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CN101544871B - 高效无划伤玻璃抛光液及其生产方法 - Google Patents

高效无划伤玻璃抛光液及其生产方法 Download PDF

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CN101544871B CN 200910031539 CN200910031539A CN101544871B CN 101544871 B CN101544871 B CN 101544871B CN 200910031539 CN200910031539 CN 200910031539 CN 200910031539 A CN200910031539 A CN 200910031539A CN 101544871 B CN101544871 B CN 101544871B
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Jiangsu Wujin High Tech Investment Holding Co ltd
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Abstract

高效无划伤玻璃抛光液及其生产方法，涉及用于加工玻璃的抛光液的生产技术领域。先将经高温焙烧的稀土氧化物和水混合，制成稀土氧化物悬浮液，再加入无定形硅酸盐，搅匀，调整pH至4～11，制成混合悬浮液，再将该混合悬浮液在水性载体中通过高强度机械研磨制成；所述经高温焙烧的稀土氧化物和无定形硅酸盐分别占抛光液总重量的0.1～50％和0.5～30％。本发明工艺简单、易于操作，方便生产，生产效率高，产品质量稳定。通过高强度机械摩擦，增强各种复合组分的密切接触与相互作用，充分发挥各种复合组分的协同增效功能，抛光效果稳定，表面缺陷低，无划痕。

Description

高效无划伤玻璃抛光液及其生产方法
技术领域
本发明涉及一种化工产品的生产工艺，特别是用于加工玻璃的抛光液的生产技术领域。
背景技术
当前玻璃加工企业生产中所使用的玻璃抛光液主要以大颗粒稀土氧化物粉做抛光摩擦剂，总体抛光速率低，分散稳定性差，容易导致严重的表面划伤，还存在平化抛光效率低等缺陷。长时间抛光往往大大降低抛光效率，造成抛光机的迅速磨损，生产效率低，以及大量的耗材消费。抛光粉的粒径控制通常是通过多级风选完成的。由于微米以及亚微米剂固体颗粒具有很高的比表面活化能，团聚现象导致风选无法严格控制抛光粉研磨剂的粒度与分布，导致抛光粉在划伤方面的性能难以稳定控制。
发明内容
本发明第一目的在于发明一种分散稳定性好、平化抛光效率高、不损伤抛光机的高效无划伤玻璃抛光液。
本发明主要由水、占抛光液总重量的0.1～50％的经高温焙烧的稀土氧化物和占抛光液总重量的0.5～30％的无定形硅酸盐组成。
本发明产品通过高强度机械摩擦，增强各种复合组分的密切接触与相互作用，充分发挥各种复合组分的协同增效功能，抛光效果稳定，表面缺陷低，无划痕。
本发明所述无定形硅酸盐优选为硅酸盐小分子聚合体。该无定形硅酸盐小分子聚合体加快了抛光液的切削率。
另外，本发明还可有占抛光液总重量的0.5～10％的高分子分散剂。以保证所生产抛光液产品悬浮性强，不宜沉积，分散稳定性好。
本发明还可有占抛光液总重量的0.1～10％的多官能团加速剂。可有效提高平化抛光效率，且不易造成对抛光机的损伤。
本发明还可有占抛光液总重量的0.005～10％的表面活性剂。以改进抛光液的液体流变性，并与利于抛光后的清洗。
本发明的第二个目的还在于为上述高效无划伤玻璃抛光液提供一种可行的生产方法。
本发明之方法是：先将经高温焙烧的稀土氧化物和水混合，制成稀土氧化物悬浮液，再加入无定形硅酸盐，搅匀，调整pH值至4～11，制成混合悬浮液，再将该混合悬浮液在水性载体中通过高强度机械研磨制成；所述经高温焙烧的稀土氧化物和无定形硅酸盐分别占抛光液总重量的0.1～50％和0.5～30％。
生产过程中原料的介质温度为5～60℃。目的是能有效控制无定形硅酸盐小分子的聚合度，同时更有效地与稀土氧化物结合产生最有效的复合抛光材料。
另外，在稀土氧化物悬浮液中还加入占抛光液总重量的0.5～10％的高分子分散剂。加入占抛光液总重量的0.1～10％的多官能团加速剂。加入占抛光液总重量的0.005～10％的表面活性剂。
本发明工艺简单、易于操作，方便生产，生产效率高，产品质量稳定。
具体实施方式
例一：
一、制备抛光液：
称取250克经高温焙烧的稀土氧化物，加入4417克水中，室温下搅拌均匀，制成稀土氧化物悬浮液。向稀土氧化物悬浮液加入333克30％无定形硅酸盐，30克体积浓度为50％的十二烷基聚环氧烷磷酸酯(高分子分散剂)，5克草聚乙二醇醚(表面活性剂)进一步搅匀，将pH调至8，形成混合悬浮液。
本发明整个生产过程中原料的介质温度控制在5～60℃。
将上述混合悬浮液注入不锈钢内衬装有5kg高钛合金研磨珠的球磨机分别研磨5、10、30、60分钟，分别制成样品A、B、C、D。
二、抛光实例：
将所制各样品分别在Logitech CDP单面抛光机上抛光。抛光机下压：1psi，下盘以及载盘转速50RPM，抛光液流速：100ml/分钟。
    球磨时间   抛光速率(纳米/分)     表面划伤
    5   803     少
    10   739     无
    30   581     无
    60   368     无
总结：在各原料成份相同的条件下，随研磨时间增长，抛光效率降低，表面划伤快速降低至不可测。
例二：
一、制备抛光液：
称取不等量经高温焙烧的稀土氧化物，分别加入等量水中，室温下搅拌均匀，分别制成不同的稀土氧化物悬浮液。生产过程中原料的介质温度为5～60℃。
分别向各稀土氧化物悬浮液加入不等量的无定形硅酸盐，进一步搅匀。在陶瓷内衬的砂磨机研磨10分钟。
二、抛光实例：
将所制各抛光液分别在Logitech CDP单面抛光机上抛光。抛光机下压：1psi，下盘以及载盘转速50RPM，抛光液流速：100ml/分钟。
  稀土氧化物(％) 无定形硅酸盐(％) 抛光速率(纳米/分)
    A   10 0 359
    B   10 1 432
    C   10 3 776
    D   10 5 513
    E   10 7 551
总结：在pH值相同的条件下，不同的各原料配比，可获得不同的的抛光效率，最高可达776纳米/分。
例三：
一、制备抛光液：
称取250克经高温焙烧的稀土氧化物，加入4417克水中，室温下搅拌均匀，制成稀土氧化物悬浮液。
向稀土氧化物悬浮液加入333克30％的无定形硅酸盐，进一步搅匀。
加入KOH，将pH值分别调至10，制成抛光液初品。向抛光液初品加入不等量吡啶，分别制成抛光液A、B、C、D。在超硬合金内衬的砂磨机研磨10分钟。
二、抛光实例：
将所制各抛光液分别在Logitech CDP单面抛光机上抛光。抛光机下压：1psi，下盘以及载盘转速50RPM，抛光液流速：100ml/分钟。
    吡啶(克)   抛光速率(纳米/分)
    0   356
    2   520
    8   779
    20   617
总结：加入适当浓度的吡啶可使抛光液的抛光效率得以改善。
例四：
一、制备抛光液：
称取250克经高温焙烧的稀土氧化物，加入4417克水中，室温下搅拌均匀，制成稀土氧化物悬浮液。向稀土氧化物悬浮液加入333克30％无定形硅酸盐，30克50％十二烷基聚环氧烷磷酸酯(高分子分散剂)，5克草聚乙二醇醚进一步搅匀，将pH调至8。在超硬合金内衬的砂磨机，研磨珠与悬浮液固含量比为1∶5，1∶3，1∶1以及1∶0.5，研磨时间十分钟。
二、抛光实例：
将所制各抛光液分别在Logitech CDP单面抛光机上抛光。抛光机下压：1psi，下盘以及载盘转速50RPM，抛光液流速：100ml/分钟。
研磨珠与悬浮液固体比     抛光速率(纳米/分)
1∶5     529
1∶3     729
1∶1     613
1∶0.5     617
总结：适当的研磨介质悬浮液固体比可使抛光液的抛光效率得以改善。
例五：
一、制备抛光液：
根据表下表，配制抛光液。  在超硬合金内衬的砂磨机研磨时间十分钟。且，整个生产过程中原料的介质温度控制在5～60℃。
二、抛光实例：
将所制各抛光液分别在Logitech CDP单面抛光机上抛光。抛光机下压：1psi，下盘以及载盘转速50RPM，抛光液流速：100ml/分钟。
稀土氧化物(％) 硅酸盐聚合物(％)  高分子分散剂(如，聚酰胺，或十二烷基聚环氧乙烷醇，或聚甲基丙烯酸聚环氧烷酯，等)(％)   多官能团加速剂(如，草酸，吡啶，乙酸，丁二酸，氨基丁酸，等)(10％) 表面活性剂(如，三甲基十二烷基氯化铵，或混合聚环氧乙烷聚环氧丙烷醚，或烷基磷酸盐，等) 抛光速率(纳米/分)
  0.1   30  1   0.5   0.1   159
  50   2  5   0.8   0.008   1037
  30   0.5  3   1.5   0.05   892
  0.5   30  6   3   0.02   273
  1   10  0.5   3   0.1   333
  0.1   0.5  10   0.5   0.05   131
  5   0  0.5   0.1   1   269
  10   5  2   10   0.00   674
  40   0.5  3   1.5   0.005   983
  5   1  0.5   0.1   10   585
另，本发明生产过程采用的高分子分散剂包括但不排除其他高分子材料，可以采用聚氨酯、聚环氧烷醚、烷基聚环氧酸酯，等等。
本发明生产过程采用的多官能团加速剂包括但不排除其他化合物，可以采用各种有机酸、多元酸、含氮化合物等。
本发明生产过程采用的表面活性剂包括但不排除其他化合物，可以采用聚乙二醇、聚环氧丙烷醚、含硅聚乙二醇、烷基季铵盐、烷基磺酸盐(酯)、烷基磷酸盐(酯)，等。
本发明生产过程采用的稀土氧化物包括但不排除其他氧化物，可以采用氧化铝、氧化锆、碳化硅，等。

Claims (10)

1.高效无划伤玻璃抛光液，包括水、经高温焙烧的稀土氧化物和无定形硅酸盐，其特征在于先将经高温焙烧的稀土氧化物和水混合，制成稀土氧化物悬浮液，再加入无定形硅酸盐，搅匀，调整pH值至4～11，制成混合悬浮液，再将该混合悬浮液在水性载体中通过高强度机械研磨制成；所述经高温焙烧的稀土氧化物和无定形硅酸盐分别占抛光液总重量的0.1～50％和0.5～30％，生产过程中原料的介质温度为5～60℃。
2.根据权利要求1所述高效无划伤玻璃抛光液，其特征在于所述无定形硅酸盐为硅酸盐小分子聚合体。
3.根据权利要求1或2所述高效无划伤玻璃抛光液，其特征在于所述抛光液中还包括占抛光液总重量的0.5～10％的高分子分散剂。
4.根据权利要求1或2所述高效无划伤玻璃抛光液，其特征在于所述抛光液中还包括占抛光液总重量的0.1～10％的多官能团加速剂。
5.根据权利要求1或2所述高效无划伤玻璃抛光液，其特征在于所述抛光液中还包括占抛光液总重量的0.005～10％的表面活性剂。
6.一种如权利要求1所述高效无划伤玻璃抛光液的生产方法，其特征在于先将经高温焙烧的稀土氧化物和水混合，制成稀土氧化物悬浮液，再加入无定形硅酸盐，搅匀，调整pH值至4～11，制成混合悬浮液，再将该混合悬浮液在水性载体中通过高强度机械研磨制成；所述经高温焙烧的稀土氧化物和无定形硅酸盐分别占抛光液总重量的0.1～50％和0.5～30％。
7.根据权利要求6所述高效无划伤玻璃抛光液的生产方法，其特征在于生产过程中原料的介质温度为5～60℃。
8.根据权利要求6或7所述高效无划伤玻璃抛光液的生产方法，其特征在于稀土氧化物悬浮液中还加入占抛光液总重量的0.5～10％的高分子分散剂。
9.根据权利要求6或7所述高效无划伤玻璃抛光液的生产方法，其特征在于稀土氧化物悬浮液中还加入占抛光液总重量的0.1～10％的多官能团加速剂。
10.根据权利要求6或7所述高效无划伤玻璃抛光液的生产方法，其特征在于稀土氧化物悬浮液中还加入占抛光液总重量的0.005～10％的表面活性剂。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102358825B (zh) * 2011-08-05 2013-08-21 清华大学 一种用于蓝宝石晶片的抛光组合物
CN102627916B (zh) * 2012-03-23 2014-09-03 江苏中晶科技有限公司 具有强化功能的玻璃抛光液
CN102627917A (zh) * 2012-03-23 2012-08-08 江苏中晶科技有限公司 玻璃以及含硅化合物抛光加速剂及其生产方法、应用
CN102634284A (zh) * 2012-03-27 2012-08-15 蓝思旺科技(深圳)有限公司 抛光液及其制造方法
CN106883768A (zh) * 2017-04-20 2017-06-23 宁波日晟新材料有限公司 微酸性条件下的碱性玻璃抛光液以及应用
CN107365560A (zh) * 2017-08-04 2017-11-21 安徽宽居电器有限公司 一种玻璃加工用高效抛光液

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1919950A (zh) * 2006-08-23 2007-02-28 孙韬 高精度抛光液及其生产方法、用途

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1919950A (zh) * 2006-08-23 2007-02-28 孙韬 高精度抛光液及其生产方法、用途

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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刘光华.稀土玻璃陶瓷材料.《稀土材料与应用技术》.化学工业出版社,2005,第166-167页. *

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