CN103207420A - 显示装置及其复合光学膜及复合光学膜的制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提出一种复合光学膜，设置于一基板，基板具有一第一区域及一第二区域，第一区域邻设于第二区域，复合光学膜包括一第一光学膜及一第二光学膜。第一光学膜设置于一区域；第二光学膜设置于第一光学膜上及第二区域之上。本发明还提出一种显示装置及复合光学膜的制作方法。
Description
技术领域
本发明是关于一种显示装置及其复合光学膜及复合光学膜的制造方法。
背景技术
许多电子产品在现代人的生活中已是不可或缺的日常用品，且适应市场的激烈竞争以及消费者的要求不断提高，电子产品的外观也成为业者设计的重要考量之一。
请参照图1所示，其为一种已知的光学膜1示意图。于此，光学膜1例如为移动通讯装置中的光学膜。适应设计的考量，已知的光学膜1是设置于一基板10上，并包含多个相互叠合的光学膜层11、12。其中，这些光学膜层11、12例如可分别具有抗反射、或滤光等不同功能。
然而，于已知技术中，并无法适应不同区域的不同需求，来形成不同功能的光学膜层11、12。举例来说，在基板10上可分为第一区域A1以及第二区域A2，若欲于第二区域A2形成具有抗反射功能的光学膜层11、12，则于已知技术中，光学膜层11除了会设置于第二区域A2之外，还会设置在周围的第一区域A1，以形成一平坦的膜层；而光学膜层12也是如此，均会设置在第一区域A1及第二区域A2。
因此，已知的光学膜1于不同的区域中所具有的光学性质是相同的，无法适应不同区域具有不同的光学功能，而仅具有单一光学功能。
发明内容
有鉴于上述课题，本发明的目的为提供一种可具有复合光学功能的显示装置及其复合光学膜及复合光学膜的制造方法。
为达到上述目的，依据本发明的一种复合光学膜，设置于一基板，基板具有一第一区域及一第二区域，第一区域邻设于第二区域，复合光学膜包括一第一光学膜及一第二光学膜。第一光学膜设置于第一区域；第二光学膜设置于第一光学膜上及第二区域之上。
为达到上述目的，依据本发明的一种显示装置，包含一装置本体及一保护基板。保护基板设置于装置本体的一侧，保护基板具有一基板及一复合光学膜。基板具有一第一区域及一第二区域，第一区域邻设于第二区域。复合光学膜具有一第一光学膜及一第二光学膜，第一光学膜设置于第一区域，第二光学膜设置于第一光学膜上及第二区域之上。
为达到上述目的，依据本发明的一种复合光学膜的制造方法包含形成一第一光学膜于一基板的一第一区域，第一区域邻设于一第二区域周围；以一湿式制程形成一第二光学膜于第一光学膜上及第二区域之上。
承上所述，本发明的显示装置的复合光学膜系将一第一光学膜形成于一基板的一第一区域，再以一湿式制程形成一第二光学膜于第一光学膜上及第二区域之上。借此，本发明的复合光学膜可适应基板上不同的第一区域及第二区域，而具有不同的光学功能，故能增加复合光学膜的应用性，进而增加产品竞争力。
附图说明
为让本发明的上述目的、特征和优点能更明显易懂，以下结合附图对本发明的具体实施方式作详细说明，其中：
图1为一种已知的光学膜示意图；
图2为本发明较佳实施例的复合光学膜的制造方法的流程步骤图；
图3A及图3B为本发明较佳实施例的复合光学膜的制作过程示意图；
图4A及图4B为本发明较佳实施例的复合光学膜的另一态样制作过程示意图；
图5A至图5B为本发明较佳实施例的复合光学膜的不同态样示意图；
图6为本发明较佳实施例的显示装置的示意图；以及
图7为本发明较佳实施例的显示装置的另一态样示意图。
主要元件符号说明：
1：光学膜
10、41、41a：基板
11、12：光学膜层
2、2a～2e：复合光学膜
21、21a：第一光学膜
22、22a：第二光学膜
23：第三光学膜
24：第四光学膜
3、3a：显示装置
31：装置本体
4：保护基板
A1：第一区域
A2：第二区域
H1～H3：厚度
S01～S02：本发明的复合光学膜的制造方法的流程步骤
具体实施方式
以下将参照相关图式，说明依本发明较佳实施例的一种显示装置及其复合光学膜及复合光学膜的制造方法，其中相同的元件将以相同的元件符号加以说明。
请参照图2、图3A及图3B所示，其中图2为本发明较佳实施例的复合光学膜的制造方法的流程步骤图，图3A及图3B为本发明较佳实施例的复合光学膜的制作过程示意图。本发明较佳实施例的复合光学膜2的制造方法包含步骤S01及步骤S02。
请参照图2及图3A，步骤S01为形成一第一光学膜21于一基板41的一第一区域A1，第一区域A1邻设于一第二区域A2。基板41的材质包含高分子聚合物(例如聚对苯二甲酸乙二酯(PET))、金属或玻璃。第一光学膜21的材质包含氧化硅、氧化铝或氟化镁或其组合，其中氧化硅可以为二氧化硅(SiO2)、氧化铝可以为三氧化二铝(Al2O3)、氟化镁可以为二氟化镁(MgF2)。而第一光学膜21的折射率可介于1.3至1.7之间。又，第一光学膜21例如可利用干式制程或湿式制程形成，干式制程例如物理气相沉积(Physical VaporDeposition，PVD)及化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition，CVD)等，湿式制程例如为浸泡涂布(dip coating)、狭缝涂布(slit coating)、旋转涂布(spincoating)及喷雾涂布(spray coating)等，第一光学膜21的形成方式于此不予以限制。而为了形成第一光学膜21位于第一区域A1的图案，例如可利用遮罩方式遮挡第二区域A2或利用可拨胶(peelable mask)技术来形成。再者，如欲形成高解析度的图案于第一区域A1，亦可使用黄光制程。
如图2及图3B所示，步骤S02为以一湿式制程形成一第二光学膜22于第一光学膜21上及基板41的第二区域A2。湿式制程包含浸泡涂布、狭缝涂布、旋转涂布及喷雾涂布等，于此不予以限制。第二光学膜22的材质包含氮化硅、氧化钛、氧化铌或氧化钽或其组合，其中氮化硅可以为四氮化三硅(Si3N4)、氧化钛可以为二氧化钛(TiO2)、氧化铌可以为五氧化二铌(Nb2O5)、氧化钽可以为五氧化二钽(Ta2O5)。而第二光学膜22的折射率可介于1.8至2.4之间。因此，可利用湿式制程并借由其流平的特性来形成第二光学膜22，并可使第二光学膜22形成一平坦化层，也就是第二光学膜22的上表面为平坦的。再者，于本实施例中，复合光学膜2位于第一区域A1的第一光学膜21及第二光学膜22的厚度加总H1+H2，与复合光学膜2位于第二区域A2的第二光学膜22的厚度H3差小于H1+H2的20％，且第一光学膜21的厚度H1及第二光学膜22的厚度H2或H3可介于1纳米至1微米之间，而H1、H2或H3较佳实施例范围则为1纳米至300纳米之间。
因此，本实施例的复合光学膜2位于第一区域A1的色度、穿透率、反射率或折射率可与位于第二区域A2不同。于此，第一区域A1可为高反射区，在可见光(380～780nm)下，反射率约可达60％，可以搭配装饰镀膜技术的应用；而第二区域A2系可为抗反射区，在可见光(380～780nm)下，反射率约可低达1.2％。借此，本实施例的复合光学膜2可适应第一区域A1及第二区域A2所需的不同光学功能，而分别形成不同功能的光学膜。
如图4A至图4B所示为本发明较佳实施例的复合光学膜的另一态样制作过程示意图。同样的，先形成第一光学膜21a于基板41a的第一区域A1，第一区域A1可围设第二区域A2，或第二区域A2围设第一区域A1。于此，以第一区域A1围设于第二区域A2的周围为例。接着，以湿式制程形成第二光学膜22a于第一光学膜21a上及基板41a的第二区域A2之上。再者，同样的，于本实施例中，复合光学膜2a位于第一区域A1的第一光学膜21a及第二光学膜22a的厚度加总H1+H2，与复合光学膜2a位于第二区域A2的第二光学膜22a的厚度H3差系小于H1+H2的20％，且第一光学膜21a的厚度H1及第二光学膜22a的厚度H2或H3可介于1纳米至1微米之间，而H1、H2或H3较佳实施例范围则为1纳米至300纳米之间。
因此，本实施例的复合光学膜2a位于第一区域A1的色度、穿透率、反射率或折射率可与位于第二区域A2不同。
另外，请参照图5A所示，其为本发明较佳实施例的复合光学膜的另一态样示意图。复合光学膜2b更可形成一第三光学膜23于第一区域A1的第二光学膜22a之上，而第三光学膜23可与第一光学膜21a的材质相同或不相同。因此，可借由第三光学膜23来加强第一区域A1的光学功能，以增加复合光学膜2b的应用范围。
又，请参照图5B所示，其为本发明较佳实施例的复合光学膜的又一态样示意图。复合光学膜2c更可形成一第四光学膜24于第一区域A1的第三光学膜23上及第二区域A2的第二光学膜22a之上。而第四光学膜24可与第二光学膜22a的材质相同或不相同，借由第四光学膜24可再加强第二区域A2的光学功能。
因此，依需求第一区域A1及第二区域A2可形成多个的光学膜。多个光学膜的各层光学膜形成位置可以先于第一区域A1形成光学膜，再形成同时覆盖第一区域A1及第二区域A2的光学膜，并重复此顺序叠构而成。而多个光学膜的各层光学膜叠构顺序亦可穿插先于第二区域A2形成光学膜，再形成同时覆盖第一区域A1及第二区域A2的光学膜。因此，多个光学膜的叠构方式于此不予以限制。
请参照图6所示，其为本发明较佳实施例的显示装置的示意图。显示装置3例如可为一触控显示装置、一液晶显示装置、一有机发光二极管显示装置或一电子纸显示装置。显示装置3包含一装置本体31及一保护基板4，保护基板4具有基板41a及复合光学膜2d。于此，复合光学膜2d可以采用复合光学膜2a、2b或2c的方式形成，则保护基板4可成为一装饰玻璃，即于第一区域A1形成高反射区，其对应显示装置的非有源显示区(black matrix area)，在可见光(380～780nm)下，反射率约可达60％，可以搭配装饰镀膜技术的应用；而第二区域A2系形成抗反射区，其对应显示装置的有源显示区(active area)，在可见光(380～780nm)下，反射率约可低达1.2％。保护基板4可再与装置本体31(例如为触控显示面板或显示面板)连接，以成为例如移动通讯装置、触控移动通讯装置或触控平板电脑等的显示装置。
请参照图7所示，其为本发明较佳实施例的显示装置的另一态样示意图。于此，显示装置3a例如可为移动通讯装置的显示装置，则第一区域A1的复合光学膜2e例如可为红外光(波长大于700纳米)接收区，而第一区域A1的红外光穿透率大于90％，以作为手机红外线接收孔。位于第二区域A2的复合光学膜2e可为抗反射区，第二区域A2反射率约为2.7％。于此，复合光学膜2e可以采用复合光学膜2a、2b或2c的方式形成。再者，更可有一第三区域(图未表示)，围设于第二区域A2的周围以搭配装饰镀膜技术的应用。借此，可增加复合光学膜2e的应用范围。
综上所述，本发明的显示装置的复合光学膜系将一第一光学膜形成于一基板的一第一区域，再以一湿式制程形成一第二光学膜于第一光学膜上及基板的第二区域之上。借此，本发明的复合光学膜可对应基板上不同的第一区域及第二区域，而具有不同的光学功能，故能增加复合光学膜的应用性，进而增加产品竞争力。
虽然本发明已以较佳实施例揭示如上，然其并非用以限定本发明，任何本领域技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作些许的修改和完善，因此本发明的保护范围当以权利要求书所界定的为准。
Claims (20)
1.一种复合光学膜，设置于一基板，该基板具有一第一区域及一第二区域，该第一区域邻设于该第二区域，包括：
一第一光学膜，设置于该第一区域；以及
一第二光学膜，设置于该第一光学膜上及该第二区域之上。
2.如权利要求1所述的复合光学膜，其特征在于，位于该第一区域的该第一光学膜及该第二光学膜的厚度加总与位于该第二区域的该第二光学膜的厚度差小于该第一区域的该第一光学膜及该第二光学膜的厚度加总的20％。
3.如权利要求1所述的复合光学膜，其特征在于，该复合光学膜于该第一区域的光学特性是与于该第二区域不同。
4.如权利要求1所述的复合光学膜，其特征在于，该第一光学膜的厚度介于1纳米至1微米之间，该第二光学膜的厚度介于1纳米至1微米之间。
5.如权利要求1所述的复合光学膜，其特征在于，该第二光学膜为一平坦化层。
6.如权利要求1所述的复合光学膜，其特征在于，该第二光学膜是以湿式制程形成。
7.如权利要求1所述的复合光学膜，还包含：
一第三光学膜，设置于该第一区域或该第二区域的该第二光学膜之上。
8.一种复合光学膜的制造方法，包含：
形成一第一光学膜于一基板的一第一区域，该第一区域邻设于一第二区域；以及
以一湿式制程形成一第二光学膜于该第一光学膜上及该第二区域之上。
9.如权利要求8所述的制造方法，还包含：
形成一第三光学膜于该第一区域或该第二区域的该第二光学膜之上。
10.一种显示装置，包括：
一装置本体；以及
一保护基板，设置于该装置本体的一侧，该保护基板包括：
一基板，具有一第一区域及一第二区域，该第一区域邻设于该第二区域；及
一复合光学膜，具有一第一光学膜及一第二光学膜，该第一光学膜设置于该第一区域，该第二光学膜设置于该第一光学膜上及该第二区域之上。
11.如权利要求10所述的显示装置，其特征在于，位于该第一区域的该第一光学膜及该第二光学膜的厚度加总与位于该第二区域的该第二光学膜的厚度差是小于该第一区域的该第一光学膜及该第二光学膜的厚度加总的20％。
12.如权利要求10所述的显示装置，其特征在于，该复合光学膜于该第一区域的光学特性是与于该第二区域不同。
13.如权利要求10所述的显示装置，其特征在于，该第一区域围设该第二区域。
14.如权利要求13所述的显示装置，其特征在于，该第一光学膜的折射率介于1.3至1.7之间。
15.如权利要求13所述的显示装置，其特征在于，该第二光学膜的折射率介于1.8至2.4之间。
16.如权利要求10所述的显示装置，其特征在于，该第二区域围设该第一区域。
17.如权利要求10所述的显示装置，其特征在于，该第一光学膜的厚度介于1纳米至1微米之间，该第二光学膜的厚度介于1纳米至1微米之间。
18.如权利要求10所述的显示装置，其特征在于，该第二光学膜为一平坦化层。
19.如权利要求10所述的显示装置，其特征在于，该第二光学膜系以湿式制程形成。
20.如权利要求10所述的显示装置，其特征在于，该复合光学膜还具有：
一第三光学膜，设置于该第一区域或该第二区域的该第二光学膜之上。
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|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20130717 |