CN106501965A - 一种隐形眼镜及其制作方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种隐形眼镜及其制作方法，所述隐形眼镜包括：用于与人眼接触的基底镜片，所述基底镜片包括用于与人眼接触的第一表面和与所述第一表面相背的第二表面；以及，形成于所述基底镜片的第二表面上的偏光层，所述偏光层能够透过预设偏振方向的光。本发明所提供的隐形眼镜，通过在基底镜片上设置偏光层，使得预设偏振方向的光才能透过镜片，可阻隔因散射、屈折、反射等各种因素所造成之刺眼的眩光，也能将对人眼有害的紫外光线阻隔，人在强光下长期活动时，眼睛不易疲倦，达到真正保护的功能，而且能让看见的东西更清晰、立体，避免了框架式太阳镜所存在的佩戴不适应以及活动性不便的问题。

Description

一种隐形眼镜及其制作方法

技术领域

本发明涉及眼镜技术领域，尤其涉及一种隐形眼镜及其制作方法。

背景技术

人们在开车或户外活动时，特别是夏天，需要佩戴太阳镜来遮挡阳光和路面眩光，以减轻眼睛瞳孔调节造成的疲劳或强光刺激造成的伤害。但是部分人群并不习惯佩戴太阳镜，尤其是对于近视患者来说，镜片较厚，不舒适，另外还存在活动性不便等问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种隐形眼镜及其制作方法，能够将对人眼有害的紫外光线及眩光阻隔，使人在强光下长期活动时，眼睛不易疲倦，达到真正保护的功能，且避免了框架式太阳镜所存在的佩戴不适应以及活动性不便的问题。

本发明所提供的技术方案如下：

一种隐形眼镜，包括：

用于与人眼接触的基底镜片，所述基底镜片包括用于与人眼接触的第一表面和与所述第一表面相背的第二表面；

以及，形成于所述第二表面上的偏光层，所述偏光层能够透过预设偏振方向的光。

进一步的，所述偏光层包括：形成于所述第二表面上的纳米线栅阵列结构，所述纳米线栅阵列结构包括间隔排列的多个线栅，各线栅的延伸方向一致。

进一步的，所述纳米线栅阵列结构的周期为100～150nm。

进一步的，所述线栅的宽度为40～90nm；所述线栅的高度为100～150nm。

进一步的，所述线栅为金属线。

进一步的，在所述偏光层的远离所述基底镜片的一侧还形成有保护层。

一种如上所述的隐形眼镜的制作方法，包括：

提供一基底镜片，所述基底镜片包括用于与人眼接触的第一表面和与所述第一表面相背的第二表面；

在所述第二表面上形成偏光层，所述偏光层能够透过预设偏振方向的光。

进一步的，在所述方法中，在所述第二表面上形成偏光层包括：在所述第二表面上形成纳米线栅阵列结构，所述纳米线栅阵列结构包括间隔排列的多个线栅，各线栅的延伸方向一致。

进一步的，在所述方法中，采用纳米压印方式在所述第二表面上形成所述纳米线栅阵列结构；或者，采用光刻方式在所述第二表面上形成所述纳米线栅阵列结构。

进一步的，所述方法还包括：

在所述偏光层的远离所述基底镜片的一侧形成保护层。

本发明所带来的有益效果如下：

本发明所提供的隐形眼镜，通过在基底镜片上设置偏光层，使得预设偏振方向的光才能透过镜片，可阻隔因散射、屈折、反射等各种因素所造成之刺眼的眩光，也能将对人眼有害的紫外光线阻隔，人在强光下长期活动时，眼睛不易疲倦，达到真正保护的功能，而且能让看见的东西更清晰、立体，避免了框架式太阳镜所存在的佩戴不适应以及活动性不便的问题。

附图说明

图1表示本发明所提供的隐形眼镜的整体结构示意图；

图2表示本发明所提供的隐形眼镜的正视图；

图3表示本发明所提供的隐形眼镜的断面图。

具体实施方式

为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例的附图，对本发明实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本发明的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

针对现有技术中部分人群不适应佩戴太阳镜或佩戴太阳镜存在活动性不便等问题，本发明提供了一种隐形眼镜，能够将对人眼有害的紫外光线及眩光阻隔，使人在强光下长期活动时，眼睛不易疲倦，达到真正保护的功能，且避免了框架式太阳镜所存在的佩戴不适应以及活动性不便的问题。

如图1至图3所示，本发明所提供的隐形眼镜10包括：

用于与人眼接触的基底镜片100，所述基底镜片100包括用于与人眼接触的第一表面和与所述第一表面相背的第二表面；

以及，形成于所述基底镜片100的第二表面上的偏光层200，所述偏光层200能够透过预设偏振方向的光。

本发明所提供的隐形眼镜，所述基底镜片100，用于与人眼接触，由常规的隐形眼镜材料制成，如：透明玻璃或合成树脂制成，其可以是平镜或近视镜片；所述偏光层200贴附在所述基底镜片100的第二表面上，不直接接触人的眼球。

本发明所提供的隐形眼镜，通过在基底镜片100上设置偏光层200，使得只有预设偏振方向的光才能透过镜片，可阻隔因散射、屈折、反射等各种因素所造成之刺眼的眩光，也能将对人眼有害的紫外光线阻隔，人在强光下长期活动时，眼睛不易疲倦，达到真正保护的功能，而且能让看见的东西更清晰、立体，避免了框架式太阳镜所存在的佩戴不适应以及活动性不便的问题。

以下说明本发明所提供的隐形眼镜的一种优选实施例。

在本实施例中，如图2和图3所示，所述偏光层200包括：形成于所述基底镜片100的第二表面上的纳米线栅阵列结构，所述纳米线栅阵列结构包括间隔排列的多个线栅201，各线栅201的延伸方向一致。

上述方案，通过在基底镜片100上设计规则排列的纳米线栅阵列结构，使得该纳米线栅阵列结构的各线栅201固定在一个角度。当光入射到纳米线栅阵列结构时，所述纳米线栅阵列结构对光具有很好的选择性，使得电场方向平行于线栅201的延伸方向的光会被反射回去，电场方向垂直于线栅201的延伸方向的偏振光则会透射过去，也就是说，所述纳米线栅阵列结构具有良好的偏振特性，使得只有偏振方向与线栅201的延伸方向垂直的垂直偏振光才能透过基底镜片100，而偏振方向与线栅201的延伸方向平行的平行偏振光则被阻挡。

采用上述方案，本发明实施例所提供的隐形眼镜可完全阻隔因散射、屈折、反射等各种因素所造成之刺眼的眩光，也能将对人眼有害的紫外光线完全阻隔，而且所述偏光层200采用纳米线栅阵列结构，厚度极薄，不会增加人眼的佩戴不适感，人在强光下长期活动时，眼睛不易疲倦，达到真正保护的功能，而且能让看见的东西更清晰、立体。

需要说明的是，在上述方案中，所述偏光层200是采用的纳米线栅201结构，在实际应用中，所述偏光层200还可以是采用其他结构来形成的，例如：偏光滤镜等，对此不进行局限。

此外，为了在太阳光的宽波段范围内获得好的偏振效果，线栅201的周期需使用波长的几分之一甚至更小，优选的，所述纳米线栅阵列结构的周期为150nm以下，其中周期在100～150nm最佳，还可以通过调节纳米线栅阵列结构的深宽比可以获得偏振性能优秀的隐形太阳镜，优选的，所述线栅201的宽度为40～90nm，所述线栅201的高度为100～150nm。

采用上述方案，所述隐形眼镜的纳米线栅阵列结构可以起到最好的偏振性能。当然可以理解的是，在实际应用中，例如：需要仅过滤掉某一特定波段的光时，所述纳米线栅阵列结构的周期以及深宽比等参数还可以根据实际需求来进行合理的调整，在此并不对此进行局限。

此外，在本发明所提供的优选实施例中，所述线栅201为金属线。

此外，在本发明所提供的优选实施例中，在所述偏光层200的远离所述基底镜片100的一侧还形成有保护层。

采用上述方案，通过设置所述保护层，可以一方面来对所述纳米线栅阵列结构进行保护，另一方面可以选择人眼接触更为舒适的材料来制作保护层，以增加舒适感。

此外，本发明的实施例中还提供了一种制作本发明实施例中所提供的隐形眼镜的制作方法，所述方法包括：

提供一基底镜片100，所述基底镜片100包括用于与人眼接触的第一表面和与所述第一表面相背的第二表面；

在所述基底镜片100的第二表面上形成偏光层200，所述偏光层200能够透过预设偏振方向的光。

进一步的，在所述方法中，在所述基底镜片100的第二表面上形成偏光层200包括：在所述基底镜片100的第二表面上形成纳米线栅阵列结构，所述纳米线栅阵列结构包括间隔排列的多个线栅201，各线栅201的延伸方向一致。

进一步的，在所述方法中，采用纳米压印方式或者高精度光刻方式在所述基底镜片100的第二表面上形成所述纳米线栅阵列结构。

在上述方案中，利用纳米压印工艺或者高精度光刻工艺在基底镜片100上形成纳米线栅阵列结构，工艺简单。当然可以理解的是，也可以采用其他工艺来形成所述纳米线栅阵列结构。

进一步的，所述方法还包括：在所述偏光层200的远离所述基底镜片100的一侧形成保护层。

以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明技术原理的前提下，还可以做出若干改进和替换，这些改进和替换也应视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种隐形眼镜，其特征在于，包括：

用于与人眼接触的基底镜片，所述基底镜片包括用于与人眼接触的第一表面和与所述第一表面相背的第二表面；

以及，形成于所述第二表面上的偏光层，所述偏光层能够透过预设偏振方向的光。

2.根据权利要求1所述的隐形眼镜，其特征在于，

所述偏光层包括：形成于所述第二表面上的纳米线栅阵列结构，所述纳米线栅阵列结构包括间隔排列的多个线栅，各所述线栅的延伸方向一致。

3.根据权利要求2所述的隐形眼镜，其特征在于，

所述纳米线栅阵列结构的周期为100～150nm。

4.根据权利要求3所述的隐形眼镜，其特征在于，

所述线栅的宽度为40～90nm；所述线栅的高度为100～150nm。

5.根据权利要求2所述的隐形眼镜，其特征在于，

所述线栅为金属线。

6.根据权利要求1所述的隐形眼镜，其特征在于，

在所述偏光层的远离所述基底镜片的一侧还形成有保护层。

7.一种如权利要求1至6任一项所述的隐形眼镜的制作方法，其特征在于，包括：

提供一基底镜片，所述基底镜片包括用于与人眼接触的第一表面和与所述第一表面相背的第二表面；

在所述第二表面上形成偏光层，所述偏光层能够透过预设偏振方向的光。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，

在所述方法中，在所述第二表面上形成偏光层包括：在所述基底镜片的第二表面上形成纳米线栅阵列结构，所述纳米线栅阵列结构包括间隔排列的多个线栅，各线栅的延伸方向一致。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，

在所述方法中，采用纳米压印方式在所述第二表面上形成所述纳米线栅阵列结构；或者，采用光刻方式在所述第二表面上形成所述纳米线栅阵列结构。

10.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，还包括：

在所述偏光层的远离所述基底镜片的一侧形成保护层。