[go: up one dir, main page]

CN102953032A - 一种真空蒸镀银膜的方法及设备 - Google Patents

一种真空蒸镀银膜的方法及设备 Download PDF

Info

Publication number
CN102953032A
CN102953032A CN2012104002007A CN201210400200A CN102953032A CN 102953032 A CN102953032 A CN 102953032A CN 2012104002007 A CN2012104002007 A CN 2012104002007A CN 201210400200 A CN201210400200 A CN 201210400200A CN 102953032 A CN102953032 A CN 102953032A
Authority
CN
China
Prior art keywords
vacuum evaporation
film
silverskin
vacuum
deposited chamber
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN2012104002007A
Other languages
English (en)
Inventor
李宏富
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
ZHEJIANG SHENGFU PRECISION TECHNOLOGY Co Ltd
Original Assignee
ZHEJIANG SHENGFU PRECISION TECHNOLOGY Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ZHEJIANG SHENGFU PRECISION TECHNOLOGY Co Ltd filed Critical ZHEJIANG SHENGFU PRECISION TECHNOLOGY Co Ltd
Priority to CN2012104002007A priority Critical patent/CN102953032A/zh
Publication of CN102953032A publication Critical patent/CN102953032A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本发明涉及一种真空蒸镀银膜的设备,包括真空蒸镀机,在所述的真空蒸镀机内设有蒸镀室、真空泵和动力装置,蒸镀室内设有放卷站、收卷站和冷却辊卷,真空蒸镀机内还设有高频感应加热器,高频感应加热器与蒸镀室之间设有档板;本发明通过控制金属银的蒸发速度、基材薄膜的移动速度以及蒸镀室内的真空度等可以事先控制镀银层的厚度。

Description

一种真空蒸镀银膜的方法及设备
技术领域
本发明涉及镀膜技术,具体一种真空蒸镀银膜的方法及设备。
背景技术
在纺织行业中广泛应用的陶瓷物质如Al2O3、MgO、ZnO、TiO2、CaCO3等,本质是类金属氧化物,事实上,当这些的粒度微细到30~200nm,即达到纳米级粒度时,纳米效应带来的力学、光学、催化、热学等性质以及在生物活性和化学反应性等方面的特殊性能,使其在纺织、后整理等领域显示出重要价值;但是PET塑料薄膜的性能会根据气候的变化而变化,温湿度过高薄膜的吸水率也会相应提高,最大吸水率可达到1%。塑料薄膜接触空气后,吸收水汽会造成蒸镀后纯银膜颜色变化,使纯银膜变黄并产生氧化或与空气中的成分在高温的条件下发生化学反应。
发明内容
本发明的目的在于提供一种真空蒸镀银膜的方法,通过控制金属银的蒸发速度、基材薄膜的移动速度以及蒸镀室内的真空度等可以事先控制镀银层的厚度。
为实现上述目的采用以下技术方案:
一种真空蒸镀银膜的设备,包括真空蒸镀机,其特征在于:在所述的真空蒸镀机内设有蒸镀室、真空泵和动力装置,蒸镀室内设有放卷站、收卷站和冷却辊卷,真空蒸镀机内还设有高频感应加热器,高频感应加热器与蒸镀室之间设有档板。
一种真空蒸镀银膜的方法,其特征在于:先将卷筒状的待镀薄膜基材装在真空蒸镀机的放卷站上,将薄膜穿过真空蒸镀机的冷却辊卷,最后绕在收卷站上,然后采用真空泵对蒸镀室进行抽真空脱气,接着利用高频感应加热器使高纯度的固态银融化并蒸发成气态银,接着启动薄膜卷绕系统,当薄膜运行到一定的速度后,打开蒸镀室的挡板使气态银微粒喷射到经过已冷却的薄膜上,然后通过收卷站将蒸镀银膜的薄膜收卷。
所述的真空泵对蒸镀室抽真空脱气,使蒸镀室内的真空度达到4×10-4pa以上。
所述的高频感应加热器使高纯度的固态银加热至1500℃以上。 
可通过控制金属银的蒸发速度和基材薄膜的移动速度以及蒸镀室内的真空度等来控制镀银层的厚度。
薄膜基材在放入真空蒸镀机之前在薄膜基材表面涂上附着层。
蒸镀银膜后马上在银膜表面涂上外保护层。
一种真空蒸镀银膜的设备,包括真空蒸镀机,其特征在于:在所述的真空蒸镀机内设有蒸镀室、真空泵和动力装置,蒸镀室内设有放卷站、收卷站和冷却辊卷,真空蒸镀机内还设有高频感应加热器,高频感应加热器与蒸镀室之间设有档板。
本发明通过基材放卷-抽真空-高频感应加热银-主导辊冷却薄膜-蒸镀-测厚-冷却过程实现薄膜的蒸镀,出来的镀银膜具有反射率及光学性能好,银膜附着牢固、无斑点的特点。
附图说明
图1、本发明的设备的结构示意图。
具体实施方式
如图1所示,一种真空蒸镀银膜的设备,包括真空蒸镀机1,在所述的真空蒸镀机内设有蒸镀室11、真空泵13和动力装置12,蒸镀室内11设有放卷站14、收卷站15和冷却辊卷16,真空蒸镀机内还设有高频感应加热器17,高频感应加热器17与蒸镀室11之间设有档板18。
真空蒸镀银膜的方法:将薄膜基材在放入真空蒸镀机之前在薄膜基材表面涂上附着层,附着层采用三聚氢胺喷涂,再将卷筒状的待镀薄膜基材装在真空蒸镀机的放卷站上,将薄膜穿过真空蒸镀机的冷却辊卷,最后绕在收卷站上;然后真空泵对蒸镀室进行抽真空脱气,使蒸镀室内的真空度达到4×10-4pa以上,接着利用高频感应加热器使高纯度的固态银加热至1500℃以上,使之融化并蒸发成气态银,然后再启动薄膜卷绕系统,当薄膜运行到一定的速度后,再打开蒸镀室与高频感应加热器之间的挡板使气态银微粒喷射到经过已冷却的薄膜上,由于气态银处于高温状态,将薄膜事先经过-25℃冷却辊卷冷却之后,使银微粒与之接触前就因受到周围环境影响,迅速降温,银微粒在移动的薄膜基材表面沉积形成一层连续而光亮的金属银层,同时保护薄膜不产生形变,最后通过收卷站将蒸镀银膜的薄膜收卷;薄膜收卷后还需马上在银膜表面涂上三聚氢胺,三聚氢胺在银膜表面形成一层外保护层以达到防氧化的作用。
本发明蒸镀过程需要注意:
为去除薄膜的水分:针对塑料薄膜的高吸附水率1%,必须要制止并防止在制作过程及镀银后再吸附水分,首先可利用抽真空脱气的方法将水分抽出,或用涂色机烘干的方式反复测试比较何种为宜;为保证蒸镀的银膜无斑点,将蒸镀初期阶段银原子的入射角,密度,蒸镀速度做适当的调整。
为了提高纯银膜之高反射率及增加光学:选择好的表面光滑,洁净的基材,调整较广之视角,必须使反射之影像与表面之眩光分开,以获取高光效率及增加光学以达到优异的反射效率及耐光性、耐候性。
本发明为增强蒸镀银膜在薄膜上的附着牢度,事先在薄膜喷涂上一层三聚氢胺,以增强银层与塑料薄膜间的附着度,在银膜蒸镀完成之后再在银膜表面喷涂一层三聚氢胺以达到保护银膜层,防止氧化的作用,涂后必须要反复测其效果;在蒸镀过程中采用真空泵对蒸镀室进行抽真空脱气,使室内的真空度达到4×10-4pa以上,利用高频感应加热的方式使高纯度的固态银在1500℃的温度下融化并蒸发成气态银,启动薄膜卷绕系统,当薄膜运行到一定的速度后,打开挡板使气态银微粒喷射到经过已冷却至-25℃主导辊的薄膜上;由于气态银处于高温状态,直接接触薄膜会使之以受热变形,将薄膜事先冷却之后,使银微粒与之接触前就因受到周围环境影响,迅速降温,从而保护薄膜不产生形变;银微粒在移动的薄膜基材表面沉积,冷却形成一层连续而光亮的金属银层;因产品规格所需,金属银层的厚度需要控制确定的范围内,可以通过控制金属银的蒸发速度、基材薄膜的移动速度以及蒸镀室内的真空度等可以事先控制镀银层的厚度,具有反射率及光学性能好,银膜附着牢固、无斑点的特点。

Claims (8)

1.一种真空蒸镀银膜的方法,其特征在于:先将卷筒状的待镀薄膜基材装在真空蒸镀机的放卷站上,将薄膜穿过真空蒸镀机的冷却辊卷,最后绕在收卷站上,然后采用真空泵对蒸镀室进行抽真空脱气,接着利用高频感应加热器使高纯度的固态银融化并蒸发成气态银,接着启动薄膜卷绕系统,当薄膜运行到一定的速度后,打开蒸镀室的挡板使气态银微粒喷射到经过已冷却的薄膜上,然后通过收卷站将蒸镀银膜的薄膜收卷。
2.如权利要求1所述的一种真空蒸镀银膜的方法,其特征在于:所述的真空泵对蒸镀室抽真空脱气,使蒸镀室内的真空度达到4×10-4pa以上。
3.如权利要求1所述的一种真空蒸镀银膜的方法,其特征在于:所述的高频感应加热器使高纯度的固态银加热至1500℃以上。
4.如权利要求1所述的一种真空蒸镀银膜的方法,其特征在于:可通过控制金属银的蒸发速度和基材薄膜的移动速度以及蒸镀室内的真空度等来控制镀银层的厚度。
5.如权利要求1所述的一种真空蒸镀银膜的方法,其特征在于:薄膜基材在放入真空蒸镀机之前在薄膜基材表面涂上附着层。
6.如权利要求1所述的一种真空蒸镀银膜的方法,其特征在于:蒸镀银膜后马上在银膜表面涂上外保护层。
7.如权利要求1所述的一种真空蒸镀银膜的方法,其特征在于:所述的薄膜经冷却辊卷冷却后,温度降到--25℃以下。
8.一种真空蒸镀银膜的设备,包括真空蒸镀机,其特征在于:在所述的真空蒸镀机内设有蒸镀室、真空泵和动力装置,蒸镀室内设有放卷站、收卷站和冷却辊卷,真空蒸镀机内还设有高频感应加热器,高频感应加热器与蒸镀室之间设有档板。
CN2012104002007A 2012-10-20 2012-10-20 一种真空蒸镀银膜的方法及设备 Pending CN102953032A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2012104002007A CN102953032A (zh) 2012-10-20 2012-10-20 一种真空蒸镀银膜的方法及设备

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2012104002007A CN102953032A (zh) 2012-10-20 2012-10-20 一种真空蒸镀银膜的方法及设备

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN102953032A true CN102953032A (zh) 2013-03-06

Family

ID=47762407

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2012104002007A Pending CN102953032A (zh) 2012-10-20 2012-10-20 一种真空蒸镀银膜的方法及设备

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN102953032A (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113088887A (zh) * 2021-04-16 2021-07-09 潍坊坤祥包装材料有限公司 一种镀银薄膜的生产工艺
CN116613259A (zh) * 2023-07-20 2023-08-18 江西兆驰半导体有限公司 一种倒装led芯片及制备方法
CN117107209A (zh) * 2023-10-18 2023-11-24 潍坊坤祥包装材料有限公司 一种用于薄膜镀银的自动化生产设备及加工工艺

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN201037150Y (zh) * 2007-04-10 2008-03-19 西安中意高频设备厂 真空感应镀锡装置
CN101669045A (zh) * 2007-06-08 2010-03-10 东洋钢板株式会社 光反射板、其制造方法和光反射装置
CN202830154U (zh) * 2012-10-20 2013-03-27 浙江笙富精密科技有限公司 一种真空蒸镀银膜的设备

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN201037150Y (zh) * 2007-04-10 2008-03-19 西安中意高频设备厂 真空感应镀锡装置
CN101669045A (zh) * 2007-06-08 2010-03-10 东洋钢板株式会社 光反射板、其制造方法和光反射装置
CN202830154U (zh) * 2012-10-20 2013-03-27 浙江笙富精密科技有限公司 一种真空蒸镀银膜的设备

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
杨树本 等: "悬浮式双镀膜冷却辊连续镀设备的研制", 《兰州交通大学学报》 *

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113088887A (zh) * 2021-04-16 2021-07-09 潍坊坤祥包装材料有限公司 一种镀银薄膜的生产工艺
CN116613259A (zh) * 2023-07-20 2023-08-18 江西兆驰半导体有限公司 一种倒装led芯片及制备方法
CN117107209A (zh) * 2023-10-18 2023-11-24 潍坊坤祥包装材料有限公司 一种用于薄膜镀银的自动化生产设备及加工工艺
CN117107209B (zh) * 2023-10-18 2024-02-27 潍坊坤祥包装材料有限公司 一种用于薄膜镀银的自动化生产设备及加工工艺

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN106746707B (zh) 镀膜玻璃边部除膜的方法
CN106244989B (zh) 连续生产柔性微纳米金属网络透明导电薄膜的方法及设备
US10207287B2 (en) Machine and treatment process via chromatogenous grafting of a hydroxylated substrate
CN102765239B (zh) 一种轻离型力的离型膜及其制作方法
CN113438986B (zh) 全固体电池的制造方法
CN102765271B (zh) 一种油墨热压转移载体膜及其制作方法
CN103879100A (zh) 一种屏蔽窗膜及制备方法
CN102953032A (zh) 一种真空蒸镀银膜的方法及设备
CN208667836U (zh) 卷绕式双面磁控溅射真空镀膜设备
CN202830154U (zh) 一种真空蒸镀银膜的设备
CN118028914A (zh) 复合箔材制备系统及制备工艺
CN102372442A (zh) 一种大面积双面氟掺杂氧化锡透明导电薄膜的喷涂方法
CN101844402B (zh) 双轴拉伸聚酯膜卷的制造方法
JP5142081B2 (ja) 酸化チタン系光触媒薄膜の製造法
CN203110468U (zh) 一种轻离型力的离型膜
JP2009106906A (ja) 酸化チタン系光触媒薄膜の製造法
CN102199306B (zh) 用于大飞机内壁密封袋的薄膜及其表面处理方法
CN103480541B (zh) 连续化带状黑色导电海绵的生产装置及方法
CN102400088B (zh) 柔性金属基底辉光大束流低电压等离子体活化工艺
CN202290465U (zh) 一种uv光固化平板涂布设备
CN202187062U (zh) 双面卷对卷真空镀膜设备
CN207121637U (zh) 一种真空卷绕镀膜设备
CN207357482U (zh) 一种超声波雾化镀膜装置
CN204417578U (zh) 一种玻璃窗膜
CN103803810A (zh) 一种纳米防紫外线隔热涂膜玻璃及其生产方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20130306