CN106062044B - 聚硅氧烷共聚物以及含有其的抗静电剂和树脂组合物 - Google Patents
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Abstract
本发明提供对于树脂能够赋予高抗静电性、具有可耐受在树脂中的熔融混炼时的高温的良好的耐热性、能够制造具有作为光学用粘合剂实用的强度特性的有机硅树脂的聚硅氧烷共聚物。聚硅氧烷共聚物,其通过将由式(1)表示的鎓盐、由式(2)表示的三烷氧基硅烷、和作为任选成分的由式(3)表示的二烷氧基硅烷共聚而得到。
Description
技术领域
本发明涉及聚硅氧烷共聚物以及含有其的抗静电剂和配合了该抗静电剂的树脂组合物。
背景技术
报道了阳离子为具有三烷氧基甲硅烷基烷基的铵或鏻、阴离子为全氟烷基磺酰基亚胺的鎓盐能够用作氟树脂用的低分子型抗静电剂(参照专利文献1:日本特开2010-248165号公报)。但是,本发明人将作为上述鎓盐的1种的1-(3-三甲氧基甲硅烷基丙基)-1,1,1-三丁基鏻=双(三氟甲磺酰基)亚胺用作聚碳酸酯树脂、丙烯酸系树脂和有机硅树脂的抗静电剂,结果可知虽然对于有机硅树脂能够赋予抗静电性能,但对于聚碳酸酯树脂和丙烯酸系树脂不能赋予实用的抗静电性能。进而,将抗静电剂在聚碳酸酯树脂中加热熔融进行混炼的情况下,要求抗静电剂自身的耐热性。但是,对于铵型的鎓盐、包含其的聚硅氧烷共聚物,不具有可耐受熔融混炼时的高温那样的充分的耐热性。另外,对于有机硅树脂,可知有机硅树脂的固化反应没有充分地进行,无法获得作为光学用粘合剂实用的强度特性的有机硅树脂组合物(参照后述的比较例)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2010-248165号公报
发明内容
发明要解决的课题
因此,本发明的目的在于提供对于聚碳酸酯树脂、丙烯酸系树脂和有机硅树脂能够赋予高抗静电性、特别是作为抗静电剂在聚碳酸酯树脂中加热熔融进行混炼时的耐热性优异、并且能够制造具有作为光学用粘合剂实用的强度特性的有机硅树脂的聚硅氧烷共聚物和含有该聚硅氧烷共聚物的抗静电剂。进而,另一目的在于提供配合了该抗静电剂的树脂组合物。
用于解决课题的手段
本发明人为了解决上述目的进行了深入研究,结果发现通过将由式(1)表示的鎓盐、由式(2)表示的三烷氧基硅烷、和作为任选成分的由式(3)表示的二烷氧基硅烷共聚而得到的聚硅氧烷共聚物,同时发现将该聚硅氧烷共聚物作为抗静电剂在聚碳酸酯树脂、丙烯酸系树脂和有机硅树脂中使用,结果对于各种树脂能够赋予高抗静电性能。进而发现该聚硅氧烷共聚物具有特别可耐受在聚碳酸酯树脂中的熔融混炼时的高温的良好的耐热性。还发现有机硅树脂的固化反应顺利地进行,可得到具有作为光学用粘合剂实用的强度特性的有机硅树脂组合物,完成了本发明。
即,本发明提供下述的聚硅氧烷共聚物、其制造方法、抗静电剂、树脂组合物。
[1]聚硅氧烷共聚物,其通过将由式(1)表示的鎓盐、由式(2)表示的三烷氧基硅烷、和作为任选成分的由式(3)表示的二烷氧基硅烷共聚而得到。
式(1):
[化1]
(式中,Q+表示氮阳离子或磷阳离子。R1表示碳数1~3的烷基,R2~R4表示碳数1~8的烷基。R2与R3可在末端相互结合而形成吡咯烷环、哌啶环、吡啶环、磷杂环戊烷环、磷杂环己烷环或磷杂苯环。不过,R2与R3在末端相互结合而形成吡啶环或磷杂苯环的情况下,R4不存在。X-表示阴离子。n为0~3的整数。)
式(2):
[化2]
R5-Si(OR6)3 (2)
(式中,R5表示碳数1~10的烷基、碳数6~10的芳基、碳数7~10的芳烷基、或碳数2~8的烯基,R6表示碳数1~3的烷基。)
式(3):
[化3]
(式中,R7表示碳数1~10的烷基、碳数6~10的芳基、或碳数7~10的芳烷基,R8表示碳数1~3的烷基。)
[2][1]所述的聚硅氧烷共聚物,其中,在上述式(1)中,Q+为磷阳离子。
[3][1]或[2]所述的聚硅氧烷共聚物,其中,上述式(1)中,X-为卤素阴离子或含氟阴离子。
[4][3]所述的聚硅氧烷共聚物,其中,上述含氟阴离子为三氟甲磺酸阴离子、双(三氟甲磺酰基)亚胺阴离子、四氟硼酸根阴离子或六氟磷酸根阴离子。
[5][1]~[4]的任一项所述的聚硅氧烷共聚物,其通过相对于由上述式(1)表示的鎓盐1摩尔、使由上述式(2)表示的三烷氧基硅烷0.5~95摩尔和由上述式(3)表示的二烷氧基硅烷0~49摩尔共聚而得到。
[6][1]~[4]的任一项所述的聚硅氧烷共聚物,其通过相对于由上述式(1)表示的鎓盐1摩尔、使由上述式(2)表示的三烷氧基硅烷0.5~95摩尔和由上述式(3)表示的二烷氧基硅烷4~49摩尔共聚而得到。
[7]抗静电剂,其含有[1]~[6]的任一项所述的聚硅氧烷共聚物。
[8]树脂组合物,其含有[7]所述的抗静电剂。
[9][8]所述的树脂组合物,其中,上述树脂组合物为聚碳酸酯树脂组合物、丙烯酸系树脂组合物或有机硅树脂组合物。
[10][1]~[6]的任一项所述的聚硅氧烷共聚物的制造方法,其特征在于,在盐酸存在下使由上述式(1)表示的鎓盐、由上述式(2)表示的三烷氧基硅烷、和作为任选成分的由上述式(3)表示的二烷氧基硅烷共聚。
发明的效果
本发明的聚硅氧烷共聚物能够用作抗静电剂,通过将该抗静电剂用于聚碳酸酯树脂、丙烯酸系树脂和有机硅树脂,能够制造具有高抗静电性能的树脂组合物,特别是在聚碳酸酯树脂中的熔融混炼时所需的耐热性也优异,另外如果使用本发明的聚硅氧烷共聚物,能够制造具有作为光学用粘合剂实用的强度特性的有机硅树脂组合物。
具体实施方式
以下对本发明具体地说明。
本发明涉及的聚硅氧烷共聚物如上述那样,通过将由式(1)表示的鎓盐(以下称为鎓盐(1))和由式(2)表示的三烷氧基硅烷(以下称为三烷氧基硅烷(2))和作为任选成分的由式(3)表示的二烷氧基硅烷(以下称为二烷氧基硅烷(3))共聚而得到。
式(1):
[化4]
(式中,Q+表示氮阳离子或磷阳离子。R1表示碳数1~3的烷基,R2~R4表示碳数1~8的烷基。R2与R3可以在末端相互结合而形成吡咯烷环、哌啶环、吡啶环、磷杂环戊烷环、磷杂环己烷环或磷杂苯环。不过,R2与R3在末端相互结合而形成吡啶环或磷杂苯环的情况下,R4不存在。X-表示阴离子。n为0~3的整数。)
式(2):
[化5]
R5-Si(OR6)3 (2)
(式中,R5表示碳数1~10的烷基、碳数6~10的芳基、碳数7~10的芳烷基、或碳数2~8的烯基,R6表示碳数1~3的烷基。)
式(3):
[化6]
(式中,R7表示碳数1~10的烷基、碳数6~10的芳基、或碳数7~10的芳烷基,R8表示碳数1~3的烷基。)
以下对上述成分进一步详述,本发明中使用的鎓盐(1)可以按照日本特开2010-248165号公报中记载的方法制造。
式(1)中,Q+表示氮阳离子或磷阳离子,优选磷阳离子。R1为碳数1~3的烷基,具体地,可列举甲基、乙基、丙基和异丙基,优选甲基和乙基,特别优选甲基。R2~R4表示碳数1~8的烷基,可以是直链状和分支链状的任一种,优选为直链状的烷基。具体地,例如可列举甲基、乙基、丙基、丁基、己基、辛基等,优选甲基、乙基、丙基和丁基,特别优选丁基。R2和R3可在末端相互地结合而形成吡咯烷环、哌啶环、吡啶环、磷杂环戊烷环、磷杂环己烷环或磷杂苯环。不过,R2与R3在末端相互结合而形成吡啶环或磷杂苯环的情况下,R4不存在。X-表示阴离子。作为X-,可列举卤素阴离子或含氟阴离子,作为卤素阴离子,更优选氯阴离子、溴阴离子、碘阴离子,更优选氯阴离子。作为含氟阴离子,优选三氟甲磺酸阴离子、双(三氟甲磺酰基)亚胺阴离子、四氟硼酸根阴离子、六氟磷酸根阴离子,更优选双(三氟甲磺酰基)亚胺阴离子。
作为鎓盐(1)的具体例,可列举1,1,1-三甲基-1-[(三甲氧基甲硅烷基)甲基]铵=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1,1,1-三甲基-1-[2-(三甲氧基甲硅烷基)乙基]铵=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1,1,1-三甲基-1-[3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基]铵=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1,1,1-三甲基-1-[4-(三甲氧基甲硅烷基)丁基]铵=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1,1,1-三乙基-1-[(三甲氧基甲硅烷基)甲基]铵=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1,1,1-三乙基-1-[2-(三甲氧基甲硅烷基)乙基]铵=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1,1,1-三乙基-1-[3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基]铵=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1,1,1-三乙基-1-[4-(三甲氧基甲硅烷基)丁基]铵=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1,1,1-三丁基-1-[(三甲氧基甲硅烷基)甲基]铵=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1,1,1-三丁基-1-[2-(三甲氧基甲硅烷基)乙基]铵=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1,1,1-三丁基-1-[3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基]铵=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1,1,1-三丁基-1-[4-(三甲氧基甲硅烷基)丁基]铵=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1,1,1-三己基-1-[(三甲氧基甲硅烷基)甲基]铵=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1,1,1-三己基-1-[2-(三甲氧基甲硅烷基)乙基]铵=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1,1,1-三己基-1-[3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基]铵=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1,1,1-三己基-1-[4-(三甲氧基甲硅烷基)丁基]铵=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1,1,1-三辛基-1-[(三甲氧基甲硅烷基)甲基]铵=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1,1,1-三辛基-1-[2-(三甲氧基甲硅烷基)乙基]铵=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1,1,1-三辛基-1-[3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基]铵=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1,1,1-三辛基-1-[4-(三甲氧基甲硅烷基)丁基]铵=双(三氟甲磺酰基)亚胺、
1,1,1-三甲基-1-[(三甲氧基甲硅烷基)甲基]鏻=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1,1,1-三甲基-1-[2-(三甲氧基甲硅烷基)乙基]鏻=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1,1,1-三甲基-1-[3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基]鏻=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1,1,1-三甲基-1-[4-(三甲氧基甲硅烷基)丁基]鏻=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1,1,1-三乙基-1-[(三甲氧基甲硅烷基)甲基]鏻=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1,1,1-三乙基-1-[2-(三甲氧基甲硅烷基)乙基]鏻=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1,1,1-三乙基-1-[3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基]鏻=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1,1,1-三乙基-1-[4-(三甲氧基甲硅烷基)丁基]鏻=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1,1,1-三丁基-1-[(三甲氧基甲硅烷基)甲基]鏻=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1,1,1-三丁基-1-[2-(三甲氧基甲硅烷基)乙基]鏻=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1,1,1-三丁基-1-[3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基]鏻=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1,1,1-三丁基-1-[4-(三甲氧基甲硅烷基)丁基]鏻=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1,1,1-三己基-1-[(三甲氧基甲硅烷基)甲基]鏻=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1,1,1-三己基-1-[2-(三甲氧基甲硅烷基)乙基]鏻=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1,1,1-三己基-1-[3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基]鏻=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1,1,1-三己基-1-[4-(三甲氧基甲硅烷基)丁基]鏻=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1,1,1-三辛基-1-[(三甲氧基甲硅烷基)甲基]鏻=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1,1,1-三辛基-1-[2-(三甲氧基甲硅烷基)乙基]鏻=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1,1,1-三辛基-1-[3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基]鏻=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1,1,1-三辛基-1-[4-(三甲氧基甲硅烷基)丁基]鏻=双(三氟甲磺酰基)亚胺、
1-甲基-1-[(三甲氧基甲硅烷基)甲基]吡咯烷鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-乙基-1-[(三甲氧基甲硅烷基)甲基]吡咯烷鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-丙基-1-[(三甲氧基甲硅烷基)甲基]吡咯烷鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-丁基-1-[(三甲氧基甲硅烷基)甲基]吡咯烷鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-己基-1-[(三甲氧基甲硅烷基)甲基]吡咯烷鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-辛基-1-[(三甲氧基甲硅烷基)甲基]吡咯烷鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-甲基-1-[2-(三甲氧基甲硅烷基)乙基]吡咯烷鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-乙基-1-[2-(三甲氧基甲硅烷基)乙基]吡咯烷鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-丙基-1-[2-(三甲氧基甲硅烷基)乙基]吡咯烷鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-丁基-1-[2-(三甲氧基甲硅烷基)乙基]吡咯烷鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-己基-1-[2-(三甲氧基甲硅烷基)乙基]吡咯烷鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-辛基-1-[2-(三甲氧基甲硅烷基)乙基]吡咯烷鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-甲基-1-[3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基]吡咯烷鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-乙基-1-[3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基]吡咯烷鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-丙基-1-[3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基]吡咯烷鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-丁基-1-[3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基]吡咯烷鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-己基-1-[3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基]吡咯烷鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-辛基-1-[3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基]吡咯烷鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-甲基-1-[4-(三甲氧基甲硅烷基)丁基]吡咯烷鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-乙基-1-[4-(三甲氧基甲硅烷基)丁基]吡咯烷鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-丙基-1-[4-(三甲氧基甲硅烷基)丁基]吡咯烷鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-丁基-1-[4-(三甲氧基甲硅烷基)丁基]吡咯烷鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-己基-1-[4-(三甲氧基甲硅烷基)丁基]吡咯烷鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-辛基-1-[4-(三甲氧基甲硅烷基)丁基]吡咯烷鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、
1-甲基-1-[(三甲氧基甲硅烷基)甲基]哌啶鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-乙基-1-[(三甲氧基甲硅烷基)甲基]哌啶鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-丙基-1-[(三甲氧基甲硅烷基)甲基]哌啶鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-丁基-1-[(三甲氧基甲硅烷基)甲基]哌啶鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-己基-1-[(三甲氧基甲硅烷基)甲基]哌啶鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-辛基-1-[(三甲氧基甲硅烷基)甲基]哌啶鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-甲基-1-[2-(三甲氧基甲硅烷基)乙基]哌啶鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-乙基-1-[2-(三甲氧基甲硅烷基)乙基]哌啶鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-丙基-1-[2-(三甲氧基甲硅烷基)乙基]哌啶鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-丁基-1-[2-(三甲氧基甲硅烷基)乙基]哌啶鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-己基-1-[2-(三甲氧基甲硅烷基)乙基]哌啶鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-辛基-1-[2-(三甲氧基甲硅烷基)乙基]哌啶鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-甲基-1-[3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基]哌啶鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-乙基-1-[3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基]哌啶鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-丙基-1-[3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基]哌啶鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-丁基-1-[3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基]哌啶鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-己基-1-[3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基]哌啶鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-辛基-1-[3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基]哌啶鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-甲基-1-[4-(三甲氧基甲硅烷基)丁基]哌啶鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-乙基-1-[4-(三甲氧基甲硅烷基)丁基]哌啶鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-丙基-1-[4-(三甲氧基甲硅烷基)丁基]哌啶鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-丁基-1-[4-(三甲氧基甲硅烷基)丁基]哌啶鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-己基-1-[4-(三甲氧基甲硅烷基)丁基]哌啶鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-辛基-1-[4-(三甲氧基甲硅烷基)丁基]哌啶鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、
1-[(三甲氧基甲硅烷基)甲基]吡啶鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-[2-(三甲氧基甲硅烷基)乙基]吡啶鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-[3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基]吡啶鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-[4-(三甲氧基甲硅烷基)丁基]吡啶鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-[(三甲氧基甲硅烷基)甲基]-2-甲基吡啶鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-[2-(三甲氧基甲硅烷基)乙基]-2-甲基吡啶鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-[3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基]-2-甲基吡啶鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-[4-(三甲氧基甲硅烷基)丁基]-2-甲基吡啶鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-[(三甲氧基甲硅烷基)甲基]-3-甲基吡啶鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-[2-(三甲氧基甲硅烷基)乙基]-3-甲基吡啶鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-[3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基]-3-甲基吡啶鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-[4-(三甲氧基甲硅烷基)丁基]-3-甲基吡啶鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-[(三甲氧基甲硅烷基)甲基]-4-甲基吡啶鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-[2-(三甲氧基甲硅烷基)乙基]-4-甲基吡啶鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-[3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基]-4-甲基吡啶鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺、1-[4-(三甲氧基甲硅烷基)丁基]-4-甲基吡啶鎓=双(三氟甲磺酰基)亚胺等。
本发明中使用的鎓盐(1)能够按照日本特开2010-248165号公报中记载的方法制造。在下述的反应式1中对其代表性的方法进行说明。应予说明,该反应式中,R1、R2、R3、R4、Q、X和n与上述相同,Z表示卤素原子,M表示碱金属。
[化7]
使由式(4)表示的胺类(以下称为胺类(4a)。)或膦类(以下称为膦类(4b)。)与由式(5)表示的烷基卤类(以下称为烷基卤类(5)。)进行季化反应,制造由式(6)表示的鎓=卤化物(以下称为鎓=卤化物类(6)。)。X-为卤素阴离子的情况下,能够将鎓=卤化物类(6)作为鎓盐(1)使用。
接下来,通过鎓=卤化物类(6)与由式(7)表示的烷基金属盐的离子交换反应,能够制造鎓盐(1)。
作为胺类(4a),可列举三甲胺、三乙胺、三丙胺、三丁胺、三戊胺、三己胺、三庚胺、三辛胺、
1-甲基吡咯烷、1-甲基哌啶、1-乙基吡咯烷、1-乙基哌啶、1-丙基吡咯烷、1-丙基哌啶、1-异丙基吡咯烷、1-异丙基哌啶、1-丁基吡咯烷、1-丁基哌啶、1-戊基吡咯烷、1-戊基哌啶、1-己基吡咯烷、1-己基哌啶、1-甲基-2-甲基吡咯烷、1-甲基-2-甲基哌啶、1-甲基-3-甲基吡咯烷、1-甲基-3-甲基哌啶、1-甲基-4-甲基哌啶、1-甲基-2-乙基吡咯烷、1-甲基-2-丙基吡咯烷、1-甲基-2-异丙基吡咯烷、1-甲基-2-丁基吡咯烷、1-甲基-2-异丁基吡咯烷、1-甲基-2-仲-丁基吡咯烷、1-甲基-2-叔-丁基吡咯烷、
吡啶、2-甲基吡啶、3-甲基吡啶、4-甲基吡啶、2-乙基吡啶、3-乙基吡啶、4-乙基吡啶、2-丙基吡啶、3-丙基吡啶、4-丙基吡啶、2-异丙基吡啶、3-异丙基吡啶、4-异丙基吡啶、2-丁基吡啶、3-丁基吡啶、4-丁基吡啶、2-异丁基吡啶、3-异丁基吡啶、4-异丁基吡啶、2-仲-丁基吡啶、3-仲-丁基吡啶、4-仲-丁基吡啶、2-叔-丁基吡啶、3-叔-丁基吡啶、4-叔-丁基吡啶等。
作为膦类(4b),可列举三甲基膦、三乙基膦、三丙基膦、三丁基膦、三戊基膦、三己基膦、三庚基膦、三辛基膦、
1-甲基磷杂环戊烷、1-甲基磷杂环己烷、1-乙基磷杂环戊烷、1-乙基磷杂环己烷、1-丙基磷杂环戊烷、1-丙基磷杂环己烷、1-异丙基磷杂环戊烷、1-异丙基磷杂环己烷、1-丁基磷杂环戊烷、1-丁基磷杂环己烷、1-戊基磷杂环戊烷、1-戊基磷杂环己烷、1-己基磷杂环戊烷、1-己基磷杂环己烷、1-甲基-2-甲基磷杂环戊烷、1-甲基-2-甲基磷杂环己烷、1-甲基-3-甲基磷杂环戊烷、1-甲基-3-甲基磷杂环己烷、1-甲基-4-甲基磷杂环己烷、1-甲基-2-乙基磷杂环戊烷、1-甲基-2-丙基磷杂环戊烷、1-甲基-2-异丙基磷杂环戊烷、1-甲基-2-丁基磷杂环戊烷、1-甲基-2-异丁基磷杂环戊烷、1-甲基-2-仲-丁基磷杂环戊烷、1-甲基-2-叔-丁基磷杂环戊烷、
磷杂苯、2-甲基磷杂苯、3-甲基磷杂苯、4-甲基磷杂苯、2-乙基磷杂苯、3-乙基磷杂苯、4-乙基磷杂苯、2-丙基磷杂苯、3-丙基磷杂苯、4-丙基磷杂苯、2-异丙基磷杂苯、3-异丙基磷杂苯、4-异丙基磷杂苯、2-丁基磷杂苯、3-丁基磷杂苯、4-丁基磷杂苯、2-异丁基磷杂苯、3-异丁基磷杂苯、4-异丁基磷杂苯、2-仲-丁基磷杂苯、3-仲-丁基磷杂苯、4-仲-丁基磷杂苯、2-叔-丁基磷杂苯、3-叔-丁基磷杂苯、4-叔-丁基磷杂苯等。
作为烷基卤类(5),例如可列举氯甲基三甲氧基硅烷、2-氯乙基三甲氧基硅烷、3-氯丙基三甲氧基硅烷、4-氯丁基三甲氧基硅烷、氯甲基三乙氧基硅烷、2-氯乙基三乙氧基硅烷、3-氯丙基三乙氧基硅烷、4-氯丁基三乙氧基硅烷、氯甲基三丙氧基硅烷、2-氯乙基三丙氧基硅烷、3-氯丙基三丙氧基硅烷、4-氯丁基三丙氧基硅烷、氯甲基三丁氧基硅烷、2-氯乙基三丁氧基硅烷、3-氯丙基三丁氧基硅烷、4-氯丁基三丁氧基硅烷、溴甲基三甲氧基硅烷、2-溴乙基三甲氧基硅烷、3-溴丙基三甲氧基硅烷、4-溴丁基三甲氧基硅烷、溴甲基三乙氧基硅烷、2-溴乙基三乙氧基硅烷、3-溴丙基三乙氧基硅烷、4-溴丁基三乙氧基硅烷、溴甲基三丙氧基硅烷、2-溴乙基三丙氧基硅烷、3-溴丙基三丙氧基硅烷、4-溴丁基三丙氧基硅烷、溴甲基三丁氧基硅烷、2-溴乙基三丁氧基硅烷、3-溴丙基三丁氧基硅烷、4-溴丁基三丁氧基硅烷、碘甲基三甲氧基硅烷、2-碘乙基三甲氧基硅烷、3-碘丙基三甲氧基硅烷、4-碘丁基三甲氧基硅烷、碘甲基三乙氧基硅烷、2-碘乙基三乙氧基硅烷、3-碘丙基三乙氧基硅烷、4-碘丁基三乙氧基硅烷、碘甲基三丙氧基硅烷、2-碘乙基三丙氧基硅烷、3-碘丙基三丙氧基硅烷、4-碘丁基三丙氧基硅烷、碘甲基三丁氧基硅烷、2-碘乙基三丁氧基硅烷、3-碘丙基三丁氧基硅烷、4-碘丁基三丁氧基硅烷等。
由式(4)表示的胺类或膦类与烷基卤类(5)的季化反应可使用溶剂也可不使用溶剂。作为使用溶剂时的溶剂,可列举甲醇、乙醇、2-丙醇等醇类、乙腈、醋酸乙酯、四氢呋喃、二甲基甲酰胺等。
烷基卤类(5)的使用量,相对于由式(4)表示的胺类或膦类1摩尔,可为0.7摩尔以上,优选为0.9~1.5摩尔。
作为碱金属盐(7),可列举双(三氟甲磺酰基)亚胺锂、双(三氟甲磺酰基)亚胺钠、双(三氟甲磺酰基)亚胺钾、四氟硼酸锂、四氟硼酸钠、四氟硼酸钾、六氟磷酸锂、六氟磷酸钠、六氟磷酸钾等含氟阴离子的碱金属盐。
作为形成阴离子的抗衡阳离子的碱金属,可列举锂、钠、钾。
离子交换反应中的碱金属盐(5)的使用量,相对于鎓=卤化物类(6)1摩尔,通常为0.8摩尔以上,优选为0.9~1.2摩尔,更优选为1~1.05摩尔。
离子交换反应通常在溶剂中进行。作为溶剂,可列举丙酮、甲基乙基酮等酮类、甲醇、乙醇、2-丙醇等醇类、乙腈、醋酸乙酯、四氢呋喃、二甲基甲酰胺等。对使用量并无特别限制,相对于鎓=卤化物类(6)1质量份,通常为10质量份以下,优选为1~10质量份,特别优选为2~6质量份。
对鎓=卤化物类(6)、碱金属盐(5)和溶剂的混合顺序并无特别限定,可在将鎓=卤化物类(6)和溶剂混合后添加碱金属盐(5),也可在将碱金属盐(5)和溶剂混合后添加鎓=卤化物类(6)。
离子交换反应中的反应温度通常为10℃以上,优选为10~60℃,特别优选为10~30℃。
从反应结束后的反应液将鎓盐(1)分离时,将溶剂及生成的无机盐从反应液中除去。如果在得到的反应液中无机盐析出,则将反应液过滤,将析出的无机盐除去,接下来,将浓缩、过滤、抽出等的单元操作适当地组合,将鎓盐(1)分离。另外,在得到的反应液中无机盐没有析出的情况下,将反应液浓缩而使无机盐析出,通过过滤将无机盐除去后,将浓缩、过滤、抽出等的单元操作适当组合,将鎓盐(1)分离。
式(2)中,R5表示碳数1~10的烷基、碳数6~10的芳基、碳数7~10的芳烷基、或碳数2~8的烯基。作为R5,具体地,可列举甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、苯基、萘基、苄基、乙烯基、烯丙基、丁烯基、己烯基、辛烯基等,优选甲基、苯基和乙烯基,特别优选甲基和乙烯基。R6表示碳数1~3的烷基,具体地,可列举甲基、乙基、丙基等,优选甲基和乙基,特别优选甲基。
作为三烷氧基硅烷(2)的具体例,可列举甲基三甲氧基硅烷、乙基三甲氧基硅烷、丙基三甲氧基硅烷、丁基三甲氧基硅烷、戊基三甲氧基硅烷、己基三甲氧基硅烷、庚基三甲氧基硅烷、辛基三甲氧基硅烷、壬基三甲氧基硅烷、癸基三甲氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、萘基三甲氧基硅烷、苄基三甲氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、烯丙基三甲氧基硅烷、丁烯基三甲氧基硅烷、己烯基三甲氧基硅烷、辛烯基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、乙基三乙氧基硅烷、丙基三乙氧基硅烷、丁基三乙氧基硅烷、戊基三乙氧基硅烷、己基三乙氧基硅烷、庚基三乙氧基硅烷、辛基三乙氧基硅烷、壬基三乙氧基硅烷、癸基三乙氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、萘基三乙氧基硅烷、苄基三乙氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、烯丙基三乙氧基硅烷、丁烯基三乙氧基硅烷、己烯基三乙氧基硅烷、辛烯基三乙氧基硅烷、甲基三丙氧基硅烷、乙基三丙氧基硅烷、丙基三丙氧基硅烷、丁基三丙氧基硅烷、戊基三丙氧基硅烷、己基三丙氧基硅烷、庚基三丙氧基硅烷、辛基三丙氧基硅烷、壬基三丙氧基硅烷、癸基三丙氧基硅烷、苯基三丙氧基硅烷、萘基三丙氧基硅烷、苄基三丙氧基硅烷、乙烯基三丙氧基硅烷、烯丙基三丙氧基硅烷、丁烯基三丙氧基硅烷、己烯基三丙氧基硅烷、辛烯基三丙氧基硅烷等,优选甲基三甲氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷。
三烷氧基硅烷(2)可使用市售品,也可使用采用公知的制造方法制造的产物。
式(3)中,R7表示碳数1~10的烷基、碳数6~10的芳基、或碳数7~10的芳烷基。R7可以相同或不同,作为R7,具体地,可列举甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、苯基、萘基、苄基等,优选甲基和苯基,特别优选甲基。R8表示碳数1~3的烷基,具体地,可列举甲基、乙基、丙基等,优选甲基和乙基,特别优选甲基。
作为二烷氧基硅烷(3)的具体例,可列举二甲基二甲氧基硅烷、二乙基二甲氧基硅烷、二丙基二甲氧基硅烷、甲基乙基二甲氧基硅烷、甲基丙基二甲氧基硅烷、甲基丁基二甲氧基硅烷、甲基戊基二甲氧基硅烷、甲基己基二甲氧基硅烷、甲基庚基二甲氧基硅烷、甲基辛基二甲氧基硅烷、甲基壬基二甲氧基硅烷、甲基癸基二甲氧基硅烷、甲基苯基二甲氧基硅烷、甲基萘基二甲氧基硅烷、甲基苄基二甲氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、二乙基二乙氧基硅烷、二丙基二乙氧基硅烷、甲基乙基二乙氧基硅烷、甲基丙基二乙氧基硅烷、甲基丁基二乙氧基硅烷、甲基戊基二乙氧基硅烷、甲基己基二乙氧基硅烷、甲基庚基二乙氧基硅烷、甲基辛基二乙氧基硅烷、甲基壬基二乙氧基硅烷、甲基癸基二乙氧基硅烷、甲基苯基二乙氧基硅烷、甲基萘基二乙氧基硅烷、甲基苄基二乙氧基硅烷、二甲基二丙氧基硅烷、二乙基二丙氧基硅烷、二丙基二丙氧基硅烷、甲基乙基二丙氧基硅烷、甲基丙基二丙氧基硅烷、甲基丁基二丙氧基硅烷、甲基戊基二丙氧基硅烷、甲基己基二丙氧基硅烷、甲基庚基二丙氧基硅烷、甲基辛基二丙氧基硅烷、甲基壬基二丙氧基硅烷、甲基癸基二丙氧基硅烷、甲基苯基二丙氧基硅烷、甲基萘基二丙氧基硅烷、甲基苄基二丙氧基硅烷、二苯基二甲氧基硅烷、二苯基二乙氧基硅烷、二苯基二丙氧基硅烷等,优选二甲基二甲氧基硅烷。
二烷氧基硅烷(3)可使用市售品,也可使用采用公知的制造方法制造的产物。
鎓盐(1)和三烷氧基硅烷(2)和作为任选成分的二烷氧基硅烷(3)的共聚,通常,在鎓盐(1)和三烷氧基硅烷(2)和作为任选成分的二烷氧基硅烷(3)的混合物中,在使用了鎓盐(1)、三烷氧基硅烷(2)和作为任选成分的二烷氧基硅烷(3)的情况下加入将二烷氧基硅烷(3)的全部溶解的有机溶剂(例如甲醇、乙醇、异丙醇、丙酮等)而制成溶液后,在该溶液中滴入成为水解反应的催化剂的酸(以下称为酸(8)。)或碱(以下称为碱(9)。)和水而进行。酸(8)或碱(9)可以用水溶液滴入。鎓盐(1)和三烷氧基硅烷(2)和作为任选成分的二烷氧基硅烷(3)的化学计量比,优选地,相对于鎓盐(1)1摩尔,为三烷氧基硅烷(2)0.5~95摩尔、二烷氧基硅烷(3)0~49摩尔,更优选地,相对于鎓盐(1)1摩尔,为三烷氧基硅烷(2)0.5~10摩尔、二烷氧基硅烷(3)4~16摩尔,最优选地,相对于鎓盐(1)1摩尔,为三烷氧基硅烷(2)0.5~4摩尔、二烷氧基硅烷(3)4~8摩尔。如果三烷氧基硅烷(2)的化学计量比不到上述范围,有时得到的聚硅氧烷共聚物的耐热性受损,另一方面,三烷氧基硅烷(2)的化学计量比比上述范围大的情况下,该聚硅氧烷共聚物的表面迁移性降低,使用该聚硅氧烷共聚物作为抗静电剂的情况下有可能良好的抗静电性没有显现。二烷氧基硅烷(3)的化学计量比比上述范围大的情况下,有可能得到的聚硅氧烷共聚物的耐热性降低。另外,作为其他的任选成分,可在不损害抗静电性和耐热性显现的效果的范围内将单烷氧基硅烷、四烷氧基硅烷混合而共聚。作为单烷氧基硅烷的具体例,可列举三甲基甲氧基硅烷、乙烯基二甲基甲氧基硅烷、三甲基乙氧基硅烷、乙烯基二甲基乙氧基硅烷、三甲基丙氧基硅烷、乙烯基二甲基丙氧基硅烷等,作为四烷氧基硅烷的具体例,可列举四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四丙氧基硅烷等。
将鎓盐(1)和三烷氧基硅烷(2)和作为任选成分的二烷氧基硅烷(3)溶解的有机溶剂的使用量并无特别限制,通常,相对于鎓盐(1)1质量份,通常为20质量份以下,优选为0.5~10质量份,特别优选为1~5质量份。
作为酸(8),例如可列举盐酸、硫酸、硝酸、醋酸、对甲苯磺酸一水合物等,特别优选盐酸。酸(8)的使用量通常相对于鎓盐(1)1摩尔,为0.001~1摩尔,优选为0.01~0.2摩尔。
作为碱(9),例如可列举氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化锂等。碱(9)的使用量通常相对于鎓盐(1)1摩尔,为0.001~1摩尔,优选为0.01~0.2摩尔。
用于共聚的水的使用量通常相对于鎓盐(1)1摩尔,为4~49摩尔。
对鎓盐(1)和三烷氧基硅烷(2)和作为任选成分的二烷氧基硅烷(3)的共聚的反应温度并无特别限制,通常为10~80℃,优选为20~40℃。作为反应时间,通常为3小时以上,优选为3~72小时。
聚硅氧烷共聚物通过将采用上述反应得到的反应混合物浓缩而得到,得到的聚硅氧烷共聚物根据需要可用不混合的有机溶剂(己烷、庚烷、苯、甲苯等)洗涤。
对反应混合物的浓缩温度并无特别限制,通常为10~120℃,优选为60~80℃。
这样得到的聚硅氧烷共聚物通过在树脂中混炼,能够对树脂赋予抗静电性能。作为上述树脂,例如可列举聚碳酸酯树脂、丙烯酸系树脂和有机硅树脂。因此,本发明也提供对于树脂赋予抗静电性能的方法,其包含将上述聚硅氧烷共聚物添加(例如,混炼)到树脂中的工序。进而,本发明也提供上述聚硅氧烷共聚物的作为抗静电剂的、特别是用于对于树脂赋予抗静电性能的使用。
另外,将聚硅氧烷共聚物在树脂中混炼时,可加热熔融而混炼,也可采用与适当的溶剂(例如,二氯甲烷、醋酸乙酯、甲苯等)混合而制备溶液后,涂布该溶液,将溶剂除去等方法,将树脂成型。光固化性的树脂的情况下,将包含聚硅氧烷共聚物的树脂或其溶液涂布后,可通过紫外线照射使该涂布面固化。
关于聚硅氧烷共聚物相对于树脂的添加量,并无特别限制,优选地,相对于树脂1质量份,为0.01~1质量%,特别优选地,为0.05~0.5质量%。
实施例
接下来,基于实施例对本发明具体地说明,但本发明并不受这些实施例任何限定。
实施例中,表面电阻率使用三菱化学株式会社制ハイレスターUP(MCP-HT450)、在23±3℃、湿度45±5%的条件下测定。
另外,关于耐热性评价,使用セイコーインスツル株式会社制TG/DTA220,在氮气氛下、10℃/分的升温条件下测定的TG-DTA的测定结果中,将5%质量减少时的温度设为分解温度。分解温度为300℃以上的情况下,设为具有可在聚碳酸酯树脂中熔融混炼的耐热性,评价为“A”,分解温度不到300℃的情况下,设为耐热性不充分,评价为“C”。
[制造例1]
在具备搅拌装置的500mL的玻璃反应器中,在氮气氛下装入二甲基二甲氧基硅烷130.3g(1.1摩尔)、甲基三甲氧基硅烷42.20g(0.31摩尔)、异丙醇136.3g和采用日本特开2010-248165号公报中记载的方法制造的1-(3-三甲氧基甲硅烷基丙基)-1,1,1-三丁基鏻=双(三氟甲磺酰基)亚胺100.0g(0.15摩尔)。对于得到的混合物,在室温下滴入0.1当量盐酸30.00g后,进一步在室温下搅拌16小时,将得到的反应混合物用旋转蒸发器在80℃下浓缩4小时。将得到的浓缩残渣用正己烷272.5g进行分液清洗2次,进而使用旋转蒸发器在80℃下浓缩5小时,从而得到了白色悬浊液体的聚硅氧烷共聚物A120.2g。
[制造例2]
除了代替甲基三甲氧基硅烷而使用了45.90g(0.31摩尔)的乙烯基三甲氧基硅烷以外,与制造例1同样地得到了白色悬浊液体的聚硅氧烷共聚物B123.10g。
[制造例3]
在具备搅拌装置的500mL的玻璃反应器中,在氮气氛下装入甲基三甲氧基硅烷190.0g(1.40摩尔)、异丙醇145.0g和采用日本特开2010-248165号公报中记载的方法制造的1-(3-三甲氧基甲硅烷基丙基)-1,1,1-三丁基鏻=双(三氟甲磺酰基)亚胺100.0g(0.15摩尔)。对于得到的混合物,在室温下滴入0.1当量盐酸39.20g后,进而在室温下搅拌16小时,将得到的反应混合物用旋转蒸发器在80℃下浓缩4小时。用正己烷290.0g对得到的浓缩残渣进行分液清洗2次,进而使用旋转蒸发器,在80℃下浓缩5小时,从而得到了白色悬浊液体的聚硅氧烷共聚物C139.2g。
[比较制造例1]
在具备搅拌装置的500mL的玻璃反应器中,在氮气氛下装入二甲基二甲氧基硅烷171.3g(1.4摩尔)、异丙醇135.7g和N-{(3-三乙氧基甲硅烷基丙基)氨基甲酰氧基乙基}-N,N,N-三甲基铵=双(三氟甲磺酰基)亚胺100.0g(0.16摩尔)。对于得到的混合物,在室温下滴入0.1当量盐酸28.00g后,进而在室温下搅拌16小时,将得到的反应混合物用旋转蒸发器在80℃下浓缩4小时。用正己烷271.3g对得到的浓缩残渣进行分液清洗2次,进而使用旋转蒸发器,在80℃下浓缩5小时,从而得到了淡黄色透明液体的聚硅氧烷共聚物D127.1g。
[实施例1]
在50mL的样品瓶中放入聚碳酸酯树脂(住友ダウ株式会社制造、カリバー(注册商标)200-13NAT)3.2g和二氯甲烷20mL,使聚碳酸酯树脂溶解,制备聚碳酸酯树脂的二氯甲烷溶液。在该溶液中作为抗静电剂添加制造例1中得到的聚硅氧烷共聚物A3.2mg,溶解完成后浇铸到模具(纵12cm×横20cm×深2cm)中,在室温下干燥1小时,在40℃下干燥1小时,制作聚碳酸酯树脂组合物的试验片(膜厚0.1±0.02mm)。将得到的试验片的表面电阻率的测定结果示于表1中。
[实施例2]
除了使用了16mg聚硅氧烷共聚物A以外,与实施例1同样地制作聚碳酸酯树脂组合物的试验片,测定其表面电阻率。将其结果示于表1。
[实施例3]
除了使用了32mg聚硅氧烷共聚物A以外,与实施例1同样地制作聚碳酸酯树脂组合物的试验片,测定其表面电阻率。将其结果示于表1中。
[实施例4]
除了使用了3.2mg制造例2中得到的聚硅氧烷共聚物B以外,与实施例1同样地制作聚碳酸酯树脂组合物的试验片,测定其表面电阻率。将其结果示于表1。
[实施例5]
除了使用了16mg聚硅氧烷共聚物B以外,与实施例1同样地制作聚碳酸酯树脂组合物的试验片,测定其表面电阻率。将其结果示于表1。
[实施例6]
除了使用了32mg聚硅氧烷共聚物B以外,与实施例1同样地制作聚碳酸酯树脂组合物的试验片,测定其表面电阻率。将其结果示于表1。
[实施例7]
除了使用了32mg制造例3中得到的聚硅氧烷共聚物C以外,与实施例1同样地制作聚碳酸酯树脂组合物的试验片,测定其表面电阻率。将其结果示于表1中。
[比较例1]
除了没有添加聚硅氧烷共聚物A、B或C以外,与实施例1同样地制作聚碳酸酯树脂组合物的试验片,测定其的表面电阻率。将其结果示于表1。
[比较例2]
除了代替聚硅氧烷共聚物A、B或C而使用了1-(3-三甲氧基甲硅烷基丙基)-1,1,1-三丁基鏻=双(三氟甲磺酰基)亚胺以外,与实施例1同样地制作聚碳酸酯树脂组合物的试验片,测定其的表面电阻率。将其结果示于表1中。
[比较例3]
除了代替聚硅氧烷共聚物A、B或C而使用了比较制造例1中得到的聚硅氧烷共聚物D以外,与实施例1同样地制作聚碳酸酯树脂组合物的试验片,测定其表面电阻率。将其结果示于表1中。
[表1]
[实施例8]
将二季戊四醇六丙烯酸酯(A-DPH:新中村化学工业株式会社制造)0.50g、季戊四醇三丙烯酸酯(A-TMN-3LM-N:新中村化学工业株式会社制造)1.50g、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(A-TMPT:新中村化学工业株式会社制造)0.50g、作为抗静电剂的制造例1中得到的聚硅氧烷共聚物A0.54g、异丙醇1.75g、胶体二氧化硅的IPA分散液(IPA-ST:二氧化硅固形分30质量%、日产化学工业株式会社制造)3.60g和作为光聚合引发剂的2-羟基-2-甲基苯丙酮0.15g混合。使用刮条涂布机将得到的混合物涂布到厚100μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的单面以使干燥膜厚成为约5μm后,在累积光量约400mJ/cm2的条件下对涂膜侧照射高压水银UV灯(120W/cm2)的紫外线,使涂膜固化,从而制作用丙烯酸系树脂形成了硬涂层的试验片。将得到的试验片的硬涂层面的表面电阻率的测定结果示于表2。
[实施例9]
除了使用了0.54g制造例2中得到的聚硅氧烷共聚物B以外,与实施例8同样地制作用丙烯酸系树脂形成了硬涂层的试验片。将得到的试验片的硬涂层面的表面电阻率的测定结果示于表2中。
[实施例10]
除了使用了0.54g制造例3中得到的聚硅氧烷共聚物C以外,与实施例8同样地制作用丙烯酸系树脂形成了硬涂层的试验片。将得到的试验片的硬涂层面的表面电阻率的测定结果示于表2中。
[比较例4]
除了没有添加聚硅氧烷共聚物A、B或C以外,与实施例8同样地制作用丙烯酸系树脂形成了硬涂层的试验片。将得到的试验片的硬涂层面的表面电阻率的测定结果示于表2。
[比较例5]
除了代替聚硅氧烷共聚物A或B而使用了1-(3-三甲氧基甲硅烷基丙基)-1,1,1-三丁基鏻=双(三氟甲磺酰基)亚胺0.54g以外,与实施例8同样地制作用丙烯酸系树脂形成了硬涂层的试验片。将得到的试验片的硬涂层面的表面电阻率的测定结果示于表2。
[表2]
抗静电剂 | 表面电阻率(Ω/□) | |
实施例8 | 聚硅氧烷共聚物A | 4.5×10<sup>10</sup> |
实施例9 | 聚硅氧烷共聚物B | 4.8×10<sup>10</sup> |
实施例10 | 聚硅氧烷共聚物C | 2.0×10<sup>11</sup> |
比较例4 | 无 | >10<sup>15</sup> |
比较例5 | Bu<sub>3</sub>P+(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>Si(OMc)<sub>3</sub>·(CF<sub>3</sub>SO<sub>2</sub>)<sub>2</sub>N<sup>-</sup> | >10<sup>15</sup> |
[实施例11]
将甲基丙烯酸甲酯5.00g、偶氮二异丁腈0.20g和作为抗静电剂的制造例1中得到的聚硅氧烷共聚物A5mg混合,将得到的混合物浇铸到塑料容器(内径5cm×深1.5cm的圆筒形)中,在50℃下使其固化10小时,制作厚约2mm的聚甲基丙烯酸甲酯树脂的试验片。将得到的试验片的表面电阻率的测定结果示于表3中。
[比较例6]
除了没有添加聚硅氧烷共聚物A、B或C以外,与实施例11同样地制作聚甲基丙烯酸甲酯树脂的试验片,测定其表面电阻率。将其结果示于表3。
[比较例7]
除了代替聚硅氧烷共聚物A、B或C而使用了1-(3-三甲氧基甲硅烷基丙基)-1,1,1-三丁基鏻=双(三氟甲磺酰基)亚胺5mg以外,与实施例11同样地制作聚甲基丙烯酸甲酯树脂的试验片,测定其的表面电阻率。将其结果示于表3。
[表3]
[实施例12]
将过氧化物固化型有机硅粘合剂KR-101-10(固体成分60%、信越化学工业株式会社制造)4.0g、固化剂BPO0.08g(过氧化苯甲酰)、醋酸乙酯6.2g和作为抗静电剂的实施例1中得到的聚硅氧烷共聚物A48mg混合,得到了有机硅树脂粘合剂。使用刮条涂布机将上述有机硅树脂粘合剂涂布到聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(脱模纸)的单面以使干燥膜厚成为约8μm,在90℃下加热干燥3分钟,在160℃下加热干燥2分钟,制作有机硅树脂粘合剂层,测定其表面电阻率。将其结果示于表4中。
在具有上述粘合剂层的面将三乙酰纤维素膜(TAC膜)贴合,在25℃、50%RH下老化1小时,制作试验用膜。通过目视来评价从试验用膜将脱模纸剥离时的粘合剂在脱模纸的附着状态。将其结果示于表4。
A:没有发现粘合剂在脱模纸的附着。
B:发现部分的粘合剂在脱模纸的附着。
C:发现大部分的粘合剂在脱模纸的附着。
[比较例8]
除了没有添加聚硅氧烷共聚物A、B或C以外,与实施例12同样地制作有机硅树脂粘合剂层和试验用膜,测定其的表面电阻率,同时目视评价粘合剂在脱模纸的附着状态。将其结果示于表4。
[比较例9]
除了代替聚硅氧烷共聚物A、B或C而使用了1-(3-三甲氧基甲硅烷基丙基)-1,1,1-三丁基鏻=双(三氟甲磺酰基)亚胺以外,与实施例12同样地制作有机硅树脂粘合剂层和试验用膜,测定其的表面电阻率,同时目视评价粘合剂在脱模纸的附着状态。将其结果示于表4。
[表4]
Claims (8)
1.聚硅氧烷共聚物,其通过将由式(1)表示的鎓盐、由式(2)表示的三烷氧基硅烷、和由式(3)表示的二烷氧基硅烷共聚而得到:
式(1):
式中,Q+表示磷阳离子,R1表示碳数1~3的烷基,R2~R4表示碳数1~8的烷基,R2与R3可以在末端相互结合而形成吡咯烷环、哌啶环、吡啶环、磷杂环戊烷环、磷杂环己烷环或磷杂苯环,其中,R2与R3在末端相互结合而形成吡啶环或磷杂苯环的情况下R4不存在,X-表示阴离子,n为0~3的整数,
式(2):
[化2]
R5-Si(OR6)3 (2)
式中,R5表示碳数1~10的烷基、碳数6~10的芳基、碳数7~10的芳烷基、或碳数2~8的烯基,R6表示碳数1~3的烷基,
式(3):
[化3]
式中,R7表示碳数1~10的烷基、碳数6~10的芳基、或碳数7~10的芳烷基,R8表示碳数1~3的烷基。
2.权利要求1所述的聚硅氧烷共聚物,其中,上述式(1)中,X-为卤素阴离子或含氟阴离子。
3.权利要求2所述的聚硅氧烷共聚物,其中,上述含氟阴离子为三氟甲磺酸阴离子、双(三氟甲磺酰基)亚胺阴离子、四氟硼酸根阴离子或六氟磷酸根阴离子。
4.权利要求1~3的任一项所述的聚硅氧烷共聚物,其通过相对于由上述式(1)表示的鎓盐1摩尔,使由上述式(2)表示的三烷氧基硅烷0.5~95摩尔和由上述式(3)表示的二烷氧基硅烷4~49摩尔共聚而得到。
5.抗静电剂,其含有权利要求1~4的任一项所述的聚硅氧烷共聚物。
6.树脂组合物,其含有权利要求5所述的抗静电剂。
7.权利要求6所述的树脂组合物,其中,上述树脂组合物为聚碳酸酯树脂组合物、丙烯酸系树脂组合物或有机硅树脂组合物。
8.权利要求1~4的任一项所述的聚硅氧烷共聚物的制造方法,其特征在于,在盐酸存在下使由上述式(1)表示的鎓盐、由上述式(2)表示的三烷氧基硅烷、和由上述式(3)表示的二烷氧基硅烷共聚。
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Address after: Tokyo, Japan Patentee after: SHIN-ETSU CHEMICAL Co.,Ltd. Patentee after: Guangrong Chemical Co.,Ltd. Address before: Tokyo, Japan Patentee before: SHIN-ETSU CHEMICAL Co.,Ltd. Patentee before: KOEI CHEMICAL Co.,Ltd. |
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