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CN103140155B - 淋浴头组件 - Google Patents

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CN103140155B
CN103140155B CN201180046920.1A CN201180046920A CN103140155B CN 103140155 B CN103140155 B CN 103140155B CN 201180046920 A CN201180046920 A CN 201180046920A CN 103140155 B CN103140155 B CN 103140155B
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Abstract

一种淋浴头组件，包括：第一流体分配单元，其包括多个第一射流装置；以及第二流体分配单元，其以可拆除方式耦接到所述第一流体分配单元而且包括多个第二射流装置。所述第一射流装置和所述第二射流装置各自提供多维喷雾图案。

Description

淋浴头组件
技术领域
本发明大体涉及淋浴头，且确切地说，涉及包括多维流体分配器的淋浴头组件。
背景技术
已知淋浴头组件用于通过喷嘴等出口对水进行分配，从而在沐浴区内产生喷水。某些此种淋浴头组件包括一些机械装置，用于调节从出口分散出来的喷水。已知也可以提供一种包括手握式淋浴器的淋浴头组件，所述淋浴头组件可以引导喷水与底座或固定的淋浴头分离。手握式淋浴器可以以可拆除方式安装或对接到固定的淋浴头，其中水可以通过淋浴头和手握式淋浴器输送到沐浴区。例如，此种淋浴头组件在列夫（Lev）的第7,360,723号美国专利、列夫（Lev）的第7,665,676号美国专利以及吉诺德（Genord）等人的第2009/0007330号美国专利申请案中有所描述。
发明内容
根据本发明的一项说明性实施例，提供一种淋浴头组件，该组件包括多个多维射流装置，用于提供多维喷雾图案。在一项说明性实施例中，淋浴头组件包括以可拆除方式耦接到底座淋浴头的手握式淋浴器。多个二维（2D）射流装置由手握式淋浴器支撑，而且经配置以使水围绕中心轴振荡，从而在平面内生成水扇。多个三维（3D）射流装置由底座淋浴头支撑，而且经配置以使水在平面中的每个平面内围绕相应中心轴发生振荡，从而在发散平面内生成多个水扇。
根据本发明的另一项说明性实施例，淋浴头组件包括：第一流体分配单元，其包括多个第一射流装置；以及第二流体分配单元，其以可拆除方式耦接到所述第一流体分配单元而且包括多个第二射流装置。所述第一射流装置和所述第二射流装置各自提供多维喷雾图案。
根据本发明的又一项说明性实施例，淋浴头组件包括：底座；以及以可拆除方式耦接到所述底座的手握式淋浴器。多个二维射流装置由手握式淋浴器支撑，而且经配置以使水围绕中心轴振荡，从而在平面内生成水扇。流量控制阀经配置以对输送到二维射流装置的水的流速进行控制，所述二维射流装置由手握式淋浴器支撑。
所属领域的一般技术人员可以通过仔细考虑下述对说明性实施例的详细说明来清楚地了解本发明的其他特征和优点，其中所述说明性实施例举例说明了目前公认的实施本发明的最佳方式。
附图说明
对图式的详细描述尤其参考以下附图，其中：
图1为本发明的说明性淋浴头组件的透视图，示出了与底座淋浴头对接的手握式淋浴器；
图2为图1中说明性手握式淋浴器组件的透视图，示出了与底座淋浴头分开的手握式淋浴器；
图3为沿着图1中的线3-3截取的截面图；
图4为沿着图1中的线4-4截取的截面图；
图5为图1中说明性淋浴头组件的平面正视图；
图6A和图6B为图1中底座淋浴头的分解透视图；
图7为沿着图5中的线7-7截取的底座淋浴头水路的截面图；
图8A为图7中水路的细节图；
图8B为图7中水路的进一步的细节图；
图9为图1中手握式淋浴器的正面分解透视图；
图10为图1中手握式淋浴器的后方部分分解透视图；
图11为沿着图5中的线11-11截取的手握式淋浴器水路的截面图；
图12为由本发明的二维射流装置进行分配的水的局部透视示意图；
图13A为由本发明的三维射流装置进行分配的水的局部透视示意图；
图13B为由图13A中三维射流装置进行分配的水的局部俯视平面示意图；
图13C为由图13A中三维射流装置进行分配的水的局部侧面示意图；
图14为又一说明性淋浴头的放大的正面透视图；
图15为沿着线15-15截取的图14所示淋浴头的截面图；
图16为沿着线16-16截取的图15所示淋浴头的截面图；
图17为图14中淋浴头的分解透视图；
图18为说明性淋浴头组件的透视图，示出了手握式淋浴器与底座淋浴头之间的又一对接布置；
图19为图18中说明性手握式淋浴器组件的部分分解透视图，示出了与底座淋浴头和手握式淋浴器的内部水路部件分开的手握式淋浴器，为了清晰起见，将手握式淋浴器的内部水路部件移除。
图20A为图19中说明性手握式淋浴器组件的截面图，示出了耦接到底座淋浴头的手握式淋浴器；
图20B为类似于图20A的截面图，示出了部分与底座淋浴头分开的手握式淋浴器；
图21A为盘式磁体磁场的说明性磁通线的示意图；
图21B为支架元件（backing element）内所容纳的盘式磁体磁场的说明性磁通线的示意图；
图22为包括流量控制阀的说明性淋浴头组件的透视图；
图23A为图22中淋浴头组件的部分截面图，示出了在低流速模式下的流量控制阀；
图23B为类似于图23A的部分截面图，示出了在高流速模式下的流量控制阀；
图24为图22中流量控制阀的分解透视图；
图25为本发明的又一说明性淋浴头组件的平面正视图；
图26为本发明的又一说明性淋浴头组件的平面正视图；
图27为本发明的又一说明性淋浴头组件的平面正视图；以及
图28为本发明的又一说明性淋浴头组件的平面正视图。
具体实施方式
本文所述的本发明的实施例并不用于彻底说明，或者将本发明限于所揭示的精确形式。事实上，为此番描述而选出的实施例的目的是为了使所属领域的技术人员能够实践本发明。
首先参考图1和图2，淋浴头组件10示范性地包括第一流体分配单元12和第二流体分配单元14，所述第二流体分配单元14以可拆除方式耦接到第一流体分配单元12。说明性地，第一流体分配单元12包括固定的或底座淋浴头，其经配置以得到用户（通常称为顶喷）上方的浴室墙壁（未示出）的支撑。第二流体分配单元14说明性地包括手动杆或手握式淋浴器。手握式淋浴器14以可拆除方式与底座淋浴头12耦接或对接。供水系统22将水供应到所述底座淋浴头12和可拆除手握式淋浴器14。
供水系统22通过流体连接器24与淋浴头组件10流体连通。参考图3、图4和图6B，流体连接器24说明性地包括浴球（shower ball）26以及容纳在滚珠垫圈30与滚珠连接器32之间的环首螺钉28。浴球26使淋浴头12能够围绕正交轴进行旋转运动。浴球26中的内螺纹36促进与导管或立管40（图1和图3示出）的外螺纹38进行连接，所述导管或立管40由浴室墙壁（未示出）支撑。如本文进一步详述，可以提供限流器来对从供水系统22进入淋浴头组件10中的水的流速进行限制。
在图1和图2的说明性实施例中，底座淋浴头12包括弧形外壳44，所述弧形外壳与中心凹槽或开口46形成圆环，所述中心凹槽或开口46配置成以可拆除方式容纳手握式淋浴器14。外壳44说明性地包括前饰板（front trim）48，所述前饰板通过多个弹性锁闩舌片52（图6A示出）耦接到后饰板（rear trim）50。发动机组件54容纳在外壳44内。
参考图6A、图6B和图7，发动机组件54说明性地包括水路56，所述水路56通过多个螺钉60紧固到喷水面58。密封垫62在水路56与喷水面58之间提供密封。水室63形成于水路56与密封垫62之间（图8A示出）。在某些其他实施例中，水路56和喷水面58可以通过使它们密封的其他方式耦接在一起，包括通过粘合剂或热板焊进行耦接，从而消除对螺钉60以及密封垫62的需求。
参考图3和图6A，水路56说明性地包括入口64，所述入口64通过一对管臂68、70与弧形构件66流体连通。入口64支撑流体连接器24。螺母34将后饰板50紧固到入口64。管状构件72由水路56支撑，而且可以通过挠性软管74（图3示出）与手握式淋浴器14流体连通。限流器75可以在靠近入口64的后端处得到支撑，而且经配置以将穿过其中的水流速率限制为不超过预定值。在一项说明性实施例中，限流器75将水流速率限制为不超过2.5加仑/分钟（gpm）。在另一项说明性实施例中，根据美国国家环境保护局（U.S.EnvironmentalProtection Agency）在2010年3月4日发行的淋浴头的节水规范（WaterSenseSpecification for Showerheads）（可在网站http://www.epa.gov/watersense/docs/showerheads_finalspec508.pdf获得），限流器75将流速限制为不超过2.0加仑/分钟（gpm）。
插塞76和O形环78可以对入口64的前端进行密封。插塞76可以使用常规耦合器紧固到入口64，所述常规耦合器例如，弹性指针、螺纹或卡口式联接器。或者，插塞76可以通过粘合剂或热板焊进行耦接等方式密封地紧固到入口64的前端，从而消除对O形环78的需求。
参考图4和图6B，分流阀80由水路56支撑，而且经配置以将选择性的或组合的水流供应给底座淋浴头12和手握式淋浴器14或其中一者。分流阀80说明性地包括控制构件82，所述控制构件82耦接到旋钮84，以随着旋钮84一起旋转。控制构件82通过固定夹85说明性地以可旋转方式耦接到入口64。控制构件82与密封垫86配合，以选择性地将水引导至管臂68、70（以及淋浴头12的喷水面58）和/或管状构件72（以及手握式淋浴器14）。由于弹簧90而偏离的插销88选择性地将控制构件82锁定在三个位置中的一个位置，每个位置都从相邻位置偏移45度。在第一位置，通过分流阀80将水流引导至淋浴头12的喷水面58。在第二位置，将水流引导至管状构件72和手握式淋浴器14。在第三位置，将水流引导至（淋浴头12的）喷水面58和（通过软管74）将水流引导至管状构件72（以及手握式淋浴器14）。
多个多维流体分配器或射流装置92由喷水面58支撑，而且与水路56的水室63流体连通。如本文进一步详述，多维射流装置经配置以生成至少在二维中运动的水流或水柱。每个射流装置92说明性地容纳在外壳94内，而外壳94容纳在一个突出部分或凸起部96内，其中突出部分或凸起部96形成于喷水面58中。说明性地，射流装置92的大小经过设置，以压入配合到外壳94内，且外壳94的大小经过设置，以压入配合到凸起部96内。外壳94也可以以超声波方式焊接到凸起部96。
参考图7至图8B，形成于水路56与密封垫62之间的水室63经配置以有效地将腔室63的体积最小化，从而提高射流装置92对水流活动的响应性（即，“快速打开”所有射流装置92）。密封垫62保持在水路56的外向表面或基座98与喷水面58的内向表面或基座100之间。说明性地，射流装置92从喷水面58得到大体向外的支撑。如图8A的说明性实施例中所示，射流装置92的入口102支撑为与喷水面58的基座100大体齐平（即，大体在相同平面内）。凸起部96从基座100向前延伸，从而在密封垫62与水路56的基座98之间提供大体恒定的横截面流动区域。换言之，射流装置92之间的水室63的体积未产生较大变化。在说明性实施例中，密封垫62与基座98之间的尺寸“a”（图8B示出）约为0.080英寸，从而使射流装置92对水活动作出快速响应，而射流装置92的入口102之间的尺寸“b”（图8A示出）约为0.120英寸，从而将适当的水流提供给射流装置92，且使射流装置92运行。
前饰板48包括弧形外部或环104，所述弧形外部或环104得到喷水面58的向前支撑。前部48和发动机组件54配合以形成中心凹槽46，所述中心凹槽46经配置以容纳出口部分或手握式淋浴器14的喷头外壳108。相对面110a、110b形成下槽112，以容纳手握式淋浴器14的手柄114。说明性地由合成橡胶制成的一对相对的缓冲器116a、116b可以有助于将手柄114保持在槽112内的合适位置。在本文进一步详述的某些说明性实施例中，至少一个磁体118可以由前饰板48的后壁120支撑，而且配置成以可拆除方式将手握式淋浴器14紧固到底座淋浴头12。
尽管说明性实施例中，发动机组件54和前饰板48用与下槽112一起形成半圆来显示，但也可以使用其他配置来将其替代。例如，发动机组件54和前饰板48可以采用其他多边形形式，例如，矩形和三角形。下文参考图25至图28对其他配置进行详细描述。
参考图3、图9、图10和图11，手握式淋浴器14说明性地包括壳体130，所述壳体130形成手柄114和喷头外壳108。水路132容纳在手柄114中，且与水路适配器134流体连通，所述水路适配器134与水路132之间具有O形环133。水路适配器134配置成与挠性软管74流体连通，所述挠性软管74延伸到淋浴头12的入口64。密封构件135位于适配器134与手柄114之间。手握式淋浴器发动机136容纳在喷头外壳108内，而且与水路132流体连通。
手握式淋浴器发动机136说明性地包括手握式淋浴器发动机水路138，水路138耦接到手握式淋浴器发动机喷水面140（图10和图11示出）。一对同心O形环142和144说明性地位于水路138和喷水面140中间，以便使它们密封接合。水路室145形成于水路138与喷水面140之间。多个螺钉146说明性地将喷水面140耦接到水路138。在某些其他实施例中，水路138和喷水面140可以通过使它们密封的其他方式耦接在一起，包括通过粘合剂或热板焊进行耦接，从而消除对螺钉146以及O形环142和144的需求。
螺钉148等的紧固件可以将手握式淋浴器发动机136耦接到壳体130。外盖或饰板150说明性地耦接到喷头外壳108。水路138包括开口152，所述开口152与水路132的出口154流体连通，而且通过O形环156与之密封。金属垫圈158等的吸磁构件说明性地由外壳108的前表面160支撑，而且经配置以被淋浴头12的磁体118吸引。
喷水面140包括多个突出部分或凸起部162，这些突出部分或凸起部162形成腔室164，以容纳多维流体分配器或射流装置166。饰板150包括开口168，所述开口168与射流装置166的出口169对齐，以容纳从射流装置166分散出来的水。说明性地，装置166的大小经过设置，以压入配合到凸起部162的腔室164内。在又一说明性实施例中，外壳（未示出）可以支撑凸起部162内的射流装置166。
参考图11，正如淋浴头12的水室63那样，形成于水路138与喷水面140之间的水路室145经配置以有效地将腔室145的体积最小化，从而提高射流装置166对水流活动的响应性（即，“快速打开”所有射流装置166）。说明性地，射流装置166从喷水面140得到大体向外的支撑，以使得射流装置166的入口170与喷水面140的向内表面172大体处于同一水平（即，大体在相同平面内）。尽管在图11中，鉴于O形环142和144的密封配置，入口170从喷水面140的表面172向内偏移，但是应注意，在去除O形环142和144的配置中，入口170和表面172可以大体齐平。凸起部162从表面172向前延伸，从而在水路室145内形成大体恒定的横截面流动区域。换言之，从入口到射流装置166的水室145的体积未产生较大变化。进一步参考图11，水路138与表面172之间的尺寸“c”约为0.2英寸，而水路138与射流装置166的入口170之间的尺寸“d”约为0.120英寸，从而将适当的水流提供给射流装置166，且在使射流装置166运行的同时，促进其快速作出响应。
如上所述，底座淋浴头12和可拆除的手握式淋浴器14分别包括多维射流装置92和166，以提供多维喷雾图案。说明性地，射流装置92和166为低压式反馈通道自由的射流振荡器，它采用扇角形来进行图案化喷雾分布和/或使水喷雾连贯起来。说明性地，射流装置92和166可以属于由美国马里兰州哥伦比亚（Columbia,Maryland,USA）的鲍尔斯应用流体学公司（Bowles Fluidics Corporation）制造的类型。
参考图12，射流装置166说明性地为二维（2D）射流装置或喷嘴，经配置以通过使水流178围绕中心轴180振荡而在平面176内生成水扇174。所得到的喷雾181以截面示为一条直线。典型的2D射流装置166包括以下表格中详述的说明性特征。
2D射流装置
2D射流装置
最小喷嘴压力为用于使射流装置166正常运行（即，使水流178振荡）而建议的最小水压。各种压力下的喷嘴流由等式进行限定，其中Q为穿过喷嘴的流速，Cv为喷嘴速率的系数，而ΔP为喷嘴上发生的压力变化。例如，水压为4磅/平方英寸（psi）时，通过进行以下计算：确定喷嘴流为0.219加仑/分钟（gpm）。
参考图13A至图13C，射流装置92说明性地为三维（3D）射流装置或喷嘴，其经配置以生成一对相互作用的水扇182a、182b。通常，每个3D射流装置92都包括以平行于彼此的方式设置的一对相邻的2D射流装置166。此外，可以通过将两个2D射流装置166相结合来生成3D效果，所述两个2D射流装置166起初具有会聚的水扇182a、182b，当这两个水扇在接近中心平面184处接触时，将远离彼此向外射出。说明性地，形成水扇182a、182b的方法是，使水流186a、186b在起初的会聚平面190a、190b内围绕相应中心轴188a、188b发生振荡。在会聚点192上，水扇182a、182b在发散平面194a、194b中远离彼此射出，从而在远离中心平面184的方向上移动。所得到的喷水196说明性地形成矩形截面。
典型的3D射流装置92包括以下表格中详述的说明性特征。
3D射流装置
3D射流装置
最小喷嘴压力为用于使射流装置92正常运行（即，使水流186a、186b振荡）而建议的最小水压。各种压力下的喷嘴流由等式进行限定，其中Q为穿过喷嘴的流速，Cv为喷嘴速率的系数，而ΔP为喷嘴上发生的压力变化。例如，水压为4磅/平方英寸（psi）时，通过进行以下计算：确定喷嘴流为0.291加仑/分钟（gpm）。
射流装置92和166的数目（包括2D射流装置166与3D射流装置92的比率）、布置和相对定向可以根据水的流速（由限流器75进行限制）、射流装置的运行压力、预期任务和用户偏好而有所不同。在图5所示的说明性实施例中，五个（5）2D射流装置166支撑在手握式淋浴器14内，而六个（6）射流装置92支撑在底座淋浴头12内。射流装置166、92的此种数目提供充足的喷水181和196，其中入口处流速降低到2.0gpm。手握式淋浴器14内的2D射流装置166为清洗任务提供强有力的喷水181，而底座淋浴头12内的3D射流装置92提供更柔和或均热的喷水196。将2D射流装置166和3D射流装置92结合运行能够提供中等力度的喷水。尽管射流装置166和92定向成提供具有第一或主要尺寸的喷水196、181，所述喷水相切于从相应手握式淋浴器14和淋浴头12（图5示出）的中心延伸的半径而延伸，但是可以根据用户偏好（例如，相对于喷水196、181的沐浴区大小）选择其他定向。
根据上文详述的射流装置特征，可以计算出所需的流速，从而通过射流装置92、166的典型组合来获得特定的水压。如本文中详述，对于说明性实施例中的可拆除手握式淋浴器14，提供了五个（5）2D射流装置166。根据射流装置166的特征，在3.5psi下，需要1.025gpm（5x0.205gpm）的流速。类似地，对于说明性实施例中的底座淋浴头12，提供了六个（6）3D射流装置92。根据射流装置92的特征，在3.5psi下，需要1.632gpm（6x0.272gpm）的流速。
类似的计算可以用于确定混合发动机（在单个手握式淋浴器14或底座淋浴头12中，2D和3D射流装置166、92的组合）所需的流速。例如，在3.5psi下，六个（6）2D射流装置166需要1.23gpm（6x0.205gpm）的流速，而在3.5psi下，五个（5）3D射流装置92需要1.36gpm（5x0.272gpm）的流速。因此，所需要的总流速为2.59gpm（用于2D射流装置166的1.23gpm，加上用于3D射流装置92的1.36gpm）。
现参考图14至图17，示出了又一说明性淋浴头214，所述淋浴头214包括由前壳体218形成的外壳216，所述前壳体218说明性地通过热板焊或粘合剂等传统方式耦接到后壳体220。饰板说明性地为面板或外盖222，其可以耦接到前壳体218。后壳体220说明性地形成与供水系统流体连通的入口224。水路226形成于前壳体218和后壳体220的中间，而且与入口224流体连通。
多个射流装置92、166由前壳体218支撑，而且与水路226流体连通。说明性地，两个（2）3D射流装置92和六个（6）2D射流装置166由前壳体218支撑。每个3D射流装置92说明性地容纳在外壳94内，而每个2D射流装置166说明性地容纳在外壳167内。
为了防止水路226内的水喷射或略过入口170到达2D射流装置166，挡板230由后壳体216支撑。每条挡板230都包括后壁232和一对在水路226内延伸的侧壁234，所述水路226部分围绕相应2D射流装置166的三个侧面。可以了解，挡板230有助于将水引导至相应射流装置166的入口170。
参考图18至图20B，示出了喷头12'与底座淋浴头14'的说明性对接或耦接布置。环104'形成对接环（docking collar）250，所述对接环250配置成以可拆除方式容纳喷头12'的手柄114'的颈部252。具体而言，对接环250包括前表面254和相对的侧表面256，所述侧表面256向内以及向下逐渐变细，从而与颈部252的外表面258的轮廓相配合。
多个磁体118说明性地由淋浴头14'的后壁120支撑，而且配置成以可拆除方式将手握式淋浴器14'紧固到底座淋浴头12'。具体而言，磁体118与吸磁构件260磁性耦接，所述吸磁构件260由壳体130'的后壁259支撑。图20A示出与淋浴头12'完全对接的手握式淋浴器14'，其中手握式淋浴器14'的颈部252容纳在喷头12'的对接环250内，而且手握式淋浴器14'的吸磁构件260与喷头12'的磁体118磁性耦接。图20B示出部分与喷头12'分开的手握式淋浴器14'，其中手握式淋浴器14'的手柄114'相对于对接环250向上以及向外移动，而且手握式淋浴器14'的吸磁构件260与喷头12'的磁体118脱离。
磁体118可以包括能产生磁场的任何传统材料，例如，通常称为钕的永磁体材料NdFeB。吸磁构件260可以包括吸引到磁场的任何材料，所述材料包括其他磁体和金属，例如，钢片或垫圈。为了防止由于水分而造成的腐蚀，磁体118和吸磁构件260都可以包括保护涂层或电镀层。在另一项实施例中，外壳44'可以部分或完全包覆（overmold）在磁体118周围，而壳体130'可以部分或完全包覆在吸磁构件260周围。外覆模经配置以保护连接元件118和260，以防所述连接元件由于与包括水的流体接触而造成腐蚀。
尽管图19示出以三角形结构进行布置的三个磁体118，但是磁体118的任何合适的数目和/或结构都可以对其进行替代。例如，可以在淋浴头12'上提供单个磁体118，而且可以在手握式淋浴器14'上提供单个配合的吸磁构件260。在替代性实施例中，一对磁体118可以在淋浴头12'上垂直对齐，而一对配合的吸磁构件260可以在手握式淋浴器14'上垂直对齐。在说明性实施例中，至少一个磁体118位于淋浴头12'的后壁120的下部，从而通过减小施加到手柄114'上所得到的力矩臂来对抗施加到手握式淋浴器14'上的拉力。
参考图19至图21B，每个磁体118都可以有效地耦接到支架元件262内。说明性地，支架元件262包括杯状物，所述杯状物包括基盘（base disc）264和圆柱形侧壁266。支架元件262可以增加磁性联接器的吸引力。现参考图21A和图21B，两个磁场的磁通密度示意地由磁通线274a和274b表示。图21A示出典型的磁体118，其具有从连接其北极和南极的表面270、271、272延伸的磁通线274a。间隔的表面270、272限定磁体118的厚度。在中心线276上，分别以距离D1垂直远离表面270和272定位的点PN1和PS1处，磁场等于F高斯。
图21B示出磁体118，所述磁体118耦接到支架元件262而且具有磁通线274b，所述磁通线274b从表面270、271开始，穿过支架元件262，延伸到连接其南极和北极的表面271、272。在中心线276上，分别以对应距离D2和D3垂直远离表面270和272定位的点PN2和PS2处，磁场也具有一个等于F高斯的值。D2大于D1和D3，这意味着磁场强度由于增加支架元件262而发生变化，而且支架元件262增加以距离D1垂直远离表面270的点PN1处的磁场强度。合适的支架元件262可以由钢、铁以及其他非磁体吸磁材料制成。根据材料和特定设计的选择，以某一距离远离磁体118的表面处，通过增加支架元件262比通过将磁体118的厚度增加到等于支架元件262的厚度更能增加磁通密度。因此，可以用体积较小、成本较低、抗腐蚀的连接器来获得更强的吸引力。
现参考图22至图24，示出说明性手握式淋浴器14'，所述手握式淋浴器14'包括由手柄114支撑的流量控制阀280。流量控制阀280说明性地提供两个分立的流速，包括图23A所示的低流速和图23B所示的高流速。对于不同任务，尤其是给定2D射流装置166的性能特征时，不同用户可能偏好不同流速。例如，某些用户可能发现穿过2D射流装置166的流速较低时更加舒适。流量控制阀280说明性地包括两个位置的遥控器或肘形机制，从而在图23A和图23B中分别示出的低流速位置与高流速位置之间进行交替。在替代性实施例中，流量控制阀280可以在低流速模式与高流速模式之间对流速连续地进行调节。
流量控制阀280包括按钮盖282，用户握住手柄114就可以按下所述按钮盖282。交换中心或滑闸284容纳在水路132'内，而且支撑密封件，所述密封件说明性地为O形环285。弹簧286由流量塞（flow cap）288支撑而且从滑闸284偏斜（例如，在图23A和图23B中朝左偏斜）。流量塞288对水路132'进行密封。肘形或遥控器组件包括容纳在中心体294内的按钮心轴290和按钮中心或法兰292，所述中心体294说明性地由水路132'形成。具体而言，按钮心轴290包括倾斜齿291，其经配置以同按钮中心292的倾斜齿293配合。中心体294包括多个凹槽或狭槽295，其经配置以容纳齿291和293。可以通过容纳在中心体294内的固定器298将O形环296紧固在适当的位置。外盖282配置成与按钮心轴290的末端接合，从而引起按钮中心292能够抵抗弹簧286的偏斜来移动滑闸284，而且改变穿过水路132'所得到的流速。
如上所述，图23A图示了低流速运行模式，其中滑闸284的O形环285密封地与阀座299接合，所述阀座299由水路132'的内表面形成。这样，水朝着喷头外壳108的射流装置166流过单个通道300。按下按钮盖282之后，如图23B所示按钮心轴290移动到右方。同时，按钮心轴290的倾斜齿291与按钮中心292的倾斜齿293接合，从而迫使按钮中心292移动到右方。齿293被推出中心体294的狭槽295，以使得齿291引起按钮中心292逆时针进行旋转。逆时针旋转之后，由于按钮中心292的齿293不再容纳在中心体294的狭槽295内，所以按钮中心292抵住弹簧286的力而保持在图23B中的收缩位置。按钮中心292移动到右方也引起滑闸284移动到右方，以使得O形环285从阀座299移位。这样，结合第一流路300提供第二流路302，从而增加到达淋浴头108的射流装置166的流速。
当处于图23B中的高流速模式位置时，按下按钮盖282将引起按钮心轴290进一步移动到右方，从而使按钮心轴290的倾斜齿291与按钮中心292的倾斜齿293接合。因此，按钮中心292再一次逆时针旋转，以使得按钮中心292的齿293与中心体294的狭槽295对齐。接着，弹簧286使滑闸284和按钮中心292偏斜到左方，而且到达图23A中的原始位置或低流速位置。在低流速模式下，O形环285紧靠着阀座299进行密封，从而关闭水通路302并限制穿过水通路300的流速。
图25示出又一说明性淋浴头组件310，其包括底座淋浴头312和可拆除手握式淋浴器314。淋浴头312说明性地包括垂直延伸的外壳构件316a、316b，所述外壳构件在接收凹口318的相对侧上间隔开，用于以可拆除方式支撑手握式淋浴器314。说明性地，每个外壳构件支撑三个射流装置92。手握式淋浴器314包括出口外壳320，其支撑四个射流装置92。每个射流装置92说明性地为上文详述的三维配置，而且在淋浴头312和手握式淋浴器314中都定向成提供在不同于中心水平面的平面中振荡的水。应理解，射流装置的数目和类型（例如，2D射流装置166对3D射流装置92）可以变化。
图26示出另一说明性淋浴头组件410，其包括底座淋浴头412和可拆除手握式淋浴器414。淋浴头412说明性地包括垂直延伸的外壳构件416a、416b，所述外壳构件在接收凹口418的相对侧上间隔开，用于以可拆除方式支撑手握式淋浴器414。说明性地，每个外壳构件416支撑两个射流装置92。手握式淋浴器414包括出口外壳420，其支撑三个射流装置92。每个射流装置92说明性地为上文详述的三维配置。淋浴头412的射流装置92定向成提供在不同于中心垂直面的平面内振荡的水，而手握式淋浴器414的射流装置92定向成垂直于射流装置92，从而提供在不同于中心水平面的平面内振荡的水。应理解，射流装置的数目和类型（例如，2D射流装置166对3D射流装置92）可以变化。
图27示出又一说明性淋浴头组件510，其包括底座淋浴头512和可拆除手握式淋浴器514。淋浴头512说明性地包括垂直延伸的外壳构件516，所述外壳构件在接收凹口518的侧面上间隔开，用于以可拆除方式支撑手握式淋浴器514。说明性地，淋浴头512和手握式淋浴器514每个都包括四个射流装置92。射流装置92说明性地为上文详述的三维配置。应理解，射流装置的数目和类型（例如，2D射流装置166对3D射流装置92）可以变化。
图28示出又一说明性淋浴头组件610，其包括底座淋浴头612和可拆除手握式淋浴器614。淋浴头612说明性地包括水平延伸的外壳构件616，所述外壳构件在接收凹口618上方间隔开，用于以可拆除方式支撑手握式淋浴器614。说明性地，淋浴头612和手握式淋浴器614每个都包括四个射流装置92。射流装置92说明性地为上文详述的三维配置。应理解，射流装置的数目和类型（例如，2D射流装置166对3D射流装置92）可以变化。
尽管已参看某些优选实施例详细描述了本发明，但在如所附权利要求书中描述和界定的本发明的精神和范围内存在变化和修改。

Claims (15)

1.一种淋浴头组件，其包括：
底座淋浴头，其具有第一喷水面，所述第一喷水面的基座上形成有第一凸起部，用于提供大体恒定的横截面流动区域；
手握式淋浴器，其以可拆除方式耦接到所述底座淋浴头，所述手握式淋浴器具有第二喷水面，所述第二喷水面上形成有第二凸起部，用于提供大体恒定的横截面流动区域；
多个二维射流装置，其由所述手握式淋浴器的所述第二喷水面向外地支撑，并且所述二维射流装置的入口被支撑为与所述第二喷水面的内表面大致齐平，所述二维射流装置容纳在所述第二凸起部内，而且所述二维射流装置经配置以通过使水围绕中心轴振荡而在平面内生成水扇；以及
多个三维射流装置，其由所述底座淋浴头的所述第一喷水面向外地支撑，并且所述三维射流装置的入口被支撑为与所述第一喷水面的基座大致齐平，所述三维射流装置容纳在所述第一凸起部内，而且所述三维射流装置经配置以在发散平面内生成多个水扇，水在所述平面中的每个平面内围绕中心轴发生振荡。
2.根据权利要求1所述的淋浴头组件，其进一步包括：磁体，所述磁体由所述底座淋浴头和所述手握式淋浴器中的一个支撑；以及吸磁构件，所述吸磁构件由所述手握式淋浴器和所述底座淋浴头中的另一个支撑，其中所述磁体吸引所述吸磁构件，从而相对于所述底座淋浴头固定所述手握式淋浴器。
3.根据权利要求2所述的淋浴头组件，其进一步包括支架元件，所述支架元件可操作地耦接到所述磁体，从而使所述磁体产生的磁场重新定向。
4.根据权利要求3所述的淋浴头组件，其中所述支架元件包括杯状物，所述杯状物包括基盘和圆柱形侧壁。
5.根据权利要求1所述的淋浴头组件，其进一步包括分流阀，所述分流阀由所述底座淋浴头支撑，而且经配置以对从所述淋浴头组件的总入口流到以下项之一的水流进行控制：所述手握式淋浴器的所述二维射流装置、所述底座淋浴头的所述三维射流装置，以及所述二维射流装置和所述三维射流装置两者。
6.根据权利要求1所述的淋浴头组件，其进一步包括：总入口，所述总入口由所述底座淋浴头支撑，而且配置成与供水系统流体连通；以及限流器，所述限流器由所述底座淋浴头支撑，而且经配置以将穿过所述总入口的水的流速限制为不超过2.5加仑/分钟。
7.根据权利要求1所述的淋浴头组件，其中所述手握式淋浴器进一步包括流量控制阀，所述流量控制阀经配置以对输送到所述二维射流装置的水的流速进行控制，所述二维射流装置由所述手握式淋浴器支撑。
8.根据权利要求7所述的淋浴头组件，其中所述流量控制阀包括分离的低流位置和高流位置。
9.根据权利要求1所述的淋浴头组件，其进一步包括多个防水挡板，所述防水挡板至少部分围绕所述二维射流装置的三个侧面延伸，从而将水朝着所述二维射流装置的入口引导。
10.根据权利要求1所述的淋浴头组件，其中所述底座淋浴头包括弧形外壳，所述弧形外壳形成中心开口，用于容纳所述手握式淋浴器的喷头外壳。
11.根据权利要求10所述的淋浴头组件，其中所述底座淋浴头的所述弧形外壳包括逐渐变细的对接环，而所述手握式淋浴器包括手柄，所述手柄耦接到所述喷头外壳并包括配置成以可拆除方式容纳在所述逐渐变细的对接环内的颈部。
12.根据权利要求7所述的淋浴头组件，其中所述流量控制阀包括：按钮；滑闸，其可操作地耦接到所述按钮；密封件，其由所述滑闸支撑；以及肘形组件，其配置成在所述按钮第一次被按下的状态下，处于高流速位置，而在所述按钮第二次被按下的状态下，处于低流速位置。
13.根据权利要求1所述的淋浴头组件，其中所述手握式淋浴器包括：水路，所述水路与所述二维射流装置的入口流体连通；以及多个防水挡板，所述防水挡板至少部分围绕所述二维射流装置的三个侧面延伸，从而将水朝着所述二维射流装置的入口引导，所述多个防水挡板中的每一个都具有后壁和一对延伸到所述水路中的侧壁。
14.根据权利要求1所述的淋浴头组件，其进一步包括：
磁体和吸磁构件，其中所述磁体吸引所述吸磁构件，从而相对于所述底座固定所述手握式淋浴器；以及
支架元件，所述支架元件可操作地耦接到所述磁体，从而使所述磁体产生的磁场重新定向。
15.根据权利要求14所述的淋浴头组件，其中所述支架元件包括杯状物，所述杯状物包括基盘和圆柱形侧壁。
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