CN103962291A - 一种全方位uv涂料干燥机 - Google Patents
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Abstract
一种全方位UV涂料干燥机,包括底座上固定有机箱和位于机箱上方的烘干室;所述烘干室下端设有贯穿烘干室的平板输送机;烘干室的顶部设有若干个高汞紫外线灯;所述机箱内设有驱动电机,驱动电机的输出端通过联轴器与一传动箱连接,传动箱的输出端连接有一偏心轮,偏心轮通过连杆连接有一升降座;所述升降座沿平板输送机的两侧设有若干组竖直方向上的滑杆,烘干室两内侧壁上设有与滑杆配合的滑槽;滑杆在烘干室内上端部分的外侧设有高汞紫外线灯条。本发明应用偏心轮连杆升降原理,在烘干室侧壁形成动态的干燥光源,保证涂装层干燥的同时性和完整性;防止因干燥不均产生的细小纹路。保证了产品的质量。
Description
技术领域
本发明涉及一种干燥设备,具体为一种全方位UV涂料干燥机。
背景技术
现有的产品进行UV涂料涂装后大多是经过自然风干,自然风干耗时久,效率低,间接增加生产成本;干燥后表面硬度低,影响后续的加工,不利于产品质量的保证;有些产品经过UV涂料涂装后也会使用紫外线灯进行干燥,但这紧局限于一些板类的产品,但是对于一些形状不规则的产品,现有技术中的干燥设备很难保证UV涂料涂装后产品表面干燥的同时性和完整性,对产品的涂装质量有很大影响。
发明内容
本发明所解决的技术问题在于提供一种全方位UV涂料干燥机,可以对一些不规则的产品经过UV涂料涂装后进行全方位的干燥处理,保证涂装层干燥的同时性和完整性;防止因干燥不均产生的细小纹路,影响产品的涂装质量。
本发明所解决的技术问题采用以下技术方案来实现:
一种全方位UV涂料干燥机,包括底座上固定有机箱和位于机箱上方的烘干室;所述烘干室下端设有贯穿烘干室的平板输送机;烘干室的顶部设有若干个高汞紫外线灯;所述机箱内设有驱动电机,驱动电机的输出端通过联轴器与一传动箱连接,传动箱的输出端连接有一偏心轮,偏心轮通过连杆连接有一升降座;所述升降座沿平板输送机的两侧设有若干组竖直方向上的滑杆,烘干室两内侧壁上设有与滑杆配合的滑槽;滑杆在烘干室内上端部分的外侧设有高汞紫外线灯条。
进一步的,所述驱动电机为变频电机,其控制器与高汞紫外线灯和高汞紫外线灯条的控制开关总成为一体。
与现有技术相比,本发明应用偏心轮连杆升降原理,在烘干室侧壁形成动态的干燥光源,对一些不规则的产品经过UV涂料涂装后进行全方位的干燥处理,保证涂装层干燥的同时性和完整性;防止因干燥不均产生的细小纹路。保证了产品的质量。
附图说明
图1为本发明的结构示意图。
具体实施方式
为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体图示,进一步阐述本发明。
如图1所示的一种全方位UV涂料干燥机,包括底座10上固定有机箱9和位于机箱9上方的烘干室6;所述烘干室下端设有贯穿烘干室的平板输送机8;烘干室6的顶部设有若干个高汞紫外线灯5;所述机箱9内设有驱动电机1,驱动电机1的输出端通过联轴器与一传动箱12连接,传动箱12的输出端连接有一偏心轮7,偏心轮7通过连杆2连接有一升降座3,通过偏心轮7与连杆2的配合使用,带动升降座3在竖直方向上作水平运动;所述升降座3沿平板输送机8的两侧设有若干组竖直方向上的滑杆4,烘干室9两内侧壁上设有与滑杆4配合的滑槽;滑杆4在烘干室内上端部分的外侧设有高汞紫外线灯条11。
进一步的,所述驱动电机2为变频电机,其控制器与高汞紫外线灯5和高汞紫外线灯条11的控制开关总成为一体。
在使用时,本发明可以将通过平板输送机8进入烘干室6的不规则UV涂装产品进行全方位的表面烘干处理,在烘干过程中烘干室6两侧壁上的的LED灯条随着升降座的上下移动,形成动态干燥光源,对于不规则产品的各个死角,能够进行直接或是反射光照,确保了烘干质量。
以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解,本发明不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理,在不脱离本发明精神和范围的前提下,本发明还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
Claims (2)
1.一种全方位UV涂料干燥机,包括底座上固定有机箱和位于机箱上方的烘干室;所述烘干室下端设有贯穿烘干室的平板输送机;其特征在于:烘干室的顶部设有若干个高汞紫外线灯;所述机箱内设有驱动电机,驱动电机的输出端通过联轴器与一传动箱连接,传动箱的输出端连接有一偏心轮,偏心轮通过连杆连接有一升降座;所述升降座沿平板输送机的两侧设有若干组竖直方向上的滑杆,烘干室两内侧壁上设有与滑杆配合的滑槽;滑杆在烘干室内上端部分的外侧设有高汞紫外线灯条。
2.根据权利要求1所述的一种全方位UV涂料干燥机,其特征在于:驱动电机为变频电机,其控制器与高汞紫外线灯和高汞紫外线灯条的控制开关总成为一体。
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C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
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