[go: up one dir, main page]

BE864806A - Lichtgevoelige materialen voor het maken van fotokopieerlaklagen - Google Patents

Lichtgevoelige materialen voor het maken van fotokopieerlaklagen

Info

Publication number
BE864806A
BE864806A BE1008759A BE1008759A BE864806A BE 864806 A BE864806 A BE 864806A BE 1008759 A BE1008759 A BE 1008759A BE 1008759 A BE1008759 A BE 1008759A BE 864806 A BE864806 A BE 864806A
Authority
BE
Belgium
Prior art keywords
photocopy
coaters
making
light
sensitive materials
Prior art date
Application number
BE1008759A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Agfa Gevaert Nv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Agfa Gevaert Nv filed Critical Agfa Gevaert Nv
Publication of BE864806A publication Critical patent/BE864806A/nl

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/095—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having more than one photosensitive layer

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
BE1008759A 1977-03-15 1978-03-13 Lichtgevoelige materialen voor het maken van fotokopieerlaklagen BE864806A (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB10903/77A GB1588417A (en) 1977-03-15 1977-03-15 Photoresist materials

Publications (1)

Publication Number Publication Date
BE864806A true BE864806A (nl) 1978-09-13

Family

ID=9976417

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
BE1008759A BE864806A (nl) 1977-03-15 1978-03-13 Lichtgevoelige materialen voor het maken van fotokopieerlaklagen

Country Status (6)

Country Link
US (1) US4411978A (nl)
JP (1) JPS53116145A (nl)
BE (1) BE864806A (nl)
DE (1) DE2810463A1 (nl)
FR (1) FR2384284A1 (nl)
GB (1) GB1588417A (nl)

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2155861A (en) * 1981-11-14 1985-10-02 Konishiroku Photo Ind A treating solution for use in forming metallic images
JPS5979249A (ja) * 1982-10-29 1984-05-08 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd パタ−ン形成方法
DE3337315A1 (de) * 1982-10-13 1984-04-19 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd., Kawasaki, Kanagawa Zweifach-lichtempfindliche zusammensetzungen und verfahren zur erzeugung bildmustergemaesser photoresistschichten
IE56082B1 (en) * 1982-11-01 1991-04-10 Microsi Inc Photobleachable compositions
US5108874A (en) * 1982-11-01 1992-04-28 Microsi, Inc. Composite useful in photolithography
DE3325023A1 (de) * 1983-07-11 1985-01-24 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Verfahren zur herstellung negativer kopien mittels eines materials auf basis von 1,2-chinondiaziden
US4702996A (en) * 1983-09-28 1987-10-27 General Electric Company Method of enhancing the contrast of images and materials therefor
US4677049A (en) * 1983-09-28 1987-06-30 General Electric Company Spin castable photobleachable layer forming compositions
US4578344A (en) * 1984-12-20 1986-03-25 General Electric Company Photolithographic method using a two-layer photoresist and photobleachable film
US4623611A (en) * 1985-01-16 1986-11-18 General Electric Company Photolithographic stripping method for removing contrast enhancement layer
IE59915B1 (en) * 1986-07-25 1994-04-20 Microsi Inc Contrast enhancement layer compositions, alkylnitrones, and use
US4863827A (en) * 1986-10-20 1989-09-05 American Hoechst Corporation Postive working multi-level photoresist
DE3751598T2 (de) * 1986-10-23 1996-04-18 Ciba Geigy Ag Bilderzeugungsverfahren.
DE3637717A1 (de) * 1986-11-05 1988-05-11 Hoechst Ag Lichtempfindliches gemisch, dieses enthaltendes aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von positiven oder negativen reliefkopien unter verwendung dieses materials
ATE110565T1 (de) * 1989-10-17 1994-09-15 Oklahoma Med Res Found Verfahren und zubereitungen zur hemmung von mit oxidativer schädigung assoziierten krankheiten.
JPH03142918A (ja) * 1989-10-30 1991-06-18 Matsushita Electron Corp レジストパターン形成方法
US5273856A (en) * 1990-10-31 1993-12-28 International Business Machines Corporation Positive working photoresist composition containing mid or near UV radiation sensitive quinone diazide and sulfonic acid ester of imide or oxime which does not absorb mid or near UV radiation
US6002001A (en) * 1991-06-18 1999-12-14 Oklahoma Medical Research Foundation Spin trapping pharmaceutical compositions and methods for use thereof
EP0810477A3 (en) * 1996-05-24 1998-12-30 Texas Instruments Incorporated Photoactive systems for high resolution photolithography
EP1021430A1 (en) * 1996-07-19 2000-07-26 Centaur Pharmaceuticals, Inc. Furan nitrone compounds
CN1291980A (zh) * 1998-01-16 2001-04-18 桑道药品有限公司 硫醚呋喃硝酮化合物
DE69904018D1 (en) * 1998-01-16 2003-01-02 Centaur Pharmaceuticals Inc Thiophennitronderivate
US6296982B1 (en) * 1999-11-19 2001-10-02 Kodak Polychrome Graphics Llc Imaging articles

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2426894A (en) * 1944-05-09 1947-09-02 Du Pont Light-sensitive layers of n-monoarylhydroxylamines and their nitrones and process of printing thereon
NL140629B (nl) * 1963-07-04 1973-12-17 Kalle Ag Lichtgevoelig materiaal voor de vervaardiging van drukvormen en de daarmede vervaardigde drukvormen.
GB1116737A (en) * 1966-02-28 1968-06-12 Agfa Gevaert Nv Bis-(o-quinone diazide) modified bisphenols
NL6703090A (nl) * 1966-03-12 1967-09-13
US3481739A (en) * 1966-04-22 1969-12-02 Horizons Research Inc Increased speed in nonsilver light sensitive systems by incorporating therein organic n-oxides
NL165852C (nl) * 1970-09-29 1981-05-15 Hoechst Ag Werkwijze voor het vervaardigen van een reprografisch kopieermateriaal door een lichtgevoelige laag aan te brengen op een drager.
BE789196A (fr) * 1971-09-25 1973-03-22 Kalle Ag Matiere a copier photosensible
US3827887A (en) * 1972-10-10 1974-08-06 Horizons Inc Storage stability of nonsilver photosensitive systems by incorporating therein certain organic n-oxides
US4105450A (en) * 1973-07-27 1978-08-08 Fuji Photo Film Co., Ltd. Spectrally sensitized positive light-sensitive o-quinone diazide containing composition
JPS5821257B2 (ja) * 1974-04-25 1983-04-28 富士写真フイルム株式会社 キンゾクガゾウケイセイザイリヨウ

Also Published As

Publication number Publication date
DE2810463A1 (de) 1978-09-21
FR2384284A1 (fr) 1978-10-13
JPS53116145A (en) 1978-10-11
GB1588417A (en) 1981-04-23
FR2384284B1 (nl) 1980-02-08
US4411978A (en) 1983-10-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
BE864806A (nl) Lichtgevoelige materialen voor het maken van fotokopieerlaklagen
NL188250C (nl) Toner voor het droog ontwikkelen van elektrostatische beelden.
NL7900820A (nl) Draagbaar apparaat voor het maken van popcorn.
BE884618A (fr) Inrichting voor het absorberen van schokken
NL7606153A (nl) Samenstellingen voor het brandwerend maken van plastische materialen.
NL7805391A (nl) Werkwijze voor het hydrokraken van veelkernige aromaten bevattende uitgangsmaterialen.
NL7900539A (nl) Inrichting voor het kiezen van waarden van informatie- -elementen.
NL7606154A (nl) Middelen voor het brandwerend maken van plastische materialen.
NL7810784A (nl) Inrichting voor het gedoseerd lossen van korrelvormige materialen.
NL7606151A (nl) Samenstellingen voor het brandwerend maken van plastische materialen.
BE864177A (nl) Werkwijze voor het maken van fotografische zilverhalogenide-emulsies
NL185720C (nl) Foto-hardbare bekledingssamenstelling voor bouwmaterialen.
BE858182A (nl) Antikleursluiermiddelen voor fotografische kleurenmateriaal
BE859787A (nl) Omschakelinrichting voor het continu opbrengen van verschillende fotografische emulsies
NL7705238A (nl) Inrichting voor het bekleden van materialen.
BE865931A (nl) Inrichting voor het laden van filmcassetten
BE868412A (fr) Matiere pour support de pellicules photographiques
BE878224A (fr) Werkwijze voor het bepalen van glutamaatoxaalacetaattransaminase of flutamaatpyruvaattransaminase en een reagenscombinatie voor de bepaling hiervan
BE846157A (nl) Werkwijze voor het ontwikkelen van elektrostatische ladingspatronen
IT1100710B (it) Materiale sviluppatore particellato per procedimenti fotografici elettrostatici
BE863174A (nl) Registreermateriaal voor de kleurenfotografie
NL7701897A (nl) Inrichting voor het afleggen van stukken folie- materiaal.
NL7705732A (nl) Werkwijze voor het belichten voor gekleurde schaduwen.
BE860771A (nl) Fotografische film voor het maken van gekleurde overbrengingsbeelden
NL7613401A (nl) Inrichting voor het bedrukken van materialen.

Legal Events

Date Code Title Description
RE Patent lapsed

Owner name: AGFA-GEVAERT N.V.

Effective date: 19850313