CH670318A5 - - Google Patents
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- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 59
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 21
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 16
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 9
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 8
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 7
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 6
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 6
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 6
- JKJWYKGYGWOAHT-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) carbonate Chemical compound C=CCOC(=O)OCC=C JKJWYKGYGWOAHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 claims description 4
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 claims description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 6
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 5
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000010943 off-gassing Methods 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 1
- 230000003678 scratch resistant effect Effects 0.000 description 1
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000010025 steaming Methods 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
- C23C14/083—Oxides of refractory metals or yttrium
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
- B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
- B29D11/00865—Applying coatings; tinting; colouring
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C14/021—Cleaning or etching treatments
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/10—Glass or silica
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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Description
BESCHREIBUNG Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Antireflexionsfilms aus mehreren, durch Verdampfen von unterschiedlichen Aufdampfsubstanzen im Vakuum aufgetragenen Schichten auf Polydiäthylenglycoldiallylcar-bonat-Linsen und -Brillengläsern. DESCRIPTION The present invention relates to a method for producing an antireflection film from a plurality of layers, applied by evaporation of different vapor deposition substances in vacuo, on polydiethylene glycol diallyl carbonate lenses and spectacle lenses.
Seit einiger Zeit wird versucht, organische Gläser, insbesondere sogenannte CR-39 Brillengläser aus Polydiäthylenglycol-diallylcarbonat derart zu entspiegeln, dass diese hinsichtlich Intensität und Farbe des Reflexes der Entspiegelung von Brillen-kron wenigstens nahe kommen. For some time now, attempts have been made to antireflect organic glasses, in particular so-called CR-39 glasses made of polydiethylene glycol diallyl carbonate, in such a way that they at least come close to the antireflection coating of crown in terms of intensity and color of the reflection.
Das ist bisher bei weitem nicht gelungen. So far, this has not succeeded.
Für solche Entspiegelungen wurde die Technik der Mehrfachentspiegelung von Silikatbrillengläsern übernommen, wobei hier allerdings die Bedampfung der CR-39 Substrate mit den verschiedenen Aufdampfsubstanzen im Vakuum bei einer Temperatur von unter 100°C erfolgen muss. Von den bisher bekannten Aufdampfmaterialien ist Quarz (Siliziumdioxid Si02) am besten geeignet, um bei diesen relativ niedrigen Temperaturen eine wisch- und kratzfeste Schicht zu bilden, zu der aber mindestens eine weitere Schicht beispielsweise aus Siliziummon-oxid (SiO) aufgedampft werden muss, um den gewünschten optischen Eigenschaften nahe zu kommen. The technology of multiple anti-reflective treatment of silicate glasses was adopted for such anti-reflective coatings, although here the CR-39 substrates with the various vapor deposition substances have to be evaporated in vacuo at a temperature below 100 ° C. Of the evaporation materials known to date, quartz (silicon dioxide Si02) is best suited to form a smudge-resistant and scratch-resistant layer at these relatively low temperatures, but to which at least one further layer, for example made of silicon monoxide (SiO), must be evaporated in order to to come close to the desired optical properties.
Die US-Patentschrift Nr. 4 485 124 des gleichen Erfinders beschreibt ein solches optisches Substrat, bei dem die erste, innere Schicht aus Siliziummonoxid (SiO) eine Dicke von wenigstens angenähert V12 (ein Zwölftel) von Lambda-Viertel hat und die zweite, äussere Schicht aus Siliziumdioxid (SÌO2) eine Dicke von wenigstens angenähert V4 (Dreiviertel) Lambda hat, jeweils bezogen auf die Wellenlänge des sichtbaren Lichts, für welche das menschliche Auge die maximale Empfindlichkeit aufweist. U.S. Patent No. 4,485,124 by the same inventor describes such an optical substrate in which the first inner layer of silicon monoxide (SiO) has a thickness of at least approximately V12 (one twelfth) of a quarter of a lambda and the second, outer Layer of silicon dioxide (SÌO2) has a thickness of at least approximately V4 (three-quarters) lambda, in each case based on the wavelength of visible light for which the human eye has the maximum sensitivity.
Der in bekannter Weise durch spektrale Reflexionsmessung erstellten Reflexionskurve (Reflexion in Prozent zu Wellenlänge in Nanometer) ist aber zu entnehmen, dass CR-39 Substrate mit solchen oder ähnlichen Antireflexionsfilmen noch sehr hohe Restreflexionen von einigen Prozent pro Fläche aufweisen, was den heutigen Qualitätsanforderungen nicht genügt. However, the reflection curve (reflection in percent to wavelength in nanometers) created in a known manner by spectral reflection measurement shows that CR-39 substrates with such or similar antireflection films still have very high residual reflections of a few percent per area, which does not meet today's quality requirements .
Es ist somit Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren zur Herstellung eines Antireflexionsfilms auf Linsen und Brillengläser anzugeben, das eine Breitbandentspiegelung mit nahezu vollständiger Reflexionsverminderung gestattet. It is therefore an object of the present invention to provide a method for producing an antireflection film on lenses and spectacle lenses, which permits broadband anti-reflection with almost complete reflection reduction.
Dies wird erfindungsgemäss zunächst dadurch erreicht, dass eine erste, optisch nicht wirkende Metalloxydschicht als Haftschicht; eine zweite Schicht eines optisch wirksamen, hochbrechenden Metalloxyds; als dritte Schicht ein niedrigbrechendes, als Dielektrika wirksames Material; eine vierte Schicht eines weiteren hochbrechenden Metalloxyds; und als fünfte Schicht ein niedrigbrechendes, als Hartschicht wirksames Material aufgedampft werden. According to the invention, this is first achieved in that a first, optically inactive metal oxide layer is used as the adhesive layer; a second layer of an optically effective, high refractive index metal oxide; the third layer is a low-refractive index material; a fourth layer of another high refractive index metal oxide; and a low-refractive index material which is effective as a hard layer is vapor-deposited as the fifth layer.
Dieses Verfahren kann dann optimiert werden, This process can then be optimized
indem in einem Vakuum von wenigstens angenähert 1,33 x 10~3 Pa (1 x 10~5 TORR) oder besser eine erste, optisch nicht wirkende Metalloxydschicht als Haftschicht aufgedampft wird; by evaporating a first, optically inactive metal oxide layer as an adhesive layer in a vacuum of at least approximately 1.33 x 10 ~ 3 Pa (1 x 10 ~ 5 TORR);
indem in einem durch Sauerstoff-Zufuhr verringertem Vakuum von wenigstens angenähert 2,66 x 10~2 Pa (2 x 10"4 TORR) eine zweite Schicht eines optisch wirksamen, hochbrechenden Metalloxyds aufgedampft wird; by evaporating a second layer of an optically effective, highly refractive metal oxide in a vacuum reduced by oxygen supply of at least approximately 2.66 x 10 ~ 2 Pa (2 x 10 "4 TORR);
indem in einem wieder verbesserten Vakuum von mindestens 1,33 X 10~3 Pa (1 X 10-s TORR) oder besser als dritte Schicht ein niedrigbrechendes, als Dielektrika wirksames Material aufgedampft wird; by evaporating a low refractive index material which is effective as a dielectric in a again improved vacuum of at least 1.33 X 10 -3 Pa (1 X 10-s TORR) or better as a third layer;
indem in einem durch erneute Sauerstoff-Zufuhr verringertem Vakuum von wenigstens angenähert 2,66 x 10~2 Pa (2x 10"4 TORR) eine vierte Schicht eines weiteren hochbrechenden Metalloxyds aufgedampft wird; und indem in einem wieder verbesserten Vakuum von mindestens 1,33 x 10~3 Pa (1 x 10~5 TORR) oder besser als fünfte Schicht ein niedrigbrechendes, als Hartschicht wirksames Material aufgedampft wird; by evaporating a fourth layer of another high refractive index metal oxide in a vacuum reduced by renewed oxygen supply of at least approximately 2.66 x 10 ~ 2 Pa (2x 10 "4 TORR) and in a again improved vacuum of at least 1.33 x 10 ~ 3 Pa (1 x 10 ~ 5 TORR) or better than a fifth layer, a low-refractive index material which is effective as a hard layer is evaporated;
alles bei einer Temperatur im Bereich von ca. 50°C bis 80°C und vorzugsweise gleicher Aufdampfgeschwindigkeit. all at a temperature in the range of about 50 ° C to 80 ° C and preferably the same evaporation rate.
Vorteilhaft werden dabei die zweite Schicht in einer Dicke von Teilen von Lambda-Viertel; die dritte Schicht in einer Dicke von Lambda-Viertel; die vierte Schicht in einer Dicke von Lambda-Halbe; und die fünfte Schicht in einer Dicke von Lambda-Viertel, jeweils bezogen auf die Wellenlänge des sicht5 The second layer with a thickness of parts of lambda quarters is advantageous; the third layer with a thickness of a quarter of a lambda; the fourth layer in a thickness of half a lambda; and the fifth layer with a thickness of lambda quarters, each based on the wavelength of the view5
10 10th
15 15
20 20th
25 25th
30 30th
35 35
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45 45
50 50
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60 60
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baren Lichts, für welche das menschliche Auge die maximale Empfindlichkeit aufweist, aufgedampft. visible light, for which the human eye has the maximum sensitivity, evaporated.
Ein solches Verfahren ergibt dann Polydiäthylenglycoldial-lylcarbonat-Linsen und -Brillengläser, die sich erfindungsgemäss auszeichnen durch einen Antireflexionsfilm, gebildet durch eine erste, optisch nicht wirkende Metalloxydschicht als Haftschicht; eine zweite Schicht eines optisch wirksamen, hochbrechenden Metalloxyds; eine dritte Schicht eines niedrigbrechenden, als Dielektrika wirksamen Materials; eine vierte Schicht eines weiteren hochbrechenden Metalloxyds; und eine fünfte Schicht eines niedrigbrechenden, als Hartschicht wirksamen Materials. Such a method then results in polydiethylene glycol dialyl carbonate lenses and spectacle lenses which, according to the invention, are distinguished by an antireflection film formed by a first, optically inactive metal oxide layer as the adhesive layer; a second layer of an optically effective, high refractive index metal oxide; a third layer of low refractive index material; a fourth layer of another high refractive index metal oxide; and a fifth layer of low refractive index hard material.
Die spektrale Reflexionsmessung ergibt für solche beschichteten Linsen und Gläser eine Breitbandentspiegelung mit einer Restreflexion von weniger als 0,5%. Eine derart hochgradige Vergütung konnte bisher nicht erreicht werden, wobei die letzte, eine Quarz-Versiegelung darstellende Schicht des erfindungs-gemässen Antireflexionsfilms der Oberfläche eine grösstmögli-che Härte und damit Verschleissfestigkeit verleiht. Zudem lässt sich leicht nachprüfen, dass dieser Restreflex des erfindungsgemäss beschichteten Kunststoffglases wenigstens annähernd farbneutral ist. Die Eigenabsorption ist bei einer resp. einem solchen Linse resp. Glas Null. For such coated lenses and glasses, the spectral reflection measurement results in broadband anti-reflective treatment with a residual reflection of less than 0.5%. Such a high-grade coating has not yet been achieved, the last layer, which represents a quartz seal, of the antireflection film according to the invention giving the surface the greatest possible hardness and thus wear resistance. In addition, it can easily be checked that this residual reflection of the plastic glass coated according to the invention is at least approximately color-neutral. The self absorption is at a resp. such a lens. Glass zero.
Das erfindungsgemässe Verfahren kann mit den herkömmlichen Vakuum-Bedampfungsanlagen durchgeführt werden. Eine solche Anlage ist beispielsweise im vorgenannten US-Patent Nr. 4 485 124 des gleichen Erfinders beschrieben, so dass sich hierzu detaillierte Angaben erübrigen. The method according to the invention can be carried out using conventional vacuum vapor deposition systems. Such a system is described, for example, in the aforementioned US Pat. No. 4,485,124 by the same inventor, so that detailed information on this is superfluous.
Die verschiedenen Aufdampfsubstanzen können jedenfalls indirekt mit elektrisch beheizten Tiegeln oder Schiffchen verdampft werden, wobei die in der Regel für jede Substanz vorgesehenen Tiegel oder Schiffchen sukzessive oder nach einem gekoppelten Zeitprogramm betrieben werden können. Ebenso ist eine Kathodenzerstäubung möglich. Ferner kann die Verdampfung der Aufdampfsubstanzen mittels Elektronenstrahlkanonen erfolgen, wo der aus einer Glühkathode austretende Elektronenstrahl in einem elektrischen Feld beschleunigt und magnetisch auf das Beschichtungsmaterial umgelenkt wird, welches an der getroffenen Stelle schlagartig verdampft (US-Patent 4 485 124). The various vapor deposition substances can in any case be evaporated indirectly using electrically heated crucibles or boats, the crucibles or boats generally provided for each substance being able to be operated successively or according to a coupled time program. Cathode sputtering is also possible. Furthermore, the evaporation of the vapor deposition substances can take place by means of electron beam guns, where the electron beam emerging from a hot cathode is accelerated in an electric field and magnetically deflected onto the coating material, which evaporates suddenly at the point hit (US Pat. No. 4,485,124).
Für eine Entspiegelungsschicht ist neben der reflexmindernden Wirkung und einem farbneutralen Verhalten eine gute Haftfestigkeit auf dem Substrat wichtig. Dies gilt auch hier, wobei auch hier die bekannten Reinigungs- und Vorbehandlungsverfahren sowie jene der Zwischen- und Nachbehandlung zur Anwendung gelangen. In addition to the anti-reflective effect and a color-neutral behavior, good adhesion to the substrate is important for an anti-reflective coating. This also applies here, whereby the known cleaning and pre-treatment methods as well as those of the intermediate and after-treatment are also used here.
Ein solches, hier anwendbares Verfahren ist in der genannten US-Patentschrift Nr. 4 485 124 beschrieben, wonach die Objekte u.a. im Innern des Rezipienten mindestens vor und während der Bedampfungsvorgänge einer direkten Infrarotstrahlung ausgesetzt werden. Such a method, which can be used here, is described in the aforementioned US Pat. No. 4,485,124, according to which the objects inter alia. be exposed to direct infrared radiation inside the recipient at least before and during the vaporization processes.
Beispiel: Example:
Für ein Aufdampfen der erfindungsgemässen Schichten auf beispielsweise Brillengläser aus dem genannten Polydiäthylen-glycoldiallylcarbonat zur Erreichung der vorbeschriebenen Qua670 318 For evaporation of the layers according to the invention on, for example, spectacle lenses made of the polydiethylene glycol diallyl carbonate mentioned in order to achieve the above-described Qua670 318
lität können zunächst eine Mehrzahl solcher Objekte in bekannter Weise nach einer Vorreinigung, einer mehrstündigen Ausgasung im Vakuum bei 95°C und einem Vakuum von 13,3 Pa (10-1 TORR) und einer Ultraschall-Nachreinigung in die Objektträger der hierfür vorgesehenen Vakuum-Bedampfungsanla-ge eingesetzt werden. Danach ist der Vakuumzyklus einzuleiten unter gleichzeitiger Vorwärmung der Vakuumkammer. Anschliessend kann noch eine Infrarotbestrahlung der nun mit den Objektträgern umlaufenden Objekte erfolgen. Diese Infrarotbestrahlung kann bis zur Beendigung des Vakuumzyklus aufrechterhalten werden. Beispielsweise nach ca. 20 Minuten der Infrarotbestrahlung und bei einem Vakuum von 2,66 x 10~2 Pa (2 x 10"4 TORR) können dann die Objekte noch während ca. 4 Minuten mit in die Vakuumkammer eingeleitetem reinen Sauerstoff gespült werden. First of all, a number of such objects can be cleaned in a known manner after pre-cleaning, a several-hour outgassing in a vacuum at 95 ° C and a vacuum of 13.3 Pa (10-1 TORR) and an ultrasonic cleaning afterwards in the slide of the vacuum Steaming system are used. Then start the vacuum cycle while preheating the vacuum chamber. Subsequently, infrared radiation of the objects now rotating with the slides can also take place. This infrared radiation can be maintained until the end of the vacuum cycle. For example, after about 20 minutes of infrared radiation and with a vacuum of 2.66 x 10 ~ 2 Pa (2 x 10 "4 TORR), the objects can then be flushed with pure oxygen introduced into the vacuum chamber for about 4 minutes.
Nach diesen oder anderen oder weiteren Massnahmen zur Reinigung und Vorbehandlung der zu beschichtenden Objekte erfolgt das Aufdampfen der ersten Schicht in einem Vakuum von wenigstens angenähert 1,33 x 10-3 Pa (1 X 10~s TORR) oder besser bei einer Temperatur von ca. 50°C bis 80°C im Innern der Kammer. Diese Schicht dient als Haftgrund und besteht aus einem optisch nicht wirkendem Metalloxyd, wie Chrom (Cr). Die Schichtdicke ist nur wenige n. According to these or other or further measures for cleaning and pretreating the objects to be coated, the first layer is evaporated in a vacuum of at least approximately 1.33 x 10-3 Pa (1 X 10 ~ s TORR) or better at a temperature of approx 50 ° C to 80 ° C inside the chamber. This layer serves as a primer and consists of an optically inactive metal oxide, such as chromium (Cr). The layer thickness is only a few n.
Danach wird durch Sauerstoff-Zufuhr das Vakuum auf 2,66 X 10~2 Pa (2 x 10-4 TORR) verringert und unter gleichbleibender Innentemperatur im Rezipienten eine zweite Schicht eines optisch wirksamen, hochbrechenden Metalloxyds wie Zir-konoxyd (Zr2Û3) aufgedampft. Hierbei ist eine Schichtdicke von Teilen von einem Lambda-Viertel vorgesehen, bezogen auf die Wellenlänge des sichtbaren Lichts, für welche das menschliche Auge die maximale Empfindlichkeit aufweist. The vacuum is then reduced to 2.66 X 10 ~ 2 Pa (2 x 10-4 TORR) by supplying oxygen and a second layer of an optically effective, highly refractive metal oxide such as zirconium oxide (Zr2Û3) is evaporated in the recipient while the internal temperature remains constant. Here, a layer thickness of parts of a lambda quarter is provided, based on the wavelength of visible light, for which the human eye has the maximum sensitivity.
Darauf wird das Vakuum wieder auf 1,33 x 10~3 Pa (1X 10~5 TORR) verbessert und eine dritte Schicht eines niedrigbrechenden Materials, wie Siliziumdioxid (SÌO2), in einer Dicke von Lambda-Viertel aufgedampft. Diese Schicht wirkt dann als Dielektrikum. The vacuum is then improved again to 1.33 x 10 ~ 3 Pa (1X 10 ~ 5 TORR) and a third layer of a low-refractive material, such as silicon dioxide (SÌO2), is evaporated to a thickness of a quarter of a lambda. This layer then acts as a dielectric.
Dann wird durch erneute Sauerstoff-Zufuhr das Vakuum wieder auf 2,66 x 10-2 Pa (2x 10"4 TORR) verringert und eine vierte Schicht eines weiteren hochbrechenden Metalloxyds, wie Titanoxyd (TÌ2O3), mit einer Dicke von Lambda-Halbe aufgedampft. Then the oxygen is again reduced to 2.66 x 10-2 Pa (2x 10 "4 TORR) by a further supply of oxygen and a fourth layer of another high-index metal oxide, such as titanium oxide (T (2O3), is evaporated with a thickness of half a lambda .
Nach erneuter Verbesserung des Vakuums auf 1,33 x 10-3 Pa (1 x 10~5 TORR) wird ein niedrigbrechendes, als Hartschicht wirksames Material, wie Siliziumdioxid (SÌO2), mit einer Dicke von Lambda-Viertel aufgedampft; das alles weiterhin bei einer Temperatur von 50°C bis 80°C und einer vorzugsweise gleichbleibenden Aufdampfgeschwindigkeit. After again improving the vacuum to 1.33 x 10-3 Pa (1 x 10 ~ 5 TORR), a low-refractive index material which acts as a hard layer, such as silicon dioxide (S wirksO2), is evaporated with a thickness of λ-quarter; all this continues at a temperature of 50 ° C to 80 ° C and a preferably constant evaporation rate.
Anschliessend ist, soweit verwendet, die Infrarotstrahlungsquelle auszuschalten und die Anlage nach einer Verweilzeit von einigen Minuten zu fluten, um die nun beschichteten Objekte entnehmen zu können. Then, if used, switch off the infrared radiation source and flood the system after a dwell time of a few minutes in order to be able to remove the coated objects.
Umfassende Messungen und Tests haben gezeigt, dass die auf die vorbeschriebene Weise beschichteten Objekte eine bisher nie erreichte optische und mechanische Qualität besitzen unter Erfüllung aller gestellten Forderungen. Comprehensive measurements and tests have shown that the objects coated in the manner described above have an optical and mechanical quality that has never been achieved before, and fulfills all requirements.
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40 40
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Claims (5)
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH4542/85A CH670318A5 (en) | 1985-10-22 | 1985-10-22 | |
DE19863627248 DE3627248A1 (en) | 1985-10-22 | 1986-08-12 | Process for the production of an antireflection film on organic or spectacle lenses |
IT22042/86A IT1197886B (en) | 1985-10-22 | 1986-10-17 | PROCEDURE FOR FORMING AN ANTI-REFLECTION FILM ON ORGANIC LENS FOR EXAMPLE FOR GLASSES |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH4542/85A CH670318A5 (en) | 1985-10-22 | 1985-10-22 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CH670318A5 true CH670318A5 (en) | 1989-05-31 |
Family
ID=4278024
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CH4542/85A CH670318A5 (en) | 1985-10-22 | 1985-10-22 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
CH (1) | CH670318A5 (en) |
DE (1) | DE3627248A1 (en) |
IT (1) | IT1197886B (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113641008A (en) * | 2020-04-27 | 2021-11-12 | 畅梓汀 | Beauty glasses lens and beauty glasses |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3742204C2 (en) * | 1987-12-12 | 1995-10-26 | Leybold Ag | Process for producing a corrosion-resistant, largely absorption-free layer on the surface of a workpiece |
DE4117256A1 (en) * | 1989-12-19 | 1992-12-03 | Leybold Ag | Antireflective coating for optical glass etc. - comprising multilayer oxide system with controlled refractive indices |
DE3941796A1 (en) * | 1989-12-19 | 1991-06-20 | Leybold Ag | Optical multilayer coating - with high anti-reflection, useful for glass and plastics substrates |
US5170291A (en) * | 1989-12-19 | 1992-12-08 | Leybold Aktiengesellschaft | Coating, composed of an optically effective layer system, for substrates, whereby the layer system has a high anti-reflective effect, and method for manufacturing the coating |
DE3941797A1 (en) * | 1989-12-19 | 1991-06-20 | Leybold Ag | BELAG, CONSISTING OF AN OPTICAL LAYER SYSTEM, FOR SUBSTRATES, IN WHICH THE LAYER SYSTEM IN PARTICULAR HAS A HIGH ANTI-FLEXIBLE EFFECT, AND METHOD FOR PRODUCING THE LAMINATE |
US5091244A (en) * | 1990-08-10 | 1992-02-25 | Viratec Thin Films, Inc. | Electrically-conductive, light-attenuating antireflection coating |
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US6096371A (en) * | 1997-01-27 | 2000-08-01 | Haaland; Peter D. | Methods and apparatus for reducing reflection from optical substrates |
US6172812B1 (en) | 1997-01-27 | 2001-01-09 | Peter D. Haaland | Anti-reflection coatings and coated articles |
-
1985
- 1985-10-22 CH CH4542/85A patent/CH670318A5/de not_active IP Right Cessation
-
1986
- 1986-08-12 DE DE19863627248 patent/DE3627248A1/en not_active Withdrawn
- 1986-10-17 IT IT22042/86A patent/IT1197886B/en active
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113641008A (en) * | 2020-04-27 | 2021-11-12 | 畅梓汀 | Beauty glasses lens and beauty glasses |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
IT1197886B (en) | 1988-12-21 |
IT8622042A0 (en) | 1986-10-17 |
DE3627248A1 (en) | 1987-04-23 |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PL | Patent ceased | ||
PL | Patent ceased |