CN101603664A

CN101603664A - 一种光学扩散膜

Info

Publication number: CN101603664A
Application number: CNA2009100745155A
Authority: CN
Inventors: 赵保良; 霍新莉; 熊跃斌; 申跃生; 高青
Original assignee: China Lucky Film Group Corp; Hefei Lucky Science and Technology Industry Co Ltd
Current assignee: KUNSHAN LEKAI JINFU PHOTOELECTRIC TECHNOLOGY CO LTD; Hefei Lucky Science and Technology Industry Co Ltd; China Lucky Group Corp
Priority date: 2009-06-23
Filing date: 2009-06-23
Publication date: 2009-12-16
Anticipated expiration: 2029-06-23
Also published as: CN101603664B

Abstract

一种光学扩散膜，它包括基材以及在基材表面两面形成的主扩散层和背扩散层构成，各部分结构为：主扩散层是由含有光学扩散剂、粘合剂和交联剂的涂布液涂布固着在所述基材任一表面上；背扩散层是由含有光学扩散剂、粘合剂、抗静电剂和交联剂的涂布液涂布固着在所述基材另一表面上；所述光学扩散剂为球状高聚物微珠；主扩散层的光学扩散剂包括大颗粒光学扩散剂和小颗粒光学扩散剂，大小颗粒光学扩散剂之间的重量比为11∶1～7∶1；所述背扩散层光学扩散剂粒径为1～5微米。本发明具有充分的光学扩散性，其透过率和雾度协调性良好，具有良好的耐划伤性和抗静电性。

Description

一种光学扩散膜

技术领域

本发明涉及一种用于平板显示器的背光模组所用的光学扩散膜。

背景技术

一直以来，平板显示器广泛应用于电视、电脑显示器、笔记本电脑、手机、数码相机、MP3播放器、MP4播放器、GPS导航仪等。这些液晶显示器或等离子显示器的画面光源由其中的背光模组所提供，对光源的要求是均匀、高亮度。

光学扩散膜的作用在于通过折射现象将点光源或线光源的光均匀扩散成均一、高亮度的面光源。这种光学扩散膜被广泛应用于液晶显示器或等离子显示器等平板显示器的背光模组中。

平板显示背光模组装置的典型结构是：光线由光源发射出来，经反射膜、导光板和反射片，再经光学扩散膜进行扩散形成面光源，光学扩散膜一般配置在导光板和增亮膜之间，用以扩散由导光板射出的光线并重复利用增亮膜部分反射光。

一般的光学扩散膜的横断截面结构是：通常情况下，在透明光学基材上设有主扩散层和防粘层构成光学扩散膜。主扩散层中含有扩散剂以及树脂粘合剂。

通常，由树脂粘合剂溶液中加入扩散剂微珠，调制成扩散膜涂布液，再在透明光学基材的一面上形成扩散层。扩散剂微珠可以是丙烯酸树脂微珠、甲基丙烯酸树脂微珠、尼龙微珠、聚苯乙烯微珠、聚硅氧烷树脂微珠等等。树脂粘合剂优选有机聚合物粘合剂，可以是(甲基)丙烯酸树脂、聚酯粘合剂、聚氨酯粘合剂等。在形成扩散层时还需要硬化交联剂，此类交联剂多为含异氰酸酯基团的化合物。

但是，已有的光学扩散膜中，在使用中存在有待提高扩散剂附着性和膜面耐划伤性以及膜面抗静电性等问题，特别是在加工过程中，光学扩散膜比较容易出现被划伤、扩散剂微珠脱落、静电吸附杂质污染等现象。在光学设计上，如何提高光学扩散膜的透过率和雾度协调性也是一个非常重要的课题，也就是说，在满足光学扩散膜雾度要求的前提下提高其透过率，以便充分发挥光源的发光效率。

发明内容

本发明用于克服已有技术之缺陷、提供一种具有充分的光学扩散性、其透过率和雾度协调性良好、具有良好的耐划伤性和抗静电性的光学扩散膜。

为解决上述技术问题，本发明采用的技术方案为：

一种光学扩散膜，它包括基材以及在基材表面两面形成的主扩散层和背扩散层构成，各部分结构为：

主扩散层，所述主扩散层是由含有光学扩散剂、粘合剂和交联剂的涂布液涂布固着在所述基材任一表面之上；

背扩散层，所述背扩散层是含有光学扩散剂、粘合剂、抗静电剂和交联剂的涂布液涂布固着在所述基材另一表面之上；

所述光学扩散剂为球状高聚物微珠，主扩散层的光学扩散剂包括粒径为15～40微米的大颗粒光学扩散剂和粒径为1～5微米的小颗粒光学扩散剂，大颗粒光学扩散剂与小颗粒光学扩散剂之间的重量比为11∶1～7∶1；所述背扩散层光学扩散剂粒径为1～5微米。

上述光学扩散膜，所述光学扩散剂是高交联度的聚甲基丙烯酸酯、聚硅氧烷或它们的混合物。

上述光学扩散膜，所述主扩散层厚度为大粒径光学扩散剂直径的0.6～0.8倍。

上述光学扩散膜，所述背扩散层厚度为小粒径光学扩散剂直径的0.4～0.6倍。

上述光学扩散膜，所述述交联剂为IPDI。

上述光学扩散膜，所述粘合剂为聚丙烯酸树脂。

上述光学扩散膜，所述抗静电剂为纳米级氧化铟锡。

本发明中的基材并未特别限定其材质和厚度，如果从使用特性要求来讲，具有良好表面平滑性、机械强度、耐温性以及耐光候性的材料都可以用作光学扩散膜的基材，这其中透明塑料薄膜可以优先考虑，如聚烯烃(聚乙烯、聚丙烯等)、聚苯乙烯、聚氯乙烯、聚碳酸酯、聚酰胺、聚酰亚胺、聚酯(聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等)、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯、聚酯酰胺等等。基材的厚度需要比较加工性能进行选取，如耐热尺寸稳定性、透过率等，一般选取20～300μm。如果基材的厚度过薄，那么其耐热尺寸稳定性下降，影响光学扩散膜的生产制造、配装加工以及耐热使用特性。如果基材的厚度过厚，那么其本身的透过率降低，势必影响光学扩散膜的透过率及雾度等光学指标。为提高基材表面与涂布液的润湿铺展特性、改善基材表面与涂布层的接着性，基材可以通过表面处理，如进行电晕处理、等离子体处理，也可以在其表面进行设置易于接着和结合的处理层，如涂布改善接着性的树脂。

主扩散层中使用的光学扩散剂为球状高聚物微珠。光学扩散剂可以使用如下材质的微珠：聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯、聚苯乙烯和聚硅氧烷等。生产光学扩散剂微珠的厂家有日本的积水化成公司、康慈化成公司、综研化学公司以及GE-东芝公司等，其产品通常以其微珠粒径大小(如微米)为产品型号。本发明中使用的光学扩散剂为高交联度的聚甲基丙烯酸酯、聚硅氧烷或它们的混合物。交联度是热固性聚合物体系(如以上的聚丙烯酸酯、聚硅氧烷等)，其固化反应进行的程度，交联度是和材料设计中固化体系的选择、固化条件的选择及制备后热固性材料的使用性能密切相关的。正是由于高交联度的结构，使得上述微珠具有很强的耐热性和耐溶剂性，并且上述微珠作为光学扩散剂时，可以维持材质本身的高透明性，满足光学扩散膜所必需的透过率和雾度等光学要求，通过调制不同粒径的微珠及其配比，选择其透过率和雾度二者良好的协调性。光学扩散剂所使用微珠的平均粒径一般选取1～40μm，微珠的平均粒径过低，光线行程过短，光未经扩散即便透过，其扩散效果降低；微珠的平均粒径过高，容易产生不均匀性，且易产生脱落等缺陷。本发明的主扩散层的光学扩散剂包括粒径为15～40微米的大颗粒光学扩散剂和粒径为1～5微米的小颗粒光学扩散剂，大颗粒光学扩散剂与小颗粒光学扩散剂之间的重量比为11∶1～7∶1。

主扩散层中使用的粘合剂一般选取有机聚合物粘合剂，如聚酯(聚对苯二甲酸乙二醇酯等)、聚氯乙烯、乙烯-醋酸乙烯共聚物、硅酮树脂、聚苯乙烯、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯、聚氨酯、聚偏氟乙烯、改性纤维素树脂等等。本发明中被使用的粘合剂为聚丙烯酸酯树脂粘合剂，这是基于粘合剂本身粘接性、折射率等方面考察优选结果。

主扩散层中使用的交联剂一般可以使用含有异氰酸酯基团的化合物，如甲苯二异氰酸酯(TDI)、二苯基甲烷-4，4’-二异氰酸酯(MDI)、1，6-己二异氰酸酯(HDI)、苯二亚甲基二异氰酸酯(XDI)、萘-1，5二异氰酸酯(NDI)、多亚甲基多苯基多异氰酸酯(PAPI)、异佛尔酮二异氰酸酯(IPDI)以及由上面物质衍生出来的聚异氰酸酯类化合物，可以根据对涂层硬度和透明性的要求进行选取，通常情况下，脂肪族二异氰酸酯较芳香族二异氰酸酯耐光候性好。为使扩散层具有较高的耐光候性，本发明中选取异佛尔酮二异氰酸酯(IPDI)作为交联剂。

出于对提高光学扩散膜的透过率和雾度协调性的考虑，本发明的光学扩散膜设有背扩散层，所述背扩散层是含有光学扩散剂、粘合剂、抗静电剂和交联剂的涂布液涂布固着在所述基材另一表面之上。抗静电剂可分为有机抗静电剂和无机抗静电剂两大种类。有机抗静电剂一般为含有共轭π键的有机大分子，如聚乙烯、聚吡咯、聚苯硫醚、聚苯胺等，但这类有机抗静电剂通常成本高、难以在有机溶剂中溶解、分散；无机抗静电剂通常为导电性无机物质，如碳系列(如炭黑、碳纤维、石墨等)、金属粉末(如银粉、铜粉、镍粉等)、金属氧化物(如氧化锡、氧化镁、氧化铁等)等。背扩散层中的光学扩散剂、粘合剂和交联剂的考察选取如上面内容所述，与主扩散层不同的是背扩散层中的光学扩散剂只使用粒径为1～5微米的小颗粒光学扩散剂。另外，为了提高光学扩散膜的抗静电性，满足光学扩散膜生产使用中的抗静电要求，本发明的背扩散层中使用纳米级无机金属氧化物抗静电剂，针对背扩散层厚度特性，优选纳米级氧化铟锡作为抗静电剂。纳米级氧化铟抗静电剂，可以在一定范围内调制涂层膜面的表面电阻，并使涂层膜面拥有良好的硬度。

在选择涂层厚度时，需要着重考虑涂层中的光学扩散剂的粒径。如果涂层厚度较光学扩散剂的粒径小许多的话，那么涂层耐脱落性明显变劣，这可能是粘合剂接着面积相对粒径表面积较小所导致；如果涂层厚度较光学扩散剂的粒径大许多的话，涂层的光学特性指标会出现不协调性。本发明中，为保证膜具有良好的耐划伤性，透过率和雾度协调性良好，主扩散层厚度为大粒径光学扩散剂直径的0.6～0.8倍，背扩散层厚度为光学扩散剂直径的0.4～0.6倍。

为制造本发明中的光学扩散膜，在粘合剂溶液中加入光学扩散剂微珠以及其他助剂，经搅拌分散调制成主扩散层涂布液或背扩散层涂布液，再在基材的一面或另一面进行涂布，经干燥后形成具有主扩散层和背扩散层结构的光学扩散膜。涂布方法可以是普遍涂工方式任意之一，如刮刀、浸涂、旋涂、气刀、落帘、棒涂、辊涂、挤压、喷涂等涂布方式。干燥方法可以利用一般的干燥方式对涂层进行干燥，如热风、红外线加热、导热加热、微波加热等干燥方式。

制造出来的光学扩散膜，需要在一定的温度和时间下进行热时效处理，然后，可以根据需要进行性能指标的测试。

通过实施本发明提供的技术方案，得到的扩散膜具有充分的光学扩散性，其透过率和雾度协调性良好，具有良好的耐划伤性，并且具有良好的抗静电性。

具体实施方式

下面通过实施例对本发明作进一步描述。

实施例1

主扩散层涂布液的配制：

甲苯 200份，丁酮 50份，

丙烯酸树脂微珠(GM-1407S，康慈化成公司产品，粒径14微米) 150份，

丙烯酸树脂微珠(GM-0407S，康慈化成公司产品，粒径4微米) 15份，

聚丙烯酸酯树脂粘合剂(WDU-938，含固量50％，羟值50，DIC公司产品) 100份，

异氰酸酯交联剂IPDI(Desmodur I，NCO含量37％，拜耳公司产品) 7份，

将上述物料用分散搅拌器搅拌混合，得到主扩散层涂布液。

背扩散层涂布液的配制：

甲苯 150份，丁酮 150份，

丙烯酸树脂微珠(GM-0407S，康慈化成公司产品，粒径4微米) 5份，

丙烯酸粘合剂(WDU-938，含固量50％，羟值50，DIC公司产品) 100份，

抗静电剂(AdNano ITO，Degussa公司产品) 0.1份，

将上述物料用分散搅拌器搅拌混合，得到背扩散层涂布液。

以厚度为100μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜作为基材，在其一面涂上主扩散层涂布液A，热风干燥使其干膜厚度约为9μm，之后再在基材另一面涂上背扩散层涂布液a，热风干燥使其干膜厚度约为2μm。完成涂布后，于40℃恒温下进行48小时的热时效处理，制成光学扩散膜，测其性能(见表1)。

实施例2

主扩散层涂布液的配制：

甲苯 200份，丁酮 50份，

丙烯酸树脂微珠(GM-2007S，康慈化成公司产品，粒径20微米) 150份，

丙烯酸树脂微珠(GM-0407S，康慈化成公司产品，粒径4微米) 20份，

将上述物料用分散搅拌器搅拌混合，得到主扩散层涂布液。

背扩散层涂布液的配制：

甲苯 150份，丁酮 150份，

抗静电剂(AdNano ITO，Degussa公司产品) 0.2份，

将上述物料用分散搅拌器搅拌混合，得到背扩散层涂布液。

以厚度为100μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜作为基材，在其一面涂上主扩散层涂布液B，热风干燥使其干膜厚度约为16μm，之后再在基材另一面涂上背扩散层涂布液b，热风干燥使其干膜厚度约为2μm。完成涂布后，于40℃恒温下进行48小时的热时效处理，制成光学扩散膜，制成光学扩散膜，测其性能(见表1)。

实施例3

使用上述实施例1中的主扩散层涂布液A和基材，进行涂布，热风干燥使其干膜厚度约为9μm，之后再在基材另一面涂上实施例2中背扩散层涂布液b，热风干燥使其干膜厚度约为2μm。完成涂布后，于40℃恒温下进行48小时的热时效处理，制成光学扩散膜，测其性能(见表1)。

实施例4

主扩散层涂布液的配制：

甲苯 150份，丁酮 100份，

硅树脂微珠(TOSPEARL，GE公司产品，粒径15微米) 150份，

丙烯酸树脂微珠(MB20X-5，积水化成公司产品，粒径5微米) 20份，

丙烯酸粘合剂(WDU-938，含固量50％，羟值50，DIC公司产品) 95份，

将上述物料用分散搅拌器搅拌混合，得到主扩散层涂布液。

背扩散层涂布液的配制：

甲苯 100份，丁酮 200份，

硅树脂微珠(TOSPEARL 120，GE公司产品，粒径2微米) 10份，

丙烯酸粘合剂(ACRYDIC A-7157，含固量65％，羟值50，立大化工公司产品) 90份，

抗静电剂(AdNano ITO，Degussa公司产品) 0.2份，

异氰酸酯交联剂IPDI(Desmodur I，NCO含量37％，拜耳公司产品) 9份，

将上述物料用分散搅拌器搅拌混合，得到背扩散层涂布液。

以厚度为100μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜作为基材，在其一面涂上主扩散层涂布液D，热风干燥使其干膜厚度约为10μm，之后再在基材另一面涂上背扩散层涂布液d，热风干燥使其干膜厚度约为1μm。完成涂布后，于40℃恒温下进行48小时的热时效处理，制成光学扩散膜，测其性能(见表1)

实施例5

主扩散层涂布液的配制：

甲苯 150份，丁酮 100份，

丙烯酸树脂微珠(MBX-40，积水化成公司产品，粒径40微米) 150份，

丙烯酸树脂微珠(MB20X-5，积水化成公司产品，粒径5微米) 17份，

丙烯酸粘合剂(ACRYDIC A-7157，含固量65％，羟值50，立大化工公司产品) 100份，

将上述物料用分散搅拌器搅拌混合，得到主扩散层涂布液。

背扩散层涂布液的配制：

甲苯 100份，丁酮 200份，

硅树脂微珠(TOSPEARL 120，GE公司产品，粒径2微米) 5份，

丙烯酸粘合剂(WDU-938，含固量50％，羟值50，DIC公司产品) 90份，

抗静电剂(AdNano ITO，Degussa公司产品) 0.2份，

将上述物料用分散搅拌器搅拌混合，得到背扩散层涂布液。

以厚度为100μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜作为基材，在其一面涂上主扩散层涂布液E，热风干燥使其干膜厚度约为24μm，之后再在基材另一面涂上背扩散层涂布液e，热风干燥使其干膜厚度约为1μm。完成涂布后，于40℃恒温下进行48小时的热时效处理，制成光学扩散膜，测其性能(见表1)。

实施例6

以实施例4中的基材以及主扩散层涂布液E进行涂布，热风干燥使其干膜厚度约为32μm，之后再在基材另一面涂上背扩散层涂布液e，热风干燥使其干膜厚度约为1μm。完成涂布后，于40℃恒温下进行48小时的热时效处理，制成光学扩散膜，测其性能(见表1)。

实施例7

主扩散层涂布液的配制：

甲苯 200份，丁酮 50份，

丙烯酸树脂微珠(MBX-20，积水化成公司产品，粒径20微米) 150份，

异氰酸酯交联剂(铁锚牌101胶粘剂系乙组分，NCO含量12％，上海新光化工厂产品)20份，

将上述物料用分散搅拌器搅拌混合，得到主扩散层涂布液。

背扩散层涂布液的配制：

甲苯 100份，丁酮 200份，

丙烯酸树脂微珠(MB20X-5，积水化成公司产品，粒径5微米) 5份，

抗静电剂(AdNano ITO，Degussa公司产品) 0.2份，

异氰酸酯交联剂(铁锚牌101胶粘剂系乙组分，NCO含量12％，上海新光化工厂产品)16份

将上述物料用分散搅拌器搅拌混合，得到背扩散层涂布液。

以厚度为100μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜作为基材，在其一面涂上主扩散层涂布液F，风干燥使其干膜厚度约为12μm，后再在基材另一面涂上背扩散层涂布液f，风干燥使其干膜厚度约为3μm。完成涂布后，于40℃恒温下进行48小时的热时效处理，制成光学扩散膜，测其性能(见表1)。

实施例8

主扩散层涂布液的配制：

甲苯 200份，丁酮 50份，

丙烯酸树脂微珠(MB20X-30，积水化成公司产品，粒径30微米) 150份，

丙烯酸树脂微珠(MB20X-5，积水化成公司产品，粒径5微米) 15份，

将上述物料用分散搅拌器搅拌混合，得到主扩散层涂布液G。

背扩散层涂布液的配制：

甲苯 100份，丁酮 200份，

抗静电剂(AdNano ITO，Degussa公司产品) 0.1份，

异氰酸酯交联剂(铁锚牌101胶粘剂系乙组分，NCO含量12％，上海新光化工厂产品)16份，

将上述物料用分散搅拌器搅拌混合，得到背扩散层涂布液g。

以厚度为100μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜作为基材，在其一面涂上主扩散层涂布液F，风干燥使其干膜厚度约为20μm，后再在基材另一面涂上背扩散层涂布液f，风干燥使其干膜厚度约为3μm。完成涂布后，于40℃恒温下进行48小时的热时效处理，制成光学扩散膜，测其性能(见表1)。

比较例1

主扩散层涂布液的配制：

甲苯 200份，丁酮 50份，

苯乙烯树脂微珠(SBX-17，积水化成公司产品，粒径17微米) 150份，

苯乙烯树脂微珠(SBX-6，积水化成公司产品，粒径6微米) 20份，

异氰酸酯交联剂IPDI(Desmodur I，NCO含量37％，拜耳公司产品) 5份，

将上述物料用分散搅拌器搅拌混合，得到主扩散层涂布液。

背扩散层涂布液的配制：

甲苯 150份，丁酮 150份，

苯乙烯树脂微珠(SBX-6，积水化成公司产品，粒径6微米) 5份，

将上述物料用分散搅拌器搅拌混合，得到背扩散层涂布液。

以厚度为100μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜作为基材，在其一面涂上主扩散层涂布液C，热风干燥使其干膜厚度约为16μm，之后再在基材另一面涂上背扩散层涂布液c，热风干燥使其干膜厚度约为3μm。完成涂布后，于40℃恒温下进行48小时的热时效处理，制成光学扩散膜，测其性能(见表1)。

比较例2

以比较例1中的基材，在其一面涂上主扩散层涂布液C，热风干燥使其干膜厚度约为10μm，之后再在基材另一面涂上背扩散层涂布液c，热风干燥使其干膜厚度约为2μm。完成涂布后，于40℃恒温下进行48小时的热时效处理，制成光学扩散膜，测其性能(见表1)。

比较例3

以比较例1中的基材，在其一面涂上主扩散层涂布液A，热风干燥使其干膜厚度约为20μm，之后再在基材另一面涂上背扩散层涂布液b，热风干燥使其干膜厚度约为3μm。完成涂布后，于40℃恒温下进行48小时的热时效处理，制成光学扩散膜，测其性能(见表1)。

比较例4

以比较例1中的基材，在其一面涂上主扩散层涂布液B，热风干燥使其干膜厚度约为10μm，之后再在基材另一面涂上背扩散层涂布液b，热风干燥使其干膜厚度约为5μm。完成涂布后，于40℃恒温下进行48小时的热时效处理，制成光学扩散膜，测其性能(见表1)。

比较例5

以实施例4中的基材以及主扩散层涂布液D进行涂布，热风干燥使其干膜厚度约为17μm，之后再在基材另一面涂上背扩散层涂布液d，热风干燥使其干膜厚度约为6μm。完成涂布后，于40℃恒温下进行48小时的热时效处理，制成光学扩散膜，测其性能(见表1)。，测其性能(见表1)。

比较例6

以实施例4中的基材以及主扩散层涂布液D进行涂布，热风干燥使其干膜厚度约为7μm，之后再在基材另一面涂上背扩散层涂布液d，热风干燥使其干膜厚度约为2μm。完成涂布后，于40℃恒温下进行48小时的热时效处理，制成光学扩散膜，测其性能(见表1)。

产品各项性能的测试方法如下：

1.光学扩散膜耐划伤、微珠脱落的评价：

(1)通过耐划伤测试仪Sheen 705，采用20gf负载、40mm/s的条件下，往复50次摩擦光学扩散膜涂层面。

摩擦后，将受摩擦的光学扩散膜涂层面朝上，从其背面照射入光，对着透射光进行目测观察，进行光学扩散膜耐划伤性评价，耐划伤评价标准如下：

O：未观察到损伤；X：观察到损伤。

(2)将上面摩擦后的受摩擦的光学扩散膜涂层裁切10mmx10mm样品，用光学显微镜进行微珠脱落观察，进行光学扩散膜微珠脱落评价，微珠脱落评价标准如下：

O：未观察到脱落处；Y：脱落处为1～3个；X：脱落处为4个以上；

2.光学扩散膜光学特性评价：

通过W6T-S型透光雾度测试仪，测定光学扩散膜的全光透过率和雾度。

3.光学扩散膜表面电阻评价：

通过表面电阻测试仪ACL-385，测定光学扩散膜的表面电阻。

4.光学扩散膜紫外线老化特性评价：

通过LUV紫外线加速老化试验箱(紫外线波长313nm，总功率0.25kW)进行老化试验，通过对比样品一定时间老化前后性能指标的变化，分析光学扩散膜耐紫外线的特性。

表1：产品各项性能表

从表1中可以看出，使用高交联度的丙烯酸树脂微珠时，耐划伤性好，微珠不易脱落；使用抗静电剂的膜的表面电阻明显较无抗静电剂的膜的表面电阻为低，表现出良好的抗静电性。

表2：评价结果

从表2中可以看出，使用不同的异氰酸酯交联剂，其紫外线加速老化后的Δb值差别巨大，表现出不同的耐黄变特性，IPDI有着较好的耐黄变特性。

Claims

1.一种光学扩散膜，其特征在于：它包括基材以及在基材表面两面形成的主扩散层和背扩散层构成，各部分结构为：

主扩散层，所述主扩散层是由含有光学扩散剂、粘合剂和交联剂的涂布液涂布固着在所述基材任一表面上；

背扩散层，所述背扩散层是由含有光学扩散剂、粘合剂、抗静电剂和交联剂的涂布液涂布固着在所述基材另一表面之上；

所述光学扩散剂为球状高聚物微珠；主扩散层的光学扩散剂包括粒径为15～40微米的大颗粒光学扩散剂和粒径为1～5微米的小颗粒光学扩散剂，大颗粒光学扩散剂与小颗粒光学扩散剂之间的重量比为11∶1～7∶1；所述背扩散层光学扩散剂粒径为1～5微米。

2.根据权利要求1所述光学扩散膜，其特征在于，所述光学扩散剂是高交联度的聚甲基丙烯酸酯、聚硅氧烷或其混合物。

3.根据权利要求2所述光学扩散膜，其特征在于，所述主扩散层厚度为大粒径光学扩散剂直径的0.6～0.8倍。

4.根据权利要求3所述光学扩散膜，其特征在于，所述背扩散层厚度为小粒径光学扩散剂直径的0.4～0.6倍。

5.根据权利要求1、2、3或4所述光学扩散膜，其特征在于，所述交联剂为IPDI。

6.根据权利要求5所述光学扩散膜，其特征在于，所述粘合剂为聚丙烯酸树脂。

7.根据权利要求6所述光学扩散膜，其特征在于，所述抗静电剂为纳米级氧化铟锡。