CN104325760A - 窗膜核心功能层和制备该窗膜核心功能层的方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种窗膜核心功能层和制备该窗膜核心功能层的方法，该窗膜核心功能层包括PET基底薄膜和自下而上依次通过磁控溅射依次沉积的第一透明氧化物层、第一复合金属层、第二透明氧化物层、第二复合金属层、第三透明氧化物层和外侧封层；制作窗膜核心功能层的方法为依次在六腔室卷绕式磁控溅射镀膜机或双辊三腔室卷绕式磁控溅射镀膜机的六个腔室镀膜形成上述磁控溅射层。本发明的有益效果为：在所述第三透明氧化物的外侧通过磁控溅射沉积厚度为3-10nm的Au层，将红外反射率从80％提升至90％；提高红外光反射率的同时降低可见光的反射率，保证使用了该窗膜核心功能层的腔室内温度恒定的同时又不影响采光。
Description
技术领域
本发明涉及光学领域，具体涉及一种窗膜核心功能层和制备该窗膜核心功能层的方法。
背景技术
近年来，国内的磁控溅射窗膜行业刚刚兴起，单银，双银甚至三银结构都可以广泛应用于窗膜生产，但是在工业生产中，磁控窗膜生产后期还需进行涂布工艺进行复合，这就让窗膜不可避免地与空气接触，甚至在搬运过程中与人体的接触，也会加速窗膜的氧化。在低辐射玻璃的行业中，对镀层的防氧化工作同样重要，他们会在镀膜玻璃上覆盖一层塑料薄膜，这层薄膜会在镀膜玻璃的运输途中或者深加工之前进行防氧化保护，通常热辐射玻璃防氧化有效期为1-2个月。但是此种方式并不适用于窗膜行业，会造成生产工艺上的复杂化。利用磁控溅射工艺，在完成单银，双银和三银结构(三银结构是在双银基础上，再增加一层银和金属氧化物)的膜系之后，可再利用磁控溅射加镀一层3-10nm的金，这层金将会大大提高窗膜的红外反射率，并具有很好的防氧化作用。
发明内容
本发明的目的是提供一种窗膜核心功能层和制备该窗膜核心功能层的方法，同时能够防止多层银结构氧化的方法，所述窗膜核心功能层包括PET基底薄膜和通过磁控溅射沉积在所述PET基底薄膜上的磁控溅射层，所述磁控溅射层包括自下而上依次沉积在所述PET基底薄膜上的第一透明氧化物层、第一复合金属层、第二透明氧化物层、第二复合金属层、第三透明氧化物层和外侧封层，控制可见光透过率的同时抵挡紫外和红外线，并且针对红外线具有90％以上的全部反射能力，真正实现对太阳能量的阻隔。然而，涉及纳米银结构的窗膜在生产过程中接触空气后极易被氧化，因此防止高端双银结构的纳米膜氧化也有至关重要的意义，以克服现有技术存在的上述不足。
本发明的目的是通过以下技术方案来实现的：
一种窗膜核心功能层：
包括PET基底薄膜和通过磁控溅射沉积在所述PET基底薄膜上的磁控溅射层，所述磁控溅射层包括自下而上依次沉积在所述PET基底薄膜上的第一透明氧化物层、第一复合金属层、第二透明氧化物层、第二复合金属层、第三透明氧化物层和外侧封层；
所述第一透明氧化物层、所述第二透明氧化物层和所述第三透明氧化物层的材质为金属氧化物、ITO或AZO中的一种；
所述第一复合金属层包括自下而上的第一Ag层和第一封层金属层；所述第二复合金属层包括自下而上的第二Ag层和第二封层金属层；
所述第一Ag层和所述第二Ag层的材质均为Ag，所述第一Ag层和所述第二Ag层的厚度均为10-15nm，所述第一封层金属层的材质和所述第二封层金属层的材质为均为Ti或NiCr合金，所述第一封层金属层和所述第二封层金属层的厚度均为3-5nm；
所述PET基底薄膜的厚度为20-200μm，所述第一透明氧化物层的厚度为30-40nm，所述第一复合金属层的厚度为13-20nm、所述第二透明氧化物层的厚度为45-60nm、所述第二复合金属层的厚度为13-20nm、所述第三透明氧化物层的厚度为30-40nm；
所述外侧封层的材质为Au，所述外侧封层的厚度为3-10nm。
通过磁控溅射，将三层透明氧化物薄膜、复合金属膜和封层金属依次镀在清洗干净的PET基底薄膜的表面，通过对沉积的条件和厚度做优化设计后可形成纳米级窗膜核心功能层。所述窗膜核心功能层透过可见光的同时可将红外光反射，将所述窗膜核心功能层应用于窗膜，将所述窗膜贴在玻璃上，所述窗膜核心功能层将窗膜外的红外光反射，防止红外光照射进安装玻璃的腔室(如汽车车厢)内，避免引起腔室内的温度上升，为了提高舒适度往往需要在腔室内安装空调进行温度调节，而空调的运行需要消耗大量能源，采用本技术方案可以提高红外光的反射率，减少进入腔室内的红外光，防止腔室内温度过快升高；所述透明氧化物层和所述复合金属层做到一定厚度(如小于300nm)时，不会影响可见光的通过，保证腔室内的温度恒定的同时又不影响采光。
金属Ag对红外光反射性良好，采用金属银作为复合金属层的一部分保证了所述的窗膜核心功能层对红外光的反射性能；在所述Ag层的上部还沉积抗氧化能力强的金属材料，如Ti或NiCr合金，由于Ag的抗氧化能力较弱极易被氧化，一旦Ag氧化后形成的AgO不再具备良好的红外光反射性能，势必影响所述窗膜核心功能层的红外光反射率，在第一Ag层上沉积第一封层金属层、在第二Ag层上沉积第二封层金属层，用以阻断Ag层与氧气的接触，若没有封层金属层的保护，在第一复合金属层、第二复合金属层沉积后还要进行第二透明氧化物层、第三透明氧化物层沉积，在透明氧化物沉积时会向相应腔室内通入氩气和氧气的混合气体，通入的氧气会与Ag层发生化学反应生成红外光反射率较低的AgO，影响所述窗膜核心功能层对红外光的反射率，另外，所述采用所述窗膜核心功能层制作成的窗膜使用过程中也会与空气中的氧气接触以氧化和影响窗膜对红外光的反射率，降低窗膜的隔热作用，采用封层金属层保证了所述第一复合金属层和所述第二复合金属层对红外光的反射率。
Ti或NiCr合金的化学性能相对Ag要稳定的多，尤其是前者常温下的抗氧化性能极其稳定，用Ti靶或NiCr合金靶经磁控溅射沉积在抗氧化性极低的Ag层并将Ag层包裹在内，防止了第三腔室内沉积第二透明氧化物层时往第三腔室内通入的氧气把Ag层氧化、在第五腔室沉积第三透明氧化物层时往第五腔室内通入的氧气把Ag层氧化。保证了所述窗膜核心功能层长期使用下的红外光线反射率，延长了所述窗膜核心功能层的使用寿命。
磁控溅射层为六层，在六个磁控腔室内可一次镀膜完成。六个腔室内的靶材排放次序，依次为透明氧化物薄膜、银+封层金属、透明氧化物薄膜、Ag+封层金属、透明氧化物薄膜、Au靶，其厚度分别控制在30-40nm、13-20nm、45-60nm、13-20nm、30-40nm和3-10nm，且根据该范围内的各层薄膜厚度不同的组合，可制备出不同颜色，不同红外反射能力的窗膜核心功能层。
在所述第三透明氧化物的外侧通过磁控溅射沉积厚度为3-10nm的外侧封层，所述外侧封层的材质为Au，所述窗膜核心功能层的红外反射率相比较没有外侧封层的核心功能层从80％提升至90％；另，金属Au为惰性材料，化学性能稳定，通常条件下不会发生化学反应，提高了所述窗膜核心功能层的抗氧化性能，对红外光的反射率不会随着使用时间的延长而降低，延长了使用寿命。
进一步的，所述第三透明氧化物层与所述外侧封层之间从下往上依次沉积有第三复合金属层和第四透明氧化物层，所述第三复合金属层包括自下而上的第三Ag层和第三封层金属层，所述第三Ag的材质为Ag，所述第三Ag层的厚度为10-15nm，所述第三封层金属层的材质为Ti或NiCr合金，所述第三封层金属层的厚度均为3-5nm，所述第四透明氧化物层的材质为的材质为金属氧化物、ITO或AZO中的一种，所述第四透明氧化物层的厚度为30-40nm。
制备上述的窗膜核心功能层的方法，包括如下步骤：
S1、在双辊三腔室卷绕式磁控溅射镀膜机的第一腔室进行磁控溅射，在PET基底薄膜的表面沉积第一透明氧化物层；
S2、在双辊三腔室卷绕式磁控溅射镀膜机的第二腔室进行磁控溅射，在第一透明氧化物层的表面沉积第一复合金属层；
S3、在双辊三腔室卷绕式磁控溅射镀膜机的第三腔室进行磁控溅射，在第一复合金属层的表面沉积第二透明氧化物层；
S4、在双辊三腔室卷绕式磁控溅射镀膜机的第四腔室进行磁控溅射，在第二透明氧化物层的表面沉积第二复合金属层；
S5、在双辊三腔室卷绕式磁控溅射镀膜机的第五腔室进行磁控溅射，在第二复合金属层的表面沉积第三透明氧化物层；
S6、在双辊三腔室卷绕式磁控溅射镀膜机的第六腔室进行磁控溅射，在第三透明氧化物层的表面沉积外侧封层。
进一步的，磁控溅射过程保持六个腔室内的温度恒定，并且六个腔室内的温度范围为25-50℃，防止磁控溅射过程中产生的热量导致PET基底膜变形。
进一步的，双辊三腔室卷绕式磁控溅射镀膜机包括牵引力控制系统和张力控制系统，用以控制磁控溅射过程中PET基底膜受到的拉伸力，防止造成PET膜起皱和镀膜不均。
优选的，步骤S1、步骤S3和步骤S5均包括：在相应腔室中，通入体积比为40:1-60:1的氩气和氧气的混合气体，设定真空度10-6Torr，镀膜稳定气压0.5-1Pa；靶材选用透明氧化物薄膜，其中透明氧化物薄膜的材质为ITO、AZO或金属氧化物中的一种；第一腔室、第三腔室和第五腔室内的透明氧化物薄膜均匀沉积分别形成第一透明氧化物层、第二透明氧化物层和第三透明氧化物层，通过控制电源功率使第一透明氧化物层、第二透明氧化物层和第三透明氧化物层的沉积厚度分别为30-40nm、45-60nm和30-40nm。
进一步的，步骤S2和步骤S4均包括：在相应腔室中，通入纯度为不小于99.99％的氩气，放入一个旋转Ag靶和一个Ti平面靶，设定真空度10-6Torr，镀膜稳定气压0.5-1Pa；经磁控溅射，旋转Ag靶和Ti平面靶分别依次沉积为Ag层和Ti层，通过控制电源功率使Ag层的厚度为10-15nm，Ti层的厚度为3-5nm，Ag层和Ti层分别沉积在第二腔室和第四腔室形成第一复合金属层和第二复合金属层。
进一步的，步骤S6中，在第六腔室内通入纯度不小于99.99％的氩气，放入一个旋转Au靶，设定真空度10-6Torr，镀膜稳定气压0.5-1Pa；经磁控溅射旋转Au靶沉积在所述第三透明氧化物层的表面形成外侧封层，通过控制电源功率使外侧封层的厚度为3-10nm。
优选的，在步骤S1前对PET基底薄膜的表面进行清洗。
本发明的有益效果为：
在所述第三透明氧化物的外侧通过磁控溅射沉积厚度为3-10nm的外侧封层，所述外侧封层的材质为Au，所述窗膜核心功能层的红外反射率相比较没有外侧封层的核心功能层从80％提升至90％；另，金属Au为惰性材料，化学性能稳定，通常条件下不会发生化学反应，提高了所述窗膜核心功能层的抗氧化性能，对红外光的反射率不会随着使用时间的延长而降低，延长了使用寿命；
提高红外光反射率的同时降低可见光的反射率，保证使用了该窗膜核心功能层的腔室内温度恒定的同时又不影响采光，减少腔室内的空调使用量，节约能源消耗；在第一复合金属层和第二复合金属层内的Ag上分别通过磁控溅射沉积第一封层金属层和第二封层金属层，所述第一封层金属层的材质和所述第二封层金属层的材质选用抗氧化性能强Ti或NiCr合金，防止Ag层的氧化，在Ag层上部沉积封层金属层阻断Ag层与氧气的接触，保证所述第一复合金属层和所述第二复合金属层对红外光的反射率，保证所述窗膜核心功能层的使用寿命；所述制作所述窗膜核心功能层在五个磁控腔室内一次完成，生产效率高；通孔控制电源功率将磁控溅射层中的各层的厚度进行调节以制备不同颜色，不同红外反射能力的窗膜核心功能层，满足多样化需要，丰富产品线，提高市场竞争力。
利用该方法制得的纳米节能膜可广泛应用于汽车，建筑等玻璃门窗贴膜等，贴膜后的玻璃通过纳米材料本身的特性，可以对阳光进行控制和选择，控制可见光透过率的同时抵挡紫外和红外线，并且针对红外线具有90％以上的全部反射能力，真正实现对太阳能量的阻隔。
附图说明
图1是一实施例的窗膜核心功能层的剖面示意图；
图2是又一实施例的窗膜核心功能层的剖面示意图。
图中，1、PET基底薄膜；2、磁控溅射层；21、第一透明氧化物层；22、第一复合金属层；221、第一Ag层；222、第一封层金属层；23、第二透明氧化物层；24、第二复合金属层；241、第二Ag层；242、第二封层金属层；25、第三透明氧化物层；26、第三复合金属层；261、第三Ag层；262、第三封层金属层；27、第四透明氧化物层；3、外侧封层。
具体实施方式
实施例一
如图1所示，一种窗膜核心功能层，包括PET基底薄膜1和设在所述PET基底薄膜1上的磁控溅射层2，所述磁控溅射层2包括自下而上依次沉积在所述上的第一透明氧化物层21、第一复合金属层22、第二透明氧化物层23、第二复合金属层24、第三透明氧化物层25和外侧封层3。所述第一透明氧化物层21、所述第二透明氧化物层23和所述第三透明氧化物层25的材质为金属氧化物、ITO或AZO中的一种。
并且，所述第一复合金属层22包括自下而上的第一Ag层221和第一封层金属层222；所述第二复合金属层24包括自下而上的第二Ag层241和第二封层金属层242。所述第一Ag层221和所述第二Ag层241的材质均为Ag，所述第一封层金属层222的材质和所述第二封层金属层242的材质均为Ti或NiCr合金，所述第一Ag层221和所述第二银层241的厚度均为10nm，所述第一封层金属层222和所述第二封层金属层242的厚度均为3nm。所述外侧封层3的材质为Au，所述外侧封层3的厚度为3nm，所述PET基底薄膜1的厚度为100μm，所述第一透明氧化物层21的厚度为30nm，所述第一复合金属层22的厚度为13nm、所述第二透明氧化物层23的厚度为45nm、所述第二复合金属层24的厚度为13nm、所述第三透明氧化物层25的厚度为30nm。
制备上述技术方案所述的窗膜核心功能层的方法，包括如下步骤：将面积为30cm×30cm，厚度为50μm的清洗干净后进行如下步骤：
S1、在双辊三腔室卷绕式磁控溅射镀膜机的第一腔室进行磁控溅射，在的表面沉积第一透明氧化物层21，控制电源功率为20kW以保证所述第一透明氧化物层21的沉积厚度为30nm；
S2、在双辊三腔室卷绕式磁控溅射镀膜机的第二腔室进行磁控溅射，在第一透明氧化物层21的表面沉积第一复合金属层22，控制电源功率为5kW以保证所述第一复合金属层22的沉积厚度为13nm，其中所述第一Ag层221的厚度为10nm，所述第一封层金属层222的厚度为3nm；
S3、在双辊三腔室卷绕式磁控溅射镀膜机的第三腔室进行磁控溅射，在第一复合金属层22的表面沉积第二透明氧化物层23，控制电源功率为20kW以保证所述第二透明氧化物层23的沉积厚度为45nm；
S4、在双辊三腔室卷绕式磁控溅射镀膜机的第四腔室进行磁控溅射，在第二透明氧化物层23的表面沉积第二复合金属层24，控制电源功率为5kW以保证所述第二复合金属层24的沉积厚度为13nm，其中所述第二Ag层241的厚度为10nm，所述第二封层金属层242的厚度为3nm；
S5、在双辊三腔室卷绕式磁控溅射镀膜机的第五腔室进行磁控溅射，在第二复合金属层24的表面沉积第三透明氧化物层25，控制电源功率为20kW以保证所述第三透明氧化物层25的沉积厚度为30nm；
S6、在双辊三腔室卷绕式磁控溅射镀膜机的第六腔室进行磁控溅射，在第三透明氧化物层25的表面沉积外侧封层3，控制电源功率为5kW使外侧封层3的厚度为3nm。
需要说明的是，双辊三腔室卷绕式磁控溅射镀膜机应配备高端精确的牵引和张力系统，严格控制镀膜过程中对PET膜的拉伸力，防止造成PET膜起皱和镀膜不均。
其中，步骤S1、步骤S3和步骤S5均包括：在所述五腔室卷绕式磁控溅射镀膜机的相应腔室中，通入体积比为40:1-60:1的氩气和氧气的混合气体，设定真空度10-6Torr，镀膜稳定气压0.5-1Pa；靶材选用透明氧化物薄膜，其中透明氧化物薄膜为的材质为ITO、AZO或金属氧化物中的一种；第一腔室、第三腔室和第五腔室内的透明氧化物薄膜均匀沉积分别形成第一透明氧化物层21、第二透明氧化物层23和第三透明氧化物层25。
步骤S2和步骤S4均包括：在所述五腔室卷绕式磁控溅射镀膜机的相应腔室中，通入纯度为不小于99.99％的氩气，放入一个旋转Ag靶和一个Ti平面靶，设定真空度10-6Torr，镀膜稳定气压0.5-1Pa；经磁控溅射，旋转Ag靶和Ti平面靶分别依次沉积为Ag层，所述Ag层包括第一Ag层221和第二银层241，Ag层和Ti层分别沉积在第二腔室和第四腔室形成第一复合金属层22和第二复合金属层24。
步骤S6中，在第六腔室内通入纯度不小于99.99％的氩气，放入一个旋转Au靶，设定真空度10-6Torr，镀膜稳定气压0.5-1Pa；经磁控溅射旋转Au靶沉积在所述第三透明氧化物层25的表面形成外侧封层3。
需要注意的是，磁控溅射过程中保持五个腔室内的温度保持恒定，并且温度范围为25℃-50℃。
本实施例对可见光的反射率为10％以下，对红外光(1000nm波段)的反射率为65％以上。
对比例一
本实施例相对于实施例一的不同之处在于：磁控溅射层2仅包括第一透明氧化物层21、第一复合金属层22、第二透明氧化物层23、第二复合金属层24和第三透明氧化物层25，不包括外侧封层3，本实施例对可见光的反射率为10％以下，等于实施例一中对可见光的反射率，对红外光的反射率(1000nm波段)为60％以下小于实施例一中对红外光的反射率65％。
实施例二
本实施例相对于实施例一的不同之处在于：控制第一腔室的电源功率为30kW，使所述第一透明氧化物层21的沉积厚度为40nm。
控制第二腔室的电源功率为15kW，使所述第一复合金属层22的沉积厚度为20nm，其中所述第一Ag层221的沉积厚度为15nm，所述第一封层金属层222和的沉积厚度均为5nm。
控制第三腔室的电源功率为30kW，使所述第二透明氧化物层23的沉积厚度为60nm。
控制第四腔室的电源功率为15kW，使所述第二复合金属层24的沉积厚度为20nm，其中第二Ag层221的沉积厚度为15nm，第二封层金属层222的沉积厚度为5nm。
控制第五腔室的电源功率为30kW，使第三透明氧化物层25的沉积厚度为40nm。
控制第六腔室的电源功率为10kW，使外侧封层3的沉积厚度为10nm。
本实施例对可见光的反射率为10％以下，对红外光(1000nm波段)的反射率为80％以上。
实施例三
本实施例相对于实施例一的不同之处在于：控制第一腔室的电源功率为25kW，使所述第一透明氧化物层21的沉积厚度为35nm。
控制第二腔室的电源功率为10kW，使所述第一复合金属层22的沉积厚度为16.5nm，其中所述其中所述第一Ag层221的沉积厚度为12.5nm，所述第一封层金属层222的沉积厚度均为4nm。
控制第三腔室的电源功率为25kW，使所述第二透明氧化物层23的沉积厚度为52.5nm。
控制第四腔室的电源功率为15kW，使所述第二复合金属层24的沉积厚度为16.5nm，其中第二Ag层221的沉积厚度为12.5nm，第二封层金属层222的沉积厚度为4nm。
控制第五腔室的电源功率为25kW，使所述第三透明氧化物层25的沉积厚度为35nm。
控制第六腔室的电源功率为7.5kW，使所述外侧封层3的沉积厚度为6.5nm。
本实施例对可见光的反射率为10％以下，对红外光(1000nm波段)的反射率为73％以上。
实施例四
相比实施例一，本实施例在所述第三透明氧化物层25与所述外侧封层3之间从下往上依次沉积有第三复合金属层26和第四透明氧化物层27，如图2所示，所述第三复合金属层26包括自下而上的第三Ag层261和第三封层金属层262，所述第三Ag层261的材质为Ag，所述第三Ag层261的厚度为10nm，所述第三封层金属层262的材质为Ti或NiCr合金，所述第三封层金属层262的厚度均为3nm，所述第四透明氧化物层27的材质为的材质为金属氧化物、ITO或AZO中的一种，所述第四透明氧化物层27的厚度为30nm。
本实施例的制备方法：
本实施例采用双辊四腔室卷绕式磁控溅射镀膜机，本实施例的第一腔室到第五腔室内的磁控溅射与实施例一中的S1-S5步骤相同，本实施例的第八腔室与实施例一的S6步骤相同，本实施例的第七腔室内进行的磁控溅射步骤S51和第八腔室内进行的磁控溅射步骤S52分别如下：
S51、在双辊三腔室卷绕式磁控溅射镀膜机的第二腔室进行磁控溅射，在第一透明氧化物层21的表面沉积第一复合金属层22，控制电源功率为5kW以保证所述第一复合金属层22的沉积厚度为13nm，其中所述第一Ag层221的厚度为10nm，所述第一封层金属层222的厚度为3nm；
S52、在双辊三腔室卷绕式磁控溅射镀膜机的第一腔室进行磁控溅射，在的表面沉积第一透明氧化物层21，控制电源功率为20kW以保证所述第一透明氧化物层21的沉积厚度为30nm。
本实施例对可见光的反射率为10％以下，对红外光(1000nm波段)的反射率为70％以上。
本发明不局限于上述最佳实施方式，任何人在本发明的启示下都可得出其他各种形式的产品，但不论在其形状或结构上作任何变化，凡是具有与本申请相同或相近似的技术方案，均落在本发明的保护范围之内。
Claims (9)
1.一种窗膜核心功能层，其特征在于：
包括PET基底薄膜和通过磁控溅射沉积在所述PET基底薄膜上的磁控溅射层，所述磁控溅射层包括自下而上依次沉积在所述PET基底薄膜上的第一透明氧化物层、第一复合金属层、第二透明氧化物层、第二复合金属层、第三透明氧化物层和外侧封层；
所述第一透明氧化物层、所述第二透明氧化物层和所述第三透明氧化物层的材质为金属氧化物、ITO或AZO中的一种；
所述第一复合金属层包括自下而上的第一Ag层和第一封层金属层；所述第二复合金属层包括自下而上的第二Ag层和第二封层金属层；
所述第一Ag层和所述第二Ag层的材质均为Ag，所述第一Ag层和所述第二Ag层的厚度均为10-15nm，所述第一封层金属层的材质和所述第二封层金属层的材质为均为Ti或NiCr合金，所述第一封层金属层和所述第二封层金属层的厚度均为3-5nm；
所述PET基底薄膜的厚度为20-200μm，所述第一透明氧化物层的厚度为30-40nm，所述第一复合金属层的厚度为13-20nm、所述第二透明氧化物层的厚度为45-60nm、所述第二复合金属层的厚度为13-20nm、所述第三透明氧化物层的厚度为30-40nm；
所述外侧封层的材质为Au，所述外侧封层的厚度为3-10nm。
2.根据权利要求1所述的窗膜核心功能层，其特征在于：所述第三透明氧化物层与所述外侧封层之间从下往上依次沉积有第三复合金属层和第四透明氧化物层，所述第三复合金属层包括自下而上的第三Ag层和第三封层金属层，所述第三Ag的材质为Ag，所述第三Ag层的厚度为10-15nm，所述第三封层金属层的材质为Ti或NiCr合金，所述第三封层金属层的厚度均为3-5nm，所述第四透明氧化物层的材质为的材质为金属氧化物、ITO或AZO中的一种，所述第四透明氧化物层的厚度为30-40nm。
3.制备权利要求1所述的窗膜核心功能层的方法，其特征在于：
包括如下步骤：
S1、在双辊三腔室卷绕式磁控溅射镀膜机的第一腔室进行磁控溅射，在PET基底薄膜的表面沉积第一透明氧化物层；
S2、在双辊三腔室卷绕式磁控溅射镀膜机的第二腔室进行磁控溅射，在第一透明氧化物层的表面沉积第一复合金属层；
S3、在双辊三腔室卷绕式磁控溅射镀膜机的第三腔室进行磁控溅射，在第一复合金属层的表面沉积第二透明氧化物层；
S4、在双辊三腔室卷绕式磁控溅射镀膜机的第四腔室进行磁控溅射，在第二透明氧化物层的表面沉积第二复合金属层；
S5、在双辊三腔室卷绕式磁控溅射镀膜机的第五腔室进行磁控溅射，在第二复合金属层的表面沉积第三透明氧化物层；
S6、在双辊三腔室卷绕式磁控溅射镀膜机的第六腔室进行磁控溅射，在第三透明氧化物层的表面沉积外侧封层。
4.根据权利要求3所述的制备窗膜核心功能层的方法其特征在于：磁控溅射过程保持六个腔室内的温度恒定，并且六个腔室内的温度范围为25-50℃，防止磁控溅射过程中产生的热量导致PET基底膜变形。
5.根据权利要求4所述的制备窗膜核心功能层的方法其特征在于：双辊三腔室卷绕式磁控溅射镀膜机包括牵引力控制系统和张力控制系统，用以控制磁控溅射过程中PET基底膜受到的拉伸力，防止造成PET膜起皱和镀膜不均。
6.根据权利要求5所述的制备窗膜核心功能层的方法其特征在于：步骤S1、步骤S3和步骤S5均包括：在相应腔室中，通入体积比为40:1-60:1的氩气和氧气的混合气体，设定真空度10-6Torr，镀膜稳定气压0.5-1Pa；靶材选用透明氧化物薄膜，其中透明氧化物薄膜的材质为ITO、AZO或金属氧化物中的一种；
第一腔室、第三腔室和第五腔室内的透明氧化物薄膜均匀沉积分别形成第一透明氧化物层、第二透明氧化物层和第三透明氧化物层，通过控制电源功率使第一透明氧化物层、第二透明氧化物层和第三透明氧化物层的沉积厚度分别为30-40nm、45-60nm和30-40nm。
7.根据权利要求6所述的制备窗膜核心功能层的方法其特征在于：步骤S2和步骤S4均包括：在相应腔室中，通入纯度为不小于99.99％的氩气，放入一个旋转Ag靶和一个Ti平面靶，设定真空度10-6Torr，镀膜稳定气压0.5-1Pa；经磁控溅射，旋转Ag靶和Ti平面靶分别依次沉积为Ag层和Ti层，通过控制电源功率使Ag层的厚度为10-15nm，Ti层的厚度为3-5nm，Ag层和Ti层分别沉积在第二腔室和第四腔室形成第一复合金属层和第二复合金属层。
8.根据权利要求7所述的制备窗膜核心功能层的方法其特征在于：步骤S6中，在第六腔室内通入纯度不小于99.99％的氩气，放入一个旋转Au靶，设定真空度10-6Torr，镀膜稳定气压0.5-1Pa；经磁控溅射旋转Au靶沉积在所述第三透明氧化物层的表面形成外侧封层，通过控制电源功率使外侧封层的厚度为3-10nm。
9.根据权利要求3所述的制备窗膜核心功能层的方法，其特征在于：在步骤S1前对PET基底薄膜的表面进行清洗。
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