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BE748409A - Procede pour la fabrication de corps creux en matiere semi-conductrice,et corps creux ainsi obtenus - Google Patents

Procede pour la fabrication de corps creux en matiere semi-conductrice,et corps creux ainsi obtenus

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BE748409A
BE748409A BE748409DA BE748409A BE 748409 A BE748409 A BE 748409A BE 748409D A BE748409D A BE 748409DA BE 748409 A BE748409 A BE 748409A
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BE
Belgium
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hollow bodies
manufacture
semiconductor material
bodies
hollow
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Siemens Ag
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Publication date
Application filed by Siemens Ag filed Critical Siemens Ag
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/01—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes on temporary substrates, e.g. substrates subsequently removed by etching

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BE748409D 1969-04-02 1970-04-02 Procede pour la fabrication de corps creux en matiere semi-conductrice,et corps creux ainsi obtenus BE748409A (fr)

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BE748409D BE748409A (fr) 1969-04-02 1970-04-02 Procede pour la fabrication de corps creux en matiere semi-conductrice,et corps creux ainsi obtenus

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