CN102081047B - 用于对基板的缺陷进行区分的方法和系统 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种用于对基板的缺陷进行区分的系统和方法，其中，该系统包括：照明单元，设置在基板的其中一个表面的外侧并且用于向基板照射光；至少一个反射镜，设置在基板的另一相对表面的外侧，并且用于反射照明单元照射并透射通过基板而入射到至少一个反射镜的光；成像单元，设置在基板的另一相对表面的外侧并且用于感测照明单元照射并透射通过基板的光和反射镜反射的光的其中两个光来拍摄至少一个二维图像，其中，所拍摄的至少一个二维图像中的每一包括相互分开的根据该其中两个光中的一个光拍摄的第一图像和根据该其中两个光中的另一个光拍摄的第二图像；图像构建模块，用于分别根据拍摄的至少一个二维图像中的各个二维图像的第一图像和第二图像，构建所述基板的两个图像；以及，图像处理模块，用于当基板存在缺陷时，根据缺陷在所构建的两个图像中的位置的相互关系，检测缺陷是位于基板的表面上的缺陷还是位于基板的内部的缺陷。利用该方法和系统，可以区分透明或半透明的基板的缺陷是位于基板表面的缺陷还是位于基板内部的缺陷。

Description

用于对基板的缺陷进行区分的方法和系统

技术领域

本发明涉及一种用于对基板的缺陷进行区分的方法和系统。 

背景技术

目前，许多领域都应用透明或半透明的基板，例如，在太阳能模块产业中，用于光伏电池或光伏模块中的图案化或结构化基板。在制造过程中，透明或半透明的基板会产生各种各样的缺陷，例如位于基板表面的划伤、脏迹和开口气泡等以及位于基板内部的闭口气泡和结石(包括黑石、白石或其他颜色的结石)等。现有技术已经提出许多缺陷检测方案用来检测透明或半透明的基板的缺陷。 

然而，随着对透明或半透明的基板的质量的要求越来越高，需要针对不同类型的缺陷采取不同的质量控制标准。在这种情况下，不但需要检测出透明或半透明的基板所存在的缺陷，而且还需要区分所检测出的缺陷是位于基板表面的缺陷还是位于基板内部的缺陷。 

发明内容

本发明的实施例提供一种用于对基板的缺陷进行区分的方法和系统，利用该方法和系统，可以区分透明或半透明的基板的缺陷是位于基板表面的缺陷还是位于基板内部的缺陷。 

按照本发明的一种用于对基板的缺陷进行区分的系统，包括：照明单元，设置在透明或半透明的基板的其中一个表面的外侧并且用于向所述基板照射光；至少一个反射镜，设置在所述基板的另一相对表面的外侧，并且用于反射所述照明单元照射并透射通过所述基板而入射到所述至少反射镜的光；成像单元，设置在所述基板的所述另一相对表面的外侧并且用于感测所述照明单元照射并透射通过所述基板 的光和所述至少反射镜反射的光的其中两个光来拍摄至少一个二维图像，其中，所述拍摄的至少一个二维图像中的每一个二维图像包括相互分开的根据所述其中两个光中的一个光拍摄的第一图像和根据所述其中两个光中的另一个光拍摄的第二图像；图像构建模块，用于分别根据所述拍摄的至少一个二维图像中的各个二维图像的所述第一图像和所述拍摄的至少一个二维图像中的各个二维图像的所述第二图像，构建所述基板的两个图像；以及，图像处理模块，用于当所述基板存在缺陷时，根据所述缺陷在所述构建的两个图像中的位置的相互关系，检测所述缺陷是位于所述基板的表面上的缺陷还是位于所述基板的内部的缺陷。 

按照本发明的一种用于对基板的缺陷进行区分的方法，包括步骤：将照明单元设置在透明或半透明的基板的其中一个表面的外侧，其中所述照明单元用于向所述基板照射光；将至少一个反射镜设置在所述基板的另一相对表面的外侧，其中，所述至少一个反射镜用于反射所述照明单元照射并透射通过所述基板而入射到所述至少一个反射镜的光；将成像单元设置在所述基板的所述另一相对表面的外侧，其中所述成像单元用于感测所述照明单元照射并透射通过所述基板的光和所述至少一个反射镜反射的光的其中两个光来拍摄至少一个二维图像，其中，所述拍摄的至少一个二维图像中的每一个二维图像包括相互分开的根据所述其中两个光中的一个光拍摄的第一图像和根据其中两个光中的另一个光拍摄的第二图像；设置图像构建模块，其中所述图像构建模块用于分别根据所述拍摄的至少一个二维图像中的各个二维图像的所述第一图像和所述拍摄的至少一个二维图像中的各个二维图像的所述第二图像，构建所述基板的两个图像；以及，设置图像处理模块，其中所述图像处理模块用于当所述基板存在缺陷时，根据所述缺陷在所述构建的两个图像中的位置的相互关系，检测所述缺陷是位于所述基板的表面上的缺陷还是位于所述基板的内部的缺陷。 

附图说明

本发明的以上和其他的特征、特点和优点通过以下结合附图的详细描述将变得更加显而易见。其中： 

图1A-1K是示出按照本发明一个实施例的用于对基板的缺陷进行区分的技术方案的概要示意图； 

图2是示出按照本发明一个实施例的用于对基板的缺陷进行区分的系统的结构示意图；以及 

图3是示出按照本发明一个实施例的照明单元和成像单元的工作时序示意图。 

具体实施方式

下面，将结合附图详细描述本发明的各个实施例。 

图1A-1K是示出按照本发明一个实施例的用于对基板的缺陷进行区分的技术方案的概要示意图。 

首先，如图1A所示，在透明或半透明的基板S的其中一个表面B 1的外侧设置照明单元L以向基板S照射光，以及，在基板S的另一相对表面B2的外侧设置反射镜F和成像单元M，其中，反射镜F对照明单元L向基板S照射并透射通过基板S而入射到反射镜F的光进行反射，成像单元M的光轴垂直于基板S的表面B1和B2并且感测照明单元L向基板S照射并透射通过基板S的光和反射镜F反射的光来拍摄二维图像。其中，成像单元M所拍摄的二维图像包括相互分开的感测照明单元L向基板S照射并透射通过基板S的光拍摄的第一图像和感测反射镜F反射的光拍摄的第二图像，如图1B所示。 

其中，由于照明单元L向基板S照射并透射通过基板S而入射到反射镜F的光不垂直于基板S的表面B1和B2，所以，在成像单元M所拍摄的二维图像中，与感测照明单元L向基板S照射并透射通过基板S的光拍摄的第一图像相比，感测反射镜F反射的光拍摄的第二图像具有压缩变形。例如，对于图1C所示出的正方形图形，在 成像单元M所拍摄的二维图像中，感测照明单元L向基板S照射并透射通过基板S的光所拍摄的第一图像如图1D所示，感测反射镜F反射的光所拍摄的第二图像如图1E所示。在图1D中，所拍摄得到的图形仍然是正方形，而在图1E中，所拍摄得到的图形却是梯形。可以看出，相对于图1D中的图形，图1E中的图形的底边没有变化，但顶边和高度都被压缩了。在相对于基板S设置好反光镜F和成像单元M之后，成像单元M所拍摄的二维图像中的第二图像的压缩变形量就已经确定。这时，例如可以把由诸如圆或正方形等这样的图形构成的标定板放置在基板S，通过计算出成像单元M所拍摄的二维图像的第二图像中的图形的压缩变形量，就可以预先确定出成像单元M所拍摄的二维图像中的第二图像的压缩变形量。 

当基板S沿着z方向移动时，成像单元M按照一定的时间间隔不断地感测照明单元L向基板S照射并透射通过基板S的光和反射镜F反射的光来拍摄至少一个二维图像。根据预先确定出的压缩变形量，拉伸成像单元M所拍摄的至少一个二维图像中的各个二维图像的第二图像，以消除所成像单元M拍摄的至少一个二维图像中的各个二维图像的第二图像的压缩变形。然后，利用成像单元M所拍摄的至少一个二维图像中的各个二维图像的第一图像可构建得到基板S的图像，同样，利用成像单元M所拍摄的至少一个二维图像中的各个二维图像的经过拉伸的第二图像也可构建得到基板S的图像。 

如图1F所示，假设在与基板S的左边相距z1且垂直于基板S的位置处，基板S存在两个缺陷D1和D2，其中，缺陷D1位于基板S的成像单元M所在一侧的表面B2上，而缺陷D2位于基板S内部，其与基板S的成像单元M所在一侧的表面B2的距离为h。 

在成像单元M按照一定的时间间隔不断地感测照明单元L向基板S照射并透射通过基板S的光和反射镜F反射的光来拍摄至少一个二维图像的过程中，当基板S沿着z方向移动到图1G所示的位置处时，成像单元M所拍摄的二维图像中的第一图像包括缺陷D1和D2；当基板S沿着z方向移动到图1H所示的位置处时，成像单元M拍摄 的二维图像中的第二图像包括缺陷D2；以及，当基板S沿着z方向移动到图1I所示的位置处时，成像单元M拍摄的二维图像中的第二图像包括缺陷D1。 

利用成像单元M所拍摄的各个二维图像中的第一图像所构建得到的基板S的图像X1如图1J所示，以及，利用成像单元M所拍摄的各个二维图像中的经过拉伸的第二图像所构建得到的基板S的图像X2如图1K所示。通过比较图1J和1K所示的基板S的两个图像X1和X2可以发现：在基板S的这两个图像X1和X2中，位于基板S的表面B2上的缺陷D1的位置是相同的，位于基板S的内部的缺陷D2的位置是不相同的而是具有偏移量d′。研究表明，随着h增大，偏移量d′也增大。此外，当缺陷D2与基板S的表面B2的距离h达到最大值，即缺陷D2位于基板S的另一相对表面B1上时，缺陷D2在图像X1和X2中出现的位置是不相同的并且其偏移量d′是最大的。 

上面的描述披露了如下规律：在分别利用成像单元M拍摄的各个二维图像中的第一图像和经过拉伸的第二图像所构建得到的基板S的两个图像中，位于基板S的表面上的缺陷的位置是相同的或者其偏移量是最大的，位于基板S的内部的缺陷的位置不相同并且其偏移量小于基板S的表面B1上的缺陷在图像X1和X2中的位置的偏移量。 

按照本发明的实施例的用于对基板的缺陷进行区分的方法和系统正是基于上面所披露的规律而设计的。 

图2是示出按照本发明一个实施例的用于对基板的缺陷进行区分的系统的结构示意图。如图2所示，用于对基板的缺陷进行区分的系统200包括照明单元210、反射镜220、成像单元230、图像构建模块240和图像处理模块250。 

照明单元210设置在透明或半透明的基板260的其中一个表面B1的外侧，用于向基板260照射光。其中，照明单元210向基板260照射的光可以是非漫射光或漫射光。在照明单元210向基板260照射 的光是漫射光的情况下，如果基板260是图案化或结构化的基板，则能够有效地减弱或消除基板260中的图案或结构对基板260的缺陷检测的影响。照明单元210可以包括一个或多个光源，以便照明单元210能在基板260的整个宽度范围上向基板260照射光。 

反射镜220设置在基板260的另一相对表面B2的外侧，用于反射照明单元210向基板260照射且透射通过基板260而入射到反射镜220的光。 

成像单元230设置在基板260的另一相对表面B2的外侧且成像单元230的光轴垂直于基板260的表面B1和B2。成像单元230用于通过感测照明单元210向基板260照射且透射通过基板260的光和反射镜220反射的光来拍摄二维图像。成像单元230所拍摄的二维图像包括感测照明单元210向基板260照射且透射通过基板260的光拍摄的第一图像和感测反射镜220反射的光拍摄的第二图像，其中，该第一图像和该第二图像在空间上是相互分开的。成像单元230和照明单元210形成第一通道，以及反射镜220、成像单元230和照明单元210形成第二通道。在系统200工作期间，当基板260沿着z方向移动时，成像单元230以预定时间间隔通过感测照明单元210向基板260照射且透射通过基板260的光和反射镜220反射的光来拍摄至少一个二维图像。 

成像单元230可以由一个或多个成像元件构成。当构成成像单元230的成像元件是多个时，该多个成像元件可以按照矩阵排列，按照直线排列，沿着一个直线在该直线两边交错排列，或者与一个直线成预定夹角间隔预定距离排列。 

图像构建模块240与成像单元230连接，用于分别利用成像单元230所拍摄的至少一个二维图像中的各个二维图像的第一图像和第二图像来构建基板260的两个图像，即利用成像单元230所拍摄的至少一个二维图像中的各个二维图像的第一图像来构建基板260的其中一个图像和利用成像单元230所拍摄的至少一个二维图像中的各个二维图像的第二图像来构建基板260的另一个图像。为了便于叙述， 将利用成像单元230所拍摄的至少一个二维图像中的各个二维图像的第一图像来构建的基板260的图像称为图像T1，以及将利用成像单元230所拍摄的至少一个二维图像中的各个二维图像的第二图像来构建的基板260的图像称作图像T2。 

其中，在利用成像单元230所拍摄的至少一个二维图像中的各个二维图像的第二图像来构建基板260的图像T2之前，图像构建模块240先拉伸成像单元230所拍摄的至少一个二维图像中的各个二维图像的第二图像，以消除成像单元230所拍摄的至少一个二维图像中的各个二维图像的第二图像具有的压缩变形。成像单元230所拍摄的至少一个二维图像中的各个二维图像的第二图像所具有的压缩变形量可以例如按照如下方法预先确定：把由诸如圆或正方形等这样的图形构成的标定板放置在基板S，通过计算出成像单元230所拍摄的二维图像的第二图像中的图形的压缩变形量，计算出成像单元230所拍摄的二维图像的第二图像的压缩变形量。 

图像处理模块250与图像构建模块240连接，用于对图像构建模块240所构建的图像T1和T2进行处理以确定基板260是否存在缺陷，以及当确定基板260存在缺陷Q时，根据缺陷Q在图像T1和T2中的位置的相互关系，检测缺陷Q是位于基板260的表面上的缺陷还是位于基板260的内部的缺陷。其中，当缺陷Q在图像T1和T2中出现的位置相同或者缺陷Q在图像T1和T2中出现的位置的偏移量等于最大偏移量ZL时，图像处理模块250检测缺陷Q是位于基板260的表面上的缺陷，以及当缺陷Q在图像T1和T2中出现的位置不相同且其偏移量小于最大偏移量ZL时，检测缺陷Q是位于基板260的内部的缺陷。 

在这里，图像处理250既可以使用同一申请人于2009年2月27日递交的、题目为“用于检测图案化基板的缺陷的方法和系统”和申请号为200910117993.X的中国专利申请所披露的技术方案来确定基板260是否存在缺陷，也可以使用现有的和以后提出的各种对图像进行处理以确定基板是否存在缺陷的技术来确定基板260是否存在缺 陷。 

最大偏移量ZL是基板260的表面B1上的缺陷在分别利用成像单元230所拍摄的二维图像中的第一图像和经过拉伸的第二图像构建而得的基板260的两个图像中的位置的偏离量。在这里，可以把由多个等间距的诸如圆或多边形等这样的图形构成的标定板放在基板260的表面B1上，计算标定板中相同的图形在分别利用二维成像单元230所拍摄的二维图像中的第一图像和经过拉伸的第二图像构建而得的基板260的两个图像中的位置的偏离量，作为最大偏移量ZL。显然，也可以使用本领域技术人员所公知的其它技术来获取最大偏移量ZL。 

以下是图像处理模块250根据缺陷Q在图像T1和T2中的位置的相互关系来检测缺陷Q是位于基板260的表面上的缺陷还是位于基板260的内部的缺陷的一个示例。首先，图像处理模块250计算缺陷Q在图像T1中的位置坐标WZ1和在图像T2中的位置坐标WZ2。接着，计算位置坐标WZ1和位置坐标WZ2的差的绝对值JZ。然后，图像处理模块250比较所计算的JZ是否等于零或者最大偏移量ZL。如果比较结果表明所计算的JZ等于零或者最大偏移量ZL，则图像处理模块250检测缺陷Q是位于基板260的表面上的缺陷，以及，如果比较结果表明所计算的JZ大于零且小于最大偏移量ZL，则图像处理模块250检测缺陷Q是位于基板260的内部的缺陷。 

图3是示出按照本发明一个实施例的照明单元和成像单元的工作时序示意图。如图3所示，照明单元210每个脉冲(T1、T2、T3、…、Tn)向基板260照射一次光，照射的持续时长为一个脉冲宽度，以及二维成像单元230每个脉冲拍摄一个二维图像。 

经由上面的实施例的描述可以看出，由于使用一个成像单元来拍摄两个通道的图像，因此，成本降低了，并且由于使用一个成像单元来拍摄两个通道的图像，所以由拍摄干扰因素的影响而导致基板的缺陷在这两个通道的图像中的位置所出现的偏差是相同的，从而利用所 拍摄的图像能更加准确地区分基板的缺陷是在基板的表面上还是在基板的内部。 

其它变型 

本领域技术人员应当理解，虽然在上面描述的实施例中，由图像处理模块250对图像构建模块240所构建的图像T1和T2进行处理以确定基板260是否存在缺陷，然而，本发明并不局限于此。在本发明的其它一些实施例中，也可以由系统200之外的其它模块而不是图像处理模块250来确定基板260是否存在缺陷。在这种情况下，图像处理模块250仅用于当基板260被确定存在缺陷Q时，根据缺陷Q在图像T1和T2中的位置的相互关系，检测缺陷Q是位于基板260的表面上的缺陷还是位于基板260的内部的缺陷。 

本领域技术人员应当理解，虽然在上面描述的实施例中，成像单元230的光轴垂直于基板260的表面B1和B2，然而，本发明并不局限于此。在本发明的其他实施例中，成像单元230的光轴也可以不垂直于基板260的表面B1和B2。在成像单元230的光轴不垂直于基板260的表面B1和B2的情况下，成像单元230所拍摄的二维图像中的根据通过感测照明单元210向基板260照射且透射通过基板260的光形成的第一图像也存在压缩变形，该第一图像的压缩变形量可以按照与确定第二图像的压缩变形量的相同方式来确定。而且，在利用成像单元230所拍摄的至少一个二维图像中的各个二维图像的第一图像来构建基板260的图像T1之前，图像构建模块240先拉伸成像单元230所拍摄的至少一个二维图像中的各个二维图像的第一图像，以消除成像单元230所拍摄的至少一个二维图像中的各个二维图像的第一图像具有的压缩变形。 

本领域技术人员应当理解，反射镜220与基板260的距离可以根据实际需要进行设置，只要反射镜220反射的光能让成像单元230接 收到并且与成像单元230所接收的照明单元210向基板260照射且透射通过基板260的光分隔开即可。 

本领域技术人员应当理解，虽然在上面描述的各个实施例中，二维成像单元230每个脉冲拍摄一个二维图像，然而，本发明并不局限于此。在本发明的其它一些实施例中，二维成像单元230也可以每两个或两个以上脉冲拍摄一个二维图像。 

本领域技术人员应当理解，虽然在上面描述的各个实施例中，照明单元210在每个脉冲(T1、T2、T3、…、Tn)向基板260照射一次光，照射的持续时长为一个脉冲宽度，然而，本发明并不局限于此。在本发明的其它一些实施例中，也可以在系统200工作期间，照明单元210一直持续地向基板260照射光。 

本领域技术人员应当理解，虽然在上面描述的各个实施例中，当系统200工作时，基板260移动，反射镜220、成像单元230和照明单元210静止不动，然而，本发明并不局限于此。在本发明的其它一些实施例中，当系统200工作时，也可以基板260静止不动，反射镜220、成像单元230和照明单元210移动。 

本领域技术人员应当理解，虽然在上面描述的各个实施例中，在系统200中仅设置一个反射镜220，并且成像单元230通过感测照明单元210向基板260照射且透射通过基板260的光和反射镜220反射的光来拍摄二维图像，该二维图像包括相互分开的感测照明单元210向基板260照射且透射通过基板260的光拍摄的第一图像和感测反射镜220反射的光拍摄的第二图像，然而，本发明并不局限于此。 

在本发明的其它一些实施例中，也可以在系统200中设置两个反射镜，即反射镜220和第二反射镜SE。与反射镜220一样，第二反射镜SE也设置在基板260的另一相对表面B2的外侧，用于反射照明单元210向基板260照射且透射通过基板260而入射到第二反射镜 SE的光。成像单元230用于通过感测第二反射镜SE反射的光和反射镜220反射的光来拍摄二维图像，该拍摄的二维图像包括相互分开的感测第二反射镜SE反射的光拍摄的第一图像和感测反射镜220反射的光拍摄的第二图像。其中，第二反射镜SE、成像单元230和照明单元210形成第一通道，以及反射镜220、成像单元230和照明单元210形成第二通道。与感测反射镜220反射的光拍摄的第二图像一样，感测第二反射镜SE反射的光拍摄的第一图像也具有压缩变形，所以在利用感测第二反射镜SE反射的光拍摄的第一图像来构建基板260的图像之前，也需要对感测第二反射镜SE反射的光拍摄的第一图像进行拉伸处理，以消除感测第二反射镜SE反射的光拍摄的第一图像的压缩变形。 

本领域技术人员应当理解，上面各个实施例中的基板可以包括在太阳能模块产业中，用于光伏电池或光伏模块中的图案化或结构化基板。 

本领域技术人员应当理解，图像构建模块240和图像处理模块250可以利用软件、硬件或软硬件结合的方式来实现。 

本领域技术人员应当理解，本发明的各个实施例可以在没有偏离发明实质的情况下做出各种变型和改变，并且这些变型和改变都应该落入本发明的保护范围。因此，本发明的保护范围由所附的权利要求书来定义。 

Claims (14)

1.一种用于对基板的缺陷进行区分的系统，包括：

照明单元，设置在透明或半透明的基板的其中一个表面的外侧并且用于向所述基板照射光；

至少一个反射镜，设置在所述基板的另一相对表面的外侧，并且用于反射所述照明单元照射并透射通过所述基板而入射到所述至少一个反射镜的光；

成像单元，设置在所述基板的所述另一相对表面的外侧并且用于感测所述照明单元照射并透射通过所述基板的光和所述至少一个反射镜反射的光的其中两个光来拍摄至少一个二维图像，其中，所述拍摄的至少一个二维图像中的每一个二维图像包括相互分开的根据所述其中两个光中的一个光拍摄的第一图像和根据所述其中两个光中的另一个光拍摄的第二图像；

图像构建模块，用于分别根据所述拍摄的至少一个二维图像中的各个二维图像的所述第一图像和所述拍摄的至少一个二维图像中的各个二维图像的所述第二图像，构建所述基板的两个图像；以及

图像处理模块，用于当所述基板存在缺陷时，根据所述缺陷在所述构建的两个图像中的位置的相互关系，检测所述缺陷是位于所述基板的表面上的缺陷还是位于所述基板的内部的缺陷。

2.如权利要求1所述的系统，其中

所述图像处理模块进一步用于当所述缺陷在所述构建的两个图像中的位置相同或者其偏移量等于最大偏移量时，检测所述缺陷是位于所述基板的表面上的缺陷，其中，所述最大偏移量等于所述基板的所述其中一个表面上的缺陷在所述构建的所述基板的两个图像中的位置的偏移量。

3.如权利要求1所述的系统，其中

所述图像处理模块进一步用于当所述缺陷在所述构建的两个图像中的位置不相同且其偏移量小于最大偏移量时，检测所述缺陷是位于所述基板的内部的缺陷，其中，所述最大偏移量等于所述基板的所述其中一个表面上的缺陷在所述构建的所述基板的两个图像中的位置的偏移量。

4.如权利要求1所述的系统，其中

所述照明单元向所述基板照射的光是漫射光。

5.如权利要求1所述的系统，其中

所述成像单元进一步用于以预定时间间隔来拍摄所述至少一个二维图像中的各个二维图像。

6.如权利要求1所述的系统，其中

所述图像构建模块进一步用于当所述至少一个二维图像中的各个二维图像的所述第一图像和/或第二图像具有压缩变形时，拉伸所述至少一个二维图像中的各个二维图像的所述第一图像和/或第二图像，以及，在对所述至少一个二维图像中的各个二维图像的所述第一图像和/或第二图像进行拉伸后，分别根据所述至少一个二维图像中的各个二维图像的所述第一图像和所述至少一个二维图像中的各个二维图像的第二图像，构建所述基板的所述两个图像。

7.如权利要求1所述的系统，其中

所述基板包括用于光伏电池或光伏模块中的图案化或结构化基板。

8.如权利要求1所述的系统，其中

当所述至少一个反射镜是一个反射镜时，所述其中两个光是所述照明单元照射并透射通过所述基板的光和所述一个反射镜反射的光，以及，当所述至少一个反射镜是两个反射镜时，所述其中两个光是所述两个反射镜各自反射的光。

9.一种用于对基板的缺陷进行区分的方法，包括步骤：

将照明单元设置在透明或半透明的基板的其中一个表面的外侧，其中所述照明单元用于向所述基板照射光；

将至少一个反射镜设置在所述基板的另一相对表面的外侧，其中，所述至少一个反射镜用于反射所述照明单元照射并透射通过所述基板而入射到所述至少一个反射镜的光；

将成像单元设置在所述基板的所述另一相对表面的外侧，其中所述成像单元用于感测所述照明单元照射并透射通过所述基板的光和所述至少一个反射镜反射的光的其中两个光来拍摄至少一个二维图像，其中，所述拍摄的至少一个二维图像中的每一个二维图像包括相互分开的根据所述其中两个光中的一个光拍摄的第一图像和根据所述其中两个光中的另一个光拍摄的第二图像；

设置图像构建模块，其中所述图像构建模块用于分别根据所述拍摄的至少一个二维图像中的各个二维图像的所述第一图像和所述拍摄的至少一个二维图像中的各个二维图像的所述第二图像，构建所述基板的两个图像；以及

设置图像处理模块，其中所述图像处理模块用于当所述基板存在缺陷时，根据所述缺陷在所述构建的两个图像中的位置的相互关系，检测所述缺陷是位于所述基板的表面上的缺陷还是位于所述基板的内部的缺陷。

10.如权利要求9所述的方法，其中

所述图像处理模块进一步用于当所述缺陷在所述构建的两个图像中的位置相同或者其偏移量等于最大偏移量时，检测所述缺陷是位于所述基板的表面上的缺陷，其中，所述最大偏移量等于所述基板的所述其中一个表面上的缺陷在所述构建的所述基板的两个图像中的位置的偏移量。

11.如权利要求9所述的方法，其中

所述图像处理模块进一步用于当所述缺陷在所述构建的两个图像中的位置不相同且其偏移量小于最大偏移量时，检测所述缺陷是位于所述基板的内部的缺陷，其中，所述最大偏移量等于所述基板的所述其中一个表面上的缺陷在所述构建的所述基板的两个图像中的位置的偏移量。

12.如权利要求9所述的方法，其中

所述照明单元向所述基板照射的光是漫射光。

13.如权利要求9所述的方法，其中

所述成像单元进一步用于以预定时间间隔来拍摄所述至少一个二维图像中的各个二维图像。

14.如权利要求9所述的方法，其中

所述图像构建模块进一步用于当所述至少一个二维图像中的各个二维图像的所述第一图像和/或第二图像具有压缩变形时，拉伸所述至少一个二维图像中的各个二维图像的所述第一图像和/或第二图像，以及，在对所述至少一个二维图像中的各个二维图像的所述第一图像和/或第二图像进行拉伸后，分别根据所述至少一个二维图像中的各个二维图像的所述第一图像和所述至少一个二维图像中的各个二维图像的第二图像，构建所述基板的所述两个图像。