CN102262257B - 图案化相位延迟膜及其制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种图案化相位延迟膜及其制造方法。一种具备微结构的图案化相位延迟膜,包括第一基材,相位延迟层位于该第一基材之上,以及第二基材贴合于该相位延迟层之上。该相位延迟层包括复数个具有液晶材料的第一相位延迟区以及复数个具有可固化树脂的第二相位延迟区,其中该第一相位延迟区以及该第二相位延迟区为格栅状带形结构且彼此间平行交错,该第一相位延迟区提供第一相位延迟,该第二相位延迟区提供第二相位延迟,且该第一相位延迟与该第二相位延迟之差为180°。
Description
技术领域
本发明涉及一种图案化相位延迟膜及其制造方法,特别是涉及一种制造图案化相位延迟膜的压印方法。
背景技术
将图案化相位延迟膜应用于液晶显示器中,观看者经由配戴偏光眼镜可以观赏到3D立体影像,这是众所熟知的技术,并且已有多种制造图案化相位延迟膜的方法公开发表。
在相关技术领域中已存在一些制造图案化相位延迟膜的方法,例如美国专利号6,624,863揭露了一种制作图案化相位延迟膜的方法,以及美国专利号6,498,679揭露了一种使用单片相位延迟膜制作的微结构相位差膜。
本发明提供了一个利用压印制造图案化相位延迟膜的新颖方法。
发明内容
本发明涉及一种图案化相位延迟膜及其制造方法,特别是涉及一种制造图案化相位延迟膜的压印方法。
根据本发明的一种实施方式,提出了一种具备微结构的图案化相位延迟膜,其包括第一基材,相位延迟层位于该第一基材之上,以及第二基材贴合于该相位延迟层之上。该相位延迟层包括复数个具有液晶材料的第一相位延迟区以及复数个具有可固化树脂的第二相位延迟区,其中该第一相位延迟区以及该第二相位延迟区为格栅状带形结构且彼此间平行交错,该第一相位延迟区提供第一相位延迟,该第二相位延迟区提供第二相位延迟,且该第一相位延迟与该第二相位延迟之差为180°。该相位延迟层的第一区域还提供配向层,以与该第一区域中的液晶材料配向。
在根据本发明的实施方式的图案化相位延迟膜中,该相位延迟层的厚度在1~4微米范围内。
在根据本发明的实施方式的图案化相位延迟膜中,该第一相位延迟区还包括配向层,与该第一相位延迟区中的液晶材料配向。
在根据本发明的实施方式的图案化相位延迟膜中,该第一基材和该第二基材独立地选自聚对苯二甲酸二乙酯、聚碳酸酯、三醋酸纤维素、聚甲基丙烯酸甲酯、和环烯烃聚合物所组成的组。
在根据本发明的实施方式的图案化相位延迟膜中,该第一基材和该第二基材为相同或不同。
在根据本发明的实施方式的图案化相位延迟膜中,该第一基材的厚度在30~300微米范围内。
在根据本发明的实施方式的图案化相位延迟膜中,该第一基材的相位延迟实质为0°。
在根据本发明的实施方式的图案化相位延迟膜中,该可固化树脂选自丙烯酸系树脂(acrylic resin)、硅树脂(silicone)、和聚氨基甲酸酯(polyurethane)所组成之群组。
在根据本发明的实施方式的图案化相位延迟膜中,还包括至少一选自硬涂层(hard-coating film)、低反射膜(low reflective film)、抗反射膜(anti-reflective film)、和抗眩光膜(anti-glaring film)的光学膜黏附于该图案化相位延迟膜之上。
根据本发明的另一种实施方式,提出了一种具备微结构的图案化相位延迟膜的制造方法,包括以下步骤。提供第一基材。涂布可固化树脂于该第一基材之上。以预定图案压印该可固化树脂以形成图案化结构,其包括复数个第一区域以及复数个第二区域,其中该图案化结构具备格栅状带形结构且该第一区域为格栅状凹槽并且与该第二区域平行交错。固化该图案化结构。在该图案化结构上形成配向层。设置液晶材料于该图案化结构的该第一区域内的该配向层上,以与该第二区域共同形成相位延迟层。提供第二基材并贴合该第二基材于该相位延迟层上。沿该配向层配向并固化该第一区域中的液晶材料以形成复数个第一相位延迟区。该第一相位延迟区提供第一相位延迟,该第二区域提供第二相位延迟,该第一相位延迟与该第二相位延迟之差为180°。
在根据本发明的实施方式的图案化相位延迟膜制造方法中,该第一基材和该第二基材独立地选自聚对苯二甲酸二乙酯(polyethyleneterephthalate,PET)、聚碳酸酯(polycarbonate,PC)、三醋酸纤维素(triacetylcellulose,TAC)、聚甲基丙烯酸甲酯(polymethyl methacrylate,PMMA)、和环烯烃聚合物(cyclo-olefin polymer,COP)所组成的组。
在根据本发明的实施方式的图案化相位延迟膜制造方法中,该第一基材和该第二基材为相同或不同。
在根据本发明的实施方式的图案化相位延迟膜制造方法中,该相位延迟层的厚度在1~4微米范围内。
在根据本发明的实施方式的图案化相位延迟膜制造方法中,该第一基材的相位延迟实质为0°。
在根据本发明的实施方式的图案化相位延迟膜制造方法中,该可固化树脂选自丙烯酸系树脂(acrylic resin)、硅树脂(silicone)、和聚氨基甲酸酯(polyurethane)所组成的组。
在根据本发明的实施方式的图案化相位延迟膜制造方法中,该配向层经由一方法所形成,该方法选自微刮痕配向(micro-scratch alignmenttreatment)、刷磨式配向(rubbing treatment)、光配向(photo-alignment)、二氧化硅蒸发法(SiO2 evaporation)、和离子束配向法(ion beam alignment)所组成之群组。
在根据本发明的实施方式的图案化相位延迟膜制造方法中,沿该配向层配向该液晶材料在配向温度下进行,该配向温度在约45~100℃范围内。
在根据本发明的实施方式的图案化相位延迟膜制造方法中,该液晶材料经由一方法所固化,该方法选自紫外线固化(UV curing treatment)和热固化(thermal curing treatment)所组成的组。
根据本发明的实施方式的图案化相位延迟膜制造方法,还包括黏附至少一光学膜至该图案相延迟膜之上,该光学膜选自硬涂层(hard-coatingfilm)、低反射膜(low reflective film)、抗反射膜(anti-reflective film)、和抗眩光膜(anti-glaring film)所组成的组。
根据本发明的又一种实施方式,提供了一种图案化相位延迟膜的制造方法,包括:提供第一基材;涂布可固化树脂于该第一基材之上;以预定图案压印该可固化树脂以形成图案化结构,其包括复数个第一区域以及复数个第二区域,其中该图案化结构具备格栅状带形结构且该第一区域为格栅状凹槽并且与该第二区域平行交错;固化该图案化结构;在该图案化结构上形成配向层;设置液晶材料于该图案化结构的该第一区域内的该配向层上以与该第二区域共同形成相位延迟层;提供第二基材,该第二基材具备配向层形成于其上;贴合该具备配向层的第二基材于该相位延迟层之上;和沿该配向层配向并固化该第一区域中的该液晶材料以形成复数个第一相位延迟区;其中该第一相位延迟区提供第一相位延迟,该第二区域提供第二相位延迟,该第一相位延迟与该第二相位延迟之差为180°。
根据本发明的又一种实施方式,该配向层可形成于该第二基材上以替换形成于该图案化结构上。
根据本发明的再一种实施方式,还包括黏附至少一光学膜至该图案化相位延迟膜上,例如,硬涂层(hard-coating film)、低反射膜(low reflectivefilm)、抗反射膜(anti-reflective film)、和抗眩膜(anti-glaring film)。
根据本发明的又一种实施方式,该图案化相位延迟膜可黏附于显示面板上以提供观赏者一立体影像。
为让本发明的上述内容能更明显易懂,下文特举实施例,并结合附图,以上述实施例与图示非用以限定本发明的前提作详细说明如下:
附图说明
图1示出了依照本发明一实施例的图案化相位延迟膜的剖面示意图。
图2示出了依照本发明一实施例的图案化相位延迟膜制造方法的流程图。
图3A至3D示出了依照本发明一实施例的图案化相位延迟膜制造方法的步骤图。
图4示出了依照本发明一实施例的制造图案化相位延迟膜制程示意图。
图5示出了依照本发明另一实施例的图案化相位延迟膜的剖面示意图。
具体实施方式
本发明所附图示用以详细说明目的,并非用以限定本发明内容。
图1示出了依照本发明一实施例的图案化相位延迟膜100的剖面示意图。该图案化相位延迟膜100包括第一基材110、相位延迟层135以及第二基材150。相位延迟层135包括复数个具有液晶材料的第一相位延迟区140以及复数个具有可固化树脂的第二相位延迟区120,其中第一相位延迟区140以及第二相位延迟区120为格栅状带形结构且彼此间平行交错。第一相位延迟区140中的液晶材料沿其底部121的配向层130配向。第一相位延迟区140提供第一相位延迟,第二相位延迟区120提供第二相位延迟,且第一相位延迟与第二相位延迟之差为180°。
第一基材110与第二基材150可以例如是,聚对苯二甲酸二乙酯(polyethylene terephthalate,PET)、聚碳酸酯(polycarbonate,PC)、三醋酸纤维素(triacetyl cellulose,TAC)、聚甲基丙烯酸甲酯(polymethylmethacrylate,PMMA)、或环烯烃聚合物(cyclo-olefin polymer,COP)。在本发明的图案化相位延迟膜的一实施例中,第一基材110与第二基材150为相同基材。在另一实施例中,第一基材110与第二基材150为不同基材,其中采用基材的相位延迟、厚度、或材料为不同。第一基材110与第二基材150的厚度在30~300微米(μm)范围内。第一基材110与第二基材150的相位延迟小于90°,优选地,第一基材110与第二基材150的相位延迟实质为0°。
相位延迟层135的厚度D1系在0.1~9.9微米(μm)范围内,优选地在1~4微米(μm)范围内。相位延迟层的厚度决定于当第一相位延迟区140具备此厚度时所提供的相位延迟,例如1/2λ(波长单位)。并且,第一相位延迟区140的相位延迟决定于采用的聚合物液晶材料特性,例如该液晶材料所提供的相位延迟以及采用之厚度此些所属技术领域中具有通常知识者所熟知之特性。于一较佳实施例中,第一相位延迟区140之液晶材料系为RMS10-021(光聚合物活性液晶溶液,默克光电科技股份有限公司,台湾),第一相位延迟区140的厚度为2.1微米(μm)。第一相位延迟区140的个别宽度W1在10~900微米(μm)范围内,每两个邻近的第一相位延迟区140的间距D2在10~900微米(μm)范围内,上述宽度W1与间距D2决定于采用的显示面板的点距尺寸(pitch size)与观看距离。例如,在本发明的图案化相位延迟膜的一实施例中,应用于一个15.6时的液晶显示面板(型号156XW01,友达光电)时,第一相位延迟区140的个别宽度W1约为250微米(μm)。
在本发明的图案化相位延迟膜的一实施例中,如图1所示,配向层130形成于第一相位延迟区140的底部121以与其中的液晶材料配向。在另一实施例中,如图5所示,配向层530形成于第二基材550上,因而当第二基材550上的配向层530贴合于相位延迟层535上之后,第一相位延迟区540中的液晶材料可沿配向层530配向。
图2与图3A~3D为本发明的制造方法之一优选实施例的示意图。图2示出了依照本发明一实施例的图案化相位延迟膜制造方法的流程图,图3A至3D示出了依照本发明一实施例的图案化相位延迟膜制造方法的步骤图。
在步骤S201中,提供第一基材310。第一基材310的相位延迟小于90°,优选地,第一基材310的相位延迟实质为0°。第一基材310可以例如是,聚对苯二甲酸二乙酯(polyethylene terephthalate,PET)、聚碳酸酯(polycarbonate,PC)、三醋酸纤维素(triacetyl cellulose,TAC)、聚甲基丙烯酸甲酯(polymethyl methacrylate,PMMA)、或环烯烃聚合物(cyclo-olefinpolymer,COP)。第一基材310的厚度在30~300微米(μm)范围内。
在步骤S202中,如图3A所示,将一可固化树脂3201涂布在第一基材310的表面310a上。可固化树脂3201的涂布方式为所属技术领域中普通技术人员熟知,例如是狭缝涂布(die coating)或凹版印刷式涂布(gravurecoating)。可固化树脂3201可以是紫外线固化树脂(UV curable resin)或热固化树脂(thermo-curable resin),例如是丙烯酸系树脂(acrylic resin)、硅树脂(silicone)、或聚氨基甲酸酯(polyurethane)。在步骤S203中,以一预定图案压印该可固化树脂3201以形成图案化结构320于第一基材310上,该图案化结构320包括复数个第一区域321以及复数个第二区域322。压印可由表面具备预定图案的印章或滚轮实行,在本发明的图案化相位延迟膜的制造方法的一实施例中,如图4所示,压印可以由例如一个模具滚轮实行。模具滚轮413的表面配置一组浮雕结构413a与一组凹槽结构413b,该组浮雕结构413a沿模具滚轮413的转动方向延伸。在另一组实施例中,浮雕结构413a的延伸方向与模具滚轮413的转动方向为垂直(图中未示出)。
当第一基材310上的可固化树脂3201经过模具滚轮413,如图3B所示,格栅状图案化结构320形成。图案化结构320包括复数个第一区域321以及复数个第二区域322,第一区域321为格栅状凹槽并且与该第二区域322平行交错。格栅状凹槽的深度D3与宽度W2以及相邻两个格栅状凹槽的间距D4的决定方式同前文所述。格栅状凹槽的深度D3在0.1~9.9微米(μm)范围内,格栅状凹槽的宽度W2在10~900微米(μm)范围内,而相邻两个格栅状凹槽的间距D4系在10~900微米(μm)范围内。
在步骤S204中,将图案化结构320固化。固化方式可以经由例如紫外线固化或热固化完成。
图案化结构320在步骤S204中固化后,如图3C所示,在步骤S205中,在该图案化结构320的表面上形成配向层330。配向层330的形成方式为所属技术领域中普通技术人员熟知的方法,例如微刮痕配向(micro-scratch alignment treatment)、刷磨式配向(rubbing treatment)、光配向(photo-alignment)、二氧化硅蒸发法(SiO2 evaporation)、或离子束配向法(ionbeam alignment)。在本发明的图案化相位延迟膜的制造方法的另一实施例中,配向层并不必须形成于图案化结构320的表面上,如图5所示,配向层可形成于第二基材上再贴合于相位延迟层535之上。同样地,配向层形成于第二基材上的方式为所属技术领域中普通技术人员熟知的工艺,例如微刮痕配向(micro-scratch alignment treatment)、刷磨式配向(rubbingtreatment)、光配向(photo-alignment)、二氧化硅蒸发法(SiO2evaporation)、或离子束配向法(ion beam alignment)。
在步骤S206中,将液晶材料设置于图案化结构320的第一区域321中。液晶材料的设置方式为所属技术领域中普通技术人员熟知的工艺。在本发明的图案化相位延迟膜的制造方法的一实施例中,液晶材料的设置方式例如狭缝涂布(die coating)或凹版印刷式涂布(gravure coating)。在本发明的图案化相位延迟膜的制造方法的一实施例中,液晶材料为聚合物液晶材料,例如BASF LC242(聚合物液晶双丙烯酸酯,BASF,德国)和RMS10-021(光聚合物活性液晶溶液,默克光电科技股份有限公司,台湾)。液晶材料可因应后续涂布需要先混合于溶剂中,液晶溶液的固含量在10%~50%范围内,优选地,液晶溶液的固含量实质约20%。使用的溶剂为所属技术领域中普通技术人员熟知,例如丙二醇单甲醚醋酸酯(propyleneglycol monomethyl ether acetate,PGMEA)。在本发明的一实施例中,液晶材料根据其固含量以预定厚度涂布于图案化结构320的整个表面上,因此使得液晶材料在去除溶剂后具备的厚度可提供一相位延迟,例如1/2λ(波长单位)。接着,液晶材料中的溶剂便以加热方式移除,此加热温度为约45℃至100℃范围内,优选为约50℃至70℃范围内。溶剂移除后,液晶材料填满第一区域321的格栅状凹槽以形成相位延迟层335。在本发明的图案化相位延迟膜的制造方法的另一实施例中,液晶材料可以是无溶剂的,涂布于图案化结构320上并填满第一区域321,可经由预热方式利于无溶剂液晶材料的涂布。
在步骤S207中,提供第二基材350。在本发明的图案化相位延迟膜的制造方法的一实施例中,第二基材350与第一基材310可以是相同的。在另一实施例中,第二基材350与第一基材310可以是不同的,例如,采用的第一基材与第二基材的相位延迟或材料可以是不同的。在步骤S208中,加压贴合第二基材350至相位延迟层335的表面上。在步骤S208加压贴合第二基材350的过程中,在第二区域322上的液晶材料会被压入第一区域321或压出第二区域322之表面。
在本发明的图案化相位延迟膜的制造方法的另一实施例中,第二基材350贴合于具备配向层于其上的相位延迟层335上。在本实施例中,配向层在贴合之前形成于第二基材350上(图中未示出)。配向层的形成方式为所属技术领域中普通技术人员熟知的方法,例如微刮痕配向(micro-scratch alignment treatment)、刷磨式配向(rubbing treatment)、光配向(photo-alignment)、二氧化硅蒸发法(SiO2 evaporation)、或离子束配向法(ionbeam alignment)。在另一个实施例中,在图案化相位延迟膜中,可同时在第一区域321的底部与在第二基材上都具备配向层,前提是此两个配向层的配向方向实质上为相同。
当第二基材350在步骤S208中贴合于相位延迟层335上之后,在步骤S209中,图案化相位延迟膜300进行配向处理以将液晶材料配向。在本发明的图案化相位延迟膜的制造方法的一实施例中,液晶材料沿第一区域321底部的配向层330配向。在本发明的图案化相位延迟膜的制造方法的另一实施例中,液晶材料沿第二基材350上的配向层配向。在本发明的图案化相位延迟膜的制造方法的又一实施例中,液晶材料同时沿第一区域321底部上以及第二基材上的配向层配向。在本发明的图案化相位延迟膜的制造方法的一实施例中,采用RM10-021为液晶材料,对液晶材料加热的温度在约40℃至65℃范围内,优选在约45℃至58℃范围内。在本发明的图案化相位延迟膜的制造方法的一优选实施例中,配向温度在约55℃。
在步骤S210中,图案化相位延迟膜300进行固化处理以固化第一区域321中的液晶材料以形成复数个第一相位延迟区340。固化处理可以经由例如紫外线固化或热固化完成。在本发明的图案化相位延迟膜的制造方法的一实施例中,采用RM10-021为液晶材料以形成第一相位延迟区340,第一相位延迟区340的厚度2.1微米(μm)。因此,如图3D所示制造的图案化相位延迟膜300,由于其第二区域322的相位延迟实质为零,第一相位延迟区340与第二区域322的相位延迟差为180°。在本发明的图案化相位延迟膜的制造方法的另一实施例中,如图5所示,配向层530如前述形成于第二基材550上,第一相位延迟区540与第二区域522的相位延迟差为180°。
本发明的图案化相位延迟膜制造方法可以批次工艺(batch production)或连续工艺(continuous production)实行。图4示出了依照本发明一实施例的制造图案化相位延迟膜连续工艺系统示意图,例如,卷对卷系统(roll-to-roll system)。系统400用以制造本发明的图案化相位延迟膜。第一基材410自第一滚轮411放卷并传送经过涂布装置412以涂布可固化树脂420于其上。接着,以前述的模具滚轮413对可固化树脂420进行压印处理,以形成具备格栅状结构的图案化结构430,其包括复数个第一区域与复数个第二区域,其中第一区域为格栅状凹槽并且与第二区域平行交错。图案化结构430接着经由固化装置414进行固化处理,固化装置414为紫外线固化装置或热固化装置。在本发明的图案化相位延迟膜的制造方法的一实施例中,图案化结构430固化后,在已固化图案化结构440上形成配向层(图中未示出)。接着,经由液晶涂布装置415涂布液晶材料至已固化图案化结构440上。在本发明的图案化相位延迟膜的制造方法的一实施例中,液晶材料与溶剂混合后形成一液晶材料溶液(光聚合物活性液晶元溶液)并且随后涂布至已固化图案化结构440之上,接着经由加热处理将液晶材料溶液中的溶剂移除并同时令液晶材料配向。加热温度为约45℃至100℃范围内,优选为约50℃至70℃范围内。在本发明的另一实施例中,液晶材料可以是无溶剂的并且经由液晶涂布装置415直接涂布于已固化图案化结构440之上。
第二基材460自第二滚轮416放卷并经由层压装置417贴合至已涂布液晶的图案化结构450之上。在本发明的一实施例中,第二基材460的表面与已涂布液晶的图案化结构450的表面经由层压装置417而加压紧密贴合,层压装置417可以例如是两个滚轮,贴合的压力决定于两个滚轮之间的距离。在一实施例中,第二基材460贴合至已具备配向层的已涂布液晶的图案化结构450之上。在另一实施例中,配向层于贴合之前形成于第二基材之上,具备配向层的第二基材加压贴合于相位延迟层上(图中未示出)。贴合完成后的层合膜470经过配向装置418以令液晶材料沿配向层配向。在本发明的图案化相位延迟膜的制造方法的一实施例中,配向处理的温度为约45℃至100℃范围内。在一优选实施例中,配向温度为约50℃至70℃范围内。配向完成后,以液晶固化装置419固化液晶材料。固化装置419是紫外线固化装置或是热固化装置。完成固化后,如图4所示,图案化相位延迟膜接着收卷至滚轮411a。
在本发明的一实施例的制造方法制造的图案化相位延迟膜表面可再黏附至少一光学膜,例如是硬涂层(hard-coating film)、低反射膜(lowreflective film)、抗反射膜(anti-reflective film)、或抗眩膜(anti-glaring film),以进一步提供额外所需的光学特性。
综上所述,虽然本发明已以实施例揭露如上,然其并非用以限定本发明。本发明所属技术领域中普通技术人员,在不脱离本发明的精神和范围内,当可作各种更动与润饰。因此,本发明的保护范围当视后附权利要求书的界定为准。
主要组件符号说明
100、300、500:图案化相位延迟膜
110、310、410:第一基材
120:第二相位延迟区
121:底部
130、330、530:配向层
135、335、535:相位延迟层
140、340、540:第一相位延迟区
150、350、460、550:第二基材 310a:表面
320、430:图案化结构 3201、420:可固化树脂
321:第一区域 322:第二区域
400:系统 411:第一滚轮
411a:滚轮 412:涂布装置
413:模具滚轮 413a:浮雕结构
413b:凹槽结构 414:固化装置
415:液晶涂布装置 416:第二滚轮
417:层压装置 418:配向装置
419:液晶固化装置 440:已固化图案化结构
450:已涂布液晶之图案化结构 470:层合膜
D1:厚度 D2:间距
D3:深度 D4:间距
W1:宽度 W2:宽度
S201~S210:步骤。
Claims (20)
1.一种用于立体显示的图案化相位延迟膜,其特征在于,包括:
第一基材;
相位延迟层,其位于所述第一基材之上并包括复数个具有液晶材料的第一相位延迟区以及复数个具有可固化树脂的第二相位延迟区,其中所述第一相位延迟区以及所述第二相位延迟区为格栅状带形结构且彼此间平行交错,所述第一相位延迟区提供第一相位延迟,所述第二相位延迟区提供第二相位延迟;和
第二基材,贴合于所述相位延迟层上;
其中所述第一相位延迟与所述第二相位延迟之差为180°。
2.根据权利要求1所述的图案化相位延迟膜,其中所述相位延迟层的厚度在1~4微米范围内。
3.根据权利要求1所述的图案化相位延迟膜,其中所述第一相位延迟区还包括配向层,与所述第一相位延迟区中的液晶材料配向。
4.根据权利要求1所述的图案化相位延迟膜,其中所述第一基材和所述第二基材独立地选自聚对苯二甲酸二乙酯、聚碳酸酯、三醋酸纤维素、聚甲基丙烯酸甲酯、和环烯烃聚合物所组成的组。
5.根据权利要求1所述的图案化相位延迟膜,其中所述第一基材和所述第二基材为相同或不同。
6.根据权利要求1所述的图案化相位延迟膜,其中所述第一基材的厚度在30~300微米范围内。
7.根据权利要求1所述的图案化相位延迟膜,其中所述第一基材的相位延迟实质为0°。
8.根据权利要求1所述的图案化相位延迟膜,其中所述可固化树脂选自丙烯酸系树脂、硅树脂、和聚氨基甲酸酯所组成的组。
9.根据权利要求1所述的图案化相位延迟膜,还包括至少一选自硬涂层、低反射膜、抗反射膜、和抗眩光膜的光学膜黏附于所述图案化相位延迟膜之上。
10.一种用于立体显示的图案化相位延迟膜的制造方法,其特征在于,包括:
提供第一基材;
涂布可固化树脂于所述第一基材上;
以预定图案压印所述可固化树脂以形成图案化结构,其包括复数个第一区域以及复数个第二区域,其中所述图案化结构具备格栅状带形结构且所述第一区域为格栅状凹槽并且与所述第二区域平行交错;
固化所述图案化结构;
在所述图案化结构上形成配向层;
设置液晶材料于所述图案化结构的所述第一区域内的所述配向层上以与所述第二区域共同形成相位延迟层;
提供第二基材;
贴合所述第二基材于所述相位延迟层上;和
沿所述配向层配向并固化所述第一区域中的液晶材料以形成复数个第一相位延迟区;
其中所述第一相位延迟区提供第一相位延迟,所述第二区域提供第二相位延迟,所述第一相位延迟与所述第二相位延迟之差为180°。
11.根据权利要求10所述的制造方法,其中所述第一基材和所述第二基材独立地选自聚对苯二甲酸二乙酯、聚碳酸酯、三醋酸纤维素、聚甲基丙烯酸甲酯、和环烯烃聚合物所组成的组。
12.根据权利要求10所述的制造方法,其中所述第一基材和所述第二基材为相同或不同。
13.根据权利要求10所述的制造方法,其中所述相位延迟层的厚度在1~4微米范围内。
14.根据权利要求10所述的制造方法,其中所述第一基材的相位延迟实质为0°。
15.根据权利要求10所述的制造方法,其中所述可固化树脂选自丙烯酸系树脂、硅树脂、和聚氨基甲酸酯所组成的组。
16.根据权利要求10所述的制造方法,其中所述配向层经由一方法所形成,所述方法选自微刮痕配向、刷磨式配向、光配向、二氧化硅蒸发法、和离子束配向法所组成的组。
17.根据权利要求10所述的制造方法,其中沿所述配向层配向所述液晶材料在配向温度下进行,所述配向温度在约45~100℃范围内。
18.根据权利要求10所述的制造方法,其中所述液晶材料经由一方法所固化,所述方法选自紫外线固化和热固化所组成的组。
19.根据权利要求10所述的制造方法,还包括黏附至少一光学膜至所述图案化相位延迟膜之上,所述光学膜选自硬涂层、低反射膜、抗反射膜、和抗眩光膜所组成的组。
20.一种用于立体显示的图案化相位延迟膜的制造方法,其特征在于,包括:
提供第一基材;
涂布可固化树脂于所述第一基材之上;
以预定图案压印所述可固化树脂以形成图案化结构,其包括复数个第一区域以及复数个第二区域,其中所述图案化结构具备格栅状带形结构且所述第一区域为格栅状凹槽并且与所述第二区域平行交错;
固化所述图案化结构;
在所述图案化结构上形成配向层;
设置液晶材料于所述图案化结构的所述第一区域内的所述配向层上以与所述第二区域共同形成相位延迟层;
提供第二基材,所述第二基材具备配向层形成于其上;
贴合所述具备配向层的第二基材于所述相位延迟层之上;和
沿所述图案化结构上的所述配向层或所述第二基材的配向层配向并固化所述第一区域中的所述液晶材料以形成复数个第一相位延迟区;
其中所述第一相位延迟区提供第一相位延迟,所述第二区域提供第二相位延迟,所述第一相位延迟与所述第二相位延迟之差为180°。
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US8828650B2 (en) * | 2011-09-13 | 2014-09-09 | Far Eastern New Century Corporation | Method for making a retarder |
TWI447447B (zh) * | 2012-02-22 | 2014-08-01 | Far Eastern New Century Corp | Method of manufacturing phase difference plate |
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CN102707362B (zh) * | 2012-05-21 | 2015-03-18 | 京东方科技集团股份有限公司 | 相位延迟器及其制备方法、偏振相位延迟器、显示装置 |
TW201350918A (zh) * | 2012-06-01 | 2013-12-16 | Ind Tech Res Inst | 圖案化相位差薄膜及其製造方法 |
JP5970731B2 (ja) | 2012-11-29 | 2016-08-17 | エルジー・ケム・リミテッド | 周期的なマイクロパターンを有する光学フィルタおよびこれを含む表示装置 |
TWI485436B (zh) | 2013-02-04 | 2015-05-21 | Au Optronics Corp | 顯示裝置及其相位延遲膜製作方法 |
US9061463B2 (en) * | 2013-02-28 | 2015-06-23 | Eastman Kodak Company | Embossed micro-structure with cured transfer material method |
TWI509331B (zh) * | 2013-08-01 | 2015-11-21 | Far Eastern New Century Corp | 相位差膜的製造方法 |
CN104375229A (zh) * | 2013-08-14 | 2015-02-25 | 远东新世纪股份有限公司 | 相位差膜的制造方法 |
CN105527755A (zh) * | 2016-02-18 | 2016-04-27 | 武汉华星光电技术有限公司 | 彩膜基板以及液晶显示面板 |
CN106019456B (zh) * | 2016-08-15 | 2018-05-25 | 青岛大学 | 一种金属介质膜光栅的消色差相位延迟器 |
KR102675570B1 (ko) * | 2016-09-30 | 2024-06-13 | 삼성디스플레이 주식회사 | 편광 유닛 및 이를 포함하는 표시 장치 |
CN113189786B (zh) * | 2021-05-17 | 2022-11-04 | 宁波维真显示科技股份有限公司 | 双视3d膜及具有双视3d膜的3d显示装置 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1916726A (zh) * | 2005-08-17 | 2007-02-21 | 财团法人工业技术研究院 | 用于液晶显示器的光学元件及其制作方法 |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2631496A (en) | 1947-08-08 | 1953-03-17 | Miles P Rehorn | Stereoscopic viewing method and apparatus |
US2647440A (en) | 1947-08-08 | 1953-08-04 | Miles P Rehorn | Molecularly aligned sheet material |
US6002518A (en) | 1990-06-11 | 1999-12-14 | Reveo, Inc. | Phase-retardation based system for stereoscopic viewing micropolarized spatially-multiplexed images substantially free of visual-channel cross-talk and asymmetric image distortion |
US5264964A (en) | 1991-12-18 | 1993-11-23 | Sades Faris | Multi-mode stereoscopic imaging system |
US5692226A (en) | 1994-09-28 | 1997-11-25 | Hall; Dennis R. | Stereoscopic recording systems utilizing chiral liquid crystals |
JPH08334618A (ja) * | 1995-06-02 | 1996-12-17 | Nitto Denko Corp | 位相差フィルム及びその製造方法並びに積層偏光板 |
JP3461680B2 (ja) | 1997-03-13 | 2003-10-27 | シャープ株式会社 | 光学素子の製造方法および画像表示装置 |
US6624863B1 (en) | 1997-06-28 | 2003-09-23 | Sharp Kabushiki Kaisha | Method of making a patterned retarder, patterned retarder and illumination source |
US6192226B1 (en) | 1998-12-21 | 2001-02-20 | Motorola, Inc. | Carrier squelch processing system and apparatus |
TW473654B (en) | 1999-12-24 | 2002-01-21 | Ind Tech Res Inst | Micro-retarder |
JP4618469B2 (ja) | 2000-12-27 | 2011-01-26 | ソニー株式会社 | 画像分離装置 |
KR100603455B1 (ko) | 2000-12-30 | 2006-07-20 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 편광 입체 표시장치 및 그 제조 방법 |
GB2390172A (en) | 2002-06-28 | 2003-12-31 | Sharp Kk | Polarising optical element and display |
CN1692291A (zh) | 2002-08-01 | 2005-11-02 | 纳诺普托公司 | 精密相位延迟装置和其制造方法 |
US7557871B2 (en) * | 2002-09-26 | 2009-07-07 | Sharp Kabushiki Kaisha | Patterning phase difference plate, production method for patterning phase difference plate, 2D/3D switching type liquid crystal display panel, and 2D/3D switching type liquid crystal display unit |
JP3953434B2 (ja) | 2003-03-20 | 2007-08-08 | 株式会社ソフィア | 画像表示装置 |
JP4472460B2 (ja) * | 2004-08-19 | 2010-06-02 | 大日本印刷株式会社 | 位相差板 |
US7440044B2 (en) | 2004-11-29 | 2008-10-21 | Arisawa Manufacturing Co., Ltd. | Color display device and method |
JP4547641B2 (ja) * | 2008-09-22 | 2010-09-22 | ソニー株式会社 | 位相差板の製造方法 |
TWI425257B (zh) * | 2008-12-15 | 2014-02-01 | Sony Corp | Phase difference element and display device |
-
2010
- 2010-12-20 US US12/973,045 patent/US8520174B2/en active Active
-
2011
- 2011-03-11 CN CN201110059863.2A patent/CN102262257B/zh active Active
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1916726A (zh) * | 2005-08-17 | 2007-02-21 | 财团法人工业技术研究院 | 用于液晶显示器的光学元件及其制作方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20110292329A1 (en) | 2011-12-01 |
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