CN105132924A - 一种铝硅合金盒体的表面处理方法 - Google Patents
一种铝硅合金盒体的表面处理方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN105132924A CN105132924A CN201510568567.3A CN201510568567A CN105132924A CN 105132924 A CN105132924 A CN 105132924A CN 201510568567 A CN201510568567 A CN 201510568567A CN 105132924 A CN105132924 A CN 105132924A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- box
- silicon alloy
- aluminum
- box body
- nickel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 38
- CSDREXVUYHZDNP-UHFFFAOYSA-N alumanylidynesilicon Chemical compound [Al].[Si] CSDREXVUYHZDNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 23
- 229910000676 Si alloy Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 22
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 title claims description 11
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 42
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 21
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims abstract description 20
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 9
- 238000007669 thermal treatment Methods 0.000 claims abstract description 9
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims abstract description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 2
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 claims description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 claims description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 abstract description 7
- 239000010931 gold Substances 0.000 abstract description 7
- 238000003466 welding Methods 0.000 abstract description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 2
- 230000008054 signal transmission Effects 0.000 abstract description 2
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 abstract 2
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 abstract 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 abstract 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 abstract 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 abstract 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 8
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 8
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 3
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KMWBBMXGHHLDKL-UHFFFAOYSA-N [AlH3].[Si] Chemical compound [AlH3].[Si] KMWBBMXGHHLDKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Abstract
铝硅合金封装盒体是雷达微波组件的重要组成部分,起着机械支撑、信号传输、散热通道、芯片和基板保护等重要作用。为满足盒体导电、焊接和密封的要求,一般对其表面镀覆镍、金层,因此盒体表面镀层质量对微波组件的整体性能非常重要。本发明涉及一种铝硅材料微波组件盒体化学镀镍、电镀镍、电镀金膜层的表面处理方法,该处理方法首次在铝硅合金盒体的表面镀层处理过程中,在化学镀镍后引入热处理和除氧化层步骤,从而达到使由此制作的盒体电镀镍、金后经300℃烘烤15min膜层不变色、不起泡的效果。
Description
技术领域
本发明涉及铝硅合金材料制成的微波组件盒体的表面处理技术领域,特别涉及一种铝硅合金盒体的化学镀镍、电镀镍、电镀金的表面处理方法。
背景技术
随着微波组件向大功率、小型化、轻量化、高性能方向发展,要求与电子元器件配套的封装盒体具有与硅芯片匹配的热膨胀系数、较高的热传导率和较低的密度。铝硅合金材料是一种理想的电子封装材料,铝硅合金封装盒体是雷达微波组件的重要组成部分,起着机械支撑、信号传输、散热通道、芯片和基板保护等重要作用。为了满足其导电、焊接和密封的要求,一般对其表面进行镀镍和镀金处理,因此铝硅合金盒体表面镀层质量对微波组件的整体性能非常重要。
国产铝硅合金材料由于熔炼成型技术存在不足,导致用常规表面处理方法镀镍、金后,180℃以上焊接时镀层就会大量起泡、崩落。
发明内容
针对现有技术的上述不足,本发明首次在铝硅合金盒体的表面镀层处理过程中,在化学镀镍后引入热处理和除氧化层步骤,从而达到使由此制作的盒体电镀镍、金后经300℃烘烤15min膜层不变色、不起泡的效果。
本发明的铝硅合金盒体的表面处理方法的实施步骤依次为:盒体前处理、化学镀镍、热处理、除氧化层、电镀镍、电镀金。经过上述处理的镀金后的盒体可焊接温度达到300℃,从而提高了盒体与基板、接插件、芯片等的温度阶梯焊接可靠性。
优选所述盒体前处理过程为:首先用丙酮超声清洗盒体10-20min,纯水漂洗30-50s,超声碱洗30-60s,超声水洗1-2min,超声酸洗20-40s,超声水洗15-40min,超声频率为39.9KHz,功率900W。
优选所述化学镀镍过程为:在化学镀镍溶液中镀80-100min,之后用流动的纯水漂洗1-2min,之后脱水。脱水可采用酒精脱水方法。
优选所述热处理过程为:盒体脱水后置于充满不与镍反应的气体如氮气、氩气或者真空气氛的烘箱中250-350℃热处理1-2小时,自然冷却至室温后取出。
优选所述除氧化层为:将盒体在稀酸如稀盐酸或稀硝酸中漂洗1-2min,防止镍层被酸过度腐蚀,之后用流动的纯水漂洗1-2min。
优选所述电镀镍过程为:在电镀镍溶液中镀5-10min,之后用流动的纯水漂洗1-2min。
优选所述电镀金过程为:在电镀金溶液中镀30-50s,之后用流动的纯水漂洗1-2min,然后用酒精脱水后氮气吹干。
以上所述的电镀金、电镀镍、化学镀镍过程中使用的溶液均为现有技术中相同处理过程使用的常用溶液。
与现有技术相比,本发明的有益效果如下:
本发明首次在铝硅合金盒体的表面镀层处理过程中,在化学镀镍后引入热处理和除氧化层步骤,从而使由此制作的盒体电镀镍、金后经300℃烘烤15min膜层不变色、不起泡,而现有处理方法镀镍、金后,180℃以上焊接时镀层就会大量起泡、崩落,本发明的表面处理方法使盒体可焊接温度达到300℃,从而提高了盒体与基板、接插件、芯片等的温度阶梯焊接可靠性,进而也大大提高了雷达微波组件的整体性能。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本发明作进一步说明。
实施例一
本实施例提供的铝硅合金盒体的表面处理方法如下:
1.40个铝硅盒体在丙酮中超声清洗10min,纯水漂洗50s,超声碱洗40s,超声水洗2min,超声酸洗20s,超声水洗20min,超声频率为39.9KHz,功率900W;
2.经上述步骤1处理的40个盒体在化学镀镍溶液中镀80min,之后用流动的纯水漂洗2min;
3.经上述处理的40个盒体脱水后置于充满氮气的烘箱中350℃热处理1小时,自然冷却至室温后取出;
4.经上述处理的40个盒体在稀盐酸中漂洗2min,之后用流动的纯水漂洗2min;
5.经上述处理的40个盒体在电镀镍溶液中镀5min,之后用流动的纯水漂洗1min;
6.经上述处理的40个盒体在电镀金溶液中镀30s,之后用流动的纯水漂洗1min,然后酒精脱水后氮气吹干。
将上述制备的铝硅合金盒体在300℃热台上高温烘烤15min,其上的金层不变色、不起泡。
实施例二
本实施例提供的铝硅合金盒体的表面处理方法如下:
1.60个铝硅盒体同时在丙酮中超声清洗15min,纯水漂洗50s,超声碱洗30s,超声水洗2min,超声酸洗30s,超声水洗30min,超声频率为39.9KHz,功率900W;
2.经上述处理的60个盒体在化学镀镍溶液中镀90min,之后用流动的纯水漂洗2min;
3.经上述处理的60个盒体脱水后置于充满氩气的烘箱中250℃热处理2小时,自然冷却至室温后取出;
4.经上述处理的60个盒体在稀硝酸中漂洗1min,之后用流动的纯水漂洗2min;
5.经上述处理的60个盒体在电镀镍溶液中镀5min,之后用流动的纯水漂洗1min;
6.经上述处理的60支盒体在电镀金溶液中镀40s,之后用流动的纯水漂洗1min,然后酒精脱水后氮气吹干。
将上述制备的铝硅合金盒体在300℃热台上高温烘烤15min,其上的金层不变色、不起泡。
在本发明及上述实施例的教导下,本领域技术人员很容易预见到,本发明所列举或例举的各原料或其等同替换物、各加工方法或其等同替换物都能实现本发明,以及各原料和加工方法的参数上下限取值、区间值都能实现本发明,在此不一一列举实施例。
Claims (3)
1.一种铝硅合金盒体的表面处理方法,其特征在于,依次包括以下步骤:盒体前处理、化学镀镍、热处理、除氧化层、电镀镍、电镀金。
2.如权利要求1所述的铝硅合金盒体的表面处理方法,其特征在于,所述热处理的温度为250-350℃,热处理气氛为不与镍反应的气体或者真空环境,热处理时间为1-2小时,热处理后使铝硅合金盒体自然冷却至室温。
3.如权利要求1所述的铝硅合金盒体的表面处理方法,其特征在于,所述的除氧化层过程,在稀酸中进行,处理时间控制在1-2min。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201510568567.3A CN105132924A (zh) | 2015-09-09 | 2015-09-09 | 一种铝硅合金盒体的表面处理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201510568567.3A CN105132924A (zh) | 2015-09-09 | 2015-09-09 | 一种铝硅合金盒体的表面处理方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN105132924A true CN105132924A (zh) | 2015-12-09 |
Family
ID=54718486
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201510568567.3A Pending CN105132924A (zh) | 2015-09-09 | 2015-09-09 | 一种铝硅合金盒体的表面处理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN105132924A (zh) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105862015A (zh) * | 2015-12-18 | 2016-08-17 | 中国电子科技集团公司第四十研究所 | 一种应用于双定向电桥的铝硅材料的处理方法 |
CN109457103A (zh) * | 2018-11-09 | 2019-03-12 | 中国电子科技集团公司第五十五研究所 | 一种电子封装外壳引线抗疲劳强度增强方法 |
CN110592628A (zh) * | 2019-10-24 | 2019-12-20 | 中电国基南方集团有限公司 | 一种硅铝复合材料的镀覆工艺 |
CN114032549A (zh) * | 2021-11-23 | 2022-02-11 | 山东晶导微电子股份有限公司 | 一种去除硅片化学镀镍表面镍的方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20080277140A1 (en) * | 2007-04-16 | 2008-11-13 | C. Uyemura & Co., Ltd. | Electroless gold plating method and electronic parts |
CN101711092A (zh) * | 2009-04-16 | 2010-05-19 | 深圳市精诚达电路有限公司 | 挠性电路板直接镀金工艺 |
-
2015
- 2015-09-09 CN CN201510568567.3A patent/CN105132924A/zh active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20080277140A1 (en) * | 2007-04-16 | 2008-11-13 | C. Uyemura & Co., Ltd. | Electroless gold plating method and electronic parts |
CN101711092A (zh) * | 2009-04-16 | 2010-05-19 | 深圳市精诚达电路有限公司 | 挠性电路板直接镀金工艺 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
卢海燕等: ""SiCp/Al复合材料镀金工艺研究"", 《电子机械工程》 * |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105862015A (zh) * | 2015-12-18 | 2016-08-17 | 中国电子科技集团公司第四十研究所 | 一种应用于双定向电桥的铝硅材料的处理方法 |
CN109457103A (zh) * | 2018-11-09 | 2019-03-12 | 中国电子科技集团公司第五十五研究所 | 一种电子封装外壳引线抗疲劳强度增强方法 |
CN109457103B (zh) * | 2018-11-09 | 2022-05-17 | 中国电子科技集团公司第五十五研究所 | 一种电子封装外壳引线抗疲劳强度增强方法 |
CN110592628A (zh) * | 2019-10-24 | 2019-12-20 | 中电国基南方集团有限公司 | 一种硅铝复合材料的镀覆工艺 |
CN114032549A (zh) * | 2021-11-23 | 2022-02-11 | 山东晶导微电子股份有限公司 | 一种去除硅片化学镀镍表面镍的方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102387227B1 (ko) | 금속/세라믹 회로 기판 제조 방법 | |
CN106876267B (zh) | 一种ltcc基板组件及其共晶烧结工艺方法 | |
CN105132924A (zh) | 一种铝硅合金盒体的表面处理方法 | |
CN105887149B (zh) | 一种金属化陶瓷电镀方法 | |
CN104362099A (zh) | 高热导覆铜陶瓷基板的制备方法 | |
US20130105956A1 (en) | Power module package and method for manufacturing the same | |
CN105039980B (zh) | 一种铝硅合金材料微波组件镀覆镍金的处理方法 | |
JPWO2015114987A1 (ja) | パワーモジュール用基板およびそれを用いてなるパワーモジュール | |
CN117954330B (zh) | 一种消除dcb氧化铝陶瓷基板岛间漏电流的方法 | |
CN104319241A (zh) | 一种无压烧结连接大功率gto模块的方法 | |
US20170301548A1 (en) | Integrated circuits with backside metalization and production method thereof | |
CN104538312A (zh) | 利用氮化硼制备散热芯片的方法 | |
TW201813027A (zh) | 絕緣電路基板之製造方法、絕緣電路基板、熱電變換模組 | |
CN103560096B (zh) | 一种低温下化合物半导体与硅基半导体进行键合的方法 | |
CN204424217U (zh) | 一种金属电极制造装置 | |
CN109037421A (zh) | 一种大功率led用陶瓷覆铜板的低温制备方法 | |
CN105132975B (zh) | 一种提高铝硅组件镀覆镍金层结合力的方法 | |
CN103716980B (zh) | 一种电源模块用正极氧化膜印刷基板 | |
CN202210777U (zh) | 低频晶体振荡器 | |
CN209592085U (zh) | 一种热电器件的制备系统 | |
CN119725233B (zh) | 一种基于双面覆铝的碳化硅绝缘基板及其制备方法 | |
CN113363135A (zh) | 一种用于芯片的镀膜加工方法 | |
JP4923224B2 (ja) | 金属セラミック複合部材に対するメッキ方法、および金属セラミック複合部材に対するパターン製造方法 | |
CN202275814U (zh) | 覆金属陶瓷基板 | |
CN115812342A (zh) | 绝缘基板及其制造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C41 | Transfer of patent application or patent right or utility model | ||
TA01 | Transfer of patent application right |
Effective date of registration: 20160415 Address after: 200082 Qigihar Road, Shanghai, No. 76, No. Applicant after: Shanghai Aerospace Electronic Communication Equipment Inst. Address before: 200080 Shanghai city Hongkou District street Xingang Tianbao Road No. 881 Applicant before: Shanghai Aerospace Measurement Control Communication Institute |
|
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20151209 |
|
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |