CN104303329A - 包括含透明层状元件的基材的有机电致发光二极管装置 - Google Patents
包括含透明层状元件的基材的有机电致发光二极管装置 Download PDFInfo
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title abstract description 20
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims abstract description 35
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 97
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 96
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 59
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 59
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 claims description 59
- 210000004276 hyalin Anatomy 0.000 claims description 57
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 45
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 42
- 239000002320 enamel (paints) Substances 0.000 claims description 32
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 29
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 29
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 claims description 28
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 27
- 235000011837 pasties Nutrition 0.000 claims description 23
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims description 20
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims description 20
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 20
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 20
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 238000003856 thermoforming Methods 0.000 claims description 16
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 13
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 12
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 11
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 claims description 11
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 claims description 10
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 10
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 10
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 10
- -1 Polyethylene Terephthalates Polymers 0.000 claims description 9
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 9
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 8
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 claims description 8
- 229910001120 nichrome Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 claims description 8
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 7
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 7
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 claims description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 6
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 6
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 claims description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims description 5
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims description 5
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 5
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 claims description 3
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 claims description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 abstract description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 475
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 45
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 19
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 14
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 13
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 13
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 13
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 11
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 10
- 230000008859 change Effects 0.000 description 9
- 210000003298 dental enamel Anatomy 0.000 description 9
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 8
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 6
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 6
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 6
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 5
- 229910017083 AlN Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910019794 NbN Inorganic materials 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 4
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 4
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 4
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 4
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 4
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 229910016569 AlF 3 Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 238000003490 calendering Methods 0.000 description 3
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 3
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 3
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 3
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 3
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 3
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 3
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 3
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 3
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 3
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 3
- OXBLVCZKDOZZOJ-UHFFFAOYSA-N 2,3-Dihydrothiophene Chemical compound C1CC=CS1 OXBLVCZKDOZZOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- 239000004812 Fluorinated ethylene propylene Substances 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 2
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000840 ethylene tetrafluoroethylene copolymer Polymers 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 229920009441 perflouroethylene propylene Polymers 0.000 description 2
- 229920002493 poly(chlorotrifluoroethylene) Polymers 0.000 description 2
- 239000005023 polychlorotrifluoroethylene (PCTFE) polymer Substances 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 229920002578 polythiourethane polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 2
- 230000000191 radiation effect Effects 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 230000011514 reflex Effects 0.000 description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 2
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 2
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 2
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001780 ECTFE Polymers 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical group [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N ZrO Inorganic materials [Zr]=O GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 1
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005601 base polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 239000005308 flint glass Substances 0.000 description 1
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004811 fluoropolymer Substances 0.000 description 1
- 239000006066 glass batch Substances 0.000 description 1
- 238000007497 glass batching Methods 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- BFRGSJVXBIWTCF-UHFFFAOYSA-N niobium monoxide Inorganic materials [Nb]=O BFRGSJVXBIWTCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 102220043159 rs587780996 Human genes 0.000 description 1
- 230000001568 sexual effect Effects 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010944 silver (metal) Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 210000003462 vein Anatomy 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- H10K85/10—Organic polymers or oligomers
- H10K85/141—Organic polymers or oligomers comprising aliphatic or olefinic chains, e.g. poly N-vinylcarbazol, PVC or PTFE
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- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24355—Continuous and nonuniform or irregular surface on layer or component [e.g., roofing, etc.]
- Y10T428/24471—Crackled, crazed or slit
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Abstract
本发明涉及有机电致发光二极管装置(6),其包含用作为提取解决方案的支承体(5),该支承体5包含具有镜面透射和漫反射的透明层状元件(1)。本发明还涉及用于制备该装置的方法和该基材在有机电致发光二极管装置中的用途。本发明进一步涉及用电极涂覆的特别适合于制备前述二极管装置的基材。
Description
本发明涉及包含特定支承体的有机电致发光二极管装置和它的制造方法。本发明还涉及特别地适合于制备所述二极管装置的用电极涂覆的支承体。最后,本发明涉及该支承体在有机电致发光二极管装置中的用途。
有机电致发光二极管(OLED)包含有机电致发光材料或者材料堆叠体并被两个电极围绕。该电极之一,被称为下电极,通常是阳极,与支承体如玻璃基材连接,和另一个电极,被称为上电极,通常是阴极,被布置在与阳极相反的一种或多种有机材料上。
OLED是通过使用当从阳极注入的空穴和从阴极注入的电子的重新结合能的电致发光而发射光的装置。
存在不同的OLED构型:
- 底部发射装置,即具有(半)透明下电极和反射性上电极的装置;
- 顶部发射装置,即具有(半)透明上电极和反射性下电极的装置;和
- 顶部和底部发射装置,即同时具有(半)透明下电极和(半)透明上电极的装置,其在下文将可被称为透明OLED装置。
本发明更特别地涉及底部发射OLED装置和顶部和底部发射OLED装置。
通常,OLED装置包含作为正面基材或者玻璃功能的基材(在下文称为玻璃基材)的支承体和可能的封装系统。该支承体提供机械性保护,同时允许优良的辐射透射。通常,该封装系统由与支承体胶合的空心玻璃罩组成。在支承体和罩之间的空腔通常装满惰性气体,如氮气,并且可以包含干燥性化合物以使在有机层附近的湿气量最小。
在OLED用于仅仅从一侧进行发射的发射装置中的情况下,阴极通常不是透明的,并且发射的光子通过透明阳极和OLED的支承体以从该装置中传递出光。
在OLED用于从两侧进行发射的发射装置中的情况下,阴极和阳极是透明的,并且发射的光子通过透明阳极和/或阴极以从该装置中传递出光。
有机电致发光二极管装置(在下方为OLED装置)是新型有效的,低消耗光源。然而,这些装置表现出具有由于光在二极管的结构中的约束而尤其受限的光效能的缺点。这种现象一方面通过一定数量的光子仍然被禁锢在阴极和阳极之间的导模中,和另一方面通过光在玻璃基材内的反射(由于在该基材玻璃之间的折光指数(n=1.5)和在装置外界的空气的折光指数(n=1)的差距)进行解释。
因此寻求所谓的"提取"解决方案以提高OLED的效能,尤其是提取的增大。
这些提取解决方案通常被分成两类:
- 所谓"层侧"解决方案,其在于通过使该透明电极和有机层的导向效应最小而将最多的光注入在支承体中;和
- 所谓"空气侧"解决方案,其在于提取在空气/支承体界面处反射的光。
因此,在普通系统中,无提取解决方案时,仅仅20%的由二极管发射的光从该结构中提取出。为了实现较高的效能,使用提取方案经证明是必要的。
一种已知用于提高OLED装置的能量转换率的策略在于通过限制在这种支承体上的入射光的反射来改善形成该正面基材的透射性质。
为此,已知的是,通过至少为该支承体的与OLED装置相反朝向的主要外表面提供多个相对于该面的总平面凹进或者凸起的起伏状几何图案而使其纹理化。这些图案可以是微米或者毫米尺寸的。
图案尤其可以是角锥体或者圆锥体,或者具有占优势的纵向的图案,如凹槽或者肋线。
还已知包含用涂覆有漫射层的透明玻璃基材的支承体,如在专利申请FR2937467中描述的支承体。
这种类型的解决方案,基于用纹理化表面替代空气/支承体界面的光滑表面,或者基于将漫射效应引入基材中,其允许获得约70%至80%的光效率。光效率对应于在被提取到空气中的光与在玻璃中可获得的光之间的比率。
然而,这些使用纹理化的或者包含漫射层的支承体的现有技术的解决方案使光在透射中和在反射中漫射。因此,这些解决方案具有改变OLED装置的最后外观的缺点,其这时在透射中出现模糊。这些提取系统因此不能用来制备透明OLED装置,因为不允许穿过该支承体具有清楚的视图。而且,在包含产生反射镜效应的反射阴极的底部发射装置中,尤其由于美学的原因,可以有利的是保持这种反射镜效应。然而,这些提取的解决方案的在透射中的漫射特性不允许保持这种反射镜效应。
通常,当在该玻璃板上具有给定入射角的入射辐射被该玻璃板在多个方向中进行反射时,通过玻璃板的反射是所谓的漫反射。当在该玻璃板上具有给定入射角的入射辐射被该玻璃板以等于入射角的反射角进行反射时,通过玻璃板的反射是所谓的镜面反射。类似地,当在该玻璃板上具有给定入射角的入射辐射被该玻璃板以等于入射角的透射角进行透射时,穿过玻璃板的透射是所谓的镜面透射。
而且,现有技术的解决方案在空气/支承体界面提供粗糙外观,其在清洗容易性和美观方面是不利的。
本发明更特别地通过提供包含特定层状元件的OLED用支承体用于尤其克服这些缺点。
根据本发明提供的解决方案在任何情况下允许通过提取在空气/支承体界面反射的光来改善该可获得光被提取到空气中。而且,在本发明的某些有利的实施方案中,该提取解决方案还允许通过使透明电极和有机层的导向效应最小化而使被引入到该支承体的光的最大量提高。
为此目的,本发明一个主题是有机电致发光二极管装置6,其包含至少一个有机电致发光二极管7和支承体5,该支承体5包含具有两个光滑主要外表面(2A,4A)的透明层状元件1,特征在于该层状元件包含:
- 两个外层(2,4),其每个形成该层状元件的两个主要外表面(2A,4A)之一并且其由具有基本相同的折光指数(n2,n4)的透明材料,优选地介电透明材料组成,和
- 被插在所述外层之间的中间层3,这种中间层3由具有与外层的折光指数不同的折光指数(n3)的透明层(优选介电层),或者金属层的单一层形成,或者由层(31,32,…,3k)堆叠体形成,该层堆叠体包含至少一个具有与外层的折光指数不同的折光指数(n31,n32,…或n3k)的透明层(优选介电层)或者金属层,
其中在该层状元件的两个相邻层(它们中之一是具有折光指数(n2,n3,n4,n31,n32,…或n3k)的透明层和另一个是金属层,或者它们是两个具有不同折光指数的透明层)之间的每个接触表面(S0,S1,…,Sk)是纹理化的并且与其它的在两个相邻层(它们中之一是具有折光指数(n2,n3,n4,n31,n32,…或n3k)的透明层和另一个是金属层,或者它们是两个具有不同折光指数的透明层)之间的纹理化接触表面是平行的。
在本发明的范围中,对一方面金属层(对于它们,折光指数的值是无关紧要的)和另一方面具有确定折光指数的透明层,优选地介电层(对于它们,需要考虑相对于外层的折光指数的差值)进行区分。
根据本发明使用的特定支承体允许获得来源于二极管的入射辐射在层状元件上的镜面透射和辐射的漫反射,无论穿过该支承体的光源的方向为怎样。
令人惊讶地,本发明因此允许:
- 相对于平面基材,改善OLED的光的提取,这种改善尤其体现为光提取的增大;
- 通过确保来源于二极管的辐射穿过该支承体的镜面透射(保证穿过该包含该层状元件的支承体的清楚视图)来改善二极管的最终外观;
- 提供提取解决方案,其保持具有美学优点和清洗优点的空气/支承体界面的光滑表面,尤其在层压构造的情况下;
- 改善在角度中的颜色性质和改变在角度中的强度分布图;和
- 在从该装置的两侧发射的透明OLED的特定情况中,允许调节从该二极管的每侧射出的亮度级。
来源于二极管或者穿过二极管的辐射经由该支承体的镜面透射使得本发明的支承体可用作为用于透明OLED装置的提取解决方案。在配备有本发明的特定支承体的包含反射阴极的二极管装置的情况下,这种相同的镜面透射性质还允许保持镜子外观。
该支承体因此包含在透射中是透明的并具有漫反射的元件。在整个本说明书中,根据本发明的支承体被视作被水平布置,其中它的向下取向的第一面定义了下主要外表面和它的与第一面相反的向上取向的第二面定义了上主要外表面;措辞"在...上方"和"在...下方"的意义因此相对于这种取向进行考虑。除非另作规定,措辞"在...上方"和"在...下方"不必然地表示两个元件、层、涂层相互接触地进行设置。术语"下"和"上"在这里参照这种定位进行使用。
根据本发明,该一个或多个发光二极管在该支承体的上方或下方进行设置,即当该二极管被设置在上方时与该支承体的第二面接触,或者当二极管被设置在下方时与第一面接触。
该有机电致发光二极管包含:
- 为一个或多个层形式的第一电极,优选地为透明的,
- 在第一电极上方,有机电致发光体系,和
- 为一个或多个层形式的第二电极,所述电极被沉积在有机电致发光体系上,与第一电极相反。
为了获得透明的有机电致发光二极管装置,使用透明的第一和第二电极。为了获得具有反射镜效应的有机电致发光二极管装置,使用透明的第一电极和反射性第二电极。
本发明还涉及用于有机电致发光二极管装置的用电极涂覆的如上所定义的支承体,特征在于所述支承体包含至少一个层状元件。优选地,该支承体包含第一面和与第一面相反的第二面,并且在它的第二面上方或者在第一面的下方包含呈层形式的电极。
最后,本发明涉及支承体在有机电致发光二极管装置中的用途,特征在于所述支承体包含透明层状元件1。
OLED的电极优选地包含至少一个导电层。优选地,与该支承体接触的电极是阳极。
导电层可以由一种或多种选自ITO、ZnO:Al、SnO2:F的材料组成,或者为薄层或者包含薄金属(如Ag、Au或者Cu)导电层的薄层叠层。
该支承体此外可以包含至少一个设置在该层状元件上方或下方的附加层。该支承体的所述一个或多个附加层可以由透明材料,优选地介电透明材料组成,该透明材料具有非常基本相同的折光指数或者具有与该层状元件的外层的透明材料(优选地介电材料)不同的折光指数。
该支承体包含两个上和下主要外表面。如果支承体不包含任何附加层,该支承体的主要外表面与该层状元件的主要外表面是重合的。相反,如果该支承体包含:
- 至少一个上附加层,该支承体的上主要外表面将与该上附加层的上主要外表面是重合的,
- 至少一个下附加层,该支承体的下主要外表面将与该下附加层的下主要外表面是重合的。
在发明的范围中,术语"指数"指在550nm波长进行测量的光学折射指数。
根据本发明,薄层是具有低于1微米的厚度的层。
当两种透明材料,优选地介电材料,具有其中在它们在550纳米的折光指数之间的差值的绝对值小于或等于0.15的折光指数时,该两种透明材料或者透明层,优选地介电材料或者层,具有基本上相同的折光指数或者具有基本上相同的折光指数或者具有基本相等的它们的折光指数。优选地,在该层状元件的两个外层的透明组成材料之间在550nm的折光指数的差异的绝对值小于0.05,更好地小于0.015。
当两种透明材料或者透明层在550nm的折光指数之间的差值的绝对值严格地大于0.15时,该两种透明材料或者透明层,优选地介电材料或者层,具有不同的折光指数。根据一种有利的特征,在一方面所述外层和另一方面所述中间层的至少一个折光指数(n3,n31,n32,…,n3k)透明层之间在550nm的折光指数差异的绝对值大于或者等于0.3,优选地大于或者等于0.5,更优选地大于或者等于0.8。
来源于二极管的最初在输出圆锥体(cône de sortie)中的光线在支承体/空气界面处离开。在该层状元件的至少一个内部纹理化接触表面处引入相对大的折光指数差异允许促进辐射在这种纹理化接触表面上的反射。因此,将已经通过在支承体/空气界面的完全内反射被俘获的辐射可以通过该中间层的纹理化表面进行反射和漫射并因此在第二反射之后被提取到空气中。
在本发明的范围中,使用以下定义。
在两个相邻层之间的接触表面是在两个相邻层之间的界面。
透明元件是这样的元件,至少在用于该元件的目标应用的波长范围中存在一种辐射透射穿过它。举例来说,当元件用于建筑或者汽车的玻璃板时,它至少在可见光波长范围中将是透明的。
根据本发明,该措辞“透明材料”或者“透明层”特别地指:
- 由折光指数(n2,n4)的透明材料组成的外层(2,4),
- 由折光指数(n3)的透明层形成的中间层3,
- 层(31,32,…,3k)的堆叠体,其包含至少一个具有与该外层折光指数不同的折光指数(n31,n32,…或n3k)的透明层。
优选地,该透明材料或者透明层是有机或者无机性质的。优选地,该透明材料或者层不是金属的。无机透明材料或者透明层可以选自一种或多种过渡金属、非金属或者碱土金属的氧化物、氮化物或者卤化物。该过渡金属、非金属或者碱土金属优选地选自硅、钛、锡、锌、铟、铝、钼、铌、锆或者镁。有机介电材料或者层选自聚合物。
这些透明材料或者透明层优选地是电介质。介质材料或者介质层是非金属材料或者层。据认为,电介质材料或者层是具有低导电率的材料或者层,优选地低于104S/m并且任选地低于100S/m的材料或者层。也可以认为,电介质材料或者层是具有的电阻率高于金属电阻率的材料或者层。本发明的介电材料或者层具有高于1欧姆.厘米(Ω.cm),优选地高于10Ω.cm和任选地高于104Ω.cm的电阻率。
根据本发明的一种特别实施方案,层状元件的中间层和/或上外层可以形成OLED装置的电极,优选地下电极。在这种情况下,该中间层优选地包含至少一个金属层。当该位于这种层上方的层是具有折光指数n2、n31、n32、…n3k的透明层时,这些层应该在一定程度上是导电性的。该透明材料或者透明层因此可以是导电层。因为,这些透明材料或者层必须具有是足够"低"的电阻率以使得由这种层或者这些层和该层状元件的中间层形成的电极保持不是绝缘性的。这些层或者材料优选地低于1Ω.cm和优选地低于10-2Ω.cm的电阻率。
粗糙或者纹理化的表面是其表面性质以比在表面上的入射辐射的波长更大等级进行改变的表面。该入射光这时被该表面漫射地透射和反射。优选地,根据本发明的纹理化或者粗糙表面具有对应于至少0.5微米,特别地1至5微米的算术平均偏差Ra(对应于在评价长度上从粗糙度轮廓的中线开始测量的粗糙度R轮廓的所有绝对距离的算术平均值)的粗糙度参数。
光滑表面是其表面不规则性使得辐射不被这种被表面不规则性偏离的表面。该入射辐射这时被该表面漫射地透射和反射。优选地,光滑表面是其表面不规则性具有比在该表面上的入射辐射的波长更小的尺寸或者是非常大得多的尺寸(大等级的起伏)的表面。
然而,该外层或者该附加层可以具有一定的表面不规则性,只要这些层与一个或多个附加层接触,该附加层由具有基本上相同的折光指数的介电材料组成并且在它们的与所述具有一定不规则性的层接触的面相反的面上具有如上方所定义的光滑表面。
优选地,光滑表面是具有对应于低于0.1微米,优选地的低于0.01微米的算术平均值偏差Ra的粗糙度参数,或者低于10°的斜率的表面。
玻璃板对应于无机或者有机的透明基材。
该层状元件可以是刚性的或者挠性的。它特别地可以是例如基于玻璃或者聚合物材料构成的玻璃板。它还可以是基于聚合物材料的挠性膜,尤其可以被加入到表面上的挠性膜。
镜面透射来自于该层状元件的两个外层具有光滑的主要外表面并且由具有基本上相同的折光指数的材料组成,和来自于在该层状元件的两个相邻层(它们一个是透明层和另一个是金属层,或者它们是两个具有不同折光指数的透明层)之间的每个纹理化接触表面与其它的在两个相邻层(它们一个是透明层和另一个是金属层,或者它们是两个具有不同折光指数的透明层)之间的纹理化接触表面平行。
该层状元件的光滑外表面允许辐射在空气/外层界面处的镜面透射,即允许辐射从二极管进入该上外层中和辐射从该下外层出来进入空气中而不改变该辐射的方向。纹理化接触表面的平行性意味着该中间层的组成层或者每个组成层(其是具有与外层折光指数不同的折光指数的透明层或者其是金属层)具有与该中间层与所述外层的接触表面垂直均一的厚度。
这种厚度的均一性可以在该纹理的整个范围上是整体的,或者仅仅在该纹理的区段上是局部的。特别地,当该纹理具有斜率变化时,在两个连续纹理化接触表面之间的厚度可以分区段地根据该纹理的斜率进行改变,然而该纹理化接触表面总是保持彼此平行。尤其对于通过阴极溅射沉积的层存在这种情况,其中层的厚度与该纹理的斜率成反比。因此,局部地,在每个具有给定斜率的纹理区段上,层的厚度保持不变,但是层的厚度在具有第一斜率的第一纹理区段和具有与第一斜率不同的第二斜率的第二纹理区段之间是不同的。
有利地,为了获得在该层状元件内部的纹理化接触表面的平行性,该中间层的组成层或者每个组成层是通过阴极溅射进行沉积的层。
因为,阴极溅射,特别地磁场增强的阴极溅射,保证该界定该层的表面是彼此平行的,而使用其它沉积技术,如蒸发或者化学气相沉积(CVD)还或者溶胶凝胶法不是这种情况。不过,在该层状元件内部的纹理化接触表面的平行性对于获得穿过该元件的镜面透射是必要的。
在该层状元件的第一外层上的入射辐射穿过该第一外层而不改变它的方向。由于在第一外层和该中间层的至少一个层之间的性质区别(金属或者介电的)或者折光指数的差异,辐射随后在中间层中折射。由于一方面在该层状元件的两个相邻层(它们之一是透明层和另一个是金属层,或者其是两个具有不同折光指数的透明层)之间的纹理化接触表面是彼此完全平行的,和另一方面第二外层具有与第一外层基本上相同的折光指数,根据用于折射的Snell定律,该辐射从该中间层开始在第二外层中的折射角等于该辐射从第一外层开始在该中间层上的入射角。
该辐射因此从该层状元件的第二外层沿着与它在该元件的第一外层上的入射方向相同的方向离开。该辐射通过该层状元件的透射因此是镜面的。因此借助于该层状元件的镜面透射性质,获得穿过该层状元件的清晰视图,即该层状元件不是半透明的。
有利地,本发明的装置允许获得根据标准ISO 9050:2003测量的至少50%,优选地至少60%,更好是至少75%的光透射,和根据标准ASTM D 1003测量的低于20%,优选地低于10%,更好是低于5%的透射的浊度。这些值在支承体侧上进行测量。
根据本发明的一个方面,由透明材料(优选地介电材料)组成的该层状元件的两个外层的至少一个选自:
- 透明基材,其主要表面之一是纹理化的和其另一个主要表面是光滑的,优选地选自聚合物、玻璃或者陶瓷,
- 透明材料层,其选自一种或多种过渡金属、非金属或者碱土金属的氧化物、氮化物或者卤化物,
- 基于最初为适合于成型操作的液体或者糊状的粘性状态的可固化材料的层,其包含:
- 可光交联和/或可光聚合的材料,
- 通过溶胶凝胶法沉积的层,
- 瓷漆层,
- 由热成型或者压敏塑料制成的插入层或者插入片,其可以优选地基于选自以下的聚合物:聚乙烯醇缩丁醛(PVB),聚氯乙烯(PVC),聚氨酯(PU),聚对苯二酸乙二醇酯或者乙烯/醋酸乙烯酯(EVA)。
其主要表面之一是纹理的和其另一个是光滑的透明基材优选用作为该下外层。该透明基材的主要表面之一的纹理化可以通过任何已知的纹理化方法获得,例如通过压印该基材(预先加热至可以使它变形的温度)的表面,特别地通过借助于辊(在它的表面上具有与在该基材上要形成的纹理互补的纹理)的压延;通过借助于粒子或研磨面的研磨,特别地通过喷砂;通过化学处理,特别地在玻璃基材的情况下使用酸处理;在由热塑性聚合物制成的基材的情况下,通过模塑,特别地注塑;或者通过雕刻。
当该透明基材用聚合物制成时,它可以是刚性的或者挠性的。根据本发明的适合的聚合物的实例特别地包含:
- 聚酯,如聚对苯二酸乙二醇酯(PET),聚对苯二酸丁二醇酯(PBT)或者聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN);
- 聚丙烯酸酯,如聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA);
- 聚碳酸酯;
- 聚氨酯;
- 聚酰胺;
- 聚酰亚胺;
- 含氟聚合物,如含氟酯,例如乙烯-四氟乙烯(ETFE),聚偏二氟乙烯(PVDF),聚氯三氟乙烯(PCTFE),乙烯-三氟氯乙烯(ECTFE)或者氟化乙烯-丙烯共聚物(FEP);
- 可光交联和/或可光聚合的树脂,如thiolène、聚氨酯、氨基甲酸乙酯-丙烯酸酯或者聚酯-丙烯酸酯树脂,和
- 聚硫氨酯(polythiouréthanes)。
这些聚合物通常具有1.3至1.7的折光指数范围。然而,有利的是注意到,这些聚合物中的某些,尤其含硫的聚合物如聚硫氨酯,可以具有高折光指数,可最高至1.74。
可以直接地用作为该层状元件的外层的玻璃基材的实例包含:
- 由Saint-Gobain Glass公司以Satinovo®系列销售的玻璃基材,其已进行纹理化并且在它们的主要表面之一上具有通过喷砂或者酸侵蚀获得的纹理;
- 由Saint-Gobain Glass公司以Albarino®S、P或者G系列或者以Masterglass®系列销售的玻璃基材,其在它们的主要表面之一上具有通过压延获得的纹理;
- 通过喷砂进行纹理化的高指数玻璃基材,如燧石玻璃,例如由Schott以标号SF6 (n=1.81),7SF57
(n=1.85),N-SF66 (n=1.92)和P-SF68 (n=2.00)销售。
当该层状元件的两个外层中每个由透明基材形成时,该两个透明基材具有彼此互补的纹理。
该层状元件的纹理化外层可以仅仅由选自一种或多种过渡金属、非金属或者碱土金属的氧化物、氮化物或者卤化物的介电材料层构成。该过渡金属、非金属或者碱土金属优选地选自硅、钛、锡、锌、铝、钼、铌、锆或者镁。这种介电材料薄层可以由选自具有高折光指数的材料,如Si3N4、AlN、NbN、SnO2、ZnO、SnZnO、Al2O3、MoO3、NbO、TiO2、ZrO2、InO和具有低折光指数的材料如SiO2、MgF2或者AlF3的材料组成。这种层优选地用作为该层状元件的上外层并且可以通过阴极溅射沉积技术,特别地磁场增强的阴极溅射,通过蒸发、通过化学气相沉积(CVD)在已经用下外层和中间层涂覆的支撑体上进行沉积。另一方面,通过阴极溅射产生的沉积与该表面共形。如此沉积的层因此随后必须进行抛光,以便获得平坦的主要外表面。这些介电层因此包含与该中间层的表面粗糙度匹配的纹理化表面和为平面的与这种表面相反的主要外表面。
该层状元件的外层还可以基于最初以适合于成型操作的液体或者糊状的粘性状态的可固化材料。优选地,这些层用作为该层状元件的上外层。
最初以液体或者糊状的粘性状态沉积的层可以是可光交联和/或可光聚合的材料的层。优选地,这种可光交联和/或可光聚合的材料在环境温度下以液体形式存在并且当它已进行照射和光交联和/或光聚合时产生无气泡或者任何其它不规则性的透明固体。它特别地可以是树脂,如通常用作为粘合剂、胶合剂或者表面涂层的那些。这种树脂通常基于环氧、环氧硅烷、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、丙烯酸或者甲基丙烯酸类型的单体/共聚单体/预聚物。可以提到,例如,硫代烯(thiolène),聚氨酯,氨基甲酸乙酯-丙烯酸酯或者聚酯-丙烯酸酯树脂。代替树脂,它可以是光交联的含水凝胶,如聚丙烯酰胺凝胶。可用于本发明中的光交联和/或光聚合树脂的实例包括由Norland Optics以NOA®
Norland Optical Adhesives商标销售的产品,如,例如NOA®65和NOA®75产品。
作为变型,最初以液体或者糊状的粘性状态进行沉积的外层可以是通过溶胶凝胶法沉积的层,例如使用溶胶凝胶法沉积的石英玻璃。如已知地,用于石英玻璃的溶胶-凝胶沉积的前体是硅醇盐Si(OR)4,其在水存在时发生水解/缩合类型聚合反应。这些聚合反应引起越来越缩合的物种的形成,其产生形成溶胶然后凝胶的胶体微粒。这些硅胶在约几百度温度下的干燥和增密产生玻璃,该玻璃的特征与传统的玻璃的特征相似。由于它们的粘度,胶体溶液或者凝胶可以容易地被沉积在该中间层的与第一外层相反的纹理化主要表面上,同时与这种表面的纹理共形。
这种沉积尤其可以通过浸涂("dip-coating")、旋涂("spin-coating")或者抹刀施涂(blading)进行实施。使用溶胶凝胶法沉积的层确保该层状元件的表面的平面化。然而,当使用这种平面化的层时,这种所谓“平面化”的层的主要外表面可以包含某些表面不规则性。为了建立该支承体的外层的光滑特征,可以与这种具有某些不规则性的表面接触地设置具有与所述外层基本相同的折光指数的附加层,如在下面描述的塑料插入层或者插入片。
外层的另一个实例可以通过在玻璃基材(例如钠钙玻璃基材)上沉积基于玻璃配料的瓷漆而获得。在这种情况下,该瓷漆本身不是漫射性的并且不包含易于为它提供这种性质的化合物或者结构,如气泡的存在。为了获得该瓷漆,首先通过将玻璃研磨至数微米的颗粒尺寸(例如D50=2微米)然后使用有机基质使这种研磨玻璃的糊化来制备包含玻璃配料的配制剂。然后通过液体途径的沉积技术,如丝网印刷或者狭缝式涂布将这种组合物的层沉积在玻璃基材上。最后,这种层在相对于在该组合物中使用的玻璃配料的玻璃化转变温度高至少100℃的温度下进行烧制。该瓷漆层相当于基于最初为适合于成型操作的粘性、液体或者糊状形式的可固化材料的层。
当瓷漆层用作为下外层时,该瓷漆层随后可以通过在具有极端pH值的,即强酸性(pH<2)或者强碱性(pH>12)的溶液中的化学侵蚀产生粗糙度或者纹理化。在这种情况下,认为该玻璃基材是该支承体的附加层和该瓷漆层构成该层状元件的外层。
该瓷漆层还可以用作为上外层。在这种情况下,该层状元件的纹理化上外层可以仅仅由基于玻璃配料的通过液体途径的沉积技术(如丝网印刷或者狭缝式涂布)在已经用下外层和用中间层涂覆的支承体上沉积的瓷漆组合物构成。瓷漆层将可以"填充"该中间层的粗糙度。这种层包含与该中间层的表面粗糙度匹配的表面(其因此是纹理化的)和与这种表面相反的主要外表面(其为平面的)。然而,在这种情况下,从为了使包含该玻璃配料的组合物熔化的高烧制温度的角度来看,需要确保用于该支承体的材料,即用中间层涂覆的外层的材料,在这种烧制步骤之后可以不变形。例如,如果使用由包含纹理化瓷漆(作为下外层)的玻璃基材组成的支承体,优选的是,该包含用于适合形成上外层的玻璃配料的瓷漆组合物具有比用于形成下外层的瓷漆的玻璃配料组合物的玻璃化转变温度更低的玻璃化转变温度Tg。因此,该下外层在该上外层的烧制步骤期间不变形。
这种使用玻璃瓷漆组合物的制备方法允许获得用于该层状元件的具有低或者高的折光指数的外层。例如,通过沉积高指数的瓷漆组合物,获得用高指数纹理化外层涂覆的基材。为了获得高折光指数的瓷漆层,使用包含富含重元素的玻璃配料的瓷漆组合物,如富含铋的瓷漆,例如具有高于40%重量铋含量的瓷漆组合物是足够的。
外层可以包含基于由热成型或者压敏塑料制成的插入层或者插入片的层,这种层靠着该中间层的与第一外层相反的纹理化主要表面进行设置并且通过压缩和/或加热贴着这种纹理化表面进行成型。这种基于聚合物材料的层可以特别地是基于聚乙烯醇缩丁醛(PVB)、乙烯/醋酸乙烯酯(EVA)、聚氨酯(PU)、聚对苯二酸乙二醇酯(PET)或聚氯乙烯(PVC)的层。这些层可以通过压缩和/或加热进行成型。
该外层的厚度优选地为1微米至6毫米,并且随着透明材料,优选地介电材料的选择而改变。
平面或者纹理化的玻璃基材优选地具有0.4至6mm,优选地0.7至2mm的厚度。
平面或者纹理化的聚合物基材优选地具有0.020至2mm,优选地0.025至0.25mm的厚度。
由透明材料层,优选介电材料层组成的外层优选地具有0.2至20微米,优选地0.5至2微米的厚度。
基于最初为适合于成型操作的液体或者糊状的粘性状态的可固化材料的层优选地具有0.5至40微米,优选地0.5至7微米的厚度。基于光交联和/或光聚合材料的层优选地具有0.5至20微米,优选地0.7至10微米的厚度。通过溶胶凝胶法沉积的层优选地具有1至40微米,优选地10至15微米的厚度。基于玻璃配料的瓷漆层优选地具有3至30微米,优选地5至20微米的厚度。
基于塑料插入层或者插入片的层优选地具有10微米至1毫米,优选地0.3至1毫米的厚度。
该透明材料或者透明层(优选地介电的)可以具有:
- 1.51至1.53的折光指数,例如在使用标准玻璃的情况下;
- 在使用低折光指数的材料或者层(如低折光指数的瓷漆)的情况下,低于1.51,优选地低于1.49的折光指数;
- 在使用高折光指数的材料或者层(如高折光指数的瓷漆)的情况下,高于1.54,优选地高于1.7的折光指数。
在本发明的一个特别有利的实施方案中,用于形成该层状元件的上和下层的材料是高折光指数材料。获得的提取解决方案允许同时通过使透明电极和有机层的导向效应最小化而最大量的光引入支承体中和提取在空气/支承体界面反射的光。根据本发明,措辞"高折光指数材料"理解为表示具有1.7至2.4,优选地1.75至2.1,甚至1.8至2.0的指数的材料。这些高折光指数材料尤其可以选自玻璃、聚合物,如硫化聚合物,介电材料层和瓷漆层。
该层状元件的中间层的层或者层堆叠体可以包括选自以下的层:
- 至少一个由透明聚合物制成的粘合剂层,
- 至少一个由透明材料,优选地介电材料组成的薄层,该透明材料选自一种或多种过渡金属、非金属或者碱土金属的氧化物、氮化物或者卤化物,
- 至少一个薄金属层,特别地银、金、铜、钛、铌、硅、铝、镍铬合金(NiCr)、不锈钢或者它们的合金的薄层。
由透明材料,优选地介电材料组成的薄层可以选自:
- 至少一个由具有与所述外层的折光指数不同的高折光指数的透明材料,优选地介电材料组成的薄层,如Si3N4、AlN、NbN、SnO2、ZnO、SnZnO、Al2O3、MoO3、NbO、TiO2、ZrO2或者InO,
- 至少一个由具有与所述外层的折光指数不同的低折光指数的透明材料,优选地介电材料组成的薄层,如SiO2、MgF2或AlF3。
当中间层包含氧化物时,后者可以是掺杂的。中间层可以例如是锡掺杂的氧化铟、铝掺杂的氧化锌或者氟掺杂的氧化锡。
当该中间层是由透明聚合物制成的粘合剂层时,外层借助于这种由具有与外层的折光指数不同的折光指数的介电材料层形成的中间层而彼此装配在一起。
该中间层的厚度的选择取决于某些参数。通常,据认为该中间层的总厚度为5-200纳米,和该中间层的层的厚度为1-200纳米。
当该中间层是金属层时,层的厚度优选地为5-40纳米,更好为6-30纳米甚至更好为6-20纳米。
当该中间层是透明层,优选为介电透明层,例如TiO2层时,它优选地具有20-100纳米和更好是55-65纳米的厚度和/或2.2至2.4的折光指数。
当OLED装置是透明,即它包含透明阴极和透明阳极的时候,可以调节从该二极管每侧射出的亮度级(niveau lumineux),例如通过选择该中间层的厚度和性质,尤其它的反射系数。事实上,将容易地理解的是,在透明二极管装置中,该中间层越是反射性的,越有利于来自与该支承体一侧相反的一侧的发射。在这种情况下,使用本发明的特定支承体不仅允许促进提取而且调节在该装置每侧上的亮度级。用于改变该从该二极管每侧射出的亮度级的另一个可能性可以是选择中间层,该中间层沿着设置它的一侧具有不同反射系数。例如,在空气-支承体界面侧上具有高反射系数和在二极管/支承体侧上具有低的反射系数的中间层将提高在空气/支承体侧上的照明。
有利地,该层状元件的中间层的组成可以进行调节以为该层状元件提供附加性质,例如日照控制和/或低辐射率类型热性质。因此,在一个实施方案中,该层状元件的中间层是透明的薄层堆叠体,其包含交替的“n”个金属功能层,特别地基于银或者含银金属合金的功能层,和“(n+1)”个抗反射涂层,其中n≥1,其中每个金属功能层被设置在两个抗反射涂层之间。
已知地,这种具有金属功能层的堆叠体在日光辐射范围内和/或在大波长的红外辐射范围内具有反射性质。在这种堆叠体中,金属功能层基本上决定热性能,而围绕它们的抗反射涂层以干涉性方式作用于该光学外观(aspect
optique)。这是因为,虽然该金属功能层允许获得希望的热性能,甚至在对于每个金属功能层为大约10nm的低几何厚度时,然而它们强烈反对在可见光波长的范围中的辐射的通过。因此,在每个金属功能层的任一侧上的抗反射涂层是必要的以确保在可见光范围中的优良光透射。
这些附加的功能性在建筑应用中可以是有利的。特别地,本发明的装置可以使用在玻璃板中,其中支承体位于在该住所的外侧上和二极管在住所的内侧上。在这种情况下,本发明的支承体,除了形成用于OLED的提取解决方案之外,还保证保护OLED不受有害辐射如紫外辐射。此外,当中间层是足够地导电的时候,系统可以提供日照控制功能。
根据本发明的一个方面,在该层状元件的两个相邻层之间的每个接触表面的纹理由多个相对于该接触表面的总平面(plan
général)凹进或者凸起的图案形成,其中该两个相邻层之一是透明的(优选地非金属的),和另一个是金属的,或者它们是两个具有不同折光指数的透明层。优选地,在该层状元件的两个相邻层之间的每个接触表面的图案的平均高度为1微米至1毫米,其中该两个相邻层之一是透明的,另一个是金属的,或者它们是两个具有不同折光指数的透明层。在本发明意义内,该接触表面的图案的平均高度被定义为等于
的绝对值距离yi的算术平均值,其中对于该接触表面的每个图案在顶点和该接触表面的总平面之间取该绝对值距离yi。
在该层状元件的两个相邻层之间的每个接触表面的纹理的图案可以随机分布在接触表面上,其中该两个相邻层之一是透明的,另一个是金属的,或者它们是两个具有不同折光指数的透明层。作为变型,在该层状元件的两个相邻层之间的每个接触表面的纹理的图案可以周期性地分布在该接触表面上,其中该两个相邻层之一是透明的,和另一个是金属的,或者它们是两个具有不同折光指数的透明层。这些图案特别地可以是圆锥体、角锥体、凹槽、肋线或者小波纹。
根据本发明的一个方面,对于该中间层的每个层(其由具有与它不同性质(透明,优选非金属,或者金属)的或者具有与它不同的折光指数的层围绕),这种层的厚度(与它与相邻层的接触表面垂直地获取)与它与相邻层接触的每个表面的图案的平均高度相对是更低的。这种低厚度允许提高这种可能性:辐射到这种层中的进入界面和辐射从这种层中出来的离开界面是平行的,并因此提高该辐射穿过该层状元件的镜面透射的百分比。有利地,该中间层的每个层(其被插入在两个具有与它不同性质(透明的(优选非金属的)或者金属的)或者具有与它本身不同的折光指数的层之间)的厚度(其中这种厚度通过与它与所述相邻层的接触表面垂直地获取)低于它与所述相邻层接触的每个表面的图案的平均高度的1/4。
该中间层由在该第一外层的纹理化主要表面上共形地沉积的单一层或者由依次在该第一外层的纹理化主要表面上共形地沉积的层堆叠体形成。
根据本发明,据认为,如果在沉积之后,该中间层的上表面是纹理化的并且与第一外层的纹理化接触表面平行的话,该中间层被共形地沉积在该第一外层的纹理化主要表面上。在该第一外层的纹理化主要表面上的该中间层的共形沉积或者该中间层的多个层依次的共形沉积优选地由阴极溅射,特别地磁场增强的阴极溅射进行实施。
该附加层优选地选自:
- 透明基材,其选自如上方所定义的聚合物、玻璃或者陶瓷,包含两个光滑主要表面,
- 如上所述的最初为适合于成型操作的液体或者糊状的粘性状态的可固化材料,
- 如上所述的由热成型或者压敏塑料制成的插入层或者插入片。
有利地,该层状元件的光滑主要外表面和/或该支承体的光滑主要外表面是平面的或者弯曲的;优选地这些光滑主要外表面是彼此平行。这对于穿过该层状元件的辐射来说有助于限制光分散并因此改善穿过该层状元件的视图的清晰度。
该支承体可以是刚性玻璃片或者挠性膜。这种挠性膜有利地在它的主要外表面之一上被提供有用保护性条带覆盖的粘合剂层,该保护性条带旨在被去除以使该膜胶合。包含这种呈挠性膜形式的层状元件的支承体这时可以通过胶合被加入到已有的表面上(例如在OLED上),并因此形成本发明的装置。
在本发明的一个实施方案中,在该层状元件的两个外层中的第一外层,优选地下外层,是透明基材。该中间层由在该第一外层的纹理化主要表面上共形地沉积的单一层或者由在该第一外层的纹理化主要表面上依次共形地沉积的层堆叠体形成。优选地,该中间层通过阴极溅射,特别地磁场增强的阴极溅射进行沉积。第二外层或者上外层优选包含在该中间层的与第一外层相反的纹理化主要表面上沉积的最初为液体或糊状粘性状态的可固化材料层或热成型或压敏材料插入层。
根据本发明的另一方面,当上外层包含最初为液体或者糊状的粘性状态的可固化材料层时,附加层可以用作为反向基材(contre-substrat)。最初以液体或者糊状的粘性状态进行沉积的层这时确保在被提供有中间层的下外层和反向基材之间的粘结。
根据本发明的另一方面,当上外层包含基于由热成型或者压敏塑料制成的插入层或者插入片的层时,可以使用附加层,例如具有基本上与外层折光指数相等的折光指数的透明基材。基于塑料插入层或者插入片的层这时对应于确保在用该中间层涂覆的层状元件的下外层和附加层之间的粘结的层压插入层。
本发明的有机电致发光二极管装置的支承体优选地包含以下堆叠体:
- 任选地至少一个下附加层,其选自其两个主要表面是光滑的透明基材(如聚合物和玻璃)和由热成型或者压敏塑料制成的插入层,
- 下外层,其选自透明基材(如聚合物和玻璃)、和最初为适合于成型操作的液体或者糊状的粘性状态的可固化材料,如瓷漆层,
- 中间层,其包含由具有折光指数(n3)的透明材料,优选地介电材料组成的薄层,或者薄金属层,
- 上外层,其选自透明基材,该透明基材选自聚合物和玻璃、最初为适合于成型操作的液体或者糊状的粘性状态的可固化材料,和由热成型或者压敏塑料制成的插入层;和
- 任选地至少一个上附加层,其选自透明基材(其两个主要表面是光滑的,选自聚合物和玻璃),和由热成型或者压敏塑料制成的插入层。
在本发明的一个变型中,有机电致发光二极管装置的支承体包含:
- 下外层,其选自由粗糙玻璃制成的透明基材,
- 中间层,其优选地包含薄TiO2层,
- 上外层,其选自可光交联和/或可光聚合的树脂;和
- 上附加层,其选自由平面玻璃制成的透明基材。
根据另一个实施方案,本发明的有机电致发光二极管装置的支承体优选地包含以下堆叠体:
- 用于层状元件的下外层,所述层选自由粗糙玻璃制成的透明基材;
- 中间层,其优选地包含薄TiO2层;
- 上外层,其选自由热成型或者压敏塑料制成的插入层,优选地基于聚乙烯醇缩丁醛的层;和
- 上附加层,其选自由平面玻璃制成的透明基材。
根据另一个实施方案,本发明的有机电致发光二极管装置的支承体包含以下堆叠体:
- 下外层,其选自由粗糙玻璃制成的透明基材,
- 中间层,其优选地包含薄TiO2层;
- 上外层,其选自通过溶胶凝胶法获得的层;
- 任选地,上附加层,其选自由热成型或者压敏材料制成的插入层,在其上优选地重叠另一个选自透明玻璃基材的上附加层。
在本发明的特别有利的称为"高折光指数"的实施方案中,该层状元件的上和下外层由具有为1.7至2.4,优选地1.75至2.1,更好地1.8至2的折光指数的透明材料,优选地介电透明材料组成。
根据这种实施方案,该支承体优选地包含以下堆叠体:
- 下外层,其选自由玻璃或者高指数聚合物制成的透明基材;或者
- 下附加层,其选自用外层涂覆的由玻璃制成的透明基材,该外层由高折光指数的瓷漆层,例如由具有高于40%重量的铋含量的瓷漆组合物获得的瓷漆层组成;和
- 中间层,其包含由透明材料,优选地介电透明材料,优选地SiO2或者TiO2组成的薄层,或者薄金属层,优选地由Ag、NiCr、Ti、Cu或者Au组成的层;和
- 上外层,其选自由聚合物或者高指数玻璃制成的透明基材,高指数的瓷漆层或者高指数透明材料,优选地介电高指数透明材料的层。
在本发明的一种有利的实施方案中,层状元件的中间层和/或层状元件的上外层可以形成有机电致发光二极管的下电极(或者第一电极)。根据这种实施方案,而不是排他性地,该中间层优选地是金属层或者任选地包含金属层以为中间层提供电极功能。而且,该层状元件的上外层优选地由具有低于1Ω.cm,优选地低于10-1Ω.cm,更好地低于10-2Ω.cm的电阻率的透明材料,优选地非金属材料组成。最后,这种实施方案优选地包含由具有高折光指数的透明材料组成的层状元件的上和下外层。
根据这种实施方案,本发明的有机电致发光二极管装置的支承体优选地包含以下堆叠体:
- 下外层,其选自玻璃基材和聚合物基材;或者
- 下附加层,其选自由用外层涂覆的玻璃制成的透明基材,该外层由高折光指数的瓷漆组合物组成;和
- 中间层,优选地金属层,如由Ag组成的薄层;和
- 上外层,其包含透明材料层。
下外层优选地包含由玻璃或者具有高折光指数的聚合物制成的基材。
该上外层优选地包含选自Si3N4、AlN、NbN、SnO2、ZnO、SnZnO、Al2O3、MoO3 、NbO、TiO2和ZrO2,更特别选自SnZnO、Si3N4或者ZnO的透明材料层,其具有低于1Ω.cm的电阻率和优选地具有为0.5至20微米的厚度。
在本发明的另一个实施方案中,用于形成该层状元件的上层和下层的材料是低折光指数材料。本发明的有机电致发光二极管装置的支承体可以包含层状元件,其包含以下堆叠体:
- 下外层,其由选自低折光指数的玻璃基材、基于低折光指数的玻璃配料的瓷漆层和由低折光指数的聚合物制成的基材;
- 中间层,优选地由SiO2或者TiO2组成的介电层,或者金属层,如由Ag、NiCr、Ti、Cu或者Au组成的层,其任选地由其它材料的薄层围绕;和
- 上外层,其由选自以下的材料组成:由低折光指数的聚合物制成的基材,由低折光指数的玻璃制成的基材,基于低折光指数的玻璃配料的瓷漆层和低折光指数的透明材料,优选地介电材料的层。
本发明的另一主题是用于制备如上所述的装置的方法,包括以下步骤:
A) 制备包含该层状元件的支承体:
- 作为第一外层或者下外层提供透明基材,提供其主要表面之一是纹理化的和其另一个主要表面是光滑的透明基材;
- 将中间层沉积在该下外层的纹理化主要表面上,当该中间层由单一层形成时,其是具有与下外层的折光指数不同的折光指数的透明层,优选地介电层,或者金属层,其通过在所述纹理化主要表面上共形地沉积该中间层进行实施,或者当该中间层由包含至少一个具有与下外层的折光指数不同的折光指数的透明层(优选地介电层)或者金属层的层堆叠体形成时,其通过在所述纹理化主要表面上依次共形地沉积该中间层的多个层进行实施;
- 在该中间层的与下外层相反的纹理化主要表面上形成第二外层或者上外层,其中所述下和上外层由具有基本上相同的折光指数的透明材料,优选地介电材料组成,
- 任选地在该层状元件的一个或多个光滑主要外表面上形成至少一个上和/或下附加层,
B) 将所述支承体固定在有机电致发光的二极管上。
本发明的另一主题是用于制备如上所述的用电极涂覆的支承体的方法,包括以下步骤:
A) 制备包含该层状元件的支承体:
- 作为第一外层或者下外层提供透明基材,提供其主要表面之一是纹理化的和其另一个主要表面是光滑的透明基材;
- 将中间层沉积在该下外层的纹理化主要表面上,当该中间层由单一层形成时,其是具有与下外层的折光指数不同的折光指数的透明层,优选地介电层,或者金属层,其通过在所述纹理化主要表面上共形地沉积该中间层进行实施,或者当该中间层由包含至少一个具有与下外层的折光指数不同的折光指数的透明层(优选地介电层)或者金属层的层堆叠体形成时,其通过在所述纹理化主要表面上依次共形地沉积该中间层的多个层进行实施;
- 在该中间层的与下外层相反的纹理化主要表面上形成第二外层或者上外层,其中所述下和上外层由具有基本上相同的折光指数的透明材料,优选地介电材料组成,
- 任选地在该层状元件的一个或多个光滑主要外表面上形成至少一个上和/或下附加层,
B) 在所述支承体上沉积电极。
根据本发明的一个方面,第二外层通过在该中间层的与第一外层相反的纹理化主要表面上沉积具有与第一外层基本相同的折光指数的并且最初以适合于成型操作的液体或糊状的粘性状态存在的材料的层而形成。第二外层因此可以例如通过包括沉积最初为液体形式的可光交联和/或可光聚合的材料的层然后照射这种层的方法或者通过溶胶凝胶法形成。
根据本发明的另一方面,第二外层通过靠着该中间层的与第一外层相反的纹理化主要表面设置基于具有与第一外层基本相同的折光指数的聚合物材料的层,然后通过压缩和/或加热至少至该聚合物材料的玻璃化转变温度而使这种基于聚合物材料靠着该中间层的纹理化主要表面层共形而形成。基于聚合物材料的层在这种情况下是由热成型或者压敏塑料制成的插入层。
根据本发明的另一方面,第二外层通过在模塑中注入在固化之后易于形成透明聚合物基材的熔融聚合物而形成。在这种实施方案中,在固化之后获得的透明基材优选地选自由聚丙烯酸类聚合物,特别地PMMA类型聚合物制成的透明基材。
在透明OLED的情况下,还可以设想在基材上和在封装上使用这种改善从OLED两侧的光提取的光提取解决方案。
本发明的特征和优点将在从下面的层状元件的数种实施方案的描述中变得明显,这种描述仅仅作为举例并且参考该附图给出,其中:
- 附图1是根据本发明的二极管装置的横断面示意图;
- 附图2是用于该层状元件的第一种变型在附图1中的细节I的更大比例尺的视图;
- 附图3是用于该层状元件的第二种变型在附图1中的细节I的更大比例尺的视图;
- 附图4和5表示显示用于制备根据本发明使用的支承体的方法的步骤的流程图;和
- 附图6是显示用于不同的所测试OLED装置的色度变化的曲线。
为了该图形的清楚性,在附图中不同层的相对厚度不是严格地遵循的。此外,构成该中间层的层或者每个层的的厚度作为该纹理的斜率的函数的可能变化没有显示在该附图中,理解的是这种可能的厚度变化对该纹理化接触表面的平行性没有影响。这是因为,对于该纹理的每个给定的斜率,该纹理化接触表面是彼此平行的。
在附图1中图示的有机电致发光二极管装置6包含支承体5和有机电致发光二极管7。该支承体包含层状元件1,该层状元件包含两个由具有基本上相同的折光指数n2,n4的透明材料组成的外层2和4。每个外层2或者4具有朝向该在该层状元件外部的光滑主要表面,分别为2A或者4A,和朝向该层状元件的内部的纹理化主要表面,分别为2B或者4B。
该层状元件1的光滑外表面2A和4A允许辐射在每个表面2A和4A上的镜面透射,即允许辐射进入到外层中和辐射从外层离开,而不改变方向。
内表面2B和4B的纹理是彼此互补的。如可以在附图1中清楚地看见地,纹理化表面2B和4B彼此面对设置在其中它们的纹理是严格地彼此平行的结构中。层状元件1还包含被接触地插入在纹理化表面2B和4B之间的中间层3。
该装置还包含有机电致发光二极管7,其中有机电致发光二极管7包含两个电极9和11和有机材料层或层堆叠体10,所述层堆叠体10的某些是电致发光的。
最后,该支承体还包含上和下附加层12。
在附图2中显示的变型中,中间层3是单层并且由透明材料组成,该透明材料是金属材料或者是具有不同于外层2和4的折光指数n3的透明材料。在附图3中显示的变型中,中间层3由数个层31,32,…,3k的透明堆叠体形成,其中层31至3k的至少一个是金属层或者具有的折光指数不同于外层2和4的折光指数的透明层。优选地,位于该堆叠体的末端的两个层31和3k的至少每个是金属层或者具有与外层2和4的折光指数不同的折光指数n31或者n3k的透明层。
在附图2和3中,在外层2和中间层3之间的接触表面被标记为S0和在中间层3和外层4之间的接触表面被标记为S1。此外,在附图3中,从最靠近表面S0的接触表面出发将中间层3的内接触表面依次被标记为S2至Sk。
在附图2的变型中,由于将中间层3安排在纹理化表面2B和4B(它们彼此平行)之间并与它们接触,在外层2和中间层3之间的接触表面S0是纹理化的并且与在中间层3和外层4之间的接触表面S1平行。换句话说,中间层3是在它的整个范围内具有均一厚度e3的纹理化层,该厚度与接触表面S0和S1垂直地获取。
在附图3的变型中,在该中间层3的组成堆叠体的两个相邻层之间的每个接触表面S2,…,Sk是纹理化的并且与在外层2,4和中间层3之间的接触表面S0和S1严格地平行。因此,在元件1的相邻层之间所有的接触表面S0,S1,…,Sk是纹理化的并且彼此平行,所述相邻层具有透明的(优选地非金属的)或者金属的不同性质,或者是具有不同的折光指数的透明层。特别地组成该中间层3的堆叠体的每个层31,32,…,3k具有均一厚度e31,e32,…,e3k,该厚度以与接触表面S0,S1,…,Sk垂直地获取。
该层状元件1的每个接触表面S0,S1或S0,S1,…,Sk的纹理由多个相对于该接触表面的总平面π凹进或者凸起的图案形成。优选地,每个纹理化接触表面S0,S1或S0,S1,…,Sk的图案的平均高度为1微米至1毫米。
根据本发明的一个方面,该中间层3的组成层或者每个组成层的厚度e3或者e31,e32,…,e3k低于层状元件1的每个纹理化接触表面S0,S1或者S0,S1,…,Sk的图案的平均高度。这种条件对于提高辐射进入中间层3的层中的进入界面和辐射从这种层中出来的离开界面是平行的可能性并因此提高对于提高该辐射穿过该层状元件1的镜面透射的百分比是重要的。考虑到不同的层的可视性,这种条件在附图中没有严格地被遵守。
优选地,该中间层3的组成层或者每个组成层的厚度e3或者e31,e32,…,e3k低于该层状元件的每个纹理化接触表面的图案的平均高度的1/4。实际上,当中间层3是薄层或者薄层堆叠体时,该中间层3的每个层的厚度e3或者e31,e32,…,e3k为大约,或者低于该层状元件的每个纹理化接触表面的图案的平均高度的1/10。
在附图2中的变型中,接触表面S0和S1彼此平行,这暗示,根据Snell-Descartes定律,n4.sin(θ)=n2.sin(θ'),其中θ是辐射从外层4开始在中间层3上的入射角和θ'是辐射从中间层3开始在外层2中的折射角。在附图3的变型中,由于接触表面S0,S1,…,Sk全部彼此平行,来自Snell-Descartes定律的关系式n4.sin(θ)=n2.sin(θ')仍然得到证实。因此,在两者变型中,由于该两个外层的折光指数n2和n4是基本上彼此相等的,透射过该层状元件的射线Rtd在层状元件上以等于它们的入射角θ的透射角(angle de transmission)θ'进行透射。该辐射通过层状元件1的透射因此是镜面的。
附图1还图示了来源于该二极管和入射在该支承体上的入射辐射Rid,它在空气/基材界面由于全内反射而被俘获。反射辐射Rr这时可以被该层状元件的中间层的粗糙表面漫射。这种漫射辐射Rd这时具有提取到空气中的附加可能性。
用于制备本发明的支承体8的方法的实例在下面通过参考附图4进行描述。根据这种方法,中间层3被共形地沉积在刚性或者挠性的透明基材(形成该层状元件1的外层2)的纹理化表面2B上。该基材的与纹理化表面2B相反的主要表面2A是光滑的。这种基材2特别地可以是Satinovo®、Albarino®或者Masterglass®类型的纹理化玻璃基材。作为变型,基材2可以是基于刚性或者挠性的聚合物材料(例如聚甲基丙烯酸甲酯或者聚碳酸酯类型)的基材。
特别地,通过磁场增强的阴极溅射("磁控管阴极"溅射)(优选地在真空下)实施中间层3(无论它是单层或者由数个层的堆叠体形成)的共形沉积。这种技术允许在基材2的纹理化表面2B上共形地沉积单层或者连续地以共形方式沉积该堆叠体的不同层。它们可以特别地是透明薄层,优选地介电层,特别地Si3N4、SnO2、ZnO、ZrO2、SnZnOx、AlN、NbO、NbN、TiO2、SiO2、Al2O3、MgF2或AlF3层,或者薄金属层,特别地银、金、钛、铌、硅、铝、镍铬合金(NiCr)或者这些金属的合金的层。
在附图4的方法中,层状元件1的第二外层4可以通过用具有基本上等于基材2的折光指数的最初以适合于成型操作的液体或糊状的粘性状态存在的可固化材料的透明层涂覆中间层3而形成。这种层会以液体或者糊状的粘性状态匹配中间层3的与基材2相反的表面3B的纹理。因此,确保一旦层4已经固化,在中间层3和外层4之间的接触表面S1得到很好的纹理化并且与在中间层3和外层2之间的接触表面S0平行。
其折光指数基本上等于基材2的折光指数的透明层还可以呈以糊状进行施用并且在烧制步骤中固化的基于玻璃配料的瓷漆组合物的形式存在。
其折光指数基本上等于基材2的折光指数的透明层还可以呈透明材料(优选地介电材料)层的形式存在,该层例如通过磁控管沉积进行沉积,该层已经受了它的上外表面的抛光步骤。
最后,其折光指数基本上等于基材2的折光指数的透明层还可以呈由塑料制成的插入层的形式。这种层经受在至少等于该聚合物插入层的玻璃化转变温度的温度下的压缩和/或加热步骤,例如在压机或者高压釜中。在该步骤中,形成该纹理化层状元件的上层的插入层与该纹理共形并且确保在中间层3和外层4之间的接触表面S1得到有效纹理化并且与在中间层3和外层2之间的接触表面S0平行。
因此,在附图4中的层状元件1的第二外层4尤其可以是:
- 光交联和/或光聚合材料层,所述层最初以液体形式在中间层3的纹理化表面上进行沉积然后通过照射尤其使用紫外辐射的照射进行固化;
- 溶胶-凝胶层,特别地使用溶胶凝胶法在中间层3的纹理化表面上沉积的石英玻璃;
- 被沉积在中间层3的纹理化表面上的瓷漆层;
- 透明材料层,优选地介电层,所述层被沉积在中间层3的纹理化表面上;或者
- 被沉积在中间层3的纹理化表面上的透明聚合物层压插入层。
最后,一个或多个附加层12可以是在该层状元件上方形成。在这种情况下,该一个或多个附加层优选地是平面玻璃基材,塑料插入层或者插入层和平面玻璃基材的重叠物。
当层状元件的外层从最初为液体或者糊状的粘性状态(例如溶胶-凝胶层)获得时,在这种层的光滑主要外表面上可存在某些不规则性。为了补偿这些不规则性,有利地在这种溶胶-凝胶层上通过靠着该层状元件的光滑主要外表面设置PVB或者EVA层压插入层而形成附加层12。在这种情况下,该附加层12具有与该层状元件的从最初为液体或者糊状的粘性状态的材料获得的外层基本相同的折光指数。
该附加层还可以是透明基材,例如平面玻璃基材。在这种情况下,该附加层用作为反基材。最初以液体或者糊状的粘性状态进行沉积的层这时确保在被提供有中间层的下外层和反向基材之间的牢固粘结。
当该直接地在所述上附加层下方的外层或者附加层由聚合物层压插入层形成时,透明基材用作为上附加层是特别有用的。
在该层状元件的下外层2为玻璃基材的情况下,上外层4可以由靠着中间层3的与玻璃基材相反的纹理化表面设置的层压插入层(例如由PVB或者EVA制成的插入层)形成。由平面玻璃基材组成的附加层12可以被设置在插入层4上方。
第二外层4还可以由最初以液体或者糊状的粘性状态沉积的层形成。由PVB或者EVA层压插入层形成的第一附加层12可以靠着该层状元件的上外表面进行设置和由平面玻璃基材组成的第二附加层12可以被设置在该插入层上方。
在这些构造中,外层和一个或多个附加层与玻璃基材连接,该玻璃基材预先使用传统的层压方法用中间层3进行涂覆。在这种方法中,从中间层3的纹理化主要表面开始或者从层状元件的上主要外表面开始,相继地设置聚合物层压插入层和基材,然后对如此形成的层压结构施用压缩和/或加热至少至聚合物层压插入层的玻璃化转变温度,例如在压机或者高压釜中进行。
在这种层压方法期间,当插入层形成该层状元件的纹理化上层时,它与该纹理共形并且确保在中间层3和外层4之间的接触表面S1进行有效纹理化并且与在中间层3和外层2之间的接触表面S0平行。
相反地,在这种层压方法期间,当插入层形成直接地在该层状元件(其上层是溶胶-凝胶层)上方的上附加层时,它与该溶胶-凝胶层的上表面和与该平面玻璃基材的下表面共形。
在附图5中图示的方法中,包含层状元件1的支承体是具有约200-300微米总厚度的挠性膜。该支承体通过以下层的重叠形成:
- 下附加层12,其由聚合物挠性膜形成;
- 外层2,其由在紫外辐射作用下可光交联和/或可光聚合的材料制成,所述层靠着该挠性膜的光滑主要表面之一进行施用;
- 中间层3;
- 具有100微米的厚度的第二PET膜,以形成该层状元件1的第二外层4。
形成下附加层的挠性膜可以是具有100微米厚度的聚对苯二酸乙二醇酯(PET)膜,和外层2可以是具有大约10微米的厚度的由JSR Corporation公司销售的KZ6661类型的在紫外辐射下可固化的树脂层。挠性膜和层2都具有基本相同的在550nm大约1.65的折光指数。在固化状态中,树脂层具有与PET优良的粘合作用。
以这样的粘度将树脂层2施用在挠性膜上,该粘度允许将纹理化引入到它的与膜12相反的表面2B上。如在附图5中所图示,表面2B的纹理化可以使用辊13进行实施,该辊在它的表面上具有与要在层2上形成的纹理互补的纹理。一旦纹理已经形成,重叠的挠性膜和树脂层2使用紫外辐射进行照射,如在附图5中由箭头所示,其允许固化树脂层2与它的纹理凝固并且使挠性膜和树脂层2之间装配在一起。
随后使具有与外层2折光指数不同的折光指数的中间层3通过磁控管阴极溅射共形地沉积在该纹理化表面2B上。如上所述,这种中间层可以是单层或者由层堆叠体形成。它可以例如是具有55至65nm,即大约60纳米的厚度和具有在550nm为2.45的折光指数的TiO2层。
具有100微米厚度的第二PET膜然后被沉积在中间层3上以形成层状元件1的第二外层4。通过压缩和/或加热至PET的玻璃化转变温度,使这种第二外层4与中间层3的跟外层2相反的纹理化表面3B共形。
用目的在于被去除用于胶合连接的保护性条带(衬垫)15覆盖的粘合剂层14可以被加入到该层状元件1的层4的外表面4A上。层状元件1因此以适合通过胶合连接而被加入至表面(如电极或者有机电致发光二极管的表面)的挠性膜的形式存在。
特别有利地,如在附图5中所建议,该方法的不同步骤可以连续地在同一个生产线上进行实施。
应当注意到,在这些附图中图示的每种方法中,在装配所述层状元件之前或之后(根据所述层的性质),电极可以被设置在所述外层的光滑表面2A和/或4A上或者任选地在上或者下附加层上。
本发明不限于所描述和显示的实施例。特别地,当层状元件是如在附图5的实施例中的挠性膜时,每个基于聚合物膜(例如基于PET膜)所形成的外层的厚度可以大于10微米,特别地为大约10微米至1毫米。
此外,在附图5的实施例中的第一外层2的纹理可以不依靠被沉积在该聚合物膜上的可固化树脂层而获得,而是直接地通过热压印聚合物膜,特别地通过使用纹理化辊的压延或者通过使用冲头的压制而获得。
为了改善呈在附图5中图示的挠性膜的形式层状元件的内聚力,聚合物层压插入层可以被插在中间层3和第二聚合物膜之间。这种插入层这时形成层状元件的上外层和第二聚合物膜形成上附加层。在这种情况下,层压插入层具有与围绕它的聚合物膜基本上相同的折光指数。在这种情况下,它涉及传统的层压方法,其中对该层压结构施加压缩和/或加热至少至该聚合物层压插入层的玻璃化转变温度。
对于代替玻璃基材的塑料基材,还可以设想类似的结构。
根据本发明的有机电致发光二极管装置通常应用在显示屏或者照明装置中。
实施例
I. 支承体和OLED装置的制备
实施例 | 支承体1 | 支承体2 | 支承体3 | 支承体4 | 支承体5 |
下附加层 | - | - | 平面玻璃 | - | 玻璃 |
下外层 | Satinovo® | Schott® SF66 | 瓷漆层 | Schott® SF66 | 瓷漆层 |
中间层 | TiO2 | TiO2 | TiO2 | Ag | Ag |
上外层 | NOA75® | SnZnO | SnZnO | SnZnO | SnZnO |
上附加层 | Planilux® | - | - | - | - |
所使用的来自Saint-Gobain的透明SATINOVO®粗糙玻璃基材具有0.7mm的厚度并且在它的主要表面之一上具有通过酸侵蚀获得的纹理。这种下外层的纹理化的图案的平均高度,其对应于该Satinovo®玻璃的纹理化表面的粗糙度Ra,为1至3微米。它的折光指数为1.52并且它的PV(顶点至凹部)粗糙度(对应于在凹部至顶点之间的最大偏差)为12至17微米。
附加层包含0.7毫米厚的由Saint-Gobain公司销售的平面Planilux®玻璃。
由Schott公司销售的标号SF66的玻璃具有1.92的折光指数。当它用作为下外层时,它通过喷砂进行纹理化。
来自NorlandOptics公司的NOA75®树脂层具有1.52的折光指数和100微米的厚度。这种树脂以液态沉积在中间层的与下外层相反的插入层的纹理化表面上,使得它匹配该表面的纹理,它然后在紫外辐射作用下进行固化。
其它中间层通过磁控管阴极溅射被沉积在下外层的纹理化表面上。在以下沉积条件下以60纳米厚度沉积了TiO2层:TiO2靶,沉积压力2×10-3毫巴,由氩气和氧气的混合物组成的气体。以20纳米的厚度沉积了该银层。
由SnZnO层组成的上外层通过磁控管溅射进行沉积。因为通过磁控管的沉积是共形的,然后为抛光步骤以获得足够光滑的外表面。
高折光指数的瓷漆层(1.9的折光指数)通过在钠钙玻璃基材上沉积具有以下组成的高指数玻璃瓷漆获得,其中所述值表示重量百分比:
-SiO2:3.8%,
-B2O3:15.6%,
-ZrO2:4.4%,
-ZnO:17.4%,
-K2O:0.8%,
-Na2O:2.5%
-Al2O3::0.4%, -Bi2O3:54.6%。
为了制备支承体1,将光聚合材料施用于用TiO2层覆盖的Satinovo®玻璃片材上。然后,重叠平面玻璃片材。该组装件用UV进行照射以便使光聚合材料聚合,其这时允许该支承体的所有组成元件的牢固粘结。
对于支承体2至5,上外层是透明层或者用通过磁控管溅射沉积的具有接近于下外层的指数的SnZnO覆盖的层。这种层还可以是具有适合的折光指数的选自Si3N4、ZnO或者MoO3的层。
这种层然后经受抛光以具有光滑的主要外表面。
对于支承体4和5,中间层包含由银制成的金属层。这种层还可以由金或者铜制成。这种金属层这时可以形成OLED装置的电极之一。由中间层和上外层组成的整体优选地形成OLED的下电极。
使用的电致发光二极管是如由Phillips在2012年销售的Lumiblade®白光OLED。
这些二极管使用由Merck销售的邻苯二甲酸二甲酯被粘合性结合到支承体1至3上并因此形成根据本发明的二极管装置1至3。
II. 对比OLED装置
使包含以下支承体1的本发明的OLED装置(在下文中装置(A))的光学性质与以下装置比较:
- 与没有支承体的裸露OLED (O)
- 包含被固定在0.7毫米厚的Satinovo®玻璃(相当于粗糙基材)的光滑侧面上的OLED二极管的装置,在下文为装置(B);和
- 包含固定在0.7毫米厚的提供有漫射层的平面玻璃上的OLED二极管的装置,该漫射层为具有30%氧化铝颗粒的铋玻璃配料,在下文为装置(C)。
这三个对比实施例使用的OLED与在本发明的装置中使用的OLED相同,即由Phillips在2012年销售的Lumiblade®白光OLED。
III. 光学性质的确定
在以下表1中给出的不同实施例的光学性质包含:
- 在可见光中的光透射值TL(%),根据标准ISO 9050:2003测量(光源D65;2°观察器);
- 透射的浊度值(Haze T)(%),通过浊度计根据标准ASTM D 1003对于来自下外层一侧的在层状元件上的入射光进行测量;和
- 提取的增大值,其使用累计球测量并且如通过以下式子给出:。
该表还给出了在CIE XYZ 1931色度空间中在0°发射的光谱和在75°发射的光谱之间(以5°为步长)根据观测角,即路径长度(不同形状,如直线或者圆弧)的色度变化值Vc。对于每个角度θi的光谱的色度座标通过在CIE XYZ 1931色度空间中的坐标对(x(θi);y(θi))进行表示。用于根据本发明的装置的路径Vc1的长度因此可以使用以下已知的式子进行计算:
。
该路径的长度必须尽可能短以使OLED的颜色的角相关性(dépendance en angle)最小化。最后,色度变化Vc允许判断一旦制成OLED,颜色的角相关性。
装置 | O | A | B | C |
基材TL | - | 79% | 87% | 59% |
基材浊度 | - | 3-4% | 90% | 100% |
增大 | - | 22-24% | 43% | 40% |
Vc | 36×10-3 | 18×10-3 | 33×10-3 | 7×10-3 |
本发明的装置允许获得更好的在优良光透射、最小浊度、提取的增大和色度随角度的变化的降低之间的折衷。获得的色度变化显示在附图6中。本发明的装置允许同时获得提取的增大和随角度的色度变化的降低,同时维持高透明性(低于4%的浊度)。
Claims (15)
1.有机电致发光二极管装置(6),其包含至少一个有机电致发光二极管(7)和支承体(5),该支承体(5)包含具有两个光滑主要外表面(2A,4A)的透明层状元件(1),特征在于该层状元件包含:
- 两个外层(2,4),其每个形成该层状元件的两个主要外表面(2A,4A)之一并且其由具有基本相同的折光指数(n2,n4)的透明材料,优选地介电材料组成,和
- 被插在所述外层之间的中间层(3),这种中间层(3)由具有与外层的折光指数不同的折光指数(n3)的透明层,优选介电层,或者金属层的单一层形成,或者由层(31,32,…,3k)堆叠体形成,该层堆叠体包含至少一个具有与外层的折光指数不同的折光指数(n31,n32,…或n3k)的透明层,优选介电层,或者金属层,
其中在该层状元件的两个相邻层,它们中之一是具有折光指数(n2,n3,n4,n31,n32,…或n3k)的透明层和另一个是金属层或者它们是两个具有不同折光指数的透明层,之间的每个接触表面(S0,S1,…,Sk)是纹理化的并且与其它的在两个相邻层,它们中之一是具有折光指数(n2,n3,n4,n31,n32,…或n3k)的透明层和另一个是金属层或者它们是两个具有不同折光指数的透明层,之间的纹理化接触表面是平行的。
2.根据权利要求1的有机电致发光二极管装置,特征在于该支承体还包含至少一个设置在该层状元件上方或下方的附加层,该附加层优选地选自:
- 包含两个光滑主要表面的透明基材,其选自聚合物、玻璃或者陶瓷,
- 最初为适合于成型操作的液体或者糊状的粘性状态的可固化材料,
- 由热成型或者压敏塑料制成的插入层。
3.根据权利要求1或2的有机电致发光二极管装置,特征在于该层状元件的两个外层的至少一个选自:
- 透明基材,其主要表面之一是纹理化的和其另一个主要表面是光滑的,优选地选自聚合物、玻璃或者陶瓷,
- 透明材料层,其选自一种或多种过渡金属、非金属或者碱土金属的氧化物、氮化物或者卤化物,
- 基于最初为适合于成型操作的液体或者糊状的粘性状态的可固化材料的层,其包含:
- 可光交联和/或可光聚合的材料,
- 通过溶胶凝胶法沉积的层,
- 瓷漆层,
- 由热成型或者压敏塑料制成的插入层,其可以优选地基于选自以下的聚合物:聚乙烯醇缩丁醛(PVB),聚氯乙烯(PVC),聚氨酯(PU),聚对苯二酸乙二醇酯或者乙烯/醋酸乙烯酯(EVA)。
4.根据前述权利要求任一项的有机电致发光二极管装置,特征在于该中间层的层或者层堆叠体包括选自以下的层:
- 至少一个由透明聚合物制成的粘合剂层,
- 至少一个由透明材料,优选地介电材料组成的薄层,该透明材料选自一种或多种过渡金属、非金属或者碱土金属的氧化物、氮化物或者卤化物,
- 至少一个薄金属层,特别地银、金、铜、钛、铌、硅、铝、镍铬合金(NiCr)、不锈钢或者它们的合金的薄层。
5.根据前述权利要求任一项的有机电致发光二极管装置,特征在于该支承体包含:
- 任选地至少一个下附加层,其选自其两个主要表面是光滑的选自聚合物和玻璃的透明基材和由热成型或者压敏塑料制成的插入层,
- 下外层,其选自透明基材和最初为适合于成型操作的液体或者糊状的粘性状态的可固化材料,其中该透明基材选自聚合物和玻璃,
- 中间层,其包含由具有折光指数(n3)的透明材料组成的薄层,或者薄金属层,
- 上外层,其选自透明基材、最初为适合于成型操作的液体或者糊状的粘性状态的可固化材料,和由热成型或者压敏塑料制成的插入层,其中该透明基材选自聚合物和玻璃;
- 任选地至少一个上附加层,其选自透明基材和由热成型或者压敏塑料制成的插入层,其中该透明基材的两个主要表面是光滑的,选自聚合物和玻璃。
6.根据前述权利要求任一项的有机电致发光二极管装置,特征在于该支承体包含:
- 下外层,其选自由粗糙玻璃制成的透明基材,
- 中间层,其优选地包含薄TiO2层,
- 上外层,其选自可光交联和/或可光聚合的树脂;
- 上附加层,其选自由平面玻璃制成的透明基材。
7.根据前述权利要求任一项的有机电致发光二极管装置,特征在于该层状元件的上和下外层由具有为1.7至2.4的高折光指数的透明材料组成。
8.根据权利要求7的有机电致发光二极管装置,特征在于该支承体包含:
- 下外层,其选自由玻璃或者高指数聚合物制成的透明基材;或者
- 下附加层,其选自用外层涂覆的由玻璃制成的透明基材,该外层由高折光指数的瓷漆层组成;和
- 中间层,其包含由透明材料,优选地介电材料组成的薄层,或者薄金属层;
- 上外层,其选自由聚合物或者高指数玻璃制成的透明基材、高指数的瓷漆层、高指数透明材料的层。
9.根据前述权利要求任一项的有机电致发光二极管装置,特征在于层状元件的中间层和/或层状元件的上外层构成有机电致发光二极管的下电极。
10.根据前述权利要求任一项的有机电致发光二极管装置,特征在于:
-该中间层是金属层;和
-该层状元件的上外层由具有低于1Ω.cm的电阻率的透明材料构成。
11.根据前述权利要求任一项的有机电致发光二极管装置,特征在于光透射为至少50%,和透射的浊度为低于20%。
12.根据前述权利要求任一项的有机电致发光二极管装置,特征在于该有机电致发光二极管包含:
- 为一个或多个层形式的第一透明电极,
- 在第一电极上方,有机电致发光体系,和
- 为一个或多个层形式的第二透明电极,所述电极被沉积在有机电致发光体系上,与第一电极相反。
13.根据权利要求1-11任一项的有机电致发光二极管装置,特征在于该有机电致发光二极管包含:
- 为一个或多个层形式的第一透明电极,
- 在第一电极上方,有机电致发光体系,和
- 为一个或多个层形式的反射性第二电极,所述电极被沉积在有机电致发光体系上方,与第一电极相反。
14.涂覆有二极管的支承体,特征在于所述支承体包含至少一个具有两个光滑主要外表面(2A,4A)的透明层状元件(1),该层状元件包含:
- 两个外层(2,4),其每个形成该层状元件的两个主要外表面(2A,4A)之一并且其由具有基本相同的折光指数(n2,n4)的透明材料,优选地介电材料组成,和
- 被插在所述外层之间的中间层(3),这种中间层(3)由为具有与外层的折光指数不同的折光指数(n3)的透明层,优选介电层,或者金属层的单一层形成,或者由层(31,32,…,3k)堆叠体形成,该层堆叠体包含至少一个具有与外层的折光指数不同的折光指数(n31,n32,…或n3k)的透明层,优选介电层,或者金属层,
其中在该层状元件的两个相邻层,它们中之一是具有折光指数(n2,n3,n4,n31,n32,…或n3k)的透明层和另一个是金属层或者它们是两个具有不同折光指数的透明层,之间的每个接触表面(S0,S1,…,Sk)是纹理化的并且与其它的在两个相邻层,它们中之一是具有折光指数(n2,n3,n4,n31,n32,…或n3k)的透明层和另一个是金属层或者它们是两个具有不同折光指数的透明层,之间的纹理化接触表面是平行的。
15.制备如权利要求1-12任一项定义的装置的方法,包括以下步骤:
A) 制备包含该层状元件的支承体:
- 作为下外层,提供其主要表面之一是纹理化的和其另一个主要表面是光滑的透明基材;
- 将中间层沉积在该下外层的纹理化主要表面上,当该中间层由单一层形成时,其是具有与下外层的折光指数不同的折光指数的透明层,或者金属层,其通过在所述纹理化主要表面上共形地沉积该中间层进行实施,或者当该中间层由包含至少一个具有与下外层的折光指数不同的折光指数的透明层或者金属层的层堆叠体形成时,其通过在所述纹理化主要表面上依次共形地沉积该中间层的多个层进行实施;
- 在该中间层的与下外层相反的纹理化主要表面上形成上外层,其中所述下和上外层由具有基本上相同的折光指数的透明材料组成,
- 任选地在该层状元件的一个或多个光滑主要外表面上形成至少一个上和/或下附加层,
B) 将所述支承体固定在有机电致发光的二极管上。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR1254868 | 2012-05-25 | ||
FR1254868A FR2991101B1 (fr) | 2012-05-25 | 2012-05-25 | Dispositif a diode electroluminescente organique comportant un support comprenant un element en couches transparent |
PCT/FR2013/051123 WO2013175130A1 (fr) | 2012-05-25 | 2013-05-23 | Dispositif a diode electroluminescente organique comportant un support comprenant un element en couches transparent |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN104303329A true CN104303329A (zh) | 2015-01-21 |
Family
ID=48628727
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201380026968.5A Pending CN104303329A (zh) | 2012-05-25 | 2013-05-23 | 包括含透明层状元件的基材的有机电致发光二极管装置 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20150171370A1 (zh) |
EP (1) | EP2856533A1 (zh) |
JP (1) | JP2015517726A (zh) |
KR (1) | KR20150024816A (zh) |
CN (1) | CN104303329A (zh) |
FR (1) | FR2991101B1 (zh) |
HK (1) | HK1202186A1 (zh) |
RU (1) | RU2014152718A (zh) |
WO (1) | WO2013175130A1 (zh) |
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JP6186377B2 (ja) | 2012-12-18 | 2017-08-23 | パイオニア株式会社 | 発光装置 |
US10270061B2 (en) | 2015-03-03 | 2019-04-23 | Sharp Kabushiki Kaisha | Electroluminescent device and manufacturing method |
KR20160149363A (ko) | 2015-06-17 | 2016-12-28 | 삼성전자주식회사 | 반도체 발광소자 |
KR101805552B1 (ko) | 2015-08-31 | 2017-12-08 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기발광 표시장치 |
TW201722704A (zh) | 2015-10-15 | 2017-07-01 | 聖高拜塑膠製品公司 | 季節性太陽能控制複合物 |
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WO2021139994A1 (en) | 2020-01-06 | 2021-07-15 | Saint-Gobain Glass France | Glass vehicle side window and partition window with projection transparent screen |
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-
2012
- 2012-05-25 FR FR1254868A patent/FR2991101B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
2013
- 2013-05-23 JP JP2015513248A patent/JP2015517726A/ja active Pending
- 2013-05-23 US US14/403,406 patent/US20150171370A1/en not_active Abandoned
- 2013-05-23 KR KR20147032544A patent/KR20150024816A/ko not_active Withdrawn
- 2013-05-23 CN CN201380026968.5A patent/CN104303329A/zh active Pending
- 2013-05-23 EP EP13729401.3A patent/EP2856533A1/fr not_active Withdrawn
- 2013-05-23 RU RU2014152718A patent/RU2014152718A/ru not_active Application Discontinuation
- 2013-05-23 WO PCT/FR2013/051123 patent/WO2013175130A1/fr active Application Filing
-
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- 2015-03-16 HK HK15102615.4A patent/HK1202186A1/zh unknown
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Publication number | Publication date |
---|---|
KR20150024816A (ko) | 2015-03-09 |
WO2013175130A1 (fr) | 2013-11-28 |
US20150171370A1 (en) | 2015-06-18 |
FR2991101A1 (fr) | 2013-11-29 |
HK1202186A1 (zh) | 2015-09-18 |
RU2014152718A (ru) | 2016-07-20 |
JP2015517726A (ja) | 2015-06-22 |
EP2856533A1 (fr) | 2015-04-08 |
FR2991101B1 (fr) | 2016-05-06 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
REG | Reference to a national code |
Ref country code: HK Ref legal event code: DE Ref document number: 1202186 Country of ref document: HK |
|
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20150121 |
|
REG | Reference to a national code |
Ref country code: HK Ref legal event code: WD Ref document number: 1202186 Country of ref document: HK |