[go: up one dir, main page]

CN106513245A - 一种用于光学膜生产的涂布系统 - Google Patents

一种用于光学膜生产的涂布系统 Download PDF

Info

Publication number
CN106513245A
CN106513245A CN201611230237.4A CN201611230237A CN106513245A CN 106513245 A CN106513245 A CN 106513245A CN 201611230237 A CN201611230237 A CN 201611230237A CN 106513245 A CN106513245 A CN 106513245A
Authority
CN
China
Prior art keywords
coating
liquid
column spinner
coating system
pan
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201611230237.4A
Other languages
English (en)
Inventor
姚志刚
李敏合
鲍立民
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
KUNSHAN LEKAI JINFU PHOTOELECTRIC TECHNOLOGY CO LTD
Hefei Lucky Science and Technology Industry Co Ltd
Original Assignee
KUNSHAN LEKAI JINFU PHOTOELECTRIC TECHNOLOGY CO LTD
Hefei Lucky Science and Technology Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by KUNSHAN LEKAI JINFU PHOTOELECTRIC TECHNOLOGY CO LTD, Hefei Lucky Science and Technology Industry Co Ltd filed Critical KUNSHAN LEKAI JINFU PHOTOELECTRIC TECHNOLOGY CO LTD
Priority to CN201611230237.4A priority Critical patent/CN106513245A/zh
Publication of CN106513245A publication Critical patent/CN106513245A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C1/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is applied to the surface of the work by contact with a member carrying the liquid or other fluent material, e.g. a porous member loaded with a liquid to be applied as a coating
    • B05C1/04—Apparatus in which liquid or other fluent material is applied to the surface of the work by contact with a member carrying the liquid or other fluent material, e.g. a porous member loaded with a liquid to be applied as a coating for applying liquid or other fluent material to work of indefinite length
    • B05C1/08—Apparatus in which liquid or other fluent material is applied to the surface of the work by contact with a member carrying the liquid or other fluent material, e.g. a porous member loaded with a liquid to be applied as a coating for applying liquid or other fluent material to work of indefinite length using a roller or other rotating member which contacts the work along a generating line
    • B05C1/0817—Apparatus in which liquid or other fluent material is applied to the surface of the work by contact with a member carrying the liquid or other fluent material, e.g. a porous member loaded with a liquid to be applied as a coating for applying liquid or other fluent material to work of indefinite length using a roller or other rotating member which contacts the work along a generating line characterised by means for removing partially liquid or other fluent material from the roller, e.g. scrapers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
    • B05C11/10—Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
    • B05C11/10—Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
    • B05C11/1039—Recovery of excess liquid or other fluent material; Controlling means therefor

Landscapes

  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Abstract

本发明提供一种用于光学膜生产的涂布系统，括供料部分和涂布部分，供料部分包括循环储料桶、搅拌装置、供料泵、供液管、过滤器、接液盘、回液管，涂布部分包括涂布辊、刮刀系统、涂布槽、挡液板、带有排液孔的侧挡板、涂布液均化装置、基膜。在涂布槽底部设有一个涂布液均化装置，本发明避免了涂布槽死角因为粒子沉淀、涂布液流动不畅造成涂布液粘度不均等造成的拉丝、条道、暗纹、点子等弊病，实现光学膜连续稳定生产，提高良率。

Description

一种用于光学膜生产的涂布系统
技术领域
本发明涉及薄膜技术领域，特别是涉及用于光学膜涂布的系统。
背景技术
在TFT-LCD液晶显示领域中，为了得到能满足要求的光学膜，如反射膜、扩散膜、增亮膜、复合DBEF膜等，需要在不同的光学支持体薄膜的正面或背面涂覆含有光学粒子的涂料，在涂覆生产中，需要涂覆装置将涂料均匀的涂覆在不同的光学支持体薄膜上。由于涂料中含有各种不同粒经的光学粒子，为了保证光学粒子均匀地涂覆在光学支持体薄膜上，通常采用辊涂、凹版涂覆或微凹版涂覆装置进行。
在实际应用中，以上涂覆方式均存在有以下不足，主要是在涂覆过程中，涂布槽供液单点或多点的不均匀供料，涂料在涂布槽中分布、流速不均匀，流速慢，产生涡旋，造成光学粒子的聚集后，沉积在涂布槽底部，无法及时清除，导致涂料在涂布过程中而形成质量弊病，如拉丝、暗纹、条道等，需要经常停机清洗涂布头和涂布槽，造成涂覆生产中断，无法进行连续生产。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是针对现有技术的不足，提供一种用于生产光学薄膜的涂布系统，它可以解决光学粒子在涂布槽中易沉积和聚集粒子沉积后无法清除的问题，实现连续生产。
为解决上述技术问题，本发明采用如下技术方案：
一种用于光学膜生产的涂布系统，包括供料部分和涂布部分，供料部分包括循环储料桶、搅拌装置、供料泵、供液管、过滤器、接液盘、回液管，涂布部分包括涂布辊、刮刀系统、涂布槽、挡液板、带有排液孔的侧挡板、基膜，在挡液板下面涂布槽底部设有一个涂布液均化装置。
在挡液板下面涂布槽槽底部设有涂布液均化装置，涂布液均化装置包括两部分，第一部分是沉淀收集槽，深度在0-50mm，第二部分是在槽内设有旋转柱，旋转柱的直径在5mm-50mm，总节数在10-100个，嵌入收集槽的角度在0-360度，嵌入深度在0-50mm之间。
上述用于光学膜生产的涂布系统，涂布槽底部设置1-3个涂布液均化装置，旋转柱的转数在5-300转/min。
上述用于光学膜生产的涂布系统，旋转柱的杆直径d1和叶的直径d2搭配在1:10-1:2之间。
上述用于光学膜生产的涂布系统，旋转柱的叶的角度β在5-80度之间。
上述用于光学膜生产的涂布系统，旋转柱距挡液板底的距离在0.1mm-5mm之间。
上述用于光学膜生产的涂布系统，旋转柱的叶的角度β可以设计成两边对称，也可以设计角度一致。
上述用于光学膜生产的涂布系统，在涂布槽两侧或一侧的侧挡板上有排液孔供涂布液流出。
上述用于光学膜生产的涂布系统，所述旋转柱的表面粗糙度Ra小于0.05，涂布槽底部的表面粗糙度Ra小于0.05。
本发明的有益效果为，在单点和多点供料部分中，由于涂布辊转动造成离心力和重力的作用，聚集粒子和大粒径粒子更容易被分离到涂布槽的底部，在涂布槽底部设有涂布液均化装置，通过涂布液均化装置中旋转柱的转动，带动涂布液流动，防止聚集粒子沉积，同时旋转柱的转动会带动含有聚集粒子的涂布液向设定的方向流动，从侧挡板的排液孔排到接液盘，减少了聚集粒子在涂布槽内的沉积，避免了需要反复停机清洗涂布槽和涂布辊造成生产效率的降低；同时聚集的粒子和大径粒子通过侧挡板的排液口回流到接液盘，再通过球阀、循环泵输送，过滤器将其中的大部分过滤掉。本发明实现了长周期的连续生产，解决了涂覆光学膜存在的质量弊病如拉丝、暗纹、条道、涂布不均等质量问题，也避免了由于涂布液在涂布槽内混合不好造成的条状涂布不均，实现了光学膜的不停机连续生产。
附图说明
图1是本发明提供的连续生产光学膜的涂布系统示意图；
图2双向涂布液均化装置旋转柱的示意图；
图3单向涂布液均化装置旋转柱的示意图。
图中各标号表示为：
1、回液管，2、新液补充管，3、供液桶，4、供液搅拌，5、供液阀门，6、供液泵，7、过滤器，8、供液管，9、涂布液均化装置，10、涂布槽，11、供液孔，12、挡液板，13、涂布辊，14、刮刀，15、接液盘，16、基膜，17、排液孔，18、侧挡板。
具体实施方式
本发明包括供料部分和涂布部分，所供料部分包括循环储料桶、搅拌装置、供料泵、供液管、过滤器、接液盘、回液管，涂布部分包括涂布辊、刮刀系统、涂布槽、挡液板、带有排液孔的侧挡板、基膜、在涂布槽的底部设有涂布液均化装置，涂布液均化装置有两部分组成，第一部分是沉淀收集槽，深度在0-50mm，第二部分是在槽内设有旋转柱，旋转柱的直径在5-50mm，总节数在10-100个，嵌入收集槽的角度在0-360度，嵌入深度在0-50mm之间，通过涂布液均化装置中旋转柱的转动，带动涂布液流动，防止聚集粒子沉积，同时旋转柱的转动会带动含有聚集粒子的涂布液向设定的方向流动，从侧挡板的排液孔排到接液盘，减少了聚集粒子在涂布槽内的沉积，解决光学粒子在涂布槽中易沉积和聚集粒子沉积后无法清除的问题，实现连续生产。
以下结合附图及实施例对发明作进一步阐述,但这些实施例仅用于说明本发明的原理，而不用于限制本发明的保护范围。
本发明提供的生产光学薄膜的涂布系统，包括供料部分和涂布部分，如附图1所示，其中，供料部分包括接液盘15、回流管1、新料补充管2、供液桶3、供液搅拌4、供液阀门5、供液泵6、过滤器7、供液管8等，涂布部分包括涂布槽10、挡液板12、涂布辊13、刮刀14、侧挡板18、涂布液均化装置9等。供料部分将涂布液从供料桶3抽出，经过过滤，送到涂布槽内，涂布槽10中的涂料通过涂布辊13不断将涂料涂敷在基膜16的表面，由涂布槽溢流的涂料经接液盘15、回流管1返回供料桶3，从而实现了一个循环。
本发明中设置在涂布槽10底部的涂布液均化装置镶嵌在粒子收集槽中，收集槽深度在0-50mm，优选10-30mm，收集槽截面为半圆形或弧形，深的可以是半圆形与长方形结合体，半圆和和弧的半径取决于沉淀清理涂布液均化装置沉淀清理涂布液均化装置旋转柱的直径，旋转柱的直径在5-50mm，优选10-30mm，旋转柱的角度β在5-80度之间，优选10-60度，总节数在10-100个，嵌入收集槽的角度在0-360度，嵌入深度在0-50mm之间优选10-30mm，通过涂布液均化装置，防止聚集粒子沉积下来，并随时将沉积的粒子清除出涂布槽，并将混合不均的涂布液混合均匀。
本发明中涂布槽10的内部表面、旋转柱表面为光滑表面，内部过渡均为圆滑过渡。
本发明中沉淀清理涂布液均化装置可以设1-3个，旋转柱的叶的角度在5-80度之间，旋转柱的转数在5-300转/min可调；
本发明中循环泵可以选自市售的螺杆泵、齿轮泵、蠕动泵、柱塞泵；带马达的搅拌装置3上的搅拌桨可以选自浆式、旋浆式、涡轮式或锚式搅拌桨，马达可以是正反旋转的调速防爆马达或气动马达，搅拌装置安装在可以调节的装置上，可以调节搅拌桨叶的位置。
实施例1
如图1所示，供料部分部分包括接液盘15、回流管1、新料补充管2、供液桶3、供液搅拌4、供液阀门5、供液泵6、过滤器7、供液管8等，涂布部分包括涂布槽10、挡液板12、涂布辊13、刮刀14、侧挡板18、涂布液均化装置9等。供料部分将涂布液从供料桶3抽出，经过过滤，送到涂布槽内，涂布槽10中的涂料通过涂布辊13不断将涂料涂敷在基膜16的表面，由涂布槽溢流的涂料经接液盘15、回流管1返回供料桶3，从而实现了一个循环。
进料口11的数量为1个，在涂布槽正中间，进料口11的直径为14mm，收集槽深度在10mm，收集槽截面为半圆形，旋转柱的直径在20mm，旋转柱节数为30个，旋转柱的角度β在23度，杆和叶的直径比为1:5，嵌入收集槽的角度在180度，嵌入深度10-30mm，转数为50转，旋转柱的弧度设计为对称设计，向两边推动物料运动。转叶的表面粗糙度Ra小于0.05，涂布槽底部的表面粗糙度Ra小于0.05。
连续运行24个小时后，停止供料，快速排空涂布槽10的物料，涂布槽10的底部发现有白色物料聚集，通过收集、烘干后称量其质量。
实施例2
如图1所示，供料部分与实施例1基本相同，其中，进料口11的数量为1个，在涂布槽正中间，进料口11的直径为14mm，收集槽深度在10mm，收集槽截面为半圆形，旋转柱的直径在20mm，旋转柱节数为30个，旋转柱的角度β在23度杆和叶的直径比为1:5，嵌入收集槽的角度在180度，嵌入深度10-30mm，转数为100转，旋转柱的弧度设计为对称设计，向两边推动物料运动。转叶的表面粗糙度Ra小于0.05，涂布槽底部的表面粗糙度Ra小于0.05。
连续运行24个小时后，停止供料，快速排空涂布槽10的物料，涂布槽10的底部发现有白色物料聚集，通过收集、烘干后称量其质量。
实施例3
如图1所示，供料部分与实施例1基本相同，其中，进料口11的数量为1个，在供料槽正中间，进料口11的直径为14mm，收集槽深度在10mm，收集槽截面为半圆形，旋转柱的直径在20mm，旋转柱节数为30个，旋转柱的角度β在23度，杆和叶的直径比为1:5，嵌入收集槽的角度在180度，嵌入深度10-30mm，转数为200转，旋转柱的弧度设计为对称设计，向两边推动物料运动。转叶的表面粗糙度Ra小于0.05，涂布槽底部的表面粗糙度Ra小于0.05。
连续运行24个小时后，停止供料，快速排空涂布槽10的物料，涂布槽10的底部发现有白色物料聚集，通过收集、烘干后称量其质量。
实施例4
如图1所示，供料部分与实施例1基本相同，其中，进料口11的数量为1个，在供料槽正中间，进料口11的直径为14mm，收集槽深度在10mm，收集槽截面为半圆形，旋转柱的直径在20mm，旋转柱节数为30个，旋转柱的角度β在23度，杆和叶的直径比为1:5，嵌入收集槽的角度在180度，嵌入深度10-30mm，转数为300转，旋转柱的弧度设计为对称设计，向两边推动物料运动。转叶的表面粗糙度Ra小于0.05，涂布槽底部的表面粗糙度Ra小于0.05。
连续运行24个小时后，停止供料，快速排空涂布槽10的物料，涂布槽10的底部发现有白色物料聚集，通过收集、烘干后称量其质量。
对比例1
如图1所示，供料部分与实施例1基本相同，其中，进料口11的数量为1个，在供料槽正中间，进料口11的直径为14mm，收集槽深度在10mm，收集槽截面为半圆形，旋转柱的直径在20mm，旋转柱节数为30个，旋转柱的角度β在23度，杆和叶的直径比为1:5，嵌入收集槽的角度在180度，嵌入深度10-30mm，转数为500转，旋转柱的弧度设计为对称设计，向两边推动物料运动。转叶的表面粗糙度Ra小于0.05，涂布槽底部的表面粗糙度Ra小于0.05。
结果涂布槽内液体扰动严重，无法生产出表观合格的产品。
对比例2
如图1所示，供料部分与实施例1基本相同，其中，进料口11的数量为1个，在供料槽正中间，进料口11的直径为14mm，收集槽深度在10mm，收集槽截面为半圆形，未安装沉淀清理涂布液均化装置，两端出口封死，涂布槽底部的表面粗糙度Ra小于0.05。
连续运行24个小时后，停止供料，快速排空涂布槽10的物料，涂布槽10的底部发现有白色物料聚集，通过收集、烘干后称量其质量。
实验结果：
序号 实施例1 实施例2 实施例3 实施例4 对比例1 对比例2
聚集粒子重量(kg) 0.205 0.188 0.150 0.145 无法生产 0.688

Claims (9)

1.一种用于光学膜生产的涂布系统，包括供料部分和涂布部分，供料部分包括循环储料桶、搅拌装置、供料泵、供液管、过滤器、接液盘、回液管，涂布部分包括涂布辊、刮刀系统、涂布槽、挡液板、带有排液孔的侧挡板、基膜，其特征是，在挡液板下面涂布槽底部设有一个涂布液均化装置。
2.根据权利要求1所述的涂布系统，其特征在于，在挡液板下面涂布槽槽底部设有涂布液均化装置，涂布液均化装置包括两部分，第一部分是沉淀收集槽，深度在0-50mm，第二部分是在槽内设有旋转柱，旋转柱的直径在5mm-50mm，总节数在10-100个，嵌入收集槽的角度在0-360度，嵌入深度在0-50mm之间。
3.根据权利要求2涂布系统，其特征在于，涂布槽底部可以设置1-3个涂布液均化装置，旋转柱的转数在5-300转/min。
4.根据权利要求3所述的涂布系统，其特征在于，旋转柱的杆直径d1和叶的直径d2搭配在1:10-1:2之间。
5.根据权利要求4所述的涂布系统，其特征在于，旋转柱的叶的角度β在5-80度之间。
6.根据权利要求5所述的涂布系统，其特征在于，旋转柱距挡液板底的距离在0.1mm-5mm之间。
7.根据权利要求6所述的涂布系统，其特征在于，旋转柱的叶的角度β可以设计成两边对称，也可以设计角度一致。
8.根据权利要求7所述的涂布系统，其特征在于，在涂布槽两侧或一侧的侧挡板上有排液孔供涂布液流出。
9.根据权利要求8所述的涂布系统，其特征在于，所述旋转柱的表面粗糙度Ra小于0.05，涂布槽底部的表面粗糙度Ra小于0.05。
CN201611230237.4A 2016-12-27 2016-12-27 一种用于光学膜生产的涂布系统 Pending CN106513245A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201611230237.4A CN106513245A (zh) 2016-12-27 2016-12-27 一种用于光学膜生产的涂布系统

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201611230237.4A CN106513245A (zh) 2016-12-27 2016-12-27 一种用于光学膜生产的涂布系统

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN106513245A true CN106513245A (zh) 2017-03-22

Family

ID=58337982

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201611230237.4A Pending CN106513245A (zh) 2016-12-27 2016-12-27 一种用于光学膜生产的涂布系统

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN106513245A (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114160382A (zh) * 2021-11-17 2022-03-11 合肥路明反光材料有限公司 一种具有胶水防凝固功能的复合膜生产用涂布机

Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB681278A (en) * 1950-01-06 1952-10-22 Alexander Kaupy Improvements in or relating to machines for spreading liquid or plastic materials ontravelling webs
CN1058355A (zh) * 1990-07-26 1992-02-05 通用信号公司 宽粘度范围液体以及液体悬浮物的混合与混匀用叶轮与叶轮系统
JPH06238212A (ja) * 1993-02-16 1994-08-30 Hitachi Chem Co Ltd 塗工ロール及びそれを用いた塗工装置
CN101118941A (zh) * 2006-08-03 2008-02-06 夏普株式会社 注入装置、半导体发光装置、制造装置和半导体发光装置的制造方法
CN101125321A (zh) * 2006-08-17 2008-02-20 宣茂科技股份有限公司 涂布胶的给胶搅拌涂布机构总成
CN202741168U (zh) * 2012-08-28 2013-02-20 佳木斯大学 一种恒温槽
CN103480542A (zh) * 2013-09-30 2014-01-01 昆山乐凯锦富光电科技有限公司 一种用于生产光学薄膜的供料系统
CN203709108U (zh) * 2014-03-13 2014-07-16 武明睿 一种用于喷洒机的药液箱
CN203778301U (zh) * 2014-01-16 2014-08-20 昆山日久新能源应用材料有限公司 一种刮刀涂布机供液装置用搅拌棒及刮刀涂布机供液装置
CN104588280A (zh) * 2014-12-31 2015-05-06 昆山乐凯锦富光电科技有限公司 一种用于生产光学薄膜的涂布系统
CN105855483A (zh) * 2016-05-31 2016-08-17 共享装备股份有限公司 一种防止浸涂池中散砂悬浮的装置及其浸涂方法
CN106040530A (zh) * 2015-04-01 2016-10-26 东丽工程株式会社 涂布装置及涂布方法
CN206631852U (zh) * 2016-12-27 2017-11-14 昆山乐凯锦富光电科技有限公司 一种用于光学膜生产的涂布装置

Patent Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB681278A (en) * 1950-01-06 1952-10-22 Alexander Kaupy Improvements in or relating to machines for spreading liquid or plastic materials ontravelling webs
CN1058355A (zh) * 1990-07-26 1992-02-05 通用信号公司 宽粘度范围液体以及液体悬浮物的混合与混匀用叶轮与叶轮系统
JPH06238212A (ja) * 1993-02-16 1994-08-30 Hitachi Chem Co Ltd 塗工ロール及びそれを用いた塗工装置
CN101118941A (zh) * 2006-08-03 2008-02-06 夏普株式会社 注入装置、半导体发光装置、制造装置和半导体发光装置的制造方法
CN101125321A (zh) * 2006-08-17 2008-02-20 宣茂科技股份有限公司 涂布胶的给胶搅拌涂布机构总成
CN202741168U (zh) * 2012-08-28 2013-02-20 佳木斯大学 一种恒温槽
CN103480542A (zh) * 2013-09-30 2014-01-01 昆山乐凯锦富光电科技有限公司 一种用于生产光学薄膜的供料系统
CN203778301U (zh) * 2014-01-16 2014-08-20 昆山日久新能源应用材料有限公司 一种刮刀涂布机供液装置用搅拌棒及刮刀涂布机供液装置
CN203709108U (zh) * 2014-03-13 2014-07-16 武明睿 一种用于喷洒机的药液箱
CN104588280A (zh) * 2014-12-31 2015-05-06 昆山乐凯锦富光电科技有限公司 一种用于生产光学薄膜的涂布系统
CN106040530A (zh) * 2015-04-01 2016-10-26 东丽工程株式会社 涂布装置及涂布方法
CN105855483A (zh) * 2016-05-31 2016-08-17 共享装备股份有限公司 一种防止浸涂池中散砂悬浮的装置及其浸涂方法
CN206631852U (zh) * 2016-12-27 2017-11-14 昆山乐凯锦富光电科技有限公司 一种用于光学膜生产的涂布装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114160382A (zh) * 2021-11-17 2022-03-11 合肥路明反光材料有限公司 一种具有胶水防凝固功能的复合膜生产用涂布机

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN1243615C (zh) 涂洒装置
CN203725233U (zh) 一种三辊研磨机的全自动上料装置
CN206631851U (zh) 可防止光粒子沉积的光学膜涂布系统
CN106513245A (zh) 一种用于光学膜生产的涂布系统
CN103480542B (zh) 一种用于生产光学薄膜的供料系统
CN206631852U (zh) 一种用于光学膜生产的涂布装置
CN104588280B (zh) 一种用于生产光学薄膜的涂布系统
CN116462286A (zh) 一种移动集装箱式超磁污水处理系统
CN108166022A (zh) 一种电解液加料装置
CN106733408A (zh) 可防止涂布弊病的光学膜生产的涂布系统
CN108392850A (zh) 一种浸出装置及其使用方法
CN219816888U (zh) 一种底涂料盒及涂布机
CN221275386U (zh) 一种选煤厂煤泥水处理自动加药装置
CN112028156A (zh) 一种薄层干燥设备用溢流堰式布料器
CN106622884B (zh) 一种薄膜涂料槽机构
CN111016391B (zh) 一种防水卷材生产装置和防水卷材的生产方法
CN110772424B (zh) 一种胶槽机构及蘸胶装置
CN116161758A (zh) 一种加砂高效沉淀池水处理系统及其处理方法
US4358484A (en) Method for high speed size application
CN221108781U (zh) 一种基材涂布装置用连续式涂布机构
CN207903979U (zh) 一种高效的生物转盘处理装置
CN209715547U (zh) 一种纸板复合涂布机构
JP2000117170A (ja) 高粘度塗布液の塗布方法並びに装置
CN218131101U (zh) 一种具有调配机构的涂料加工用原材料预处理装置
CN215691710U (zh) 蒸发器

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20170322

RJ01 Rejection of invention patent application after publication