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CN105759492A - 显示面板及其制作方法 - Google Patents

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李泳锐
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Abstract

本发明提供一种显示面板及其制作方法。本发明的显示面板包括相对设置的上基板与下基板、线栅偏光片、及黑色矩阵；所述线栅偏光片具有呈矩阵阵列方式拼接的数个线栅单元，所述线栅单元之间的拼接缝的正投影位于黑色矩阵内，通过利用黑色矩阵遮挡线栅偏光片上线栅单元之间的拼接缝，从而可以较大程度地降低大尺寸显示面板因拼接结构的偏光片的拼接不良及拼接缝隙所带来的影响。

Description

显示面板及其制作方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制作方法。
背景技术
纳米压印(Nano-imprintLithography，NIL)技术突破了传统光刻在特征尺寸减小过程中的难题，具有分辨率高、低成本、高产率的特点。自1995年提出以来，纳米压印已经演变出了多种压印技术，广泛应用于半导体制造、微机电系统(MicroelectromechanicalSystems，MEMS)、生物芯片、生物医学等领域。NIL技术的基本思想是通过模版，将图形转移到相应的衬底上，转移的媒介通常是一层很薄的聚合物膜，通过热压或者辐照等方法使其结构硬化从而保留下转移的图形。整个过程包括压印和图形转移两个过程。根据压印方法的不同，NIL主要可分为热塑(Hotembossing)、紫外(UV)固化和微接触(Microcontactprinting，uCP)三种光刻技术。
对于需要使用偏光片的各类器件，例如LCD、OLED等，传统的偏光片是由多层膜组合而成的，其中最核心的部分是偏光层，通常为含有具有偏光作用的碘分子的聚乙烯醇(PVA)层，其次是分别位于偏光层两侧的保护层，通常为透明的三醋酸纤维素(TAC)层，主要是为了维持偏光层中偏光子的被拉伸状态，避免偏光子水分的流失，保护其不受外界影响，该偏光片通过二向碘分子的吸收作用来产生偏振光。
随着纳米压印技术的发展，人们已经可以通过制备金属光栅结构，来达到对可见光波长范围的光的偏振作用，由于金属光栅结构本身对光的吸收很小，通过反射自然光的一个偏振而让另外一个偏振通过，可以使被反射的光通过偏振旋转再次被回收利用，因此在液晶显示中具有很大的潜力。但是目前NIL技术受到模板尺寸的限制，大多无法与电视的显示面板的尺寸相匹配，为了制作21寸以上或更大的纳米压印型偏光片，需要制作巨大的模板或者采用小模板拼接的方式进行压印，前者耗费巨大且存在工艺的复杂和困难性，后者的拼接可能带来拼接不良和存在拼接缝隙的状况。
发明内容
本发明的目的在于提供一种显示面板，通过多个线栅单元拼接形成大尺寸的线栅偏光片，并利用黑色矩阵遮挡线栅偏光片上线栅单元之间的拼接缝隙，降低拼接不良带来的影响。
本发明的目的还在于提供一种显示面板的制作方法，通过多个线栅单元拼接形成大尺寸的线栅偏光片，并利用黑色矩阵遮挡线栅偏光片上数个线栅单元之间的拼接缝隙，降低拼接不良带来的影响。
为实现上述目的，本发明首先提供一种显示面板，包括相对设置的上基板与下基板、线栅偏光片、及黑色矩阵，所述黑色矩阵设置在上基板或下基板的一侧上，所述线栅偏光片设置在上基板或下基板的一侧上；所述线栅偏光片具有呈矩阵阵列方式拼接的数个线栅单元，所述线栅单元之间的拼接缝的正投影位于黑色矩阵内。
所述线栅单元由6-8寸的压印模板单元所形成。
所述线栅偏光片上的数个线栅单元由一个压印模板单元依次形成。
所述线栅偏光片上的数个线栅单元由数个压印模板单元拼接而成的拼接压印模板所同时形成。
所述黑色矩阵包括纵横交错的数个遮光条，所述线栅单元之间的拼接缝的正投影位于黑色矩阵的遮光条内，所述遮光条的宽度为20μm以上。
本发明还提供一种显示面板的制作方法，包括如下步骤：
步骤1、提供一待处理的面板，包括待压印的偏光片、相对设置的上基板与下基板、及黑色矩阵，所述黑色矩阵设置在上基板或下基板的一侧上；
步骤2、提供压印模板单元，利用压印模板单元在待压印的偏光片上形成呈矩阵阵列方式拼接的数个线栅单元，得到线栅偏光片，其中，每一线栅单元由对应的一个压印模板单元所形成；
步骤3、得到显示面板，所述线栅偏光片设置在上基板或下基板的一侧上，所述线栅单元之间的拼接缝的正投影位于黑色矩阵内。
所述步骤2中提供一个压印模板单元，通过移动该压印模板单元，在待压印的偏光片上依次压印形成数个线栅单元。
所述步骤2中对应线栅偏光片上的数个线栅单元提供数个压印模板单元，并将其拼接成一个拼接压印模板，利用该拼接压印模板在待压印的偏光片上通过一次压印形成数个线栅单元。
所述步骤2提供的压印模板单元为6-8寸的压印模板单元。
所述黑色矩阵包括纵横交错的数个遮光条，所述线栅单元之间的拼接缝的正投影位于黑色矩阵的遮光条内，所述遮光条的宽度为20μm以上。
本发明的有益效果：本发明的显示面板，包括相对设置的上、下基板、线栅偏光片、及黑色矩阵；所述线栅偏光片具有呈矩阵阵列方式拼接的数个线栅单元，所述线栅单元之间的拼接缝的正投影位于黑色矩阵内，通过利用黑色矩阵遮挡线栅偏光片上线栅单元之间的拼接缝，从而可以较大程度地降低大尺寸显示面板因拼接结构的偏光片的拼接不良及拼接缝隙所带来的影响；本发明的显示面板的制作方法，利用纳米压印模板制作大尺寸的具有拼接结构的线栅偏光片，即所述线栅偏光片上的线栅由数个线栅单元呈矩阵阵列方式拼接而成，并利用黑色矩阵遮挡线栅偏光片上数个线栅单元之间的拼接缝，从而可以较大程度地降低大尺寸显示面板因拼接结构的偏光片的拼接不良及拼接缝隙所带来的影响。
附图说明
下面结合附图，通过对本发明的具体实施方式详细描述，将使本发明的技术方案及其他有益效果显而易见。
附图中，
图1为本发明的显示面板的结构示意图；
图2为本发明的显示面板的制作方法的示意流程图；
图3为本发明的显示面板的制作方法的步骤2的示意图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
请参阅图1，本发明的显示面板包括相对设置的上基板20与下基板40、线栅偏光片10、及黑色矩阵50；所述线栅偏光片10具有呈矩阵阵列方式拼接的数个线栅单元11，所述线栅单元11之间的拼接缝的正投影位于黑色矩阵50内。
在本实施例中，所述上基板20为彩膜基板，所述下基板40为TFT阵列基板，所述黑色矩阵50设置在上基板20靠近下基板40的一侧上；所述线栅偏光片10为外置式，设置在上基板20远离下基板40的一侧上。
具体地，所述线栅单元11由对应的压印模板单元形成，因此，压印模板单元不必制作成巨大尺寸，甚至可以利用现行的6-8寸的模板即可。
具体地，所述线栅偏光片10上的数个线栅单元11由一个压印模板单元71依次形成，或者所述线栅偏光片10上的数个线栅单元11由数个压印模板单元71拼接而成的拼接压印模板所同时形成。
具体地，所述黑色矩阵50包括纵横交错的数个遮光条，所述线栅单元11之间的拼接缝的正投影位于黑色矩阵50的遮光条内，所述遮光条的宽度为20μm以上，从而足以遮挡线栅偏光片10上线栅单元11之间的拼接缝。
作为一种选择性实施例，本发明的显示面板采用BOA(BlackmatrixOnArry)技术，所述黑色矩阵50设置在TFT阵列基板的下基板40上，所述线栅偏光片10为内置式，设置在下基板40靠近所述上基板20的一侧上，其他与本发明前述实施例均相同，在此不再赘述。
本发明的显示面板，通过利用黑色矩阵50遮挡线栅偏光片10上线栅单元11之间的拼接缝，从而可以较大程度地降低大尺寸显示面板因拼接结构的偏光片的拼接不良及拼接缝隙所带来的影响，进而使得通过纳米压印制作的大尺寸的具有拼接结构的线栅偏光片在显示面板中得以应用，且制作方法简单。
请参阅图2，本发明还提供一种显示面板的制作方法，包括如下步骤：
步骤1、提供一待处理的面板，包括待压印的偏光片100、相对设置上、下基板20、40、及黑色矩阵50。
具体地，所述黑色矩阵50包括纵横交错的数个遮光条，所述遮光条的宽度为20μm以上。
具体地，所述黑色矩阵50设置在上基板20或下基板40的一侧上；优选地，所述黑色矩阵50设置在上基板20靠近所述下基板40的一侧上或下基板40靠近上基板20的一侧上。
步骤2、提供压印模板单元71，利用压印模板单元71在待压印的偏光片100上形成呈矩阵阵列方式拼接的数个线栅单元11，得到线栅偏光片10，其中，每一线栅单元11由对应的一个压印模板单元所形成。
具体地，所述步骤2中提供一个压印模板单元71，通过移动该压印模板单元，在待压印的偏光片上依次压印形成数个线栅单元11。
或者，如图3所示，所述步骤2中对应线栅偏光片10上的数个线栅单元11提供数个压印模板单元71，并将其拼接成一个拼接压印模板，利用该拼接压印模板在待压印的偏光片上通过一次压印形成数个线栅单元11。
具体地，所述步骤2提供的压印模板单元71为6-8寸的压印模板单元。
步骤3、得到显示面板，所述线栅偏光片10设置在上基板20或下基板40的一侧上，所述线栅单元11之间的拼接缝的正投影位于黑色矩阵50内。
优选地，所述线栅偏光片10设置在上基板20远离下基板40的一侧上或下基板40远离上基板20的一侧上。
综上所述，本发明的显示面板，包括相对设置的上、下基板、线栅偏光片、及黑色矩阵；所述线栅偏光片具有呈矩阵阵列方式拼接的数个线栅单元，所述线栅单元之间的拼接缝的正投影位于黑色矩阵内，通过利用黑色矩阵遮挡线栅偏光片上线栅单元之间的拼接缝，从而可以较大程度地降低大尺寸显示面板因拼接结构的偏光片的拼接不良及拼接缝隙所带来的影响；本发明的显示面板的制作方法，利用纳米压印模板制作大尺寸的具有拼接结构的线栅偏光片，即所述线栅偏光片上的线栅由数个线栅单元呈矩阵阵列方式拼接而成，并利用黑色矩阵遮挡线栅偏光片上数个线栅单元之间的拼接缝，从而可以较大程度地降低大尺寸显示面板因拼接结构的偏光片的拼接不良及拼接缝隙所带来的影响。
以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明后附的权利要求的保护范围。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，包括相对设置的上基板(20)与下基板(40)、线栅偏光片(10)、及黑色矩阵(50)，所述黑色矩阵(50)设置在上基板(20)或下基板(40)的一侧上，所述线栅偏光片(10)设置在上基板(20)或下基板(40)的一侧上；
所述线栅偏光片(10)具有呈矩阵阵列方式拼接的数个线栅单元(11)，所述线栅单元(11)之间的拼接缝的正投影位于黑色矩阵(50)内。
2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述线栅单元(11)由6-8寸的压印模板单元(71)所形成。
3.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述线栅偏光片(10)上的数个线栅单元(11)由一个压印模板单元(71)依次形成。
4.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述线栅偏光片(10)上的数个线栅单元(11)由数个压印模板单元(71)拼接而成的拼接压印模板所同时形成。
5.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述黑色矩阵(50)包括纵横交错的数个遮光条，所述遮光条的宽度为20μm以上。
6.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤1、提供一待处理的面板，包括待压印的偏光片(100)、相对设置的上基板(20)与下基板(40)、及黑色矩阵(50)，所述黑色矩阵(50)设置在上基板(20)或下基板(40)的一侧上；
步骤2、提供压印模板单元(71)，利用压印模板单元(71)在待压印的偏光片(100)上形成呈矩阵阵列方式拼接的数个线栅单元(11)，得到线栅偏光片(10)，其中，每一线栅单元(11)由对应的一个压印模板单元(71)所形成；
步骤3、得到显示面板，所述线栅偏光片(10)设置在上基板(20)或下基板(40)的一侧上，所述线栅单元(11)之间的拼接缝的正投影位于黑色矩阵(50)内。
7.如权利要求6所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述步骤2中提供一个压印模板单元(71)，通过移动该压印模板单元，在待压印的偏光片上依次压印形成数个线栅单元(11)。
8.如权利要求6所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述步骤2中对应线栅偏光片(10)上的数个线栅单元(11)提供数个压印模板单元(71)，并将其拼接成一个拼接压印模板，利用该拼接压印模板在待压印的偏光片上通过一次压印形成数个线栅单元(11)。
9.如权利要求6所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述步骤2提供的压印模板单元(71)为6-8寸的压印模板单元。
10.如权利要求6所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述黑色矩阵(50)包括纵横交错的数个遮光条，所述遮光条的宽度为20μm以上。
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