CN105439467A - 可后续加工的高透双银低辐射镀膜玻璃及其生产工艺 - Google Patents
可后续加工的高透双银低辐射镀膜玻璃及其生产工艺 Download PDFInfo
- Publication number
- CN105439467A CN105439467A CN201510843711.XA CN201510843711A CN105439467A CN 105439467 A CN105439467 A CN 105439467A CN 201510843711 A CN201510843711 A CN 201510843711A CN 105439467 A CN105439467 A CN 105439467A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- layer
- silver
- dielectric combination
- coated glass
- magnetron sputtering
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract 28
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 title claims abstract 26
- 239000004332 silver Substances 0.000 title claims abstract 26
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract 7
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 title abstract 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract 49
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 18
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 claims abstract 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract 6
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 claims abstract 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 16
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims 8
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 claims 7
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims 4
- PWKWDCOTNGQLID-UHFFFAOYSA-N [N].[Ar] Chemical compound [N].[Ar] PWKWDCOTNGQLID-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- VVTSZOCINPYFDP-UHFFFAOYSA-N [O].[Ar] Chemical compound [O].[Ar] VVTSZOCINPYFDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims 3
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims 3
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 claims 3
- 238000009738 saturating Methods 0.000 claims 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims 2
- 241000227425 Pieris rapae crucivora Species 0.000 claims 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 abstract 5
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 abstract 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 abstract 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3626—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer one layer at least containing a nitride, oxynitride, boronitride or carbonitride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3636—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer one layer at least containing silicon, hydrogenated silicon or a silicide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3639—Multilayers containing at least two functional metal layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3652—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the coating stack containing at least one sacrificial layer to protect the metal from oxidation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3657—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating having optical properties
- C03C17/366—Low-emissivity or solar control coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3681—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating being used in glazing, e.g. windows or windscreens
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
- C03C2218/154—Deposition methods from the vapour phase by sputtering
- C03C2218/156—Deposition methods from the vapour phase by sputtering by magnetron sputtering
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
<b>可后续加工的高透双银低辐射镀膜玻璃及其生产工艺。在我国东北严寒地区，普通的双银由于其很低的遮阳系数，阻止了大部分太阳光进入室内，所以其冬季节能效果并不理想。本发明的组成包括：玻璃基片（</b><b>1</b><b>），所述的玻璃基片采用磁控溅射镀膜工艺沉积，由内到外依次设有第一基层电介质组合层（</b><b>2</b><b>）、第二基层电介质组合层（</b><b>3</b><b>）、第一银层（</b><b>4</b><b>）、第一阻挡层（</b><b>5</b><b>）、隔层电介质组合层（</b><b>6</b><b>）、第二银层（</b><b>7</b><b>）、第二阻挡层（</b><b>8</b><b>）、第一上层电介质组合层（</b><b>9</b><b>）、第二上层电介质组合层（</b><b>10</b><b>）、保护层（</b><b>11</b><b>）。本发明用于可后续加工的高透双银低辐射镀膜玻璃及其生产工艺。</b>
Description
技术领域：
本发明涉及一种可后续加工的高透双银低辐射镀膜玻璃及其生产工艺。
背景技术：
低辐射(Low-E)玻璃是一种镀膜玻璃。通过在浮法玻璃基片表面镀上具有低辐射特性的功能膜，来降低玻璃表面的辐射率从而提高玻璃的节能性能。低辐射镀膜玻璃在夏季可以阻隔物体受太阳照射后发出的二次辐射热，同样冬季可以减少室内的热量向外流失，从而发挥隔热保温节能降耗的目的。低辐射玻璃以其优异的节能环保性能而被誉为21世纪最理想的建筑玻璃材料。随着对建筑物装饰性要求的不断提高，低辐射玻璃在建筑行业中的使用量也不断增大。目前市面上常见的低辐射玻璃主要为单银和双银，其中单银的应用占主导地位。相对于单银产品，双银低辐射玻璃具有更好的光热选择比、更低的辐射率，更优异的节能效果和舒适性。随着社会能耗的不断增加，相关节能政策的不断出台，在节能监控越来越严，节能要求越来越高的今天，单银Low-E中空玻璃已不能很好地满足需要，国内建筑节能玻璃已形成向双银Low-E玻璃发展的趋势。在我国东北严寒地区，普通的双银由于其很低的遮阳系数，阻止了大部分太阳光进入室内，所以其冬季节能效果并不理想。所以研发一款适合东北严寒地区的高透的，遮阳系数高的，辐射率低的双银低辐射镀膜玻璃势在必行。
发明内容：
本发明的目的是提供一种可后续加工的高透双银低辐射镀膜玻璃及其生产工艺。
上述的目的通过以下的技术方案实现：
一种可后续加工的高透双银低辐射镀膜玻璃，其组成包括：玻璃基片，所述的玻璃基片采用磁控溅射镀膜工艺沉积，由内到外依次设有第一基层电介质组合层、第二基层电介质组合层、第一银层、第一阻挡层、隔层电介质组合层、第二银层、第二阻挡层、第一上层电介质组合层、第二上层电介质组合层、保护层。
所述的可后续加工的高透双银低辐射镀膜玻璃，所述的玻璃基片为普通白玻璃或低铁超白玻璃，厚度为4~12mm。
所述的可后续加工的高透双银低辐射镀膜玻璃，所述的第一基层电介质组合层、第二基层电介质组合层、隔层电介质组合层、第一上层电介质组合层、第二上层电介质组合层是由金属氧化物或非金属氧化物或金属氮化物或非金属氮化物构成，所述的第一基层电介质组合层的厚度为15~25nm，所述的第二基层电介质组合层的厚度为10~25nm，所述的隔层电介质组合层的厚度为50~90nm，所述的第一上层电介质组合层的厚度为5~15nm，所述的第二上层电介质组合层的厚度为20~35nm。
所述的可后续加工的高透双银低辐射镀膜玻璃，所述的第一银层的厚度为7~15nm，所述的第二银层的厚度为7~15nm。
所述的可后续加工的高透双银低辐射镀膜玻璃，所述的第一阻挡层，第二层阻挡层为金属或金属氧化物或金属氮化物，所述的第一阻挡层的厚度为0.5~1.5nm，所述的第二阻挡层的厚度为0.5~1.5nm。
所述的可后续加工的高透双银低辐射镀膜玻璃，所述的保护层为金属氧化物或非金属氧化物或几种氧化物的混合物，所述的保护层的厚度为1.5~3nm。
一种所述的可后续加工的高透双银低辐射镀膜玻璃的生产工艺，该方法包括如下步骤：
（1）将4mm~12mm玻璃基片清洗干净，并将离线磁控溅射设备的本底真空度设置在10-6mbar，线速度设置为4.0m/min；
（2）将玻璃基片传送入镀膜腔室中，双旋转阴极、中频反应磁控溅射沉积第一基层电介质组合层，设置功率为90~150kW，双旋转阴极、中频反应磁控溅射沉积第二基层电介质组合层，设置功率为30~70kW；
（3）平面阴极或旋转阴极、直流或直流加脉冲磁控溅射沉积第一银层，设置功率为5~10kW，平面阴极或旋转阴极、直流或直流加脉冲磁控溅射沉积第一阻挡层，设置功率为8~24kW；
（4）双旋转阴极、中频反应磁控溅射沉积隔层电介质组合层，设置功率为200~280kW；
（5）平面阴极或旋转阴极、直流或直流加脉冲磁控溅射沉积第二银层，设置功率为5~10kW，平面阴极或旋转阴极、直流或直流加脉冲磁控溅射沉积第二阻挡层，设置功率为8~24kW；
（6）双旋转阴极、中频反应磁控溅射沉积第一上层电介质组合层，设置功率为20~30kW，双旋转阴极、中频反应磁控溅射沉积第二上层电介质组合层，设置功率为120~200kW；
（7）双旋转阴极、中频反应磁控溅射沉积保护层，设置功率为20~40kW。
所述的可后续加工的高透双银低辐射镀膜玻璃的生产工艺，所述的步骤（2）至（7）之间是持续进行的。
所述的可后续加工的高透双银低辐射镀膜玻璃的生产工艺，所述的双旋转阴极、中频反应磁控溅射是在氩氮或氩氧环境中进行的，氩氧比为200sccm:1000sccm，氩氮比为400sccm:800sccm，通入工作气体后，工作气压为3.0×10-3~5.5×10-3mbar。
所述的可后续加工的高透双银低辐射镀膜玻璃的生产工艺，所述的平面阴极或旋转阴极、直流或直流加脉冲磁控溅射在氩气或氩氮或氩氧环境中进行的，通入工作气体后，工作气压为2.0×10-3~3.5×10-3mbar。
本发明的有益效果：
1、本发明通过对阻挡层的特殊设计以及膜层生长控制，使其对Ag层有更好的保护作用，解决了Ag层在后期热处理的过程中容易被破坏的问题。
、本发明通过金属或非金属氧化物或氮化物膜层合理的设计，使整个膜层透过率达到78%以上，遮阳系数达到0.48以上。
、本发明通过对红外反射层银层的合理设计，使整个膜层在达到很高透过率、很高遮阳系数的同时具有比传统双银更低的辐射率（≤0.06）。
、本发明通过对保护层的设计及膜层生长控制，使膜层耐腐蚀，耐磨性，耐划伤性能大大提高，便于后续深加工处理。
、本发明提供的可后续加工的高透双银低辐射镀膜玻璃外观呈中性色，光学性能稳定，合中空时，镀膜玻璃可放二面，也可放三面。
附图说明：
附图1是本发明的结构示意图。
附图2是本发明的300~2500nm透过率光谱图。
附图3是本发明实施例12的300~800nm透过率光谱图。
附图4是本发明实施例12的300~800nm玻面反射率光谱图。
具体实施方式：
实施例1：
一种可后续加工的高透双银低辐射镀膜玻璃，其组成包括：玻璃基片，所述的玻璃基片采用磁控溅射镀膜工艺沉积，由内到外依次设有第一基层电介质组合层、第二基层电介质组合层、第一银层、第一阻挡层、隔层电介质组合层、第二银层、第二阻挡层、第一上层电介质组合层、第二上层电介质组合层、保护层。
实施例2：
根据实施例1所述的可后续加工的高透双银低辐射镀膜玻璃，所述的玻璃基片为普通白玻璃或低铁超白玻璃，厚度为4~12mm。
实施例3：
根据实施例1或2所述的可后续加工的高透双银低辐射镀膜玻璃，所述的第一基层电介质组合层、第二基层电介质组合层、隔层电介质组合层、第一上层电介质组合层、第二上层电介质组合层是由金属氧化物或非金属氧化物或金属氮化物或非金属氮化物构成，比如ZnSnOx、ZnO、AZO、SnO2、TiO2、SiO2、BiO2、Al2O3、ZnAl2O4、Nb2O5、Si3N4等，所述的第一基层电介质组合层的厚度为15~25nm，所述的第二基层电介质组合层的厚度为10~25nm，所述的隔层电介质组合层的厚度为50~90nm，所述的第一上层电介质组合层的厚度为5~15nm，所述的第二上层电介质组合层的厚度为20~35nm。
实施例4：
根据实施例1或2或3或4所述的可后续加工的高透双银低辐射镀膜玻璃，所述的第一银层的厚度为7~15nm，所述的第二银层的厚度为7~15nm。
实施例5：
根据实施例1或2或3或4或5所述的可后续加工的高透双银低辐射镀膜玻璃，所述的第一阻挡层，第二层阻挡层为金属或金属氧化物或金属氮化物，比如Ti、TiOx、NiCr、NiCrOx、NiCrNx、NbNx、Nb2O5等，所述的第一阻挡层的厚度为0.5~1.5nm，所述的第二阻挡层的厚度为0.5~1.5nm。
实施例6：
根据实施例1或2或3或4或5所述的可后续加工的高透双银低辐射镀膜玻璃，所述的保护层为金属氧化物或非金属氧化物或几种氧化物的混合物，比如，TiO2、Al2O3、SiO2、ZrO2、ZrSiOxNy等，所述的保护层的厚度为1.5~3nm。
实施例7：
一种实施例1-6之一所述的可后续加工的高透双银低辐射镀膜玻璃的生产工艺，该方法包括如下步骤：
（1）将4mm~12mm玻璃基片清洗干净，并将离线磁控溅射设备的本底真空度设置在10-6mbar，线速度设置为4.0m/min；
（2）将玻璃基片传送入镀膜腔室中，双旋转阴极、中频反应磁控溅射沉积第一基层电介质组合层，设置功率为90~150kW，双旋转阴极、中频反应磁控溅射沉积第二基层电介质组合层，设置功率为30~70kW；
（3）平面阴极或旋转阴极、直流或直流加脉冲磁控溅射沉积第一银层，设置功率为5~10kW，平面阴极或旋转阴极、直流或直流加脉冲磁控溅射沉积第一阻挡层，设置功率为8~24kW；
（4）双旋转阴极、中频反应磁控溅射沉积隔层电介质组合层，设置功率为200~280kW；
（5）平面阴极或旋转阴极、直流或直流加脉冲磁控溅射沉积第二银层，设置功率为5~10kW，平面阴极或旋转阴极、直流或直流加脉冲磁控溅射沉积第二阻挡层，设置功率为8~24kW；
（6）双旋转阴极、中频反应磁控溅射沉积第一上层电介质组合层，设置功率为20~30kW，双旋转阴极、中频反应磁控溅射沉积第二上层电介质组合层，设置功率为120~200kW；
（7）双旋转阴极、中频反应磁控溅射沉积保护层，设置功率为20~40kW。
实施例8：
根据实施例7所述的可后续加工的高透单银低辐射镀膜玻璃的生产工艺，所述的步骤（2）至（7）之间是持续进行的。
实施例9：
根据实施例7或8所述的可后续加工的高透双银低辐射镀膜玻璃的生产工艺，所述的双旋转阴极、中频反应磁控溅射是在氩氮或氩氧环境中进行的，氩氧比为200sccm:1000sccm，氩氮比为400sccm:800sccm，通入工作气体后，工作气压为3.0×10-3~5.5×10-3mbar。
实施例10：
根据实施例7或8或9所述的可后续加工的高透双银低辐射镀膜玻璃的生产工艺，所述的平面阴极或旋转阴极、直流或直流加脉冲磁控溅射在氩气或氩氮或氩氧环境中进行的，通入工作气体后，工作气压为2.0×10-3~3.5×10-3mbar。
实施例11：
所述的可后续加工的高透双银低辐射镀膜玻璃，对于可见光（波长从380nm-780nm）透过率在78%~81%之间，玻面反射≤8.0%；在6Low-E#2—12A—6C配置下，U值＜1.7，辐射率≤0.06，遮阳Sc≥0.48，适合东北严寒地区使用；在6C—12A—6Low-E#3配置下，U值＜1.7，辐射率≤0.06，遮阳Sc≥0.56，适合东北严寒地区使用。
实施例12：
所述的可后续加工的高透双银低辐射镀膜玻璃，选用玻璃基板/Si3N4/ZnSnOx/Ag/Ti/ZnSnOx/Ag/Ti/ZnSnOx/Si3N4/ZrO2；
其中，玻璃基片的厚度为6mm普通白玻璃；
第一基层电介质组合层为氮化硅（Si3N4），膜层厚度为20~22nm；
第二基层电介质组合层为氧化锌锡（ZnSnOx），膜层厚度为17~19nm；
第一银层膜层厚度为8.5~9nm；
第一阻挡层为钛（Ti），膜层厚度为0.8~1.0nm；
隔层电介质阻挡层为氧化锌锡（ZnSnOx），膜层厚度为76~78nm；
第二银层膜层厚度为10.5~11nm；
第二阻挡层为钛（Ti），膜层厚度为1.0~1.1nm；
第一上层电介质组合层为氧化锌锡（ZnSnOx），膜层厚度为8~8.5nm；
第二上层电介质组合层为氮化硅（Si3N4），膜层厚度为27~28nm；
保护层为氧化锆（ZrO2），膜层厚度为2.4nm。
上述膜层的加工工艺为：
镀膜基片采用6mm普通白玻璃，镀膜设备为多阴极磁控溅射镀膜生产线，玻璃基片进入镀膜腔室之前需用超纯水清洗干净，磁控溅射镀膜腔室本底真空设置为10-6mbar。线速度设置为4m/min；
所有氮化硅（Si3N4）层系采用中频电源加旋转阴极在氩氮氛围中溅射沉积，氩氮比例为400sccm：800sccm，第一基层电介质组合层设置功率为120kw，第二上层电介质组合层设置功率为160kw；
所有氧化锌（ZnO），氧化锌锡（ZnSnOx）层系采用中频电源加旋转阴极在氩氧氛围中溅射沉积，氩氧比例为200sccm：1000sccm，第二基层电介质组合层设置功率50kw，隔层电介质组合层设置功率240kw，第一上层电介质组合层设置功率为24kw；
氧化锆（ZrO2）层系采用中频电源加旋转阴极在氩氧氛围中溅射沉积，氩氧比例为600sccm：200sccm，保护层设置功率为30kw；
银（Ag）层采用直流电源加平面阴极在氩气氛围中溅射沉积，氩气通入量为800sccm，第一银（Ag）层设置功率为6kw，第二银（Ag）层设置功率为7.5kw。
钛（Ti）层采用直流电源加平面阴极在氩气氛围中溅射沉积，氩气通入量为800sccm，第一钛（Ti）层设置功率为8kw，第二钛（Ti）层设置功率为7.5kw。
本实施例提供的可后续加工的高透双银低辐射镀膜玻璃（6mm普通白玻璃）测试结果如下：
| 颜色值 | 钢化前 | 钢化后 |
| T | 70.2% | 80.5% |
| a*t | -2.8 | -1.6 |
| b*t | -1.5 | -0.4 |
| Rg | 6.8% | 7.2% |
| a*g | 3.6 | 1.1 |
| b*g | -10.0 | -6.0 |
| Rf | 5.3% | 6.2% |
| a*f | -2.9 | -3.2 |
| b*f | -5.8 | -3.8 |
300~800nm透过率光谱图见附图3，玻面反射率光谱图见附图4。在6Low-E#2—12A—6C配置下，可见光透过率为71.7%，室外反射率13%，U值为1.66，遮阳系数为0.50；在6C—12A—6Low-E3#配置下，可见光透过率为71.7%，室外反射率14%，U值为1.66，遮阳系数为0.57。
Claims (10)
1.一种可后续加工的高透双银低辐射镀膜玻璃，其组成包括：玻璃基片，其特征是：所述的玻璃基片采用磁控溅射镀膜工艺沉积，由内到外依次设有第一基层电介质组合层、第二基层电介质组合层、第一银层、第一阻挡层、隔层电介质组合层、第二银层、第二阻挡层、第一上层电介质组合层、第二上层电介质组合层、保护层。
2.根据权利要求1所述的可后续加工的高透双银低辐射镀膜玻璃，其特征是：所述的玻璃基片为普通白玻璃或低铁超白玻璃，厚度为4~12mm。
3.根据权利要求1或2所述的可后续加工的高透双银低辐射镀膜玻璃，其特征是：所述的第一基层电介质组合层、第二基层电介质组合层、隔层电介质组合层、第一上层电介质组合层、第二上层电介质组合层是由金属氧化物或非金属氧化物或金属氮化物或非金属氮化物构成，所述的第一基层电介质组合层的厚度为15~25nm，所述的第二基层电介质组合层的厚度为10~25nm，所述的隔层电介质组合层的厚度为50~90nm，所述的第一上层电介质组合层的厚度为5~15nm，所述的第二上层电介质组合层的厚度为20~35nm。
4.根据权利要求1或2或3所述的可后续加工的高透双银低辐射镀膜玻璃，其特征是：所述的第一银层的厚度为7~15nm，所述的第二银层的厚度为7~15nm。
5.根据权利要求1或2或3或4所述的可后续加工的高透双银低辐射镀膜玻璃，其特征是：所述的第一阻挡层，第二层阻挡层为金属或金属氧化物或金属氮化物，所述的第一阻挡层的厚度为0.5~1.5nm，所述的第二阻挡层的厚度为0.5~1.5nm。
6.根据权利要求1或2或3或4或5所述的可后续加工的高透双银低辐射镀膜玻璃，其特征是：所述的保护层为金属氧化物或非金属氧化物或几种氧化物的混合物，所述的保护层的厚度为1.5~3nm。
7.一种权利要求1-6之一所述的可后续加工的高透双银低辐射镀膜玻璃的生产工艺，其特征是：该方法包括如下步骤：
（1）将4mm~12mm玻璃基片清洗干净，并将离线磁控溅射设备的本底真空度设置在10-6mbar，线速度设置为4.0m/min；
（2）将玻璃基片传送入镀膜腔室中，双旋转阴极、中频反应磁控溅射沉积第一基层电介质组合层，设置功率为90~150kW，双旋转阴极、中频反应磁控溅射沉积第二基层电介质组合层，设置功率为30~70kW；
（3）平面阴极或旋转阴极、直流或直流加脉冲磁控溅射沉积第一银层，设置功率为5~10kW，平面阴极或旋转阴极、直流或直流加脉冲磁控溅射沉积第一阻挡层，设置功率为8~24kW；
（4）双旋转阴极、中频反应磁控溅射沉积隔层电介质组合层，设置功率为200~280kW；
（5）平面阴极或旋转阴极、直流或直流加脉冲磁控溅射沉积第二银层，设置功率为5~10kW，平面阴极或旋转阴极、直流或直流加脉冲磁控溅射沉积第二阻挡层，设置功率为8~24kW；
（6）双旋转阴极、中频反应磁控溅射沉积第一上层电介质组合层，设置功率为20~30kW，双旋转阴极、中频反应磁控溅射沉积第二上层电介质组合层，设置功率为120~200kW；
（7）双旋转阴极、中频反应磁控溅射沉积保护层，设置功率为20~40kW。
8.根据权利要求7所述的可后续加工的高透双银低辐射镀膜玻璃的生产工艺，其特征是：所述的步骤（2）至（7）之间是持续进行的。
9.根据权利要求7或8所述的可后续加工的高透双银低辐射镀膜玻璃的生产工艺，其特征是：所述的双旋转阴极、中频反应磁控溅射是在氩氮或氩氧环境中进行的，氩氧比为200sccm:1000sccm，氩氮比为400sccm:800sccm，通入工作气体后，工作气压为3.0×10-3~5.5×10-3mbar。
10.根据权利要求7或8或9所述的可后续加工的高透双银低辐射镀膜玻璃的生产工艺，其特征是：所述的平面阴极或旋转阴极、直流或直流加脉冲磁控溅射在氩气或氩氮或氩氧环境中进行的，通入工作气体后，工作气压为2.0×10-3~3.5×10-3mbar。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201510843711.XA CN105439467A (zh) | 2015-11-26 | 2015-11-26 | 可后续加工的高透双银低辐射镀膜玻璃及其生产工艺 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201510843711.XA CN105439467A (zh) | 2015-11-26 | 2015-11-26 | 可后续加工的高透双银低辐射镀膜玻璃及其生产工艺 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN105439467A true CN105439467A (zh) | 2016-03-30 |
Family
ID=55550177
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201510843711.XA Pending CN105439467A (zh) | 2015-11-26 | 2015-11-26 | 可后续加工的高透双银低辐射镀膜玻璃及其生产工艺 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN105439467A (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112125534A (zh) * | 2020-09-02 | 2020-12-25 | 湖北亿钧耀能新材股份公司 | 一种镀膜玻璃的制备方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101417520A (zh) * | 2008-10-17 | 2009-04-29 | 湖南玉丰真空科学技术有限公司 | 一种多层介质双银层低辐射膜及其生产工艺 |
| CN101830643A (zh) * | 2010-05-28 | 2010-09-15 | 中航三鑫股份有限公司 | 一种双银镀膜玻璃及其制造方法 |
| CN201817406U (zh) * | 2010-09-01 | 2011-05-04 | 林嘉宏 | 可异地加工的双银低辐射玻璃 |
| CN104494237A (zh) * | 2014-12-01 | 2015-04-08 | 上海北玻镀膜技术工业有限公司 | 一种高透过低辐射的双银镀膜玻璃及其制造方法 |
-
2015
- 2015-11-26 CN CN201510843711.XA patent/CN105439467A/zh active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101417520A (zh) * | 2008-10-17 | 2009-04-29 | 湖南玉丰真空科学技术有限公司 | 一种多层介质双银层低辐射膜及其生产工艺 |
| CN101830643A (zh) * | 2010-05-28 | 2010-09-15 | 中航三鑫股份有限公司 | 一种双银镀膜玻璃及其制造方法 |
| CN201817406U (zh) * | 2010-09-01 | 2011-05-04 | 林嘉宏 | 可异地加工的双银低辐射玻璃 |
| CN104494237A (zh) * | 2014-12-01 | 2015-04-08 | 上海北玻镀膜技术工业有限公司 | 一种高透过低辐射的双银镀膜玻璃及其制造方法 |
Non-Patent Citations (2)
| Title |
|---|
| 杨修春: "《新型建筑玻璃》", 31 January 2009, 中国电力出版社 * |
| 白振中: "《工程玻璃深加工技术手册》", 30 April 2014, 中国建材工业出版社 * |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112125534A (zh) * | 2020-09-02 | 2020-12-25 | 湖北亿钧耀能新材股份公司 | 一种镀膜玻璃的制备方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN105481267A (zh) | 可后续加工的高透单银低辐射镀膜玻璃及其生产工艺 | |
| CA3047603C (en) | Low-emissivity coating for a glass substrate | |
| CN101875536B (zh) | 镀膜玻璃及其制造方法 | |
| CN101058486B (zh) | 可热处理的磁控溅射方法制备的低辐射镀膜玻璃 | |
| CN110028251B (zh) | 一种可后续加工含铜双银低辐射镀膜玻璃及制备方法 | |
| CN103144379A (zh) | 一种低辐射镀膜玻璃及其制造方法 | |
| CN101767939A (zh) | 高透可钢化低辐射镀膜玻璃及其制造方法 | |
| TW201305078A (zh) | 三銀低輻射鍍膜玻璃及其製造方法 | |
| CN201817401U (zh) | 可异地加工的双银低辐射镀膜玻璃 | |
| CN110746123A (zh) | 一种可钢化双银镀膜玻璃及制备方法 | |
| CN104609740A (zh) | 可单片使用阳光控制镀膜玻璃及其制备方法 | |
| CN104354393A (zh) | 可钢化低辐射镀膜玻璃 | |
| CN103396013B (zh) | 离线高透净色低辐射可钢镀膜玻璃及其制造方法 | |
| CN102910839A (zh) | 一种金色低辐射镀膜玻璃及其制备方法 | |
| CN111704369A (zh) | 一种全景灰色双银低辐射镀膜玻璃及制备方法 | |
| CN107117832A (zh) | 低反低透可钢化单银低辐射镀膜玻璃及其制造方法和应用 | |
| CN212559995U (zh) | 一种中透低反可钢化双银low-e玻璃 | |
| CN102514279A (zh) | 四银低辐射镀膜玻璃及其制造工艺 | |
| CN102336529A (zh) | 高透可钢化低辐射玻璃及其制造方法 | |
| CN109081610B (zh) | 一种中透灰色可钢双银低辐射镀膜玻璃及制备方法 | |
| CN104494237A (zh) | 一种高透过低辐射的双银镀膜玻璃及其制造方法 | |
| CN203651100U (zh) | 可后续加工的含铜、银四层低辐射镀膜玻璃 | |
| CN105439467A (zh) | 可后续加工的高透双银低辐射镀膜玻璃及其生产工艺 | |
| CN105731826A (zh) | 一种中性透过色双银低辐射玻璃及其制备方法 | |
| CN202448400U (zh) | 一种低辐射镀膜玻璃 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20160330 |
|
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |