CN102789143A - 曝光机标靶影像对位装置及使用该装置的曝光机 - Google Patents
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Abstract
一种曝光机标靶影像对位装置及使用该装置的曝光机，曝光机标靶影像对位装置，将一对以上的摄影镜头及对位光源设于一平移移载单元，借平移移载单元往复移载摄影镜头及对位光源至停驻于对位装置上方的曝光框上方；使用平移式标靶影像对位装置的曝光机，包括：对位装置；曝光装置；上、下曝光框相对对位装置与曝光装置交替移位停驻；顶升装置将停驻状态的下曝光框顶升至与上曝光框同一高度；及一标靶影像对位装置，将一对以上的摄影镜头及对位光源设于一平移移载单元，借平移移载单元往复移载该摄影镜头及对位光源至停驻于对位装置上方的曝光框上方。本发明具有摄影镜头及对位光源于移动过程不晃动及令两个曝光框接受相同强度曝光能量的功效。
Description
技术领域
本发明涉及一种令摄影镜头及对位光源借由设置于滑轨的滑座予以平移移载，以使其移载过程非常平稳不晃动的设计，特别涉及一种曝光机标靶影像对位装置及使用该装置的曝光机。
背景技术
如图1～图3所示，一台曝光机中通常会设置有上下两个曝光框10a、10b，而相对于对位装置20与曝光装置30交替移位，以让一曝光框10a借对位装置20进行对位程序，另一曝光框10b则由曝光装置30进行曝光程序，得以交替进行对位程序与曝光程序；然而，工件在以曝光装置30进行曝光程序前，必须先让工件借对位装置20相对底片对位，以获得较佳的曝光品质，而工件与底片间的对位精度，除了标靶辨识算法的优劣外，标靶的影像品质则是另一项重要因素。
其次，传统的曝光机标靶影像对位装置40是设置于曝光机的对位装置20上方，而该标靶影像对位装置40将一对以上的摄影镜头41及对位光源42设置于一升降移载单元43；其中，该标靶影像对位装置40于进行对位程序之前，必须令该摄影镜头41及对位光源42下降贴近置放于曝光框10a或10b的工件表面，以获致较佳的标靶影像对位品质；但由于该标靶影像对位装置40的设置位置位于整台曝光机的高处重心较高，故致使该摄影镜头41及对位光源42会于下降的过程产生严重的晃动，而产生晃动非常不利于对位程序的进行，必须等待晃动自然停止后，才得以进行对位程序，因而影响到生产速度。
再次，由于前述标靶影像对位装置40的摄影镜头41及对位光源42相对上下两个曝光框10a、10b可有不同的升降行程，两个曝光框10a、10b遂被设置于不同的高度，但不同高度的曝光框10a、10b于进行曝光程序时，会有接受到不同强度的曝光能量而造成曝光不均匀的问题。
发明内容
本发明所要解决的主要技术问题在于，克服现有技术存在的上述缺陷，而提供一种曝光机标靶影像对位装置及使用该装置的曝光机，其具有摄影镜头及对位光源于移动过程不晃动的功效，且具有令曝光机的两个曝光框接受相同强度曝光能量的功效。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：
一种曝光机标靶影像对位装置结构特征，是将一对以上的摄影镜头及对位光源设置于一平移移载单元，而借该平移移载单元往复移载该摄影镜头及对位光源至停驻于对位装置上方的曝光框上方。
前述的曝光机标靶影像对位装置，其中摄影镜头镜头前缘至置放于曝光框的工件表面的距离在50～150mm之间。
前述的曝光机标靶影像对位装置，其中平移移载单元沿着该曝光框的移位走向平行设置有第一轴向滑轨，并于该第一轴向滑轨上设置有第一轴向滑座，而于该第一轴向滑座上设置有第二轴向滑轨，且于该第二轴向滑轨上设置有第二轴向滑座，该第二轴向滑座供该摄影镜头及对位光源设置。
再者，本发明的曝光机结构特征，包括有：一对位装置；一曝光装置；上、下曝光框，相对该对位装置与该曝光装置交替移位停驻；一顶升装置，将停驻状态的该下曝光框顶升至与该上曝光框同一高度；以及一标靶影像对位装置，将一对以上的摄影镜头及对位光源设置于一平移移载单元，而借该平移移载单元往复移载该摄影镜头及对位光源至停驻于该对位装置上方的曝光框上方。
此外，该摄影镜头镜头前缘至置放于曝光框的工件表面的距离在50～150mm之间。又，该平移移载单元沿着该曝光框的移位走向平行设置有第一轴向滑轨，并于该第一轴向滑轨上设置有第一轴向滑座，而于该第一轴向滑座上设置有第二轴向滑轨，且于该第二轴向滑轨上设置有第二轴向滑座，该第二轴向滑座供该摄影镜头及对位光源设置。
本发明的有益效果是，其具有摄影镜头及对位光源于移动过程不晃动的功效，且具有令曝光机的两个曝光框接受相同强度曝光能量的功效。
附图说明
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。
图1是现有曝光机的动作状态说明图一。
图2是现有曝光机的动作状态说明图二。
图3是现有曝光机的动作状态说明图三。
图4是本发明的动作状态说明图一。
图5是本发明的动作状态说明图二。
图6是本发明的动作状态说明图三。
图中标号说明：
10a、10b曝光框
20对位装置
30曝光装置
40、50标靶影像对位装置
41、51摄影镜头
42、52对位光源
43升降移载单元
53平移移载单元
531第一轴向滑轨
532a、532b第一轴向滑座
533a、533b第二轴向滑轨
534a、534b第二轴向滑座
60顶升装置
具体实施方式
首先，请参阅图4～图6所示，本发明的曝光机标靶影像对位装置50，是将一对以上的摄影镜头51及对位光源52设置于一平移移载单元53，该平移移载单元53往复移载该摄影镜头51及对位光源52至停驻于对位装置20上方的曝光框10a、10b上方，用以撷取标靶影像，而该摄影镜头51镜头前缘至置放于曝光框的工件表面的较佳距离约在50～150mm之间。
再者，该平移移载单元53沿着该曝光框10a、10b的移位走向平行设置有第一轴向滑轨531，并于该第一轴向滑轨531上设置有第一轴向滑座532a、532b，而于该第一轴向滑座532a、532b上设置有第二轴向滑轨533a、533b，且于该第二轴向滑轨533a、533b上设置有第二轴向滑座534a、534b，该第二轴向滑座534a、534b则供该摄影镜头51及对位光源52设置，该摄影镜头51及对位光源52随着第一轴向滑座532a、532b的滑移，而被往复移载至停驻于对位装置20上方的曝光框10a、10b上方。
此外，本发明的曝光机包括有：一对位装置20；一曝光装置30；上、下曝光框10a、10b，相对该对位装置20与该曝光装置30交替移位停驻；一顶升装置60，将停驻状态的该下曝光框10b顶升至与该上曝光框10a同一高度；以及一标靶影像对位装置50，将一对以上的摄影镜头51及对位光源52设置于一平移移载单元53，而借该平移移载单元53往复移载该摄影镜头51及对位光源52至停驻于该对位装置20上方的曝光框10a、10b上方。
根据上述结构，本发明的曝光机标靶影像对位装置50，是利用该平移移载单元53往复移载该摄影镜头51及对位光源52至停驻于对位装置20上方的曝光框10a、10b上方，用以撷取标靶影像，而该摄影镜头51及对位光源52借由设置于第一轴向滑轨531的第一轴向滑座532a、532b予以移载，故其移载过程非常平稳，而具有摄影镜头及对位光源于移动过程不晃动的功效。
又，因一台曝光机中通常会设置有上下两个曝光框10a、10b，为了让上下两个曝光框10a、10b具有相同的标靶影像品质，故借该顶升装置60将该下曝光框10b顶升至与该上曝光框10a同一高度，再进行撷取标靶影像及对位的程序；而此将该下曝光框10b顶升至与该上曝光框10a同一高度的动作，亦可应用于曝光程序，则具有令曝光机的两个曝光框接受相同强度曝光能量的功效。
以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制，凡是依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。
综上所述，本发明在结构设计、使用实用性及成本效益上，完全符合产业发展所需，且所揭示的结构亦是具有前所未有的创新构造，具有新颖性、创造性、实用性，符合有关发明专利要件的规定，故依法提起申请。
Claims (6)
1.一种曝光机标靶影像对位装置，其特征在于，将一对以上的摄影镜头及对位光源设置于一平移移载单元，而借该平移移载单元往复移载该摄影镜头及对位光源至停驻于对位装置上方的曝光框上方。
2.根据权利要求1所述的曝光机标靶影像对位装置，其特征在于，所述摄影镜头镜头前缘至置放于曝光框的工件表面的距离在50～150mm之间。
3.根据权利要求1或2所述的曝光机标靶影像对位装置，其特征在于，所述平移移载单元沿着该曝光框的移位走向平行设置有第一轴向滑轨，并于该第一轴向滑轨上设置有第一轴向滑座，而于该第一轴向滑座上设置有第二轴向滑轨，且于该第二轴向滑轨上设置有第二轴向滑座，该第二轴向滑座供该摄影镜头及对位光源设置。
4.一种如权利要求1所述的标靶影像对位装置的曝光机，其特征在于，包括有：
一对位装置；
一曝光装置；
上、下曝光框，相对该对位装置与该曝光装置交替移位停驻；
一顶升装置，将停驻状态的该下曝光框顶升至与该上曝光框同一高度；
一标靶影像对位装置，将一对以上的摄影镜头及对位光源设置于一平移移载单元，而借该平移移载单元往复移载该摄影镜头及对位光源至停驻于该对位装置上方的曝光框上方。
5.根据权利要求4所述的曝光机，其特征在于，所述摄影镜头镜头前缘至置放于曝光框的工件表面的距离在50～150mm之间。
6.根据权利要求4或5所述的曝光机，其特征在于，所述平移移载单元沿着该曝光框的移位走向平行设置有第一轴向滑轨，并于该第一轴向滑轨上设置有第一轴向滑座，而于该第一轴向滑座上设置有第二轴向滑轨，且于该第二轴向滑轨上设置有第二轴向滑座，该第二轴向滑座供该摄影镜头及对位光源设置。
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106681108A (zh) * | 2015-11-09 | 2017-05-17 | 川宝科技股份有限公司 | 标靶影像对位装置及具有该装置的曝光机 |
| CN106707687A (zh) * | 2017-01-19 | 2017-05-24 | 广州美维电子有限公司 | 一种pcb板曝光方法及装置 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN2578864Y (zh) * | 2002-10-09 | 2003-10-08 | 张鸿明 | 单面防焊曝光机 |
| US20040174510A1 (en) * | 2000-09-21 | 2004-09-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Alignment method and exposure apparatus using the method |
| WO2005043243A2 (en) * | 2003-10-24 | 2005-05-12 | Asml Holding N.V. | Methods and apparatuses for applying wafer-alignment marks |
| US20060138681A1 (en) * | 2004-12-27 | 2006-06-29 | Asml Netherlands B.V. | Substrate and lithography process using the same |
| CN1833309A (zh) * | 2003-08-07 | 2006-09-13 | 株式会社尼康 | 曝光方法及曝光装置、载置台装置、及设备制造方法 |
| CN2828877Y (zh) * | 2005-06-01 | 2006-10-18 | 张鸿明 | 防焊曝光机 |
-
2011
- 2011-05-17 CN CN2011101271628A patent/CN102789143A/zh active Pending
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20040174510A1 (en) * | 2000-09-21 | 2004-09-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Alignment method and exposure apparatus using the method |
| CN2578864Y (zh) * | 2002-10-09 | 2003-10-08 | 张鸿明 | 单面防焊曝光机 |
| CN1833309A (zh) * | 2003-08-07 | 2006-09-13 | 株式会社尼康 | 曝光方法及曝光装置、载置台装置、及设备制造方法 |
| WO2005043243A2 (en) * | 2003-10-24 | 2005-05-12 | Asml Holding N.V. | Methods and apparatuses for applying wafer-alignment marks |
| US20060138681A1 (en) * | 2004-12-27 | 2006-06-29 | Asml Netherlands B.V. | Substrate and lithography process using the same |
| CN2828877Y (zh) * | 2005-06-01 | 2006-10-18 | 张鸿明 | 防焊曝光机 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106681108A (zh) * | 2015-11-09 | 2017-05-17 | 川宝科技股份有限公司 | 标靶影像对位装置及具有该装置的曝光机 |
| CN106707687A (zh) * | 2017-01-19 | 2017-05-24 | 广州美维电子有限公司 | 一种pcb板曝光方法及装置 |
| CN106707687B (zh) * | 2017-01-19 | 2020-05-22 | 广州美维电子有限公司 | 一种pcb板曝光方法及装置 |
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