CN1018822B - 墙地砖釉中印花工艺 - Google Patents
墙地砖釉中印花工艺Info
- Publication number
- CN1018822B CN1018822B CN 87100727 CN87100727A CN1018822B CN 1018822 B CN1018822 B CN 1018822B CN 87100727 CN87100727 CN 87100727 CN 87100727 A CN87100727 A CN 87100727A CN 1018822 B CN1018822 B CN 1018822B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- glaze
- coat enamel
- ground
- weight percent
- deck
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Finishing Walls (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
本发明公开了一种使其在烧成过程中能够在所印花纹上形成凸起的效果的建筑陶瓷墙地砖釉中印花工艺,其方法是首先在砖坯上施以一层厚底釉,然后用印花料在其上印花,再在印花面上施以一层面釉。烧成后,其花纹既有立体感及凹凸的线条花形,又有图案的基本规格及自然形成的艺术风格,表面光而不滑,耐磨性好,成本较低,适应机械化大批量生产。
Description
本发明属于陶瓷装饰领域。
现有的建筑陶瓷装饰工艺技术一般有以下几种方法:
(1)模具装饰:预先在成型的模具上雕刻出各种图案纹样,在陶瓷的成型过程中将模具上的纹样翻印在陶瓷坯胎上,形成一种凹凸的图案花纹,这种装饰具有较强的立体感,但由于陶瓷原料是使用干法冲压成型,原料可塑性差,难以形成精细的线条。由于此种原因,模具上的纹样线条不能精细,一般线条都较粗,且存在制模困难,特别是钢模制花纹图案更困难,因此,目前市售的建筑陶瓷墙地砖,尚未见有冲压出具有多变的图案花纹的产品。此外在冲压后的坯上需要施一层釉,这样往往使坯上的花纹模糊不清,失去了图案装饰的效果,此法只能生产比较粗的图案纹样。
(2)釉上印花装饰:采用铜网或丝网印花的方法将各种陶瓷颜料印在已上好釉的坯上,经高温锻烧,形成丰富多彩的装饰,这是当今建筑陶瓷的主要装饰方法。但这种装饰只形成一种平面花纹,其表面平滑,无立体感效果。
(3)釉下印花装饰:采用丝网印花的方法,将陶瓷颜料先印在坯胎上,然后在其上面施一层透明釉,经高温锻烧形成各种色彩的花纹图案。由于此法受到多种因素的限制:如氧化物颜料在釉下发色;要求面釉透明性强,而一般釉料都有一定乳浊性,影响其透明度;颜料与釉料的化学成份在釉下容易发生变化,因而色泽不能丰富。所以,此法目前在建筑陶瓷装饰中很少应用。
(4)在日用瓷的装饰方法中,有一种釉中加彩的方法:在釉面上加彩,然后在彩色上又上一层釉,使陶瓷颜料发色较好,其效果与釉下加彩相似。
吸取丝网印花工艺中制网方便、成本较低、适应机械化大批量生产的优点,以及模具装饰工艺中有凹凸的立体感的优点,研究出本发明所提供的一
种墙地砖釉中印花工艺,它不但具有上述两种工艺的特点,而且以有自然的艺术风格的效果。
本发明的内容是一种墙地砖釉中印花工艺。首先在砖坯上施以一层厚底釉,干燥后,用印花料在其上印花,待干燥后,在印花面上再施以一层面釉,利用底釉、面釉及印花料三种材料的表面张力和膨胀系数的差异,使其在烧成过程中,能够在所印花纹上形成凸起的效果。底釉、面釉的厚薄要求为,在面积为400平方厘米的砖面上,所施底釉为15-20克重(0.0375-0.05克/厘米2)干釉,所施面釉为2.4-5克重(0.006-0.0125克/厘米2)干釉。
建筑陶瓷墙地砖装饰,当今国内外普遍的是采用丝网釉上印花工艺,其机械化程度高,规格好,制板容易,色彩丰富,花纹清晰,成本较低,但这种印花工艺一般只有平面效果,而无立体感,表面较平滑。由于花纹在表面层,因此,花纹容易磨损。采用模具冲压印花工艺,其模具制纹困难,成本高,在冲压出的花纹上施上一层釉,使得花纹线条模糊,不清晰,且难以机械化配色。本发明所提供的釉中印花工艺方法,利用釉料与陶瓷印花料的特性,则基本上兼有丝网印花和模具印花的优点和效果,花纹有立体感,有凹凸的线条花形。它既有图案的基本规格,又有自然形成的艺术风格,表面光而不滑,耐磨性好,而且其色彩较模具印花丰富,成本较低,适应机械化大批量生产。
本发明的非限定实施例:
底釉配方(重量百分比)为:
55.38% SiO2
6.94% Al2O3
0.269% Fe2O3
8.22% Cao
7.20% Mgo
3.76% KNaO
2.30% TiO2
4.60% ZnO
0.23% Cr2O3
11.10% ZrO
釉料含水(重量百分比)为36-42%
釉料细度为万孔筛筛余0.05-0.5%
面釉配方(重量百分比)为:
53.26% SlO2
6.81% Al2O3
4.21% Fe2O3
8.11% CaO
7.11% MgO
3.75% KNaO
8.06% ZnO
0.47% Cr2O3
8.22% ZrO
釉料含水(重量百分比)为36-42%
釉料细度:万孔筛筛余0.05-0.5%
印花料配方(重量百分比)为:
10.87% 长石(湖南平江)
6.5% 茶赤(陶瓷颜料,汕头化工厂出品)
82.63% 调料
各组份总和为100%(重量)
将上述印花料原料按其配份加入球磨机研磨至细度为:万孔筛筛余
0.05%以下。
首先在墙地砖坯上施上一层底釉,其厚度为:在20×20厘米的砖面上,施上18克重(0.045克/厘米2)底釉(以干釉计算)。
干燥后,用印花料在其底釉面上印花。
干燥后在印花面上施一层面釉,其厚度为:在20×20厘米的砖面上,施上3.5克重(0.00875克/厘米2)面釉(以干釉计算)。
将砖坯放入温度为1160-1180℃的辊道窑中,利用底釉、面釉及印花料三种材料的表面张力和膨胀系数的差异,使其在烧成过程中能够在所印花纹上形成凸起的效果。
Claims (1)
1、一种墙地砖釉中印花工艺,其特征在于砖坯面上有一层底釉、一层印花料、一层面釉、底釉、面釉之间是一层印花料;
(1)釉中印花工艺方法是首先在砖坯上施以一层厚0.0375-0.05克/厘米2底釉,干燥后,用印花料在其上印花,干燥后,在印花面上再施以一层0.006-0.0125克/厘米2面釉,在温度为1160-1180℃条件下煅烧而成;
(2)底釉配方(重量百分比)为:
55.38% SiO2
6.94% Al2O3
0.269% Fe2O3
8.22% CaO
7.20% MgO
3.76% KNaO
2.30% TiO2
4.60% ZnO
0.23% Cr2O3
11.10% ZrO
釉料含水(重量百分比)为36-42%
釉料细度为万孔筛筛余0.05-0.5%
面釉配方(重量百分比)为:
53.26% SiO2
6.81% Al2O3
4.21% Fe2O3
8.11% CaO
7.11% MgO
3.75% KNaO
8.06% ZnO
0.47% Cr2O3
8.22% ZrO
釉料含水(重量百分比)为36-42%
釉料细度为万孔筛筛余0.05-0.5%
印花料配方(重量百分比)为:
10.87% 长石
6.5% 陶瓷颜料
82.63% 调料
各组分总和为100%(重量)
釉料细度为万孔筛筛余0.05%以下。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN 87100727 CN1018822B (zh) | 1987-02-14 | 1987-02-14 | 墙地砖釉中印花工艺 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN 87100727 CN1018822B (zh) | 1987-02-14 | 1987-02-14 | 墙地砖釉中印花工艺 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN87100727A CN87100727A (zh) | 1988-07-13 |
CN1018822B true CN1018822B (zh) | 1992-10-28 |
Family
ID=4812997
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN 87100727 Expired CN1018822B (zh) | 1987-02-14 | 1987-02-14 | 墙地砖釉中印花工艺 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN1018822B (zh) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103342585A (zh) * | 2013-07-08 | 2013-10-09 | 河南理工大学 | 一种日用陶瓷釉下彩装饰的方法 |
CN106045579A (zh) * | 2016-06-08 | 2016-10-26 | 郏县宏大瓷业有限公司 | 一种具有水波纹釉的天青色瓷器及其烧制方法 |
CN107602152B (zh) * | 2017-09-28 | 2021-04-13 | 禹州市正玉钧窑有限公司 | 一种钧瓷用青白釉及使用钧瓷用青白釉制备钧瓷的工艺 |
CN112209744B (zh) * | 2020-10-13 | 2022-05-31 | 广东清远蒙娜丽莎建陶有限公司 | 一种表面鳞片纹理防滑瓷质砖及其制备方法 |
-
1987
- 1987-02-14 CN CN 87100727 patent/CN1018822B/zh not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN87100727A (zh) | 1988-07-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN110357432B (zh) | 在平面坯体上制造具有凹凸模具效果的陶瓷薄板的方法 | |
CN105712701B (zh) | 一种单层釉面窑变砖及其制备方法 | |
CN105801084A (zh) | 陶瓷泥质坯体的制备方法及用该坯体制成陶瓷产品的方法 | |
CN110845252B (zh) | 特殊坯体大颗粒结合数码布料仿古砖及其制备方法 | |
CN109627052B (zh) | 一种具有立体装饰效果的陶瓷砖及其制备方法 | |
CN1911855A (zh) | 一种釉中彩装饰日用瓷及其生产方法 | |
CN110183251A (zh) | 一种无光釉陶瓷砖及其制备方法 | |
CN106219976B (zh) | 一种综合装饰金属质陶瓷砖及其制造方法 | |
CN103524112B (zh) | 一种双面釉下五彩瓷板的制备方法 | |
CN101987556A (zh) | 一种陶瓷工艺品表面装饰方法 | |
CN100337972C (zh) | 绞胎刻剔花瓷的制作方法 | |
CN106882980B (zh) | 陶瓷釉下堆彩工艺 | |
CN110156495B (zh) | 一种3d釉面的施釉工艺方法 | |
CN102505822B (zh) | 一种表面镀黄金的瓷砖及其制造方法 | |
CN1018822B (zh) | 墙地砖釉中印花工艺 | |
CN1257142A (zh) | 一种陶瓷砖及其制作方法 | |
CN1019293B (zh) | 陶玉产品及其制造方法 | |
CN1316343A (zh) | 一种浮雕陶瓷砖的生产工艺 | |
CN109291718A (zh) | 一种山水画绞胎瓷的制作方法 | |
CN110790509A (zh) | 一种网格纹釉及其制备方法 | |
CN116408869A (zh) | 一种通体抛釉洞石砖及其制备工艺 | |
CN100402459C (zh) | 一种雕塑艺术彩色陶瓷制备方法 | |
CN104291799A (zh) | 镁玉瓷及其生产方法 | |
CN1508023A (zh) | 微晶玻璃墙地砖装饰工艺及产品 | |
CN1055278C (zh) | 颜色釉天然叶纹陶瓷加工制造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C13 | Decision | ||
GR02 | Examined patent application | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
C19 | Lapse of patent right due to non-payment of the annual fee | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |