CN102290232A - 一种薄膜电容器用金属化薄膜及其制作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种薄膜电容器用金属化薄膜，包括介质层和金属化膜层，所述的金属化膜层与介质层相互结合，并在所述的介质层一端留有错边，所述的金属化膜层呈三角形状；所述的金属化膜层厚的一边位于所述的金属化膜层与介质层相结合后的金属化端边。本发明还涉及一种本发明薄膜电容器用金属化薄膜的制作方法，包括以下步骤：将金属材料镀膜在介质层上，在所述的介质层一端留有错边，形成金属化膜层，所述的金属化膜层呈三角形状，其中，金属化膜层厚的一边位于所述的金属化膜层与介质层相结合后的金属化端边。本发明加工工艺简单，并且用其制作的薄膜电容器接触电阻小，从而使得产品特性好。
Description
技术领域
本发明涉及金属化薄膜技术领域，特别是涉及一种薄膜电容器用金属化薄膜及其制作方法。
背景技术
现有的金属化薄膜如图1所示，包括介质层1、金属化膜层2和金属加厚层3，金属化膜层2与介质层1相互结合，并在介质层1一端留有错边11，金属加厚层3设置在金属化膜层2与介质层1相结合后的金属化端边。这种结构在制作时工艺复杂，并且用其制作的薄膜电容器接触电阻大，影响产品特性。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种薄膜电容器用金属化薄膜及其制作方法，加工工艺简单，并且用其制作的薄膜电容器接触电阻小，从而使得产品特性好。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：提供一种薄膜电容器用金属化薄膜，包括介质层和金属化膜层，所述的金属化膜层与介质层相互结合，并在所述的介质层一端留有错边，所述的金属化膜层呈三角形状；所述的金属化膜层厚的一边位于所述的金属化膜层与介质层相结合后的金属化端边。
所述的金属化膜层的方阻从所述的金属化端边向错边处逐渐增大。
所述的金属化膜层分为蒸着厚部分和蒸着薄部分；所述的蒸着厚部分的方阻为5Ω/□；所述的蒸着薄部分的方阻为40～50Ω/□。
所述的介质层采用聚丙烯、聚酯、聚苯乙烯、或聚苯硫醚制成。
所述的金属化膜层采用锌或锌铝合金制成。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：还提供一种薄膜电容器用金属化薄膜的制作方法，包括以下步骤：将金属材料镀膜在介质层上，在所述的介质层一端留有错边，形成金属化膜层，所述的金属化膜层呈三角形状，其中，金属化膜层厚的一边位于所述的金属化膜层与介质层相结合后的金属化端边。
所述的介质层采用聚丙烯、聚酯、聚苯乙烯、或聚苯硫醚制成。
所述的金属材料为锌或锌铝合金。
有益效果
由于采用了上述的技术方案，本发明与现有技术相比，具有以下的优点和积极效果：本发明的制作工艺简单，电容器端面方阻小，制作的电容器接触电阻小，产品特性好。制成的电容器在同等体积的情况下与传统薄膜制成的电容器相比容量更大。薄膜方阻从边缘加厚区向留边处渐变增大(金属层厚度渐变减小)，达到电流密度近似均匀分布，能显著提高抗电强度，自愈性能和耐压性能都得到提升。并且在蒸着薄部分方阻能够达到40～50Ω/□。
附图说明
图1是现有技术中金属化薄膜结构示意图；
图2是本发明的金属化薄膜结构示意图。
具体实施方式
下面结合具体实施例，进一步阐述本发明。应理解，这些实施例仅用于说明本发明而不用于限制本发明的范围。此外应理解，在阅读了本发明讲授的内容之后，本领域技术人员可以对本发明作各种改动或修改，这些等价形式同样落于本申请所附权利要求书所限定的范围。
本发明的实施方式涉及一种薄膜电容器用金属化薄膜，如图2所示，包括介质层1和金属化膜层2，所述的金属化膜层2与介质层1相互结合，并在所述的介质层1一端留有错边11，所述的金属化膜层2呈三角形状；所述的金属化膜层2厚的一边位于所述的金属化膜层2与介质层1相结合后的金属化端边。由此可见，本发明相比原来的金属化薄膜减少了金属加厚层，制作工艺更为简单，并且用其制成的电容器在同等体积的情况下与传统薄膜制成的电容器相比容量更大。其中，介质层采用聚丙烯、聚酯、聚苯乙烯、或聚苯硫醚制成；金属化膜层采用锌或锌铝合金制成。
所述的金属化膜层2的方阻从所述的金属化端边向错边11处逐渐增大，即随着金属化膜层2的厚度渐变减小，达到电流密度近似均匀分布，能显著提高抗电强度，自愈性能和耐压性能都得到提升。金属化膜层2分为蒸着厚部分21和蒸着薄部分22，蒸着厚部分21大约占整个金属化膜层2的三分之一，其方阻为5Ω/□，那么蒸着薄部分22占整个金属化膜层2的三分之二，其方阻为40～50Ω/□。如此可使得电容器端面方阻小，制作的电容器接触电阻小，产品特性好。
本发明的实施方式还涉及一种薄膜电容器用金属化薄膜的制作方法，包括以下步骤：将金属材料镀膜在介质层上，在所述的介质层一端留有错边，形成金属化膜层，所述的金属化膜层呈三角形状，其中，金属化膜层厚的一边位于所述的金属化膜层与介质层相结合后的金属化端边。其中，介质层采用聚丙烯、聚酯、聚苯乙烯、或聚苯硫醚制成；用于制作金属化膜层的金属材料为锌或锌铝合金。由此可见，本发明只需一步便可完成，与现有技术相比，无需在镀完金属化膜层后再加镀金属加厚层，工艺十分简便。
Claims (8)
1.一种薄膜电容器用金属化薄膜，包括介质层(1)和金属化膜层(2)，所述的金属化膜层(2)与介质层(1)相互结合，并在所述的介质层(1)一端留有错边(11)，其特征在于，所述的金属化膜层(2)呈三角形状；所述的金属化膜层(2)厚的一边位于所述的金属化膜层(2)与介质层(1)相结合后的金属化端边。
2.根据权利要求1所述的薄膜电容器用金属化薄膜，其特征在于，所述的金属化膜层(2)的方阻从所述的金属化端边向错边处逐渐增大。
3.根据权利要求2所述的薄膜电容器用金属化薄膜，其特征在于，所述的金属化膜层(2)分为蒸着厚部分(21)和蒸着薄部分(22)；所述的蒸着厚部分(21)的方阻为5Ω/□；所述的蒸着薄部分(22)的方阻为40～50Ω/□。
4.根据权利要求1所述的薄膜电容器用金属化薄膜，其特征在于，所述的介质层(1)采用聚丙烯、聚酯、聚苯乙烯、或聚苯硫醚制成。
5.根据权利要求1所述的薄膜电容器用金属化薄膜，其特征在于，所述的金属化膜层(2)采用锌或锌铝合金制成。
6.一种薄膜电容器用金属化薄膜的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：将金属材料镀膜在介质层上，在所述的介质层一端留有错边，形成金属化膜层，所述的金属化膜层呈三角形状，其中，金属化膜层厚的一边位于所述的金属化膜层与介质层相结合后的金属化端边。
7.根据权利要求6所述的薄膜电容器用金属化薄膜的制作方法，其特征在于，所述的介质层采用聚丙烯、聚酯、聚苯乙烯、或聚苯硫醚制成。
8.根据权利要求6所述的薄膜电容器用金属化薄膜的制作方法，其特征在于，所述的金属材料为锌或锌铝合金。
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Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103456492A (zh) * | 2013-09-06 | 2013-12-18 | 安徽赛福电子有限公司 | 高方阻铝膜 |
| CN103578755A (zh) * | 2013-10-15 | 2014-02-12 | 铜陵其利电子材料有限公司 | 滤波电容器用高方阻金属化膜 |
| CN103578754A (zh) * | 2013-10-15 | 2014-02-12 | 铜陵其利电子材料有限公司 | 电容器用渐变方阻铝锌金属化膜 |
| CN103756128A (zh) * | 2013-12-18 | 2014-04-30 | 芜湖万润机械有限责任公司 | 一种电容器用等规聚乙烯金属化薄膜及其制备方法 |
| CN104143434A (zh) * | 2014-08-06 | 2014-11-12 | 安徽源光电器有限公司 | 一种具有渐进式镀层的新型小型化电容器 |
| CN112366081A (zh) * | 2020-09-24 | 2021-02-12 | 铜陵市超越电子有限公司 | 斜面型金属化薄膜及其制备装置和加工方法 |
| CN113345714A (zh) * | 2021-07-05 | 2021-09-03 | 广东省塑镕科技有限公司 | 一种盒装金属化薄膜电容器的制作方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN2262284Y (zh) * | 1996-04-30 | 1997-09-10 | 成都皮克电力电子技术研究所 | 中频脉冲电容器 |
| CN1208940A (zh) * | 1997-04-25 | 1999-02-24 | 东丽株式会社 | 金属蒸镀薄膜、其制造方法及使用它的电容器 |
| US20060006063A1 (en) * | 2004-07-07 | 2006-01-12 | Tdk Corporation | Method of manufacturing electrode and electrode |
| CN1753114A (zh) * | 2004-09-22 | 2006-03-29 | 安徽铜峰电子股份有限公司 | 一种渐变方阻金属化膜和包含该金属化膜的电容器 |
-
2011
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Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN2262284Y (zh) * | 1996-04-30 | 1997-09-10 | 成都皮克电力电子技术研究所 | 中频脉冲电容器 |
| CN1208940A (zh) * | 1997-04-25 | 1999-02-24 | 东丽株式会社 | 金属蒸镀薄膜、其制造方法及使用它的电容器 |
| US20060006063A1 (en) * | 2004-07-07 | 2006-01-12 | Tdk Corporation | Method of manufacturing electrode and electrode |
| CN1753114A (zh) * | 2004-09-22 | 2006-03-29 | 安徽铜峰电子股份有限公司 | 一种渐变方阻金属化膜和包含该金属化膜的电容器 |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103456492A (zh) * | 2013-09-06 | 2013-12-18 | 安徽赛福电子有限公司 | 高方阻铝膜 |
| CN103456492B (zh) * | 2013-09-06 | 2016-10-19 | 安徽赛福电子有限公司 | 高方阻铝膜 |
| CN103578755A (zh) * | 2013-10-15 | 2014-02-12 | 铜陵其利电子材料有限公司 | 滤波电容器用高方阻金属化膜 |
| CN103578754A (zh) * | 2013-10-15 | 2014-02-12 | 铜陵其利电子材料有限公司 | 电容器用渐变方阻铝锌金属化膜 |
| CN103756128A (zh) * | 2013-12-18 | 2014-04-30 | 芜湖万润机械有限责任公司 | 一种电容器用等规聚乙烯金属化薄膜及其制备方法 |
| CN104143434A (zh) * | 2014-08-06 | 2014-11-12 | 安徽源光电器有限公司 | 一种具有渐进式镀层的新型小型化电容器 |
| CN112366081A (zh) * | 2020-09-24 | 2021-02-12 | 铜陵市超越电子有限公司 | 斜面型金属化薄膜及其制备装置和加工方法 |
| CN112366081B (zh) * | 2020-09-24 | 2022-05-27 | 铜陵市超越电子有限公司 | 斜面型金属化薄膜及其制备装置和加工方法 |
| CN113345714A (zh) * | 2021-07-05 | 2021-09-03 | 广东省塑镕科技有限公司 | 一种盒装金属化薄膜电容器的制作方法 |
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