CN105487279B - 触控显示面板的制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种触控显示面板的制造方法，包括：提供显示面板半成品，所述显示面板半成品包括阵列基板、彩色滤光片基板与液晶层，所述液晶层位于所述阵列基板与所述彩色滤光片基板之间，所述显示面板半成品已完成所述阵列基板、所述彩色滤光片基板与所述液晶层之间的组装；在所述彩色滤光片基板远离所述液晶层的一侧表面形成与触控感测层图案互补的光阻图案；在所述光阻图案和无所述光阻图案覆盖的所述彩色滤光片基板上形成ITO膜；选择性蚀刻ITO膜，所述光阻图案上方的所述ITO膜被蚀刻去除，并露出所述光阻图案，无所述光阻图案覆盖的所述彩色滤光片基板上方的所述ITO膜被保留；剥落所述光阻图案，形成所述触控感测层图案。
Description
技术领域
本发明涉及触控显示技术领域，特别涉及一种触控显示面板的制造方法。
背景技术
随着信息时代的发展及生活节奏的加快，触控技术由于其人性化设计及简单快捷的输入等特点，已经逐渐取代传统的鼠标和键盘，广泛的应用到各式各样的电子产品中，其中，电容式触摸屏由于其具有反应速度快，灵敏度高，可靠度佳以及耐用度高等优点而被广为使用。电容式触摸屏主要包括防护玻璃(Cover Lens)和触控感测层(Touch Sensor)，其感应原理是以电压作用在屏幕感应区的四个角落并且形成一固定电场，当手指触碰时，人体和透明电极之间产生电容变化，可令电场引发电流，通过控制器测定，根据电流距四个角落比例的不同，即可计算出接触位置。
根据触控感测层在显示面板中的设置方式不同，触控显示面板分为外挂式、单玻璃触控式(One Glass Solution，OGS)、内嵌式(In cell)和外嵌式(On cell)等结构。外挂式触控显示面板由于触摸屏与显示面板是相互独立设置，产品厚度较大，不能满足一些掌上设备和便携式设备的超薄要求。OGS触控显示面板是将触控感测层与保护玻璃整合在一起再通过光学胶贴合在显示面板上，具有触控灵敏度高等优点，是目前的主流触控结构之一，主要的缺点是强度不好易碎。In Cell触控显示面板是将触控感测层集成到显示面板的彩色滤光片基板内侧，但In Cell触控显示面板因结构、制程均比较复杂而导致其生产良率较低。On Cell触控显示面板是将触控感测层设置在显示面板的彩色滤光片基板外侧，也是目前的主流触控结构之一，通常，On Cell的触控感测层是嵌入设置在彩色滤光片基板和上偏光片之间。
目前，On Cell触控显示面板的触控感测层的制作方法是在彩色滤光片(ColorFilter，CF)基板的一侧先制作触控感测层图案，即在CF基板上沉积一层ITO膜，再图案化(蚀刻)ITO，此过程限制很少，可以选择强酸(如王水)蚀刻ITO以避免ITO蚀刻残留，然后再在此基板的另一侧制作CF，制作成CF基板，最后将CF基板和TFT基板组立，完成on－cell液晶显示面板的制作。
由于触控感测层—ITO层是预先制作于CF基板的一侧，而后在于CF基板的另一侧制作CF，当进行CF制作时，必须将CF基板翻面而使得ITO层所在一侧朝下并通过机台传送，ITO层与机台直接接触，极易刮伤ITO层，进而导致面板返工或报废。
发明内容
鉴于上述状况，有必要提供一种触控显示面板的制造方法，其可以解决机台刮伤ITO层的问题，同时ITO图案化简单。
一种触控显示面板的制造方法，所述触控显示面板的制造方法包括：提供显示面板半成品，所述显示面板半成品包括阵列基板、彩色滤光片基板与液晶层，所述液晶层位于所述阵列基板与所述彩色滤光片基板之间，所述显示面板半成品已完成所述阵列基板、所述彩色滤光片基板与所述液晶层之间的组装；在所述彩色滤光片基板远离所述液晶层的一侧表面形成与触控感测层图案互补的光阻图案；在所述光阻图案和无所述光阻图案覆盖的所述彩色滤光片基板上形成ITO膜；选择性蚀刻ITO膜，所述光阻图案上方的所述ITO膜被蚀刻去除，并露出所述光阻图案，无所述光阻图案覆盖的所述彩色滤光片基板上方的所述ITO膜被保留；以及剥落所述光阻图案，形成所述触控感测层图案。
进一步地，所述ITO膜采用溅射镀膜的方式形成。
进一步地，所述ITO膜的厚度大于800埃。
进一步地，所述ITO膜包括沉积在所述彩色滤光片基板表面的第一ITO膜和沉积在光阻上的第二ITO膜，所述第一ITO膜在成膜过程中高度结晶化，所述第二ITO膜因光阻抑制作用仍保持非晶状态。
进一步地，蚀刻材料为草酸。
进一步地，在所述彩色滤光片基板远离所述液晶层的一侧表面形成与所述触控感测层图案互补的所述光阻图案的步骤包括：在所述彩色滤光片基板远离所述液晶层的一侧表面涂覆适当厚度的光阻；将预先制作好的所述触控感测层图案的掩模版对位放置于所述光阻上方，经曝光、显影将所述掩模版上的图案转移到所述光阻上，形成与所述触控感测层图案互补的所述光阻图案。
进一步地，所述剥落光阻图案是采用光阻剥离液。
本发明的技术方案带来的有益效果是：上述触控显示面板的制造方法，是先将液晶盒组立制成显示面板半成品，而后再在彩色滤光片基板上制作触控感测层图案—ITO层，使得ITO层不需倒置而与机台相接处，故机台不会再刮伤ITO层。同时，使用草酸蚀刻厚膜ITO，具有制程兼容性、生产成本、生产安全性等多方面优点。
附图说明
图1为本发明一个实施例中触控显示面板的制造方法的流程图。
图2A至图2E为本发明一个实施例中触控显示面板在各步骤中的剖面结构示意图。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明实施例作进一步地详细描述。
图1为本发明一个实施例中触控显示面板的制造方法的流程图，图2A至图2E为本发明一个实施例中触控显示面板在各步骤中的剖面结构示意图。如图1所示，本发明实施例中的一种触控显示面板的制造方法包括如下步骤：
S201：提供显示面板半成品；
S202：在彩色滤光片基板远离液晶层的一侧表面形成与触控感测层图案互补的光阻(Photoresist)图案；
S203：在光阻图案和无光阻图案覆盖的彩色滤光片基板上形成ITO膜；
S204：选择性蚀刻ITO膜；
S205：剥落(stripper)光阻图案，形成触控感测层图案。
请参考图2A，在步骤S201中，显示面板半成品20包括阵列基板21、彩色滤光片基板22及夹置于阵列基板21和彩色滤光片基板22之间的液晶层23，该显示面板半成品20已完成阵列基板21、彩色滤光片基板22与液晶层23之间的组装，液晶层23位于阵列基板21与彩色滤光片基板22之间。
请参考图2B，在步骤S202中，在彩色滤光片基板22远离液晶层23的一侧表面(即彩色滤光片基板22的外侧表面)涂覆适当厚度的光阻24，在本实施例中，光阻24为正性光阻(Positive Photoresist)，将预先制作好的触控感测层图案的掩模版(Mask，或称光罩)25对位放置于光阻24上方，经紫外光(UV)对掩模版25上的触控感测层图案进行曝光，再经显影剂显影而将曝光部分的光阻24清洗掉，这样就只剩下未曝光的光阻24部分，而将掩模版25上的图案转移到光阻24上，形成与触控感测层图案互补的光阻图案。
还可以理解，在其他实施例中，光阻24为负性光阻(Negative Photoresist)，负性光阻所对应的掩模版与前述正性光阻的掩模版25的图案互补，具体过程不同于前述的是：显影剂将未曝光部分的光阻显影清洗掉，剩下曝光部分的光阻，形成与触控感测层图案互补的光阻图案。
请参考图2C，在步骤S203中，在光阻图案和无光阻图案覆盖的彩色滤光片基板上方形成一定厚度的ITO膜26。在本实施例中，ITO膜26采用物理气相沉积方法形成，例如采用溅射镀膜(sputtering)的方式形成在光阻24和无光阻图案覆盖的彩色滤光片基板22上方，溅射镀膜包括交流溅镀、直流溅镀等。ITO膜26包括沉积在彩色滤光片基板22表面的第一ITO膜262和沉积在光阻24上的第二ITO膜264。ITO膜26的厚度较厚，ITO膜26的厚度大于800埃，沉积在彩色滤光片基板22表面的第一ITO膜262在成膜过程中会高度结晶化(即多晶ITO)，而沉积在光阻24表面的第二ITO膜264，因其下方的光阻24具有抑制ITO结晶的作用，而使得第二ITO膜264的ITO仍保持非晶状态(即非晶ITO)。
请参考图2D，在步骤S204中，通过草酸来选择性蚀刻ITO膜。由于非晶ITO和多晶ITO的草酸蚀刻率差异非常大(＞60倍)，故草酸蚀刻时，光阻24上的第二ITO膜264(即非晶ITO)被选择性的去除，并露出光阻图案，而彩色滤光片基板22上的第一ITO膜262(即多晶ITO)被保留下来(经草酸蚀刻很少可忽略不计)。
目前研究表明，磁控直流溅镀ITO膜厚达到800埃时，草酸蚀刻就会出现严重蚀刻残留，其原因是ITO结晶化，而本实施例中ITO膜厚为1600埃，对于如此厚的ITO膜，ITO在成膜过程中已经高度多晶化，草酸不适用蚀刻多晶ITO。另外，ITO的结晶度显著地受衬底的影响，一般衬底结晶度越低，在其上所生长的ITO结晶度亦越低。沉积在光阻上的ITO经200℃高温退火后仍保持着非晶状态，说明光阻可在成膜中和成膜后都有效的抑制ITO的晶粒生长。
请参考图2E，在步骤S205中，剥落光阻图案是使用光阻剥离液(常称为stripper液)与光阻24(即光阻图案)进行理化反应，达到溶解剥落光阻的目的，彩色滤光片基板22上仅剩下第一ITO膜262，本实施例中，第一ITO膜262即为触控感测层，故形成触控感测层图案。
本发明实施例的技术方案带来的有益效果是：上述触控显示面板的制造方法，是先将液晶盒组立制成显示面板半成品20，而后再在彩色滤光片基板22上制作触控感测层图案—ITO层，使得ITO层不需倒置而与机台相接处，故机台不会再刮伤ITO层。同时，使用草酸蚀刻厚膜ITO，具有制程兼容性、生产成本、生产安全性等多方面优点。
以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制，虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本发明，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围内，当可利用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本发明技术方案内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。
Claims (5)
1.一种触控显示面板的制造方法，其特征在于，所述触控显示面板的制造方法包括：
提供显示面板半成品，所述显示面板半成品包括阵列基板、彩色滤光片基板与液晶层，所述液晶层位于所述阵列基板与所述彩色滤光片基板之间，所述显示面板半成品已完成所述阵列基板、所述彩色滤光片基板与所述液晶层之间的组装；
在所述彩色滤光片基板远离所述液晶层的一侧表面形成与触控感测层图案互补的光阻图案；
在所述光阻图案和无所述光阻图案覆盖的所述彩色滤光片基板上形成ITO膜，所述ITO膜包括沉积在所述彩色滤光片基板表面的第一ITO膜和沉积在光阻上的第二ITO膜，所述第一ITO膜在成膜过程中高度结晶化，所述第二ITO膜因光阻抑制作用仍保持非晶状态；
利用草酸对非晶ITO和多晶ITO的蚀刻差异，选择性蚀刻所述ITO膜，所述第二ITO膜被草酸蚀刻去除，并露出所述光阻图案，所述第一ITO膜被保留；以及
剥落所述光阻图案，形成所述触控感测层图案。
2.如权利要求1所述的触控显示面板的制造方法，其特征在于：所述ITO膜采用溅射镀膜的方式形成。
3.如权利要求1所述的触控显示面板的制造方法，其特征在于：所述ITO膜的厚度大于800埃。
4.如权利要求1所述的触控显示面板的制造方法，其特征在于：在所述彩色滤光片基板远离所述液晶层的一侧表面形成与所述触控感测层图案互补的所述光阻图案的步骤包括：
在所述彩色滤光片基板远离所述液晶层的一侧表面涂覆适当厚度的光阻；
将预先制作好的所述触控感测层图案的掩模版对位放置于所述光阻上方，经曝光、显影将所述掩模版上的图案转移到所述光阻上，形成与所述触控感测层图案互补的所述光阻图案。
5.如权利要求1所述的触控显示面板的制造方法，其特征在于：所述剥落光阻图案是采用光阻剥离液。
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| Date | Code | Title | Description |
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| PB01 | Publication | ||
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| GR01 | Patent grant | ||
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