以是采用玻璃、石英、透明树脂等具有一定坚固性的导光且非金属材料制成的基板，阵列基板和彩膜基板的具体结构以及形成过程均可以参考相关技术，本发明实施例在此不再赘述。
步骤602、在阵列基板上形成触控发射电极。
请参考图6-2，其示出的是图6-1所示实施例提供的一种在阵列基板001上形成触控发射电极004后的结构示意图。该触控发射电极004可以为条状电极、板状电极等，且该触控发射电极004可以采用ITO、IZO等半导体氧化物制成，触控发射电极004的厚度可以根据实际需要设置，本发明实施例对此不作限定。
示例地，可以采用涂覆、磁控溅射、热蒸发或者等离子体增强化学气相沉积法(英文：Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition；简称：PECVD)等方法在阵列基板001上沉积一层ITO材料，得到ITO材质层，然后采用一次构图工艺对该ITO材质层进行处理就可以得到触控发射电极004。其中，一次构图工艺包括：光刻胶涂覆、曝光、显影、刻蚀和光刻胶剥离，因此，采用一次构图工艺对ITO材质层进行处理包括：在ITO材质层上涂覆一层光刻胶，然后采用掩膜版对光刻胶进行曝光，使光刻胶形成完全曝光区和非曝光区，之后采用显影工艺进行处理，使完全曝光区的光刻胶被去除，非曝光区的光刻胶保留，之后对完全曝光区在ITO材质层上的对应区域进行刻蚀，刻蚀完毕后剥离非曝光区的光刻胶即可得到触控发射电极004。
需要说明的是，本发明实施例是以采用正性光刻胶形成触控发射电极004为例进行说明的，实际应用中，还可以采用负性光刻胶形成触控发射电极004，本发明实施例在此不再赘述。
步骤603、在形成有触控发射电极的阵列基板上形成液晶层。
请参考图6-3，其示出了图6-1所示实施例提供的一种在形成有触控发射电极004的阵列基板001上形成液晶层003后的结构示意图。可选地，可以采用滴注工艺形成液晶层003，实际应用中，可以先在形成有触控发射电极004的阵列基板001上形成取向层(图6-3中未示出)，之后采用滴注工艺在形成有取向层的阵列基板001上形成液晶层003，这样一来，可以液晶层003中的液晶分子可以规则的排列在取向层上。
步骤604、在彩膜基板上形成第一偏光片。
请参考图6-4，其示出了图6-1所示实施例提供的一种在彩膜基板002上形成第一偏光片006后的结构示意图。本发明实施例中，可以以彩膜基板002作为基底来在彩膜基板002上制造第一偏光片006，这样避免由于贴附工艺导致的偏光片贴偏、翘起、划伤、气泡、贴附异物等工艺技术问题，大大提高产品的良率。以彩膜基板002作为基底来在彩膜基板002上制造第一偏光片006的过程可以参考相关技术，本发明实施例在此不再赘述。
步骤605、在形成有第一偏光片的彩膜基板上形成触控接收电极。
请参考图6-5，其示出了图6-1所示实施例提供的一种在形成有第一偏光片006的彩膜基板002上形成触控接收电极005后的结构示意图。该触控接收电极005的形成过程与步骤602中触控发射电极004的形成过程相同或类似，本发明实施例在此不再赘述。
步骤606、将阵列基板和彩膜基板对盒成形得到液晶盒，液晶盒内形成有液晶层、触控发射电极和触控接收电极。
请参考图6-6，其示出了图6-1所示实施例提供的一种将阵列基板001和彩膜基板002对盒成形得到液晶盒后的结构示意图。其中，在对盒时，可以先在彩膜基板002的非显示区域或者阵列阵列001的非显示区域形成封胶框010，然后将阵列基板001设置有触控发射电极004的一面与彩膜基板002设置有触控接收电极005的一面相对设置并压合，得到液晶盒。
步骤607、在彩膜基板的衬底基板远离液晶层的一面的油墨印刷区域上形成轴线方向与彩膜基板的衬底基板的厚度方向平行的丝印孔。
请参考图6-7，其示出了图6-1所示实施例提供的一种在彩膜基板002的衬底基板上形成丝印孔后的结构示意图。其中，可以采用丝印工艺在彩膜基板002的衬底基板远离液晶层003的一面的油墨印刷区域上，形成轴线方向与彩膜基板002的衬底基板的厚度方向平行的丝印孔，该丝印孔可以包括IR孔K1、指示灯孔K2、听筒孔K3和摄像头孔K4，实际应用中，还可以包括指纹识别孔等用于实现其他功能的丝印孔，本发明实施例对此不做限定。
步骤608、在油墨印刷区域上印刷油墨。
其中，可以采用油墨印刷工艺在油墨印刷区域上印刷油墨，具体实现过程可以参考相关技术，本发明实施例在此不再赘述。在执行完上述步骤601至步骤608后，可以得到触控显示屏最重要的Panel(中文：面板)单元。
需要说明的是，如图2所示，在油墨印刷区域上印刷油墨之后，可以在阵列基板001的非显示区域上设置集成电路008，该集成电路008位于液晶盒外，设置集成电路008的过程可以参考相关技术，本发明实施例在此不再赘述。
步骤609、在阵列基板的衬底基板远离液晶层的一面上形成第二偏光片。
其中，在阵列基板001的衬底基板远离液晶层003的一面上形成第二偏光片007后的结构示意图可以参考图2，可以采用贴附工艺或者偏光片制造工艺在阵列基板001的衬底基板远离液晶层003的一面上形成第二偏光片007，本发明实施例对此不作限定。
需要说明的是，本发明实施例是以第二偏光片007设置在液晶盒外为例说明的，在实际条件允许的情况下，第二偏光片007也可以设置在液晶盒内，且本发明实施例中的第一偏光片006的偏振方向与第二偏光片007的偏振方向垂直，以保证光线能够透过触控显示屏00，本发明实施例在此不再赘述。
其中，在阵列基板001的衬底基板远离液晶层003的一面上形成第二偏光片007后，就可以得到固定于玻璃基板上的芯片(英文：chip on glass；简称：Chip On Glass)。在阵列基板001的衬底基板远离液晶层003的一面上形成第二偏光片007后，可以在阵列基板001的非显示区域上设置柔性电路板009，该柔性电路板009位于液晶盒外，且该柔性电路板009的设置过程可以参考相关技术，在阵列基板001的非显示区域上设置柔性电路板009后，该柔性电路板009构成半成品玻璃芯片上的挠性印制电缆(英文：Flexible printed cableOn chip on Glass；简称：FOG)。
需要说明的是，在本发明实施例中，执行完上述步骤601至步骤606后，可以得到大尺寸的触控显示屏，因此，在执行完上述步骤601至步骤606后，可以对得到的触控显示屏进行切割得到多个小尺寸的触控显示屏(例如，手机屏幕大小的触控显示屏)，然后再在小尺寸的触控显示屏上执行步骤607至步骤609，本发明实施例对此不做限定。
还需要说明的是，本发明实施例提供的触控显示屏的制造方法步骤的先后顺序可以进行适当调整，步骤也可以根据情况进行相应增减，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化的方法，都应涵盖在本发明的保护范围之内，因此不再赘述。
综上所述，本发明实施例提供的触控显示屏的制造方法，由于触控发射电极和触控接收电极位于阵列基板和彩膜基板对盒成形的液晶盒内，且彩膜基板的衬底基板复用为触控显示屏的保护盖板，因此，可以减小触控显示屏的厚度，解决了相关技术中触控显示屏的厚度较大，难以实现薄型化的问题，达到了减小触控显示屏的厚度，便于实现薄型化的效果。
本发明实施例还提供了一种触控显示装置，该触控显示装置包括图1至图4任一所示的触控显示屏。该触控显示装置可以为智能手机、平板电脑、智能车载终端等。
综上所述，本发明实施例提供的触控显示装置，由于触控发射电极和触控接收电极位于触控显示屏的液晶盒内，且彩膜基板的衬底基板复用为触控显示屏的保护盖板，因此，可以减小触控显示屏的厚度，解决了相关技术中触控显示屏的厚度较大，难以实现薄型化的问题，达到了减小触控显示屏的厚度，便于实现薄型化的效果。
本领域普通技术人员可以理解实现上述实施例的全部或部分步骤可以通过硬件来完成，也可以通过程序来指令相关的硬件完成，所述的程序可以存储于一种计算机可读存储介质中，上述提到的存储介质可以是只读存储器，磁盘或光盘等。
以上所述仅为本发明的较佳实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种触控显示屏，其特征在于，所述触控显示屏包括：
由阵列基板和彩膜基板对盒成形的液晶盒，以及位于所述液晶盒内的液晶层、触控发射电极和触控接收电极；
其中，所述彩膜基板的衬底基板复用为所述触控显示屏的保护盖板。
2.根据权利要求1所述的触控显示屏，其特征在于，
所述触控发射电极位于所述阵列基板与所述液晶层之间，所述触控接收电极位于所述彩膜基板与所述液晶层之间；
所述彩膜基板与所述液晶层之间的所述液晶盒内设置有第一偏光片，所述阵列基板上设置有第二偏光片。
3.根据权利要求2所述的触控显示屏，其特征在于，
所述第一偏光片设置在所述彩膜基板上，所述触控接收电极设置在所述第一偏光片上；
所述第二偏光片设置在所述阵列基板的衬底基板远离所述液晶层的一面上，所述触控发射电极设置在所述阵列基板上。
4.根据权利要求1至3任一所述的触控显示屏，其特征在于，
所述彩膜基板的衬底基板远离所述液晶层的一面包括油墨印刷区域，所述油墨印刷区域上设置有轴线方向与所述彩膜基板的衬底基板的厚度方向平行的丝印孔，且所述油墨印刷区域上印刷有油墨。
5.根据权利要求4所述的触控显示屏，其特征在于，
所述阵列基板和所述彩膜基板都包括显示区域和非显示区域，所述非显示区域位于所述显示区域的周围，所述阵列基板的显示区域在所述彩膜基板上的正投影区域与所述彩膜基板的显示区域重合，所述阵列基板的非显示区域在所述彩膜基板上的正投影区域的面积小于所述彩膜基板的非显示区域的面积，所述丝印孔位于所述油墨印刷区域上，所述油墨印刷区域与所述阵列基板在所述彩膜基板的衬底基板上的正投影区域不同。
6.一种触控显示屏的制造方法，其特征在于，所述方法包括：
分别形成阵列基板和彩膜基板；
将所述阵列基板和所述彩膜基板对盒成形得到液晶盒，所述液晶盒内形成有液晶层、触控发射电极和触控接收电极；
其中，所述彩膜基板的衬底基板复用为所述触控显示屏的保护盖板。
7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，
所述将所述阵列基板和所述彩膜基板对盒成形得到液晶盒，所述液晶盒内形成有液晶层、触控发射电极和触控接收电极，包括：
在所述阵列基板上形成所述触控发射电极；
在形成有所述触控发射电极的阵列基板上形成所述液晶层；
在所述彩膜基板上形成所述触控接收电极；
将所述阵列基板和所述彩膜基板对盒成形得到所述液晶盒，所述液晶盒内形成有液晶层、所述触控发射电极和所述触控接收电极。
8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，
所述在所述彩膜基板上形成所述触控接收电极，包括：
在所述彩膜基板上形成第一偏光片；
在形成有所述第一偏光片的彩膜基板上形成所述触控接收电极；
在所述将所述阵列基板和所述彩膜基板对盒成形得到所述液晶盒之后，所述方法还包括：
在所述阵列基板的衬底基板远离所述液晶层的一面上形成第二偏光片。
9.根据权利要求6至8任一所述的方法，其特征在于，所述彩膜基板的衬底基板远离所述液晶层的一面包括油墨印刷区域，
在所述阵列基板的衬底基板远离所述液晶层的一面上形成第二偏光片之前，所述方法还包括：
在所述油墨印刷区域上形成轴线方向与所述彩膜基板的衬底基板的厚度方向平行的丝印孔；
在所述油墨印刷区域上印刷油墨。
10.一种触控显示装置，其特征在于，所述触控显示装置包括权利要求1至5任一所述的触控显示屏。
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