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CN102709385B - 全背电极太阳能电池的生产方法 - Google Patents

全背电极太阳能电池的生产方法 Download PDF

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CN102709385B CN201210141633.5A CN201210141633A CN102709385B CN 102709385 B CN102709385 B CN 102709385B CN 201210141633 A CN201210141633 A CN 201210141633A CN 102709385 B CN102709385 B CN 102709385B
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张学玲
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Changzhou Trina Solar Energy Co Ltd
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Abstract

本发明涉及一种全背电极太阳能电池的生产方法,具有如下步骤:1.单面硼扩散,在N型硅片背面形成P+层;2.在P+层上沉积制绒掩膜层;3.单面制绒;4.磷扩散在硅片受光面制备前表面场;5.去掉制绒掩膜层及PSG;6.热氧化生长SiO2掩膜层;7.在硅片背面的背面场区域进行开槽,槽深H要大于等于P-N结结深+背面场的深度;8.在开槽区域底部印刷高度小于槽深H减去P-N结深的含磷的掺杂剂;9.高温扩散,在槽底部形成N+层;10.去掉PSG及SiO2掩膜层;11.正反面制作钝化膜;12.丝网印刷金属电极;13.烧结。本发明的有益效果是:利用P+与N+区域的高度差就是基体N区域,大大提升了电池效率且降低了生产成本,适合规模化生产。

Description

全背电极太阳能电池的生产方法
技术领域
本发明涉及一种全背电极太阳能电池的生产方法。
背景技术
美国SunPower公司推出的全背电极电池,采用N型硅片,将电极全部设计在电池背面,以最大限度地提升电池正面的吸光面积,其量产的转换效率已经达到约23%,实验室最高效率达到24.2%,但是SunPower的电池制备工艺步骤复杂,成本高,一直成为大规模量产推广的瓶颈。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是:提供一种全背电极太阳能电池的生产方法,简化工艺步骤,降低生产成本。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:一种全背电极太阳能电池的生产方法,具有如下步骤:
1.单面硼扩散,在N型硅片背面形成P+层;
2.在背面的P+层上沉积制绒掩膜层;
3.单面制绒;
4.磷扩散在硅片受光面制备前表面场;
5.去掉制绒掩膜层及PSG;
6.热氧化生长SiO2掩膜层;
7.在硅片背面的背面场区域进行开槽,槽深H要大于等于P-N结结深+背面场的深度;
8.在开槽区域底部印刷高度小于槽深H减去P-N结深的含磷的掺杂剂;
9.高温扩散,在槽底部形成N+层;
10.去掉PSG及SiO2掩膜层;
11.正反面制作钝化膜;
12.丝网印刷金属电极;
13.烧结。
进一步限定,步骤1中,通过将两片面对面硅片叠放在一起,实现单面硼扩散,方块电阻为10-100ohm/Sq。
进一步限定,步骤2中,制绒掩膜层为SiNx或SiO2,制绒掩膜层厚度为20-300nm。
进一步限定,步骤4中,磷扩散在硅片受光面制备前表面场,方块电阻为30-200ohm/Sq。
进一步限定,步骤6中,热氧化生长SiO2掩膜层,厚度为30-300nm,同时将P+层表面浓度进一步降低,结深进一步变深。
进一步限定,步骤7中,用激光对背面场区域进行开槽,并用刻蚀液对开槽区域进行刻蚀,形成槽深H。
进一步限定,步骤7中,用KOH刻蚀液对开槽区域进行刻蚀。
进一步限定,步骤8中,在刻蚀区域底部丝网印刷或喷墨打印印刷掺杂剂。
本发明的有益效果是:利用P+与N+区域的高度差形成基体N区域,大大提升了电池效率且降低了生产成本,适合规模化生产。
附图说明
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。
图1是本发明的步骤1的结构示意图;
图2是本发明的步骤2的结构示意图;
图3是本发明的步骤3的结构示意图;
图4是本发明的步骤4的结构示意图;
图5是本发明的步骤5的结构示意图;
图6是本发明的步骤6的结构示意图;
图7是本发明的步骤7的结构示意图;
图8是本发明的步骤8的结构示意图;
图9是本发明的步骤9的结构示意图;
图10是本发明的步骤10的结构示意图;
图11是本发明的步骤11的结构示意图;
图12是本发明的步骤12的结构示意图;
图13是本发明的步骤13的结构示意图;
图14是本发明的步骤14的结构示意图;
图中,1.硅片,2.P+层,3.制绒掩膜层,4.前表面场,5.SiO2掩膜层,6.N+层,7.钝化膜,8.金属电极,9.掺杂剂。
具体实施方式
如图1至14所示,一种全背电极太阳能电池的生产方法,具有如下步骤:
1.硅片1抛光,腐蚀厚度为2-10um;
2.硅片1面对面进行单面硼扩散,在硅片1背面形成用于构成P-N结的P+层2,方块电阻为10-100ohm/Sq;
3.在背面的P+层2上沉积SiNx或SiO2或其他制绒掩膜层3,制绒掩膜层3厚度为20-300nm,可以阻挡下一步制绒液对P+层2的腐蚀,不会破坏P-N结;
4.单面制绒,制绒腐蚀层厚度为2-15um;
5.磷扩散制备前表面场4,方块电阻为30-200ohm/Sq;
6.去掉SiNx或SiO2或其他制绒掩膜层3及PSG(硅磷玻璃);
7.热氧化生长SiO2掩膜层5,厚度为30-300nm,同时将P+层2表面浓度进一步降低,结深进一步变深;
8.用激光对背面场区域进行开槽;
9.用KOH或其他刻蚀方式对开槽区域进行刻蚀,刻蚀深度要大于等于P-N结结深+背面场的深度,优选至少4um,此高度差也就是介于P+与N+之间的基体N区域;
10.在刻蚀槽内丝网印刷或喷墨打印或其他方式印刷高度小于刻蚀槽深减去P-N结深的含磷的掺杂剂9,在下一步高温扩散时就只在槽的底部形成磷扩散层,槽壁部分仍是基体,相当于P+和N+之间的基体N区域,这样可以避免反复生长掩膜层形成P+与N+区之间的基体N区域,大大降低成本;
11.高温扩散,在刻蚀槽内形成n+层6;
12.去掉PSG及SiO2掩膜层5;
13.正反面沉积或热氧化生长钝化膜7,背面的钝化膜7为Al2O3和SiNX的叠成钝化膜;
14.丝网印刷金属电极8并烧结。

Claims (7)

1.一种全背电极太阳能电池的生产方法,其特征是:具有如下步骤: 
1.单面硼扩散,在N型硅片(1)背面形成P+层(2); 
2.在背面的P+层(2)上沉积制绒掩膜层(3); 
3.单面制绒; 
4.磷扩散在硅片(1)受光面制备前表面场(4); 
5.去掉制绒掩膜层(3)及PSG; 
6.热氧化生长SiO2掩膜层(5); 
7.在硅片(1)背面的背面场区域进行开槽,槽深H要大于等于P-N结结深+背面场的深度; 
8.在开槽区域底部印刷高度小于槽深H减去P-N结深的含磷的掺杂剂(9); 
9.高温扩散,在槽底部形成N+层(6); 
10.去掉PSG及SiO2掩膜层(5); 
11.正反面制作钝化膜(7); 
12.丝网印刷金属电极(8); 
13.烧结; 
步骤7中,用激光对背面场区域进行开槽,并用刻蚀液对开槽区域进行刻蚀,形成槽深H。 
2.根据权利要求1所述的全背电极太阳能电池的生产方法,其特征是:步骤1中,通过将两片面对面硅片(1)叠放在一起,实现单面硼扩散,方块电阻为10-100ohm/Sq。 
3.根据权利要求1所述的全背电极太阳能电池的生产方法,其特征是:步骤2中,制绒掩膜层(3)为SiNx或SiO2,制绒掩膜层(3)厚度为20-300nm。 
4.根据权利要求1所述的全背电极太阳能电池的生产方法,其特征是: 步骤4中,磷扩散在硅片(1)受光面制备前表面场(4),方块电阻为30-200ohm/Sq。 
5.根据权利要求1所述的全背电极太阳能电池的生产方法,其特征是:步骤6中,热氧化生长SiO2掩膜层(5),厚度为30-300nm,同时将P+层(2)表面浓度进一步降低,结深进一步变深。 
6.根据权利要求1所述的全背电极太阳能电池的生产方法,其特征是:步骤7中,用KOH刻蚀液对开槽区域进行刻蚀。 
7.根据权利要求1所述的全背电极太阳能电池的生产方法,其特征是:步骤8中,在刻蚀区域底部丝网印刷或喷墨打印印刷掺杂剂(9)。 
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