CN104253068A - 惰性气体供给设备及惰性气体供给方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供惰性气体供给设备及惰性气体供给方法。第1控制装置在判定为第2控制装置成为不能输出动作指令的状态的情况下，执行基于由第2控制装置最后输出的动作指令使惰性气体供给部动作的继续动作处理。进而，第1控制装置在继续动作处理的执行中判定为满足停止条件的情况下，将继续动作处理中止，执行使惰性气体供给部停止的动作停止处理。
Description
技术领域
本发明涉及惰性气体供给设备以及使用这样的惰性气体供给设备的惰性气体供给方法，所述惰性气体供给设备具备收存容器的收存部、向收存在上述收存部中的上述容器的内部供给惰性气体的惰性气体供给部、控制上述惰性气体供给部的第1控制装置、和将规定了上述惰性气体的供给状态的动作指令对上述第1控制装置输出的第2控制装置。
背景技术
作为上述那样的惰性气体供给设备，已知有下述设备：例如如在专利文献1（特开2010－16199号公报）中记载那样，为了防止收容在容器内部的收容物（例如半导体基板等）的污损，进行向容器内部供给惰性气体（例如氮等）的净化处理。
在这样的惰性气体供给设备中，可以考虑做成以下这样的结构。即做成以下的结构：在对新运入的容器开始净化处理的最初，为了将存在于容器内部的惰性气体以外的气体（例如水蒸汽或氧等）尽量快速地置换为惰性气体，第2控制装置对第1控制装置输出将惰性气体的供给流量规定为比规定流量大的初期净化用的流量的动作指令，第1控制装置基于该动作指令控制惰性气体供给部。
此外，做成以下的结构：第2控制装置在通过将由上述初期净化用的流量进行的净化处理继续规定时间而容器内部的惰性气体成为规定浓度后，为了将容器内的惰性气体的浓度维持为一定的浓度，对第1控制装置输出使惰性气体的供给流量为比初期净化用的流量小的保管净化用的流量的动作指令，第1控制装置基于该动作指令控制惰性气体供给部。
在上述专利文献1中，第2控制装置输出调整惰性气体的供给流量的动作指令，但可能有下述情况：例如因第2控制装置故障、或第2控制装置与第1控制装置之间的连线断线等的理由，第2控制装置成为不能输出切换惰性气体的供给流量的动作指令的状态。
虽然在专利文献1中没有记载，但可以考虑构成为：第1控制装置以从第2控制装置输出的动作指令为触发事件，进行惰性气体供给部的供给流量的切换，在接收到下次的动作指令之前的期间中，基于前次的动作指令使惰性气体供给部动作。在此情况下，如果如上述那样第2控制装置成为不能输出动作指令的状态，则第1控制装置继续基于由第2控制装置最后输出的动作指令控制惰性气体供给部的状态。
但是，在这样的结构中，在使惰性气体供给部的供给流量为大流量的状态下不能从第2控制装置输出动作指令的情况下，然后即使成为应使惰性气体的供给流量为小流量的时机，也不能切换供给流量，惰性气体被过量供给到设备内。因此，有可能发生空气中的惰性气体的浓度上升（或空气中的氧浓度相对下降）、或将昂贵的惰性气体白白消耗等的不良状况。
发明内容
所以，要求实现一种在上位的控制装置不能输出动作指令的状态下继续向容器的惰性气体的供给的情况下、能够尽量避免因不切换惰性气体的供给流量带来的不良状况的惰性气体供给设备。
有关本发明的惰性气体供给设备，具备：收存部，收存容器；惰性气体供给部，向收存在上述收存部中的上述容器的内部供给惰性气体；第1控制装置，控制上述惰性气体供给部；和第2控制装置，对上述第1控制装置输出规定了上述惰性气体的供给状态的动作指令；这里，上述第1控制装置具备：状态判定部，判定上述第2控制装置成为不能输出上述动作指令的状态；条件判定部，判定是否满足预先决定的停止条件；和处理执行部，执行用来控制上述惰性气体供给部的动作的处理；上述处理执行部在由上述状态判定部判定为上述第2控制装置成为不能输出上述动作指令的状态的情况下，执行基于由上述第2控制装置最后输出的上述动作指令使上述惰性气体供给部动作的继续动作处理；上述处理执行部还在上述继续动作处理的执行中由上述条件判定部判定为满足上述停止条件的情况下，将上述继续动作处理中止，执行使上述惰性气体供给部停止的动作停止处理。
根据上述结构，在第2控制装置成为不能输出动作指令的状态的情况下，第1控制装置基于由第2控制装置最后输出的动作指令使惰性气体供给部动作。因此，能够不停止而继续向容器的惰性气体的供给，能够避免在应对该容器的内部供给惰性气体的情况下不供给惰性气体的事态。
但是，例如有容器被从收存部移动到其他地方的情况等、继续由第2控制装置最后输出的动作指令在然后变得不适当的情况。所以，通过如上述那样，即使在不停止而继续惰性气体的供给的状态下，在满足停止条件的情况下也使惰性气体供给部的动作停止，能够避免下述事态：基于第2控制装置成为不能输出动作指令的状态后继续变得不适当的动作指令，使惰性气体供给部动作。
这样，在上位的控制装置不能输出动作指令的状态下继续向容器的惰性气体的供给的情况下，能够尽量避免因不切换惰性气体的供给流量带来的不良状况。
有关本发明的惰性气体供给设备的技术特征对于惰性气体供给方法也适用，本发明可以将这样的方法也作为权利的对象。在该惰性气体供给方法中，也能够得到有关上述惰性气体供给设备的作用效果。
即，有关本发明的惰性气体供给方法，是使用惰性气体供给设备的方法，所述惰性气体供给设备具备：收存部，收存容器；惰性气体供给部，向收存在上述收存部中的上述容器的内部供给惰性气体；第1控制装置，控制上述惰性气体供给部；和第2控制装置，对上述第1控制装置输出规定了上述惰性气体的供给状态的动作指令；上述惰性气体供给方法包括由上述第1控制装置执行的以下的工序：状态判定工序，判定上述第2控制装置成为不能输出上述动作指令的状态；条件判定工序，判定是否满足预先决定的停止条件；和处理执行工序，执行用来控制上述惰性气体供给部的动作的处理；这里，在上述处理执行工序中，在由上述状态判定工序判定为上述第2控制装置成为不能输出上述动作指令的状态的情况下，执行基于由上述第2控制装置最后输出的上述动作指令使上述惰性气体供给部动作的继续动作处理；在上述处理执行工序中，还在上述继续动作处理的执行中由上述条件判定工序判定为满足上述停止条件的情况下，将上述继续动作处理中止，执行使上述惰性气体供给部停止的动作停止处理。
以下，对本发明的优选的实施方式的例子进行说明。
在有关本发明的惰性气体供给设备的实施方式中，优选的是，设有多个上述收存部；在上述多个收存部中，分别独立地设有上述惰性气体供给部；上述第2控制装置输出关于上述多个惰性气体供给部的各自的上述动作指令；上述第1控制装置基于关于上述多个惰性气体供给部的各自的上述动作指令，分别独立地控制上述惰性气体供给部。
即，第2控制装置能够按照在多个收存部中分别独立地设置的惰性气体供给部输出动作指令，第1控制装置能够基于关于多个惰性气体供给部的各自的动作指令，分别独立地控制惰性气体供给部。
因此，能够对在多个收存部的各自中收存的容器以不同的供给状态供给惰性气体。
在有关本发明的惰性气体供给设备的实施方式中，优选的是，上述收存部设在与外部区划开的保管室的内部；上述第1控制装置与计测上述保管室内部的气体的特定成分的浓度的浓度计测装置通信自如地连接；上述停止条件是由上述浓度计测装置计测的上述浓度从基准状态脱离。
即，在保管室内部的气体的特定成分的浓度从基准状态脱离的情况下，能够将继续动作处理中止，使惰性气体供给部停止。
所谓保管室内部的气体的特定成分的浓度从基准状态脱离的情况，例如可以考虑保管室内部的惰性气体浓度变得比基准浓度高的情况、或保管室内部的氧浓度变得比基准浓度低的情况。在这样的情况下，可以考虑向保管室内部继续供给惰性气体并不适当。
所以，能够提供一种在保管室内部的气体的特定成分的浓度从基准状态脱离的情况下、通过将继续动作处理中止而使惰性气体供给部停止、能够更适当地运行的惰性气体供给设备。
在有关本发明的惰性气体供给设备的实施方式中，优选的是，在上述收存部中，设有检测收存有上述容器的存货状态和没有收存上述容器的非存货状态的存货状态检测装置；上述第1控制装置与上述存货状态检测装置通信自如地连接；上述停止条件是由上述存货状态检测装置检测到上述非存货状态。
即，如果虽然在收存部中没有收存容器但是供给惰性气体，则将惰性气体白白地消耗。
所以，在由存货状态检测装置检测到非存货状态的情况下，将继续动作处理中止，使惰性气体供给部停止。由此，能够抑制虽然在收存部中没有收存容器但是供给惰性气体而惰性气体被白白消耗的情况。
在有关本发明的惰性气体供给设备的实施方式中，优选的是，上述第1控制装置具备判别自己是否故障的自己故障诊断功能；上述停止条件是由上述自己故障诊断功能判别为故障。
即，第1控制装置在通过自己故障诊断功能判别为自己故障的情况下，有可能不能适当地控制惰性气体供给部。
所以，在通过自己故障诊断功能判别为故障的情况下，将继续动作处理中止，使从惰性气体供给部的惰性气体的供给停止。由此，能够避免因不能适当地进行惰性气体供给部的控制造成的不良状况。
在有关本发明的惰性气体供给设备的实施方式中，优选的是，上述惰性气体供给部是调节向收存在上述收存部中的上述容器供给的上述惰性气体的流量的流量调节装置；上述惰性气体供给设备还具备：中间控制装置，对上述流量调节装置输出流量控制指令，控制上述流量调节装置；和上位控制装置，对上述中间控制装置输出上位指令；上述上位控制装置具备：监视部，监视上述流量调节装置的动作状态；和指令输出部，基于由上述监视部监视的上述流量调节装置的动作状态，对上述中间控制装置输出上述上位指令；上述第1控制装置是上述中间控制装置；上述第2控制装置是上述上位控制装置；上述动作指令是上述上位指令。
即，即使在上位控制装置成为不能指令上位指令的状态的情况下，中间控制装置也基于由上位控制装置最后输出的上位指令使流量调节装置动作。因此，能够不停止而继续向容器的惰性气体的供给。
此外，即使在中间控制装置不停止而继续惰性气体的供给的状态下，在满足停止条件的情况下，也使流量调节装置的动作停止。由此，在上位控制装置成为不能输出上位指令的状态后、基于最后输出的上位指令的流量调节装置的动作变得不适当的情况下，能够使基于最后指令的上位指令的流量调节装置的动作停止。
在有关本发明的惰性气体供给设备的实施方式中，优选的是，上述惰性气体供给部是调节向收存在上述收存部中的上述容器供给的上述惰性气体的流量的流量调节装置；上述惰性气体供给设备还具备：中间控制装置，对上述流量调节装置输出流量控制指令，控制上述流量调节装置；和上位控制装置，对上述中间控制装置输出上位指令；上述上位控制装置具备：监视部，监视上述流量调节装置的动作状态；和指令输出部，基于由上述监视部监视的上述流量调节装置的动作状态，对上述中间控制装置输出上述上位指令；上述第1控制装置是上述流量调节装置；上述第2控制装置是上述中间控制装置；上述动作指令是上述流量控制指令。
即，即使在中间控制装置成为不能指令流量控制指令的状态的情况下，流量调节装置也基于由中间控制装置最后输出的流量控制指令调节惰性气体的流量。因此，能够不停止而继续向容器的惰性气体的供给。
此外，即使在流量调节装置不停止而继续惰性气体的供给的状态下，在满足停止条件的情况下，也使流量调节装置的动作停止。由此，在中间控制装置成为不能输出流量控制指令的状态后、基于最后输出的流量控制指令的流量调节装置的动作变得不适当的情况下，能够使基于最后输出的流量控制指令的流量调节装置的动作停止。
在有关本发明的惰性气体供给方法的实施方式中，优选的是，设有多个上述收存部；在上述多个收存部中，分别独立地设有上述惰性气体供给部；上述第2控制装置输出关于上述多个惰性气体供给部的各自的上述动作指令；在上述处理执行工序中，基于关于上述多个惰性气体供给部的各自的上述动作指令，分别独立地控制上述惰性气体供给部。
在有关本发明的惰性气体供给方法的实施方式中，优选的是，上述收存部设在与外部区划开的保管室的内部；上述第1控制装置与计测上述保管室内部的气体的特定成分的浓度的浓度计测装置通信自如地连接；上述停止条件是由上述浓度计测装置计测的上述浓度从基准状态脱离。
在有关本发明的惰性气体供给方法的实施方式中，优选的是，在上述收存部中，设有检测收存有上述容器的存货状态和没有收存上述容器的非存货状态的存货状态检测装置；上述第1控制装置与上述存货状态检测装置通信自如地连接；上述停止条件是由上述存货状态检测装置检测到上述非存货状态。
在有关本发明的惰性气体供给方法的实施方式中，优选的是，上述第1控制装置具备判别自己是否故障的自己故障诊断功能；上述停止条件是由上述自己故障诊断功能判别为故障。
在有关本发明的惰性气体供给方法的实施方式中，优选的是，上述惰性气体供给部是调节向收存在上述收存部中的上述容器供给的上述惰性气体的流量的流量调节装置；上述惰性气体供给设备还具备：中间控制装置，对上述流量调节装置输出流量控制指令，控制上述流量调节装置；和上位控制装置，对上述中间控制装置输出上位指令；上述上位控制装置具备：监视部，监视上述流量调节装置的动作状态；和指令输出部，基于由上述监视部监视的上述流量调节装置的动作状态，对上述中间控制装置输出上述上位指令；上述第1控制装置是上述中间控制装置；上述第2控制装置是上述上位控制装置；上述动作指令是上述上位指令。
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附图说明
图1是说明惰性气体供给设备的侧视图。
图2是表示该设备的一部分的纵剖主视图。
图3是收存部的立体图。
图4是表示收存部与容器的关系的概略结构图。
图5是表示向多个收存部的氮气的供给形态的图。
图6是控制结构图。
图7是说明第1实施方式的可编程逻辑控制器的结构的图。
图8是表示各净化样式的目标流量与供给时间的关系的图。
图9是说明在第1实施方式中可编程逻辑控制器执行的控制的流程图。
图10是说明第2实施方式的质量流量控制器的结构的图。
图11是说明在第2实施方式中质量流量控制器执行的控制的流程图。
具体实施方式
基于附图说明本发明的惰性气体供给设备的实施方式。
［第1实施方式］
惰性气体供给设备如图1及图2所示，具备保管将基板以密闭状态收容的容器50的保管搁板10、作为输送装置的堆装起重机20及作为容器50的出入库部的出入库输送机CV。
保管搁板10及堆装起重机20配设在由壁体K将外周部覆盖的设置空间内，出入库输送机CV以将壁体K贯通的状态配设。
保管搁板10构成为，以在上下方向及左右方向（水平方向）排列的状态具备多个支承容器50的收存部10S，在收存部10S的各自中收存容器50。
并且，在本实施方式中，如图1所示，装备有沿着铺设在设置有物品保管设备的清洁室的顶棚部上的导轨行进的吊车式的输送车D，构成为，通过该吊车式的输送车D将容器50对出入库输送机CV运入及运出。
容器50是依据SEMI（Semiconductor Equipment and Materials International，即国际半导体设备和材料）规格的合成树脂制的气密容器，为了收存作为基板的半导体晶片W（参照图4）而使用，被称作FOUP（Front Opening Unified Pod，即前开口统一盒）。并且，详细的说明省略，但在容器50的前表面上形成有由拆装自如的盖体开闭的基板出入用的开口，在容器50的上表面上形成有被输送车D的夹盘部把持的顶部凸缘52，并且在容器50的底面上形成有定位销10b（参照图3）卡合的3个卡合槽（未图示）。
容器50如图4所示，具备：壳体51，在内部在上下方向上具备多个自由载置半导体晶片W的基板支承体53；和未图示的盖体。容器50构成为，在壳体51上安装着盖体的状态下，内部空间被密闭。此外，容器50构成为，在收容在收存部10S中的状态下，被定位销10b定位。
此外，如图4所示，在容器50的底部，如后述那样，为了注入作为惰性气体的氮气而设有供气口50i及排气口50o。虽然图示省略，但在供气口50i中设有注入侧开闭阀，在排气口50o中设有排出侧开闭阀。
注入侧开闭阀被弹簧等施力部件向闭方向施力，构成为，如果向供气口50i供给的氮气的吐出压力成为比大气压高设定值的设定开阀压力以上，则被该压力打开操作。
此外，排出侧开闭阀被弹簧等施力部件向闭方向施力，构成为，如果容器50内部的压力成为比大气压高设定值的设定开阀压力以上，则被该压力打开操作。
堆装起重机20具备沿着设在保管搁板10的前面侧的地板部上的行进轨道R1行进移动自如的行进台车21、立设在该行进台车21上的桅杆22、和以被桅杆22导引的状态升降移动自如的升降台24。
此外，构成为，设在桅杆22的上端处的上部框23卡合到上部导轨（图示省略）中而移动，所述上部导轨设在外周部被壁体K覆盖的设置空间的顶棚侧。
在升降台24上，装备有相对于收存部10S移载容器50的移载装置25。
移载装置25向突出到收存部10S的内部的突出位置和退开到升降台24侧的退开位置进退自如地具备载置支承容器50的板状的载置支承体。具备移载装置25的堆装起重机20构成为，通过载置支承体的进退动作及升降台24的升降动作，进行将载置在载置支承体上的容器50向收存部10S卸下的卸下处理及将收容在收存部10S中的容器50取出的抄取处理。
即，容器50在被输送车D载置到出入库输送机CV上、被该出入库输送机CV从壁体K的外部输送到内部之后，被堆装起重机20向多个收存部10S的任一个输送。
在堆装起重机20中，虽然没有图示，但装备有检测行进路径上的行进位置的行进位置检测装置及检测升降台24的升降位置的升降位置检测装置。控制堆装起重机20的动作的起重机控制器H3构成为，基于行进位置检测装置及升降位置检测装置的检测信息控制堆装起重机20的动作。
如图3及图4所示，多个收存部10S分别具备载置支承容器50的板状的载置支承部10a。
该载置支承部10a为了形成移载装置25的载置支承体在上下方向上通过的空间，俯视形状形成为U字状。并且，在载置支承部10a的上表面上，以起立状态（向上方突出的状态）装备有上述定位销10b。
此外，在载置支承部10a上，设有检测是否载置有容器50（即，容器50是否收容在收存部10S中）的两个存货传感器10z，构成为，将这些检测信息经由可编程逻辑控制器P向监视质量流量控制器40的动作状态的净化控制器H1输入。
在载置支承部10a上，设有将作为惰性气体的氮气向容器50的内部供给的作为吐出口的吐出喷嘴10i、和流通从容器50的内部排出的气体的排出用通气体10o。并且，在吐出喷嘴10i上，连接着使来自质量流量控制器40的氮气流动的供给配管Li，在排出用通气体10o上，连接着端部开口的排出管Lo。
此外，如图1及图2所示，在俯视中各收存部10S的搁板里侧（与取放容器50的开口对置的端部侧）且在搁板左右方向上成为容器50的端部附近的位置上，装备有控制氮气的供给的质量流量控制器40。
质量流量控制器40与收存部10S分别对应而设置。
并且，构成为，如果容器50被载置支承在载置支承部10a上，则吐出喷嘴10i以嵌合状态连接在容器50的供气口50i上，并且排出用通气体10o以嵌合状态连接在容器50的排气口50o上。
构成为，在容器50被载置支承在载置支承部10a上的状态下，通过从吐出喷嘴10i吐出比大气压高设定值以上的压力的氮气，能够在从容器50的排气口50o将容器内的气体向外部排出的状态下，从容器50的供气口50i将氮气注入到容器50的内部。
在本实施方式中，由质量流量控制器40构成惰性气体供给部F。此外，通过用壁体K将外周部覆盖，形成本申请发明的保管室。
即，设有多个自由收存容器50的收存部10S，在各自中独立地设有向收存在收存部10S中的容器50的内部供给氮气的惰性气体供给部F。此外，收存部10S设在与外部区划开的保管室的内部。
（氮气的供给结构）
如图5所示，作为用来对保管搁板10的惰性气体供给部F分别供给氮气的氮气的供给源，具备原料气体供给配管Lm。以从该原料气体供给配管Lm分支为2的状态，具备第1分支供给配管Lb1及第2分支供给配管Lb2。在原料气体供给配管Lm中设有原料气体开闭阀V1，能够以保管搁板10单位切换氮气的供给及供给停止。
在第1分支供给配管Lb1中设有第1电磁开闭阀V21，在第2分支供给配管Lb2中设有第2电磁开闭阀V22。并且，这些第1电磁开闭阀V21及第2电磁开闭阀V22经由后述的IO扩展模块A电气地连接在后述的净化控制器H1上，构成为，净化控制器H1控制第1电磁开闭阀V21及第2电磁开闭阀V22的开闭。
（质量流量控制器40的结构）
如图3及图4所示，质量流量控制器40具备流入侧端口40i和吐出侧端口40o。在吐出侧端口40o上连接着上述供给配管Li，在流入侧端口40i上，连接着供给配管Ls，所述供给配管Ls引导来自作为氮气的供给源的第1分支供给配管Lb1或第2分支供给配管Lb2的氮气。
另外，在氮气供给源上，装备将氮气的供给压力调整为比大气压高设定值以上的设定压力的调节器、及将氮气的供给断开或继续的手动操作式的开闭阀等。
在质量流量控制器40上，装备有将在从流入侧端口40i朝向吐出侧端口40o的内部流路中流动的氮气的流量变更调节的流量调节阀40V、计测在内部流路中流动的氮气的流量的流量传感器、及控制流量调节阀的动作的内部控制部40S。
此外，质量流量控制器40的内部控制部40S具备判别自己是否故障的自己故障诊断功能。
在本实施方式中，质量流量控制器40相当于流量调节装置。
（控制结构）
如图6所示，在惰性气体供给设备中，设有对可编程逻辑控制器P输出上位指令的净化控制器H1、管理保管搁板10上的容器50的库存状态等的储藏器控制器H2、及控制堆装起重机20的动作的起重机控制器H3。
净化控制器H1具备监视部H11和指令输出部H12。
监视部H11构成为，监视质量流量控制器40的动作状态，指令输出部H12构成为，基于由监视部H11监视的质量流量控制器40的动作状态，对可编程逻辑控制器P输出上位指令。
净化控制器H1、储藏器控制器H2及起重机控制器H3例如由以储存程序方式自如处理信息的计算机构成，相互用LAN等网络C1连接。此外，可编程逻辑控制器P及IO扩展模块A与上述净化控制器H1通信自如地连接在网络C1上。
在可编程逻辑控制器P上，经由控制总线C2分别连接着12台质量流量控制器40及计测保管室内部的空气中的氧的浓度的浓度计测装置S1。即，可编程逻辑控制器P与计测保管室内部的气体的作为特定成分的氧的浓度的浓度计测装置S1通信自如地连接。浓度计测装置S1构成为，如果保管室内部的空气中的氧的浓度不到规定浓度，则输出警告信息。
此外，如图7所示，在可编程逻辑控制器P中，具备判定净化控制器H1成为不能输出动作指令的状态的状态判定部Pa、判定是否满足预先决定的停止条件的条件判定部Pb、和执行用来控制质量流量控制器40的动作的处理的处理执行部Pc。
可编程逻辑控制器P构成为，如果从净化控制器H1接收到质量流量控制器40的识别信息和关于该质量流量控制器40的目标流量的指令，则对与该识别信息对应的质量流量控制器40输出目标流量的指令。
状态判定部Pa构成为，通过按照设定时间间隔对净化控制器H1发送连接确认信号并接收净化控制器H1对于该连接确认信号返送的应答信号，确认在与净化控制器H1之间通信是否成立。并且，状态判定部Pa在与净化控制器H1之间通信成立的情况下判别为净化控制器H1是能够输出动作指令的状态，在与净化控制器H1之间通信不成立的情况下判别为净化控制器H1是不能输出动作指令的状态。进行该判别的工序相当于本发明的“状态判定工序”。
此外，状态判定部Pa还具备判别自己是否故障的自己故障诊断功能。
在IO扩展模块A上，分别用信号线C3连接着与装备着上述12台质量流量控制器40的收存部10S对应的存货传感器10z。输入到IO扩展模块A中的信息被汇集到可编程逻辑控制器P中。在本实施方式中，存货传感器10z相当于存货状态检测装置。即，在收存部10S中，设有检测收容着容器50的存货状态和没有收容着容器50的非存货状态的存货传感器10z，可编程逻辑控制器P与存货传感器10z及浓度计测装置S1分别通信自如地连接。
净化控制器H1对于可编程逻辑控制器P，指令关于与多个收存部10S分别对应设置的质量流量控制器40的目标流量。这样，净化控制器H1对可编程逻辑控制器P指令的关于多个质量流量控制器40各自的目标流量的指令相当于上位指令。质量流量控制器40的内部控制部40S基于流量传感器的检测信息控制流量调节阀40V，以将向容器50的供给流量调整为由来自上述净化控制器H1的上位指令规定的目标流量。此外，在净化控制器H1上，装备有用来输入各种信息的操作台HS。
即，惰性气体供给部是调节向收存在收存部10S中的容器50供给的氮气的流量的流量调节装置（质量流量控制器40），设有对质量流量控制器40输出流量控制指令而控制质量流量控制器40的可编程逻辑控制器P、和对可编程逻辑控制器P输出上位指令的净化控制器H1。
此外，净化控制器H1具备监视质量流量控制器40的动作状态的监视部H11、和基于由监视部H11监视的质量流量控制器40的动作状态对可编程逻辑控制器P输出上位指令的指令输出部H12。
即，在本实施方式中，可编程逻辑控制器P相当于控制作为流量调节装置的质量流量控制器40的中间控制装置，净化控制器H1相当于将规定氮气的供给状态的上位指令对可编程逻辑控制器P输出的上位控制装置。
此外，在本实施方式的惰性气体供给设备中，具备控制质量流量控制器40的可编程逻辑控制器P、和将规定惰性气体的供给状态的上位指令对可编程逻辑控制器P输出的净化控制器H1。即，在本实施方式中，可编程逻辑控制器P相当于第1控制装置，净化控制器H1相当于第2控制装置，净化控制器H1对可编程逻辑控制器P输出的上位指令相当于动作指令。
作为由净化控制器H1输出的上位指令规定的目标流量，有保管用的目标流量、喷嘴净化用的目标流量、和清洁用的目标流量。保管用的目标流量是在容器50收存在收存部10S中的状态下、为了向容器50的内部注入氮气而对质量流量控制器40指令的目标流量。喷嘴净化用的目标流量是在容器50马上要被收存到收存部10S中之前、为了将吐出喷嘴10i清洁化而指令的目标流量。清洁用的目标流量是在保管搁板10的设置时等、为了将吐出喷嘴10i及供给配管Li等清洁化而指令的目标流量。
如图8所示，净化控制器H1作为决定目标流量和供给时间的多个净化样式，存储有喷嘴净化样式P1、清洁样式P2及4个保管用净化样式P3～P6。
并且，构成为，在保管搁板10的设置时等，如果由操作台HS指令清洁开始指令，则净化控制器H1对可编程逻辑控制器P输出与清洁样式P2对应的上位指令。接受到该上位指令的可编程逻辑控制器P控制质量流量控制器40的动作，以设为使清洁用的目标流量（清扫用流量）的氮气流通清扫用时间而将惰性气体供给部F清扫的清扫用供给形态。
另外，操作台HS自如选择需要清扫的惰性气体供给部F而构成，构成为，对所选择的惰性气体供给部F自如指令清洁开始指令。
此外，构成为，如果将容器50运入到出入库输送机CV中，则净化控制器H1对可编程逻辑控制器P输出与喷嘴净化样式P1对应的上位指令。接受到该上位指令的可编程逻辑控制器P控制质量流量控制器40的动作，以供给喷嘴净化用的目标流量的氮气。
在本实施方式中，净化控制器H1构成为，根据从控制吊车式的输送车D的运转的输送车控制器（未图示）通信的收存指令，判别容器50被运入到出入库输送机CV中。
进而，构成为，当两个存货传感器10z检测到容器50时，净化控制器H1对可编程逻辑控制器P输出与4个保管用净化样式P3～P6中的由操作台HS预先选择的一个样式对应的上位指令。接受到该上位指令的可编程逻辑控制器P控制质量流量控制器40的动作，以供给与预先选择的保管用净化样式对应的保管用的目标流量（供给流量）的氮气。
顺便说一下，喷嘴净化样式P1及清洁样式P2中的目标流量和供给时间预先被设定为基准状态。4个保管用净化样式P3～P6的各自的目标流量和供给时间在设备的设置时由使用者设定。另外，上述基准状态从操作台HS变更设定自如地构成。
接着，基于图8，对喷嘴净化样式P1、清洁样式P2及4个保管用净化样式P3～P6分别进行说明。
喷嘴净化样式P1被决定为以下样式：在从上述收存指令被指令的时点到被设定为收存前供给时间的供给时间t1的期间中，以被设定为喷嘴净化用的目标流量的目标流量L1供给氮气。
供给时间t1例如被设定为5秒，目标流量L1例如被设定为30升/分钟。
清洁样式P2被决定为以下样式：在从由操作台HS指令清洁开始指令到被设定为设置初期供给时间的供给时间t2的期间中，以被设定为清洁用的目标流量的目标流量L2供给氮气。
供给时间t2例如被设定为1800秒，目标流量L2例如被设定为20升/分钟。
关于4个保管用净化样式P3～P6，分别作为保管用的目标流量而设定了初期目标流量值Lα、和比该初期目标流量Lα少的稳态目标流量值Lβ。
初期目标流量值Lα例如被设定为50升/分钟，稳态目标流量值Lβ例如被设定为5升/分钟。如上述那样，初期目标流量值Lα及稳态目标流量值Lβ可以由使用者变更设定。
并且，4个保管用净化样式P3～P6分别在向容器50供给氮气时首先将目标流量值设定为初期目标流量值Lα、然后将目标流量值设定变更为稳态目标流量值Lβ这一点共通，但决定为相互不同的样式。4个保管用净化样式P3～P6如图8所示，被设定为随着时间的经过而切换目标流量的样式，但这里其详细的说明省略。
（可编程逻辑控制器执行的处理）
在使用惰性气体供给设备的情况下，虽然是由质量流量控制器40向容器50供给氮气的净化处理的执行中，但是有因计算机的不工作或通信接口的故障等的事情而净化控制器H1成为不能输出上位指令的状态的情况。如果发生这样的事态，则例如在将质量流量控制器40供给的氮气的供给流量基于上述保管用净化样式P3～P6设定为初期目标流量值Lα的状态下，净化控制器H1成为不能输出上位指令的状态，虽然是应将供给流量设定为稳态目标流量值Lβ的时机，但是有可能净化控制器H1不能输出指令供给流量的变更的上位指令。对于在这样的情况下可编程逻辑控制器P执行的处理，基于图9进行说明。另外，图9的流程被按照设定时间（是控制周期，例如100毫秒）间隔反复执行。
可编程逻辑控制器P具备的状态判定部Pa首先判别是否能够进行与净化控制器H1的连接确认（步骤#11）。如果在步骤#11中判别为能够进行与净化控制器H1的连接确认（步骤#11：是），则状态判定部Pa确认是否有来自净化控制器H1的上位指令（步骤#12）。如果在步骤#12中判别为有来自净化控制器H1的上位指令（步骤#12：是），则接着，可编程逻辑控制器P中具备的处理执行部Pc向质量流量控制器40发送流量控制指令（步骤#13）。
在步骤#12中判别为没有来自净化控制器H1的动作指令的情况下（步骤#12：否），结束该流程。
另一方面，如果在步骤#11中状态判定部Pa判别为不能进行与净化控制器H1的连接确认（步骤#11：否），则条件判定部Pb判别是否满足停止条件（步骤#14）。判别是否满足停止条件的该工序相当于本发明的“条件判定工序”。
所谓停止条件，是“由浓度计测装置S1计测的氧浓度低于基准浓度”、“由存货传感器10z检测出非存货状态”、或“可编程逻辑控制器P通过自己故障诊断功能判别为自己故障了”的任一个条件。条件判定部Pb在满足这3个条件的任一个的情况下，判定为满足停止条件。
在本实施方式中，由浓度计测装置S1计测的氧浓度低于基准浓度相当于由浓度计测装置S1计测的保管室内部的气体的特定成分的浓度从基准状态脱离。
在步骤#14中判别为不满足停止条件的情况下（步骤#14：否），处理执行部Pc基于净化控制器H1最后指令的上位指令向质量流量控制器40发送流量控制指令（步骤#15）。在本实施方式中，步骤#15的处理相当于继续动作处理。
此外，在步骤#14中判别为满足停止条件的情况下（步骤#14：是），处理执行部Pc对质量流量控制器40指令净化停止（流量调节阀40V的关闭）（步骤#16）。在本实施方式中，步骤#16的处理相当于动作停止处理。
即，处理执行部Pc在由状态判定部Pa判定为净化控制器H1成为不能输出动作指令的状态的情况下，执行基于由净化控制器H1最后输出的动作指令使质量流量控制器40动作的继续动作处理。进而，处理执行部Pc构成为，在上述继续动作处理的执行中由条件判定部Pb判定为满足停止条件的情况下，将继续动作处理中止，执行使质量流量控制器40停止的动作停止处理。执行包括这些继续动作处理及动作停止处理的、用来控制质量流量控制器40的动作的处理的工序相当于本发明的“处理执行工序”。
［第2实施方式］
接着，对惰性气体供给设备的第2实施方式进行说明，但本第2实施方式由于与第1实施方式相比，仅第1控制装置及第2控制装置的关系不同，所以省略重复的说明，仅说明不同的部分。
在本实施方式中，如图10所示，质量流量控制器40具备判定可编程逻辑控制器P成为不能输出流量控制指令的状态的状态判定部40a、判定是否满足预先决定的停止条件的条件判定部40b、和执行用来控制质量流量控制器40的流量调节阀40V的动作的处理的处理执行部40c。
此外，质量流量控制器40与计测保管室内部的氧的浓度的浓度计测装置S1及对应于收存部10S的存货传感器10z分别经由控制总线C2通信自如地连接。
状态判定部40a构成为，通过按照设定时间间隔对可编程逻辑控制器P发送连接确认信号并接收可编程逻辑控制器P对于该连接确认信号返送的应答信号，确认在与可编程逻辑控制器P之间通信是否成立。并且，状态判定部40a构成为，在与可编程逻辑控制器P之间通信成立的情况下，判别为可编程逻辑控制器P是能够输出动作指令的状态，在与可编程逻辑控制器P之间通信不成立的情况下，判别为可编程逻辑控制器P是不能输出动作指令的状态。
此外，状态判定部40a还具备判别自己是否故障的自己故障诊断功能。
可编程逻辑控制器P对于与多个收存部10S分别对应设置的质量流量控制器40，分别指令目标流量，以将关于各个质量流量控制器40的目标流量调整为由来自净化控制器H1的上位指令规定的目标流量。这样可编程逻辑控制器P对质量流量控制器40指令的目标流量的指令相当于流量控制指令。质量流量控制器40的内部控制部40S基于流量传感器的检测信息控制流量调节阀40V，以将向容器50的供给流量调整为由来自上述可编程逻辑控制器P的流量控制指令规定的目标流量。
即，在本实施方式中，质量流量控制器40中具备的内部控制部40S相当于第1控制装置，可编程逻辑控制器P相当于第2控制装置，可编程逻辑控制器P对质量流量控制器40输出的流量控制指令相当于动作指令。
（质量流量控制器执行的处理）
在使用惰性气体供给设备的情况下，虽然是由质量流量控制器40向容器50供给氮气的净化处理的执行中，但是有因通信接口的故障等的事情而可编程逻辑控制器P成为不能输出流量控制指令的状态的情况。如果发生这样的事态，则例如在将质量流量控制器40供给的氮气的供给流量基于上述保管用净化样式P3～P6设定为初期目标流量值Lα的状态下，可编程逻辑控制器P成为不能输出流量控制指令的状态，虽然是应将供给流量设定为稳态目标流量值Lβ的时机，但是有可能可编程逻辑控制器P不能输出指令供给流量的变更的流量控制指令。对于在这样的情况下质量流量控制器40执行的处理，基于图11进行说明。另外，图11的流程被按照设定时间（是控制周期，例如100毫秒）间隔反复执行。
质量流量控制器40具备的状态判定部40a首先判别是否能够进行与可编程逻辑控制器P的连接确认（步骤#21）。如果在步骤#21中判别为能够进行与可编程逻辑控制器P的连接确认（步骤#21：是），则状态判定部40a确认是否有来自可编程逻辑控制器P的流量控制指令（步骤#22）。如果在步骤#22中判别为有来自可编程逻辑控制器P的流量控制指令（步骤#22：是），则接着，质量流量控制器40中具备的处理执行部40c基于流量控制指令控制流量调节阀40V（步骤#23）。
在步骤#22中判别为没有来自可编程逻辑控制器P的流量控制指令的情况下（步骤#22：否），结束该流程。
另一方面，如果在步骤#21中状态判定部40a判别为不能进行与可编程逻辑控制器P的连接确认（步骤#21：否），则条件判定部40b判别是否满足停止条件（步骤#24）。该停止条件，是由“浓度计测装置S1计测的氧浓度低于基准浓度”、“由存货传感器10z检测到非存货状态”、或“质量流量控制器40的内部控制部40S通过自己故障诊断功能判别为自己故障”的任一个条件。条件判定部40b在满足了这3个条件的任一个的情况下，判定为满足停止条件。
在步骤#24中判定为不满足停止条件的情况下（步骤#24：否），处理执行部40c基于从可编程逻辑控制器P最后接受到的流量控制指令控制流量调节阀40V（步骤#25）。在本实施方式中，步骤#25的处理相当于继续动作处理。
此外，在步骤#24中判别为满足停止条件的情况下（步骤#24：是），处理执行部40c进行控制以将流量调节阀40V关闭（步骤#26）。在本实施方式中，步骤#26的处理相当于动作停止处理。
即，处理执行部40c在由状态判定部40a判定可编程逻辑控制器P为不能输出流量控制指令的状态的情况下，执行基于由净化控制器H1最后输出的动作指令使质量流量控制器40动作的继续动作处理。进而，处理执行部40c构成为，在上述继续动作处理的执行中由条件判定部40b判定为满足停止条件的情况下，将继续动作处理中止，执行使质量流量控制器40停止的动作停止处理。
［其他实施方式］
（1）在上述第1及第2实施方式中，例示了设有多个收存部10S、在这些多个收存部10S中独立地设有质量流量控制器40的结构。但是，本发明的实施方式并不限定于这样的结构，例如也可以设为仅具备1个收存部10S、在该1个收存部10S中具备1个质量流量控制器40的惰性气体供给设备。此外，也可以构成为，具备多个收存部10S，将对收存在这些多个收存部10S中的容器50供给的氮气的流量用单一的质量流量控制器40调节。此外，在上述第1及第2实施方式中，构成为，第2控制装置将关于多个质量流量控制器40各自的动作指令独立地输出，但也可以构成为，第2控制装置关于多个质量流量控制器40的全部输出相同的动作指令。
（2）构成为，在上述第1实施方式中，将停止条件设为“由浓度计测装置S1计测的氧浓度低于基准浓度”、“由存货传感器10z检测到非存货状态”、或“可编程逻辑控制器P通过自己故障诊断功能判别为自己故障”的任一个条件，在第2实施方式中，将停止条件设为“由浓度计测装置S1计测的氧浓度低于基准浓度”、“由存货传感器10z检测到非存货状态”、或“质量流量控制器40的内部控制部40S通过自己故障诊断功能判别为自己故障”的任一个条件。但是，停止条件并不限定于这些，例如也可以将“由作业者指令了紧急停止”等其他条件包含在停止条件中。此外，也可以将停止条件不是设为上述第1或第2实施方式所示的3个条件中的全部，而是设为仅1个或两个。
进而，在上述第1及第2实施方式中，做成了基于满足上述3个条件中的任一个来判别满足停止条件的结构，但也可以构成为，基于满足上述3个中事前设定的两个条件或3个条件来判别满足停止条件。
（3）在上述第2实施方式中，例示了质量流量控制器40与计测保管室内部的氧的浓度的浓度计测装置S1及对应于收存部10S的存货传感器10z分别经由控制总线C2通信自如地连接的结构。但是，本发明的实施方式并不限定于这样的结构，也可以构成为，浓度计测装置S1及存货传感器10z分别连接在质量流量控制器40上以便直接输入计测信息。
（4）在上述第1及第2实施方式中，例示了设保管室内部的气体的特定成分为氧、由浓度计测装置S1计测氧的浓度的结构。但是，本发明的实施方式并不限定于这样的结构，也可以构成为，设保管室内部的气体的特定成分为氮，由浓度计测装置S1计测氮的浓度。在此情况下，由浓度计测装置S1计测的氮浓度超过基准浓度，相当于由浓度计测装置S1计测的保管室内部的气体的特定成分的浓度从基准状态脱离。
此外，保管室内部的气体的特定成分也可以为上述氧或氮以外的成分，例如二氧化碳或水蒸汽等。
附图标记说明
10S 收存部
10z 存货状态检测装置
40 流量调节装置
40a 状态判定部
40b 条件判定部
40c 处理执行部
50 容器
F 惰性气体供给部
H1 上位控制装置
H11 监视部
H12 指令输出部
P 中间控制装置
Pa 状态判定部
Pb 条件判定部
Pc 处理执行部
S1 浓度计测装置。
Claims (14)
1.一种惰性气体供给设备，具备：
收存部，收存容器；
惰性气体供给部，向收存在上述收存部中的上述容器的内部供给惰性气体；
第1控制装置，控制上述惰性气体供给部；和
第2控制装置，对上述第1控制装置输出规定了上述惰性气体的供给状态的动作指令；
其特征在于，
上述第1控制装置具备：状态判定部，判定上述第2控制装置成为不能输出上述动作指令的状态；条件判定部，判定是否满足预先决定的停止条件；和处理执行部，执行用来控制上述惰性气体供给部的动作的处理；
上述处理执行部在由上述状态判定部判定为上述第2控制装置成为不能输出上述动作指令的状态的情况下，执行基于由上述第2控制装置最后输出的上述动作指令使上述惰性气体供给部动作的继续动作处理；
上述处理执行部还在上述继续动作处理的执行中由上述条件判定部判定为满足上述停止条件的情况下，将上述继续动作处理中止，执行使上述惰性气体供给部停止的动作停止处理。
2.如权利要求1所述的惰性气体供给设备，其特征在于，
设有多个上述收存部；
在上述多个收存部中，分别独立地设有上述惰性气体供给部；
上述第2控制装置输出关于上述多个惰性气体供给部的各自的上述动作指令；
上述第1控制装置基于关于上述多个惰性气体供给部的各自的上述动作指令，分别独立地控制上述惰性气体供给部。
3.如权利要求1或2所述的惰性气体供给设备，其特征在于，
上述收存部设在与外部区划开的保管室的内部；
上述第1控制装置与计测上述保管室内部的气体的特定成分的浓度的浓度计测装置通信自如地连接；
上述停止条件是由上述浓度计测装置计测的上述浓度从基准状态脱离。
4.如权利要求1或2所述的惰性气体供给设备，其特征在于，
在上述收存部中，设有检测收存有上述容器的存货状态和没有收存上述容器的非存货状态的存货状态检测装置；
上述第1控制装置与上述存货状态检测装置通信自如地连接；
上述停止条件是由上述存货状态检测装置检测到上述非存货状态。
5.如权利要求1或2所述的惰性气体供给设备，其特征在于，
上述第1控制装置具备判别自己是否故障的自己故障诊断功能；
上述停止条件是由上述自己故障诊断功能判别为故障。
6.如权利要求1～5中任一项所述的惰性气体供给设备，其特征在于，
上述惰性气体供给部是调节向收存在上述收存部中的上述容器供给的上述惰性气体的流量的流量调节装置；
上述惰性气体供给设备还具备：
中间控制装置，对上述流量调节装置输出流量控制指令，控制上述流量调节装置；和
上位控制装置，对上述中间控制装置输出上位指令；
上述上位控制装置具备：监视部，监视上述流量调节装置的动作状态；和指令输出部，基于由上述监视部监视的上述流量调节装置的动作状态，对上述中间控制装置输出上述上位指令；
上述第1控制装置是上述中间控制装置；
上述第2控制装置是上述上位控制装置；
上述动作指令是上述上位指令。
7.如权利要求1～5中任一项所述的惰性气体供给设备，其特征在于，
上述惰性气体供给部是调节向收存在上述收存部中的上述容器供给的上述惰性气体的流量的流量调节装置；
上述惰性气体供给设备还具备：
中间控制装置，对上述流量调节装置输出流量控制指令，控制上述流量调节装置；和
上位控制装置，对上述中间控制装置输出上位指令；
上述上位控制装置具备：监视部，监视上述流量调节装置的动作状态；和指令输出部，基于由上述监视部监视的上述流量调节装置的动作状态，对上述中间控制装置输出上述上位指令；
上述第1控制装置是上述流量调节装置；
上述第2控制装置是上述中间控制装置；
上述动作指令是上述流量控制指令。
8.一种惰性气体供给方法，使用惰性气体供给设备，其特征在于，
上述惰性气体供给设备具备：
收存部，收存容器；
惰性气体供给部，向收存在上述收存部中的上述容器的内部供给惰性气体；
第1控制装置，控制上述惰性气体供给部；和
第2控制装置，对上述第1控制装置输出规定了上述惰性气体的供给状态的动作指令；
上述惰性气体供给方法包括由上述第1控制装置执行的以下的工序：
状态判定工序，判定上述第2控制装置成为不能输出上述动作指令的状态；
条件判定工序，判定是否满足预先决定的停止条件；和
处理执行工序，执行用来控制上述惰性气体供给部的动作的处理；
这里，在上述处理执行工序中，在由上述状态判定工序判定为上述第2控制装置成为不能输出上述动作指令的状态的情况下，执行基于由上述第2控制装置最后输出的上述动作指令使上述惰性气体供给部动作的继续动作处理；
在上述处理执行工序中，还在上述继续动作处理的执行中由上述条件判定工序判定为满足上述停止条件的情况下，将上述继续动作处理中止，执行使上述惰性气体供给部停止的动作停止处理。
9.如权利要求8所述的惰性气体供给方法，其特征在于，
设有多个上述收存部；
在上述多个收存部中，分别独立地设有上述惰性气体供给部；
上述第2控制装置输出关于上述多个惰性气体供给部的各自的上述动作指令；
在上述处理执行工序中，基于关于上述多个惰性气体供给部的各自的上述动作指令，分别独立地控制上述惰性气体供给部。
10.如权利要求8或9所述的惰性气体供给方法，其特征在于，
上述收存部设在与外部区划开的保管室的内部；
上述第1控制装置与计测上述保管室内部的气体的特定成分的浓度的浓度计测装置通信自如地连接；
上述停止条件是由上述浓度计测装置计测的上述浓度从基准状态脱离。
11.如权利要求8或9所述的惰性气体供给方法，其特征在于，
在上述收存部中，设有检测收存有上述容器的存货状态和没有收存上述容器的非存货状态的存货状态检测装置；
上述第1控制装置与上述存货状态检测装置通信自如地连接；
上述停止条件是由上述存货状态检测装置检测到上述非存货状态。
12.如权利要求8或9所述的惰性气体供给方法，其特征在于，
上述第1控制装置具备判别自己是否故障的自己故障诊断功能；
上述停止条件是由上述自己故障诊断功能判别为故障。
13.如权利要求8～12中任一项所述的惰性气体供给方法，其特征在于，
上述惰性气体供给部是调节向收存在上述收存部中的上述容器供给的上述惰性气体的流量的流量调节装置；
上述惰性气体供给设备还具备：
中间控制装置，对上述流量调节装置输出流量控制指令，控制上述流量调节装置；和
上位控制装置，对上述中间控制装置输出上位指令；
上述上位控制装置具备：监视部，监视上述流量调节装置的动作状态；和指令输出部，基于由上述监视部监视的上述流量调节装置的动作状态，对上述中间控制装置输出上述上位指令；
上述第1控制装置是上述中间控制装置；
上述第2控制装置是上述上位控制装置；
上述动作指令是上述上位指令。
14.如权利要求8～12中任一项所述的惰性气体供给方法，其特征在于，
上述惰性气体供给部是调节向收存在上述收存部中的上述容器供给的上述惰性气体的流量的流量调节装置；
上述惰性气体供给设备还具备：
中间控制装置，对上述流量调节装置输出流量控制指令，控制上述流量调节装置；和
上位控制装置，对上述中间控制装置输出上位指令；
上述上位控制装置具备：监视部，监视上述流量调节装置的动作状态；和指令输出部，基于由上述监视部监视的上述流量调节装置的动作状态，对上述中间控制装置输出上述上位指令；
上述第1控制装置是上述流量调节装置；
上述第2控制装置是上述中间控制装置；
上述动作指令是上述流量控制指令。
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106915609A (zh) * | 2015-11-17 | 2017-07-04 | 株式会社大福 | 容器输送设备 |
| CN112640584A (zh) * | 2018-08-28 | 2021-04-09 | 株式会社富士 | 气体供给判定方法和等离子体发生装置 |
Families Citing this family (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9645000B2 (en) * | 2013-03-05 | 2017-05-09 | Murata Machinery, Ltd. | Measurement device and purge gas flow rate measuring method |
| JP6217855B2 (ja) * | 2014-06-16 | 2017-10-25 | 村田機械株式会社 | パージ装置、パージシステム、パージ方法及びパージシステムにおける制御方法 |
| US9550219B2 (en) * | 2014-12-29 | 2017-01-24 | Daifuku Co., Ltd. | Apparatus of inhalation type for stocking wafer at ceiling and inhaling type wafer stocking system having the same |
| JP6451453B2 (ja) * | 2015-03-31 | 2019-01-16 | Tdk株式会社 | ガスパージ装置、ロードポート装置、パージ対象容器の設置台およびガスパージ方法 |
| JP6554872B2 (ja) * | 2015-03-31 | 2019-08-07 | Tdk株式会社 | ガスパージ装置、ロードポート装置、パージ対象容器の設置台およびガスパージ方法 |
| CN107924856B (zh) * | 2015-08-25 | 2021-05-28 | 村田机械株式会社 | 吹净装置、吹净储料器、以及吹净方法 |
| JP6414525B2 (ja) * | 2015-09-02 | 2018-10-31 | 株式会社ダイフク | 保管設備 |
| US10855971B2 (en) * | 2015-09-16 | 2020-12-01 | HashD, Inc. | Systems and methods of creating a three-dimensional virtual image |
| JP6551240B2 (ja) * | 2016-01-06 | 2019-07-31 | 株式会社ダイフク | 物品収納棚、及び、それを備えた物品収納設備 |
| JP6460015B2 (ja) * | 2016-03-07 | 2019-01-30 | 株式会社ダイフク | 容器搬送設備 |
| JP6610476B2 (ja) * | 2016-09-09 | 2019-11-27 | 株式会社ダイフク | 容器収納設備 |
| JP6760406B2 (ja) * | 2017-02-07 | 2020-09-23 | 村田機械株式会社 | ストッカ |
| KR101988361B1 (ko) | 2017-06-15 | 2019-06-12 | 버슘머트리얼즈 유에스, 엘엘씨 | 가스 공급 시스템 |
| US10703563B2 (en) * | 2017-11-10 | 2020-07-07 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Stocker |
| JP6856015B2 (ja) * | 2017-12-20 | 2021-04-14 | 株式会社ダイフク | 保管設備 |
| KR20200022682A (ko) * | 2018-08-23 | 2020-03-04 | 세메스 주식회사 | 버퍼 유닛, 그리고 이를 가지는 기판 처리 장치 및 방법 |
| CN111288292B (zh) * | 2020-03-28 | 2024-07-05 | 中国联合工程有限公司 | 一种货架式lng气瓶抽真空装置及抽真空方法 |
| JP7501498B2 (ja) | 2021-11-10 | 2024-06-18 | 株式会社ダイフク | 容器保管設備 |
| JP7501497B2 (ja) | 2021-11-10 | 2024-06-18 | 株式会社ダイフク | 容器保管設備 |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5988233A (en) * | 1998-03-27 | 1999-11-23 | Asyst Technologies, Inc. | Evacuation-driven SMIF pod purge system |
| US5997398A (en) * | 1995-12-01 | 1999-12-07 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Semiconductor wafer storage apparatus and semiconductor device fabricating apparatus using said apparatus |
| US6044874A (en) * | 1997-05-20 | 2000-04-04 | Sony Corporation | Sealed container and sealed container ambient gas substitution apparatus and method |
| JP2005019911A (ja) * | 2003-06-30 | 2005-01-20 | Trecenti Technologies Inc | 工程進捗管理システムおよび半導体装置の製造方法 |
| US20070147232A1 (en) * | 2005-12-27 | 2007-06-28 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Redundant supervisory control system, and redundancy switching method of the same |
| JP2008159734A (ja) * | 2006-12-22 | 2008-07-10 | Asyst Technologies Japan Inc | コンテナの搬送システム及び測定用コンテナ |
| JP2010182747A (ja) * | 2009-02-03 | 2010-08-19 | Dan Takuma:Kk | 保管システムおよび保管方法 |
| US20120096740A1 (en) * | 2009-06-30 | 2012-04-26 | Roylan Developments Limited | Apparatus for purging containers for storing sensitive materials |
Family Cites Families (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3866840B2 (ja) * | 1997-10-28 | 2007-01-10 | 三機工業株式会社 | 不活性ガス供給設備 |
| JP2000315107A (ja) * | 1999-05-06 | 2000-11-14 | Mitsubishi Electric Corp | 工程進捗管理装置及び工程進捗管理方法 |
| JP4181283B2 (ja) * | 1999-09-29 | 2008-11-12 | 株式会社日立製作所 | 障害検出通知方法及びインターネットワーク装置 |
| JP2003092345A (ja) * | 2001-07-13 | 2003-03-28 | Semiconductor Leading Edge Technologies Inc | 基板収納容器、基板搬送システム、保管装置及びガス置換方法 |
| JP3880343B2 (ja) * | 2001-08-01 | 2007-02-14 | 株式会社ルネサステクノロジ | ロードポート、基板処理装置および雰囲気置換方法 |
| JP4136451B2 (ja) * | 2002-05-22 | 2008-08-20 | 富士通株式会社 | Ｂｉｓｔ回路 |
| JP4027837B2 (ja) * | 2003-04-28 | 2007-12-26 | Ｔｄｋ株式会社 | パージ装置およびパージ方法 |
| JP2006040122A (ja) * | 2004-07-29 | 2006-02-09 | Toyoda Mach Works Ltd | プログラマブルコントローラ |
| JP3983254B2 (ja) * | 2005-06-24 | 2007-09-26 | Ｔｄｋ株式会社 | 製品収容容器用パージシステム及び該パージシステムに供せられる台 |
| JP2007226711A (ja) * | 2006-02-27 | 2007-09-06 | Hitachi Ltd | 集積回路装置、集積回路装置の診断方法、および診断回路 |
| JP4577663B2 (ja) * | 2008-03-04 | 2010-11-10 | Ｔｄｋ株式会社 | パージ制御装置及びそれを備えるロードボート装置 |
| JP5256810B2 (ja) * | 2008-03-24 | 2013-08-07 | 村田機械株式会社 | 保管庫装置及び保管庫付き搬送システム |
| JP4692584B2 (ja) | 2008-07-03 | 2011-06-01 | 村田機械株式会社 | パージ装置 |
| JP5404437B2 (ja) * | 2010-01-13 | 2014-01-29 | 株式会社東芝 | 安全出力装置 |
| JP5608409B2 (ja) * | 2010-04-23 | 2014-10-15 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 自己診断システム及び検査回路判定方法 |
| US8897914B2 (en) * | 2010-06-10 | 2014-11-25 | Murata Machinery, Ltd. | Conveyance system and method of communication in conveyance system |
| JP5440871B2 (ja) * | 2010-08-20 | 2014-03-12 | 株式会社ダイフク | 容器保管設備 |
| JP5494734B2 (ja) * | 2011-08-15 | 2014-05-21 | Ｔｄｋ株式会社 | パージ装置及び該パージ装置を有するロードポート装置 |
| JP2013042062A (ja) * | 2011-08-19 | 2013-02-28 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置及び半導体装置の製造方法 |
| JP6087161B2 (ja) * | 2012-02-03 | 2017-03-01 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板収容容器のパージ方法 |
| CN104603032B (zh) * | 2012-08-21 | 2016-12-07 | 村田机械株式会社 | 具备清洗功能的储料器、储料器单元以及洁净气体的供给方法 |
| US9257320B2 (en) * | 2013-06-05 | 2016-02-09 | GlobalFoundries, Inc. | Wafer carrier purge apparatuses, automated mechanical handling systems including the same, and methods of handling a wafer carrier during integrated circuit fabrication |
-
2013
- 2013-06-26 JP JP2013134271A patent/JP5874691B2/ja active Active
-
2014
- 2014-05-13 TW TW103116823A patent/TWI625813B/zh active
- 2014-05-26 KR KR1020140063032A patent/KR102204816B1/ko active Active
- 2014-06-02 SG SG10201402805UA patent/SG10201402805UA/en unknown
- 2014-06-18 US US14/308,039 patent/US9822929B2/en active Active
- 2014-06-25 CN CN201410287358.7A patent/CN104253068B/zh active Active
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5997398A (en) * | 1995-12-01 | 1999-12-07 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Semiconductor wafer storage apparatus and semiconductor device fabricating apparatus using said apparatus |
| US6044874A (en) * | 1997-05-20 | 2000-04-04 | Sony Corporation | Sealed container and sealed container ambient gas substitution apparatus and method |
| US5988233A (en) * | 1998-03-27 | 1999-11-23 | Asyst Technologies, Inc. | Evacuation-driven SMIF pod purge system |
| JP2005019911A (ja) * | 2003-06-30 | 2005-01-20 | Trecenti Technologies Inc | 工程進捗管理システムおよび半導体装置の製造方法 |
| US20070147232A1 (en) * | 2005-12-27 | 2007-06-28 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Redundant supervisory control system, and redundancy switching method of the same |
| JP2008159734A (ja) * | 2006-12-22 | 2008-07-10 | Asyst Technologies Japan Inc | コンテナの搬送システム及び測定用コンテナ |
| JP2010182747A (ja) * | 2009-02-03 | 2010-08-19 | Dan Takuma:Kk | 保管システムおよび保管方法 |
| US20120096740A1 (en) * | 2009-06-30 | 2012-04-26 | Roylan Developments Limited | Apparatus for purging containers for storing sensitive materials |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106915609A (zh) * | 2015-11-17 | 2017-07-04 | 株式会社大福 | 容器输送设备 |
| CN112640584A (zh) * | 2018-08-28 | 2021-04-09 | 株式会社富士 | 气体供给判定方法和等离子体发生装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW201508854A (zh) | 2015-03-01 |
| KR20150001614A (ko) | 2015-01-06 |
| JP2015012042A (ja) | 2015-01-19 |
| SG10201402805UA (en) | 2015-01-29 |
| JP5874691B2 (ja) | 2016-03-02 |
| US20150000785A1 (en) | 2015-01-01 |
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| US9822929B2 (en) | 2017-11-21 |
| TWI625813B (zh) | 2018-06-01 |
| CN104253068B (zh) | 2018-09-07 |
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