[go: up one dir, main page]

WO2022070665A1 - 塗布装置及び塗布方法 - Google Patents

塗布装置及び塗布方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2022070665A1
WO2022070665A1 PCT/JP2021/030525 JP2021030525W WO2022070665A1 WO 2022070665 A1 WO2022070665 A1 WO 2022070665A1 JP 2021030525 W JP2021030525 W JP 2021030525W WO 2022070665 A1 WO2022070665 A1 WO 2022070665A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
coating liquid
coating
slit
coated
discharge port
Prior art date
Application number
PCT/JP2021/030525
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
勤 西尾
Original Assignee
中外炉工業株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 中外炉工業株式会社 filed Critical 中外炉工業株式会社
Priority to EP21874968.7A priority Critical patent/EP4223421A4/en
Priority to US18/044,901 priority patent/US20230271216A1/en
Publication of WO2022070665A1 publication Critical patent/WO2022070665A1/ja

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/6715Apparatus for applying a liquid, a resin, an ink or the like
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C11/00Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
    • B05C11/02Apparatus for spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to a surface ; Controlling means therefor; Control of the thickness of a coating by spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to the coated surface
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C11/00Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
    • B05C11/10Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C11/00Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
    • B05C11/10Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
    • B05C11/1002Means for controlling supply, i.e. flow or pressure, of liquid or other fluent material to the applying apparatus, e.g. valves
    • B05C11/1007Means for controlling supply, i.e. flow or pressure, of liquid or other fluent material to the applying apparatus, e.g. valves responsive to condition of liquid or other fluent material
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • B05C5/02Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
    • B05C5/0225Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work characterised by flow controlling means, e.g. valves, located proximate the outlet
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • B05C5/02Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
    • B05C5/0254Coating heads with slot-shaped outlet
    • B05C5/0258Coating heads with slot-shaped outlet flow controlled, e.g. by a valve
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D1/00Processes for applying liquids or other fluent materials
    • B05D1/26Processes for applying liquids or other fluent materials performed by applying the liquid or other fluent material from an outlet device in contact with, or almost in contact with, the surface
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • B05C5/02Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
    • B05C5/0225Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work characterised by flow controlling means, e.g. valves, located proximate the outlet
    • B05C5/0229Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work characterised by flow controlling means, e.g. valves, located proximate the outlet the valve being a gate valve or a sliding valve
    • B05C5/0233Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work characterised by flow controlling means, e.g. valves, located proximate the outlet the valve being a gate valve or a sliding valve rotating valve, e.g. rotating perforated cylinder
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • B05C5/02Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
    • B05C5/027Coating heads with several outlets, e.g. aligned transversally to the moving direction of a web to be coated
    • B05C5/0275Coating heads with several outlets, e.g. aligned transversally to the moving direction of a web to be coated flow controlled, e.g. by a valve

Definitions

  • a coating liquid accommodating portion for accommodating a coating liquid is provided inside the coating nozzle, and a slit-shaped discharge port for discharging the coating liquid in the coating liquid accommodating portion is provided at the tip of the coating nozzle.
  • the slit-shaped discharge port of the above is positioned on the object to be coated, the nozzle for coating and the object to be coated are relatively moved, and the coating liquid is applied to the surface of the object to be coated through the slit-shaped ejection port.
  • the present invention relates to a coating device to be coated and a coating method for applying a coating liquid to the surface of an object to be coated by using such a coating device.
  • the coated body when the coating liquid is applied to the surface of the coated body through the slit-shaped discharge port provided in the coating nozzle by relatively moving the coated body and the coating nozzle as described above, the coated body is used. It is characterized in that the coating liquid can be easily and accurately applied to the surface so as to have various shapes such as a circular shape without causing unevenness or the like.
  • a coating liquid to a predetermined shape on the surface of an object to be coated such as a wafer by a coating device.
  • a slit-shaped discharge port for discharging the coating liquid is provided at the tip.
  • the coating nozzle provided in the above is arranged on the object to be coated, the object to be coated and the nozzle for application are relatively moved, and the coating liquid is applied to the surface of the object to be coated through the slit-shaped discharge port.
  • Various coating devices such as a coating device are known.
  • the coating liquid when the coating liquid is applied in a circular shape to the surface of a circular object to be coated such as a wafer, as shown in Patent Document 1, the circular object to be coated is rotated on a turntable.
  • the coating liquid is supplied from the nozzle to the center of the object to be coated that rotates in this way, and the coating liquid is applied to the surface of the circular object to be coated by the centrifugal force of the rotating object to be coated.
  • Spin coaters are known.
  • a circular object to be coated is set on a rotating turntable and rotated, and a nozzle for supplying a coating liquid to the surface of the rotating object to be coated is rotated. Gradually move from the center of the coated body to the outer peripheral side, supply the coating liquid in a spiral shape to the surface of the rotating object to be coated, and apply the coating liquid to the surface of the rotating circular object to be coated. The one that was made is proposed.
  • the nozzle for supplying the coating liquid to the surface of the rotating object to be coated is gradually moved from the central portion of the rotating object to be coated to the outer peripheral side to rotate the coating liquid.
  • the coating liquid is supplied in a spiral shape to the surface of the coating body and the coating liquid is applied to the surface of the rotating circular object to be coated, the time required to apply the coating liquid to the surface of the circular object to be coated.
  • a rotary table on which the object to be coated is placed and which can rotate at least 180 degrees is provided, and at the first direction (X direction) axis passing through the center of the object to be coated.
  • a plurality of nozzles for ejecting the resin are arranged along an arc corresponding to one of the first peripheral area to be coated and the second peripheral area to be coated, which are divided into two, and the nozzles are the objects to be coated.
  • the resin film forming head portion installed so as to face the peripheral region of the surface, and the object to be coated and the resin film forming head portion are moved in a second direction (Y direction) relatively orthogonal to the first direction.
  • a movement mechanism is provided, and the movement of the resin film forming head is controlled by the movement mechanism, and the discharge and stop of the coating liquid in each nozzle are individually controlled, and the discharge width of the coating liquid discharged from each nozzle is controlled.
  • a mechanism has been proposed in which the coating liquid is applied to the surface of a circular object to be coated by using a mechanism for individually controlling the coating liquid.
  • Patent Document 3 in order to apply the coating liquid to the surface of the circularly-shaped object to be coated, the apparatus is complicated and its control is difficult, and the circular-shaped object to be coated is difficult to control.
  • the cost of the device required to apply the coating liquid to the surface is high, and the control operation thereof becomes troublesome, and the coating liquid cannot be easily applied to the surface of the circular object to be coated.
  • a cylindrical cavity extending in the longitudinal direction of the nozzle, a slit-shaped discharge port extending in the longitudinal direction of the nozzle, and a land portion forming a chemical liquid passage from the cavity to the discharge port are provided.
  • the coating liquid is rotatably fitted into a cylindrical rotary manifold for accommodating the coating liquid in the cavity, and the coating liquid is supplied and accommodated in the rotating manifold from the coating liquid supply unit. While the end of the rotary manifold is closed, the outer peripheral portion of the rotary manifold is provided with an opening corresponding to the coating shape of the coating liquid to be supplied onto the object to be coated. There is.
  • Patent Document 4 the nozzle body is relatively moved with respect to the object to be coated to which the coating liquid is applied, and the rotary manifold to which the coating liquid is supplied is moved in the cavity.
  • the opening provided through the outer periphery of the rotary manifold is guided to a position corresponding to the slit-shaped discharge port, and the slit-shaped discharge port is provided from the opening provided on the outer periphery of the rotary manifold. It is shown that the coating liquid is supplied to the surface of the object to be coated through, and the coating liquid is applied to the surface of the object to be coated so as to correspond to the shape of the opening provided on the outer periphery of the rotary manifold.
  • Patent Document 4 a rotary manifold in which the coating liquid is supplied and accommodated in a cylindrical rotary manifold rotatably fitted in the cavity of the nozzle body, and the coating liquid is accommodated in this way. Is rotated in the cavity, and the opening provided through the outer periphery of the rotating manifold is guided to a position corresponding to the slit-shaped discharge port of the nozzle body, and the coating liquid contained in the rotating manifold is referred to as described above.
  • the coating liquid contained in the rotary manifold is excessively covered through the slit-shaped discharge port from the opening provided through the opening.
  • Patent Document 5 similarly to the one shown in Patent Document 4, the coating liquid is housed in the inner cylinder portion, and the coating liquid contained in this way is used as the peripheral opening and the discharge port. Is supplied to the surface of the object to be coated through the overlapping portion, and there is a problem similar to that shown in Patent Document 4 above.
  • Japanese Unexamined Patent Publication No. 2009-290029 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-320902 Japanese Unexamined Patent Publication No. 2013-54128 Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-22545 Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-120938
  • An object of the present invention is to solve various problems as described above when the coating liquid is applied to a predetermined shape on the surface of an object to be coated such as an object to be coated.
  • a coating nozzle having a slit-shaped discharge port for discharging the coating liquid is provided on the object to be coated, and the object to be coated and the coating nozzle are relatively moved. Therefore, when applying the coating liquid to the surface of the object to be coated through the slit-shaped discharge port, the coating liquid can be easily applied to the surface of the object to be coated so as to have various shapes without causing unevenness or the like. The subject is to be able to apply accurately.
  • a coating liquid accommodating portion for accommodating the coating liquid is provided inside the coating nozzle, and the coating liquid accommodating portion is provided at the tip of the coating nozzle.
  • a slit-shaped discharge port for discharging the coating liquid in the portion is provided, the slit-shaped discharge port is positioned on the object to be coated, and the coating nozzle and the object to be coated are relatively moved to each other.
  • a coating liquid storage recess having a predetermined pattern shape for storing the coating liquid is provided on the outer peripheral surface in the coating liquid storage portion.
  • the coating liquid supply body is rotatably provided so as to be located above the slit-shaped discharge port, and the slit-shaped discharge port is separated into a plurality of discharge portions along the longitudinal direction of the slit-shaped discharge port.
  • a partition member is provided to relatively move the object to be coated and the coating nozzle, and the coating liquid supply body in which the coating liquid is stored in the coating liquid storage recess is rotated in the coating liquid storage portion.
  • the coating liquid in the coating liquid storage recess is discharged to the surface of the object to be coated through the discharge portion at the position corresponding to the coating liquid storage recess guided to the slit-shaped discharge port of the coating nozzle, and is discharged to the surface of the coating liquid storage recess.
  • the coating liquid was applied to the surface of the object to be coated so as to correspond to the shape of.
  • a coating liquid supply body provided with a coating liquid accommodating recess for accommodating the coating liquid having a predetermined pattern shape on the outer peripheral surface is positioned above the slit-shaped discharge port.
  • the coating liquid is rotatably provided in the coating liquid storage portion of the coating nozzle so as to rotate, and the coating liquid is stored in the coating liquid storage recess in the coating liquid supply body, so that the coating liquid supply body is placed on the slit-shaped discharge port.
  • the coating liquid in the portion of the coating liquid storage recess is supplied to the surface of the object to be coated, which is relatively moved with the coating nozzle through the slit-shaped discharge port at the tip of the coating nozzle, and is applied to the surface of the object to be coated.
  • the coating liquid is applied according to the shape of the liquid storage recess.
  • the coating in the coating liquid supply body is provided as described above.
  • the coating liquid in the liquid storage recess is applied to the surface of the object to be coated through the slit-shaped discharge port, even if the coating liquid remains in the slit-shaped discharge port without being applied to the surface of the object to be coated.
  • the coating liquid in the coating liquid storage recess is guided only to the discharge portion at the position corresponding to the coating liquid storage recess, and the coating liquid is supplied to the surface of the object to be coated only through the discharge portion to which the coating liquid is guided in this way.
  • the coating liquid flows to other parts of the slit-shaped discharge port, and the coating liquid is dragged from many parts other than the positions corresponding to the coating liquid accommodating recesses and supplied to the surface of the object to be coated.
  • the coating liquid can be accurately applied to the surface of the object to be coated according to the shape of the coating liquid accommodating recess.
  • the slit-shaped discharge port when a partition member is provided in the slit-shaped discharge port as described above and the slit-shaped discharge port is separated into a plurality of discharge portions along the longitudinal direction of the slit-shaped discharge port, the slit-shaped discharge port is separated into a plurality of discharge portions. It is preferable to provide a partition member having a wavy shape along the longitudinal direction of the slit-shaped discharge port, and to provide a plurality of discharge portions alternately and continuously on both sides of the slit-shaped discharge port in the width direction.
  • the slit-shaped discharge ports are provided on both sides in the width direction at each position in the longitudinal direction.
  • the total width of the discharge portion becomes almost constant, and the amount of the coating liquid supplied to the surface of the object to be coated through the discharge portion at the corresponding position in the coating liquid storage recess is constant at each position in the longitudinal direction of the slit-shaped discharge port. Therefore, the amount of the coating liquid supplied to the surface of the object to be coated is made constant, and the thickness unevenness is prevented.
  • the length of the partition member in the discharge direction is set. It is preferable that the length of the slit-shaped discharge port is shorter than the length in the discharge direction. In this way, when the length of the partition member in the discharge direction is shorter than the length of the slit-shaped discharge port in the discharge direction, the slit-shaped discharge port does not have a partition member at the discharge direction end of the slit-shaped discharge port.
  • the coating liquid guided from the inside of the coating liquid storage recess to the discharge portion at the corresponding position exceeds the discharge portion separated by the partition member and is continuous at the end in the discharge direction. It is guided by the slit-shaped discharge port and supplied to the surface of the object to be coated so that the coating liquid is uniformly applied so that the surface of the object to be coated does not have streaks corresponding to the partition members. Become. At this time, the length of the continuous slit-shaped discharge port in the discharge direction is only slightly provided on the end side in the discharge direction, and as described above, many positions other than the positions corresponding to the liquid coating recesses are provided. The coating liquid is not dragged from the part.
  • a pressure adjusting means for adjusting the pressure applied to the coating liquid in the coating liquid storage portion is provided, and the pressure applied to the coating liquid in the coating liquid storage portion by the pressure adjusting means is constant.
  • the coating liquid in the coating liquid storage recess is discharged to the surface of the object to be coated through the discharge portion at the position corresponding to the coating liquid storage recess guided to the slit-shaped discharge port of the coating nozzle.
  • the coating liquid in the liquid storage recess is supplied to the surface of the object to be coated at a constant pressure through the discharge portion in the slit-shaped discharge port, and the coating liquid is applied to the surface of the object to be coated with a constant thickness.
  • the pressure adjusting means a gas is supplied into the coating liquid accommodating portion in a state where the coating liquid is supplied into the coating liquid accommodating portion, and the inside of the coating liquid accommodating portion is used.
  • a gas supply adjusting means for adjusting the pressure applied to the coating liquid in the above-mentioned coating liquid is provided, or the coating liquid is filled in the coating liquid storage portion so that the coating liquid filled in the coating liquid storage portion is filled with the coating liquid. It is possible to provide a coating liquid supply adjusting means for adjusting the supply of the coating liquid into the coating liquid accommodating portion so that the applied pressure becomes a constant pressure.
  • the coating liquid accommodating recess is recessed in the outer peripheral surface of the coating liquid supply body in an elliptical shape having a long axial length, and the coating liquid supply body is rotated.
  • the coating liquid can be applied in a circular shape on the surface of the object to be coated by making the moving speed of relatively moving the object to be coated and the nozzle for coating relative to the peripheral speed to be applied.
  • the coating liquid can be applied in a circular shape to the surface of the object to be coated having a circular shape such as a wafer, and the diameter of the coating liquid supply body provided with the coating liquid accommodating recess can be reduced. Therefore, the coating nozzle can be miniaturized.
  • the coating device as described above is used, and the coating is applied by the portion of the coating liquid supply body rotatably provided in the coating liquid storage portion where the coating liquid storage recess is not provided.
  • the coating liquid With the slit-shaped discharge port at the tip of the nozzle closed, the coating liquid is supplied into the coating liquid storage portion, and the outer peripheral surface of the coating liquid supply body rotatably provided in the coating liquid storage portion.
  • the coating liquid is stored in the coating liquid storage recess having a predetermined pattern shape formed in the above, the coating nozzle and the object to be coated are relatively moved, and the coating liquid is coated in the coating liquid storage recess.
  • the coating liquid supply body to which the liquid is supplied is rotated in the coating liquid accommodating portion, and the coating liquid in the coating liquid accommodating recess is positioned corresponding to the coating liquid accommodating recess guided to the slit-shaped discharge port of the coating nozzle.
  • the coating liquid is discharged to the surface of the object to be coated through the ejection portion in the above, so that the coating liquid is applied to the surface of the object to be coated according to the shape of the coating liquid accommodating recess.
  • the slit-shaped discharge port in the coating nozzle is blocked by the portion of the coating liquid supply body in which the coating liquid storage recess is not provided, and the coating liquid supplied into the coating liquid storage portion is external from the slit-shaped discharge port.
  • the coating liquid in the coating liquid storage portion rotates the coating liquid supply body in which the coating liquid is stored in the coating liquid storage recess. Then, the coating liquid in the coating liquid storage recess is discharged to the surface of the object to be coated through the discharge portion at the position corresponding to the coating liquid storage recess guided to the slit-shaped discharge port of the coating nozzle, and the coating liquid is stored.
  • the coating liquid is applied to the surface of the object to be coated according to the shape of the concave portion.
  • the coating liquid feeder provided with the coating liquid accommodating recess for accommodating the coating liquid having a predetermined pattern shape as described above is positioned on the slit-shaped discharge port.
  • the coating liquid is rotatably provided in the coating liquid storage portion of the coating nozzle so as to rotate, and the coating liquid is stored in the coating liquid storage recess in the coating liquid supply body, so that the coating liquid supply body is placed on the slit-shaped discharge port. Since the object to be coated and the nozzle for application are relatively moved while being rotated at the position, the liquid accommodating recess in the liquid supply body is guided to a position where it is communicated with the slit-shaped discharge port.
  • the coating liquid in the portion of the coating liquid storage recess is supplied to the surface of the object to be coated, which is moved relative to the coating nozzle through the slit-shaped discharge port at the tip of the coating nozzle, and the surface of the object to be coated is supplied.
  • the coating liquid is appropriately applied according to the shape of the coating liquid accommodating recess.
  • the partition member for separating the slit-shaped discharge port into a plurality of discharge portions is provided along the longitudinal direction of the slit-shaped discharge port as described above, the coating liquid is stored in the coating liquid supply body.
  • the coating liquid in the recess is applied to the surface of the object to be coated through the slit-shaped discharge port, even if the coating liquid remains in the slit-shaped discharge port without being applied to the surface of the object to be coated.
  • the coating liquid in the storage recess is guided only to the discharge portion at the position corresponding to the coating liquid storage recess, and the coating liquid is supplied to the surface of the object to be coated only through the discharge portion to which the coating liquid is guided, and the slit.
  • the coating liquid flows to other parts of the shape discharge port, and the coating liquid is suppressed from being dragged from many parts other than the positions corresponding to the coating liquid accommodating recesses and supplied to the surface of the object to be coated, and is to be coated.
  • the coating liquid can be accurately applied to the surface of the body according to the shape of the coating liquid accommodating recess.
  • the coating liquid feeder provided with the coating liquid accommodating recess having an elliptical shape for accommodating the coating liquid is positioned on the slit-shaped discharge port at the tip of the coating nozzle.
  • a coating nozzle is shown in which a wavy partition member is provided in the slit-shaped discharge port along the longitudinal direction of the slit-shaped discharge port while being rotatably provided in the coating liquid accommodating portion.
  • A) is a schematic cross-sectional explanatory view in the longitudinal direction of the coating nozzle
  • (B) is a schematic cross-sectional explanatory view in the direction intersecting the longitudinal direction of the coating nozzle
  • (C) is an coating provided with a wavy partition member.
  • the coating liquid feeder used for the coating apparatus according to the above-described embodiment is shown, (A) is a schematic front view of a coating liquid feeder provided with an elliptical coating liquid accommodating recess on the outer peripheral surface, (B) is a schematic front view. It is a developed plan view of the coating liquid accommodating recess provided on the outer peripheral surface of the coating liquid supply body.
  • FIG. 1 An example of changing the partition member provided along the longitudinal direction in the slit-shaped discharge port of the coating nozzle is shown, and (A) is zigzag along the longitudinal direction of the slit-shaped discharge port.
  • a schematic bottom view seen from the tip side of the coating nozzle showing the state in which the partition member is provided (B) is a state in which the partition member having a comb tooth shape is provided along the longitudinal direction of the slit-shaped discharge port. It is a schematic bottom view seen from the tip side of the coating nozzle which showed.
  • the coating liquid is closed on the slit-shaped discharge port by a portion of the coating liquid supply body provided in the coating liquid storage portion where the coating liquid storage recess is not provided.
  • It is a schematic cross-sectional explanatory view in the longitudinal direction of the coating nozzle which showed the state which supplies the coating liquid from the supply device through the coating liquid supply pipe into the coating liquid accommodating part.
  • the coating liquid is supplied from the coating liquid supply device into the coating liquid storage unit through the coating liquid supply pipe, and then the gas is supplied into the coating liquid storage unit to supply the coating liquid.
  • FIG. 1 It is a schematic cross-sectional explanatory view of the direction which intersects with the longitudinal direction of the coating nozzle which showed the state which adjusted so that the pressure applied to the coating liquid in a housing part becomes a constant pressure.
  • the above-mentioned first coating apparatus is shown, and (A) to (D) supply gas into a coating liquid accommodating portion to which a predetermined amount of coating liquid is supplied, and adjust the pressure applied to the coating liquid in the coating liquid accommodating portion.
  • the coating nozzle is placed on the circular object to be coated, and the coating liquid feeder is rotated to accommodate the coating liquid in an elliptical shape recessed in the outer peripheral surface of the coating liquid supply body.
  • FIGS. 7A to 7D show a state in which a coating liquid is applied to the surface of a circular object to be coated, corresponding to FIGS. 7A to 7D. It is a schematic plan view.
  • (A) is a slit-shaped discharge in the coating nozzle due to a portion of the coating liquid supply body provided in the coating liquid accommodating portion of the coating nozzle in which the coating liquid accommodating recess is not provided.
  • the outline of the direction intersecting the longitudinal direction of the slit-shaped discharge port which shows the state of adjusting the supply of the coating liquid so that the pressure applied to the coating liquid contained in the coating liquid storage portion becomes a constant pressure.
  • the coating apparatus when the coating liquid accommodating recess for accommodating the coating liquid is provided on the outer peripheral surface of the coating liquid supply body, a schematic development showing a plurality of modified examples in which the shape of the coating liquid accommodating recess is changed is shown. It is a figure.
  • the coating liquid supply body is rotated to guide the coating liquid storage recess onto the slit-shaped discharge port, and the coating liquid is transferred from the coating liquid storage recess to the slit-shaped discharge port.
  • the schematic cross-sectional explanatory view in the longitudinal direction of the coating nozzle showing the state corresponding to FIG. 10C when the coating liquid in the coating liquid accommodating portion is applied to the surface of the object to be coated by guiding the coating liquid through the gap. be.
  • the coating apparatus and the coating method according to the embodiment of the present invention will be specifically described with reference to the attached drawings.
  • the coating apparatus and coating method according to the present invention are not limited to those shown in the following embodiments, and can be appropriately modified and implemented without changing the gist of the invention.
  • a coating liquid accommodating portion 11 for accommodating the coating liquid P is provided inside the coating nozzle 10 and is provided.
  • a slit-shaped discharge port 12 for discharging the coating liquid P is provided at the tip of the coating nozzle 10 so as to communicate with the coating liquid accommodating portion 11.
  • the slit-shaped discharge port 12 is provided with a wave-shaped partition member 13 in which the length of the slit-shaped discharge port 12 in the discharge direction is shorter than the length of the slit-shaped discharge port 12.
  • the slit-shaped discharge port 12 is separated into a plurality of discharge portions 12a along the longitudinal direction thereof, while the slit-shaped discharge port 12 is separated.
  • the tip portion of the discharge direction 12 is a continuous slit-shaped discharge portion 12b in which the slit-shaped discharge port 12 is in a continuous state in the longitudinal direction.
  • the corrugated partition member 13 is made shorter than the length of the slit-shaped discharge port 12 in the discharge direction, and the slit-shaped discharge port is located at the tip of the slit-shaped discharge port 12 in the discharge direction.
  • the continuous slit-shaped discharge portion 12b in which the 12 is in a continuous state is provided, it is also possible to make the length of the wavy partition member 13 in the discharge direction the same as that of the slit-shaped discharge port 12. ..
  • the length in the axial direction is long on the outer peripheral surface of the cylindrical rod-shaped body in the coating liquid accommodating portion 11.
  • the coating liquid supply body 14 in which the coating liquid storage recess 14a having a long elliptical shape is recessed is rotatably provided so as to be located on the slit-shaped discharge port 12, and the coating liquid supply body 14 is provided.
  • the coating liquid supply body 14 closes the space between the slit-shaped discharging port 12 and the coating liquid accommodating portion 11. I try to let you.
  • the partition member 13 having a curved wavy shape is provided along the longitudinal direction of the slit-shaped discharge port 12, but the partition member 13 is limited to such a member.
  • a zigzag straight wavy partition member 13X is provided along the longitudinal direction of the slit-shaped discharge port 12, and the slit-shaped discharge port 12 is longitudinally provided. It is separated into a plurality of discharge portions 12a along the direction, and as shown in FIG. 3B, a comb-shaped partition member 13Y is provided along the longitudinal direction of the slit-shaped discharge port 12.
  • a plurality of discharge holes along the longitudinal direction of the slit-shaped discharge port 12 are slit-shaped discharge ports. It is also possible to use a plurality of partition members provided in the width direction of 12.
  • a coating liquid supply valve 22 is provided, and the coating liquid supply valve 22 is opened and closed so that the coating liquid P can be supplied or stopped to the coating liquid accommodating portion 11, and gas can be supplied into the coating liquid accommodating portion 11.
  • a supply / exhaust pipe 31 for supplying / exhausting is provided, and the gas supplied from the gas supply device 30 to the coating liquid accommodating portion 11 is adjusted to the supply side pipe 31a in the supply / exhaust pipe 31 as a gas supply adjusting means.
  • a gas supply adjusting valve 32 is provided, and an exhaust valve 33 is provided on the exhaust side pipe 31b of the supply / exhaust pipe 31 so that the gas in the coating liquid accommodating portion 11 is exhausted through the exhaust valve 33.
  • the coating liquid P is present in the slit-shaped discharge port 12 at the tip of the coating nozzle 10, but this is during the operation of this coating device. This is because the coating liquid P supplied to the slit-shaped discharge port 12 of the coating nozzle 10 is in a state of being accumulated in the preparation stage such as during a trial run or during operation.
  • this first coating device when the coating liquid P is supplied into the coating liquid accommodating portion 11 in the coating nozzle 10, as shown in FIGS. 4 and 5, the tip portion of the coating nozzle 10 is used. A state in which a portion of the coating liquid supply body 14 in which the coating liquid accommodating recess 14a is not provided is positioned on the slit-shaped discharge port 12, and the space between the coating liquid accommodating portion 11 and the slit-shaped discharge port 12 is closed. Then, the coating liquid supply valve 22 provided in the coating liquid supply pipe 21 is opened, and a predetermined amount of coating liquid P is supplied from the coating liquid supply device 20 into the coating liquid accommodating portion 11 through the coating liquid supply pipe 21.
  • the exhaust valve 33 provided in the exhaust side pipe 31b is opened to exhaust (vent) the gas in the coating liquid accommodating portion 11 through the exhaust side pipe 31b, while the gas supply provided in the supply side pipe 31a.
  • the regulating valve 32 is closed to prevent gas from being supplied from the gas supply device 30 to the coating liquid accommodating portion 11.
  • the open state is shown in white and the closed state is shown in black.
  • the coating liquid accommodating the coating liquid supply body 14 With the slit-shaped discharge port 12 closed by the portion not provided with the recess 14a, the coating liquid supply valve 22 provided in the coating liquid supply pipe 21 is closed, and the coating liquid P is removed from the coating liquid supply device 20. In this state, the exhaust valve 33 provided in the exhaust side pipe 31b is closed to prevent the gas in the coating liquid accommodating portion 11 from being exhausted.
  • the gas supply adjusting valve 32 provided in the supply side pipe 31a is opened, gas is supplied from the gas supply device 30 through the gas supply adjusting valve 32 provided in the supply side pipe 31a into the coating liquid accommodating portion 11, and the coating liquid is accommodated.
  • the pressure applied to the coating liquid P in the portion 11 is adjusted to be a predetermined constant pressure.
  • the coating liquid supply body 14 is provided with the coating liquid accommodating recess 14a as described above.
  • the slit-shaped discharge port 12 at the tip of the coating nozzle 10 is closed by the portion that is not covered, gas is supplied from the gas supply device 30 into the coating liquid storage unit 11 via the gas supply adjusting valve 32, and the coating liquid storage unit is used.
  • the coating nozzle 10 is applied to the surface of the object to be coated W from the slit-shaped discharge port 12 in a state where the pressure applied to the coating liquid P in 11 is adjusted to a predetermined pressure. It is designed to lead to the position where the application of P is started.
  • the coating liquid supply body 14 is rotated while the coated body W is moved with respect to the coating nozzle 10 to rotate the coating liquid supply body 14.
  • the coating liquid P contained in the coating liquid accommodating recess 14a is introduced into the coating liquid accommodating recess 14a.
  • the slit-shaped discharge port 12 provided with the partition member 13 having a wavy shape as described above the object to be coated is passed through the discharge portion 12a at the position corresponding to the coating liquid accommodating recess 14a. As shown in FIGS.
  • the surface of the object to be coated W is supplied to the surface of the W, and the surface of the object to be coated W is formed in a circular shape.
  • the coating liquid P contained in the coating liquid accommodating recess 14a is applied in a circular shape from the coating nozzle 10 through the slit-shaped discharge port 12.
  • the object to be coated W is moved with respect to the nozzle 10 for coating as described above, but the object W to be coated is fixed and the nozzle 10 for coating is moved to the object W to be coated. You may move it above.
  • the coating liquid accommodating recess 14a is formed on the outer peripheral surface of the coating liquid supply body 14 having a columnar shape as described above in an elliptical shape having a long axial length. Since the coating liquid P is recessed in the coating liquid storage recess 14a recessed in the outer peripheral surface of the coating liquid supply body 14 as described above, the coating liquid P contained in the coating liquid storage recess 14a is discharged from the slit-shaped discharge port 12 of the coating nozzle 10. When applying in a circular shape to the surface of the object to be coated W having a circular shape, the moving speed at which the object to be coated W is moved is made faster than the peripheral speed at which the liquid supply body 14 is rotated.
  • the coating liquid P is applied in a circular shape to the surface of the object to be coated W, which has a circular shape, through the slit-shaped discharge port 12 from the elliptical coating liquid accommodating recess 14a having a long axial length. I have to.
  • the outer peripheral surface of the coating liquid supply body 14 has a circular shape having a size corresponding to the object to be coated W. It is not necessary to provide the coating liquid accommodating recess 14a, and the diameter of the coating liquid supply body 14 can be reduced by forming the elliptical coating liquid accommodating recess 14a having a long axial length as described above.
  • the coating nozzle 10 can be miniaturized.
  • the wavy partition member 13 is provided in the slit-shaped discharge port 12 of the coating nozzle 10 along the longitudinal direction of the slit-shaped discharge port 12 as described above.
  • the slit-shaped discharge port 12 is separated into a plurality of discharge portions 12a along the longitudinal direction thereof, and the coating liquid P contained in the coating liquid storage recess 14a is discharged at a position corresponding to the coating liquid storage recess 14a.
  • the coating liquid P is supplied to the surface of the object to be coated W through only 12a, the coating liquid P is dragged from the discharging portion 12a other than the discharging portion 12a at the position corresponding to the coating liquid accommodating recess 14a, and the coating liquid accommodating recess 14a
  • the coating liquid P is suppressed from being supplied to the surface of the object to be coated W from the portion that does not correspond to the above.
  • the coating liquid P can be accurately applied to the surface of the object to be coated W corresponding to the shape of the coating liquid accommodating recess 14a, and the coating liquid P supplied to the surface of the object to be coated W can be applied. It also prevents the thickness of the peripheral part of the wall from becoming thicker.
  • the partition member 13 having a wavy shape as described above is made shorter than the length of the slit-shaped discharge port 12 in the discharge direction to form the slit-shaped discharge port 12. Since the continuous slit-shaped discharge portion 12b in which the slit-shaped discharge port 12 is continuous in the longitudinal direction is provided at the tip portion in the discharge direction, the coating liquid P is individually applied as it is from each discharge portion 12a separated by the partition member 13. It is also possible to prevent the coating liquid P supplied to the surface of the object to be coated W from being coated on the surface of W and causing streak-like unevenness corresponding to each discharge portion 12a.
  • the pressure applied to the coating liquid P in the coating liquid accommodating portion 11 is adjusted to a constant pressure as described above, and the coating apparatus is accommodated in the coating liquid accommodating recess 14a.
  • the coating liquid P is made to have a uniform thickness over the entire surface of the object to be coated W. It will be applied.
  • the coating liquid P is applied from the coating liquid supply device 20 (not shown) through the coating liquid supply pipe 21 to the coating liquid accommodating portion 11 in the coating nozzle 10. I am trying to supply it to.
  • this second coating device when the coating liquid P is supplied from the coating liquid supply device 20 to the coating liquid accommodating portion 11 in the coating nozzle 10 through the coating liquid supply pipe 21, FIGS. ) And FIGS. 10A to 10D, the pressure applied to the coating liquid P contained in the coating liquid accommodating portion 11 becomes a constant pressure at a position in the middle of the coating liquid supply pipe 21.
  • a coating liquid supply adjusting means for adjusting the supply of the coating liquid P as described above a syringe pump 40 is provided, and the coating liquid P is supplied through the first coating liquid supply valve 22a provided on the coating liquid supply pipe 21 on the upstream side of the syringe pump 40.
  • the coating liquid P guided into the syringe pump 40 is guided into the syringe pump 40, and the coating liquid P guided into the syringe pump 40 is passed through the second coating liquid supply valve 22b provided in the coating liquid supply pipe 21 on the downstream side of the syringe pump 40 into the coating liquid accommodating portion 11. I am trying to supply it to.
  • an exhaust pipe 34 for exhausting the gas in the coating liquid accommodating portion 11 to the outside is provided in order to supply the coating liquid P into the coating liquid accommodating portion 11.
  • An exhaust valve 35 is provided in the exhaust pipe 34.
  • the coating liquid supply body 14 when supplying the coating liquid P into the coating liquid accommodating portion 11 in the coating nozzle 10, as shown in FIG. 9A, the coating liquid supply body 14 is used for coating.
  • the first coating liquid supply valve 22a and the first coating liquid supply valve 22a provided in the coating liquid supply pipe 21 are provided in a state where the slit-shaped discharge port 12 at the tip of the coating nozzle 10 is closed by the portion where the liquid storage recess 14a is not provided. 2
  • the coating liquid supply valve 22b is opened, the coating liquid P is supplied into the syringe pump 40 through the coating liquid supply pipe 21, and the coating liquid P thus supplied into the syringe pump 40 is applied to the coating liquid of the coating nozzle 10.
  • the gas in the coating liquid accommodating portion 11 to which the coating liquid P is supplied is exhausted through the exhaust pipe 34 by opening the exhaust valve 35 provided in the exhaust pipe 34 while supplying the gas into the accommodating portion 11. I'm trying to get rid of it.
  • the present invention is shown in FIG. 9B.
  • the coating liquid P in the syringe pump 40 is put into the coating liquid accommodating portion 11 by the cylinder 41 in the syringe pump 40. It is pushed in the direction of feeding so that the pressure applied to the coating liquid P in the coating liquid accommodating portion 11 becomes a predetermined constant pressure.
  • the opening and closing of the first coating liquid supply valve 22a, the second coating liquid supply valve 22b, and the exhaust valve 35 shown in the figure the open state is shown in white and the closed state is shown in black.
  • the coating liquid supply body 14 is provided with the coating liquid accommodating recess 14a as described above.
  • the slit-shaped discharge port 12 at the tip of the coating nozzle 10 is closed by the portion that is not covered, and the cylinder 41 in the syringe pump 40 pushes the coating liquid P in the syringe pump 40 in the direction of being sent out into the coating liquid storage portion 11.
  • the coating nozzle 10 is connected to the object to be coated from the slit-shaped discharge port 12.
  • the surface of W is guided to a position where the application of the coating liquid P is started.
  • the coating liquid supply body 14 is rotated while moving the coated body W with respect to the coating nozzle 10 to rotate the coating liquid supply body 14. From the portion where the coating liquid accommodating recess 14a recessed in the outer peripheral surface of the coating liquid accommodating recess 14a overlaps with the slit-shaped discharge port 12 of the coating nozzle 10, the coating liquid P contained in the coating liquid accommodating recess 14a is introduced into the coating liquid accommodating recess 14a. Through the slit-shaped discharge port 12 provided with the partition member 13 having a wavy shape as described above, the object to be coated is passed through the discharge portion 12a at the position corresponding to the coating liquid accommodating recess 14a. As shown in FIGS.
  • the surface of the object to be coated W is supplied to the surface of the W and has a circular shape as in the case of the first coating apparatus. Then, the coating liquid P contained in the coating liquid storage recess 14a recessed in the outer peripheral surface of the coating liquid supply body 14 is applied in a circular shape from the coating nozzle 10 through the slit-shaped discharge port 12. There is.
  • the coated body W may be fixed and the coating nozzle 10 may be moved on the coated body W.
  • the coating liquid P in the syringe pump 40 decreases as a result of applying the coating liquid P to the surface of the object to be coated W as described above, although not shown, the second coating is described above. While closing the liquid supply valve 22b, the first coating liquid supply valve 22a is opened, the syringe pump 40 is moved in the suction direction, and the coating liquid P is filled in the syringe pump 40 again through the coating liquid supply pipe 21. Let me. In the above figure showing the second coating device, it is shown that the coating liquid P in the syringe pump 40 disappears by one coating, but usually, after the coating is performed a plurality of times, the coating liquid is applied. P is filled in the syringe pump 40.
  • the coating liquid accommodating recess 14a is formed on the outer peripheral surface of the coating liquid supply body 14 having a columnar shape as described above in an elliptical shape having a long axial length. Since the coating liquid P is recessed in the coating liquid storage recess 14a recessed in the outer peripheral surface of the coating liquid supply body 14 as described above, the coating liquid P contained in the coating liquid storage recess 14a is discharged from the slit-shaped discharge port 12 of the coating nozzle 10.
  • the peripheral speed at which the coating liquid supply body 14 is rotated is higher than the peripheral speed to be applied.
  • the moving speed at which the body W is moved is increased, and the surface of the circular object W to be coated is coated from the elliptical coating liquid accommodating recess 14a having a long axial length through the slit-shaped discharge port 12.
  • the liquid P is applied in a circular shape.
  • a circular coating liquid having a size corresponding to the object to be coated W is applied to the outer peripheral surface of the coating liquid supply body 14. It is not necessary to provide the accommodating recess 14a, and the diameter of the coating liquid supply body 14 can be reduced by forming the elliptical coating liquid accommodating recess 14a having a long axial length as described above, and is used for coating.
  • the nozzle 10 can be miniaturized.
  • the slit-shaped discharge port 12 of the coating nozzle 10 is provided with the wavy partition member 13 along the longitudinal direction of the slit-shaped discharge port 12 as described above.
  • the slit-shaped discharge port 12 is separated into a plurality of discharge portions 12a along the longitudinal direction thereof, and the coating liquid P contained in the coating liquid storage recess 14a is discharged at a position corresponding to the coating liquid storage recess 14a. Since it is supplied to the surface of the object to be coated W through only 12a, from the discharge portion 12a other than the discharge portion 12a at the position corresponding to the coating liquid accommodating recess 14a, as in the case of the first coating device described above.
  • the coating liquid P is dragged so that the coating liquid P is suppressed from being supplied to the surface of the object to be coated W from the portion not corresponding to the coating liquid accommodating recess 14a. By doing so, the coating liquid P can be accurately applied to the surface of the object to be coated W corresponding to the shape of the coating liquid accommodating recess 14a, and the coating liquid P supplied to the surface of the object to be coated W can be applied. It also prevents the thickness of the peripheral part of the wall from becoming thicker.
  • the coating liquid P contained in the coating liquid accommodating recess 14a is passed through the coating liquid accommodating recess 14a to form a wavy partition as described above.
  • the coating liquid P is applied to the surface of the object to be coated W from the slit-shaped discharging port 12 through the discharging portion 12a at the position corresponding to the coating liquid accommodating recess 14a by guiding the member 13 to the slit-shaped discharging port 12 provided.
  • the schematic cross-sectional explanatory view in the longitudinal direction of the coating nozzle 10 in the above is shown.
  • the slit-shaped discharge port 12 is separated into a plurality of discharge portions 12a along the longitudinal direction thereof by the partition member 13 having a wavy shape as described above, so that the slit-shaped discharge port 12 is discharged at a position corresponding to the coating liquid storage recess 14a.
  • the coating liquid P is dragged from the discharging portion 12a other than the portion 12a, and the coating liquid P is suppressed from being supplied to the surface of the object to be coated W from the portion not corresponding to the coating liquid accommodating recess 14a, and is to be coated. It is prevented that the thickness of the peripheral portion of the coating liquid P supplied to the surface of the body W becomes thick.
  • the partition member 13 having a wavy shape as described above is made shorter than the length of the slit-shaped discharge port 12 in the discharge direction, so that the slit-shaped discharge port 12 has a slit-shaped discharge port 12. Since the continuous slit-shaped discharge portion 12b in which the slit-shaped discharge port 12 is continuous in the longitudinal direction is provided at the tip portion in the discharge direction, the coating liquid P is individually applied as it is from each discharge portion 12a separated by the partition member 13. It is also possible to prevent the coating liquid P supplied to the surface of the object to be coated W from being coated on the surface of W and causing streak-like unevenness corresponding to each discharge portion 12a.
  • the pressure applied to the coating liquid P in the coating liquid accommodating portion 11 is adjusted to a constant pressure as described above, and the second coating apparatus is accommodated in the coating liquid accommodating recess 14a.
  • the coating liquid P is made to have a uniform thickness over the entire surface of the object to be coated W. It will be applied.
  • the coating liquid accommodating recess 14a is recessed in the outer peripheral surface of the cylindrical coating liquid supply body 14 in an elliptical shape having a long axial length. As shown in FIGS. 7A to 7D, the coating liquid accommodating recess is recessed in the outer peripheral surface of the coating liquid supply body 14 with respect to the surface of the object to be coated W having a circular shape.
  • the coating liquid P contained in 14a is applied in a circular shape from the coating nozzle 10 through the slit-shaped discharge port 12, but the shape of the object to be coated W is not particularly limited to the circular shape.
  • the shape of the coating liquid accommodating recess 14a recessed in the outer peripheral surface of the coating liquid supply body 14 for applying the coating liquid P to the surface of the object to be coated W through the slit-shaped discharge port 12 of the coating nozzle 10 is also limited.
  • the coating liquid storage recess 14a is recessed in the outer peripheral surface of the coating liquid supply body 14. It is possible to provide the coating liquid accommodating recess 14a having various shapes such as a rhombic shape, a triangular shape, or a gourd shape.
  • Coating nozzle 11 Coating liquid storage unit 12: Slit-shaped discharge port 12a: Discharge unit 12b: Continuous slit-shaped discharge unit 13: Partition member 13X: Partition member 13Y: Partition member 14: Coating liquid supply body 14a: Coating liquid Storage recess 20: Coating liquid supply device 21: Coating liquid supply pipe 22: Coating liquid supply valve 22a: First coating liquid supply valve 22b: Second coating liquid supply valve 30: Gas supply device 31: Supply / exhaust pipe 31a: Supply Side pipe 31b: Exhaust side pipe 32: Gas supply adjustment valve 33: Exhaust valve 34: Exhaust pipe 35: Exhaust valve 40: Syringe pump 41: Cylinder P: Coating liquid W: Subject to be coated

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

被塗布体Wの上において塗布用ノズル10を被塗布体と相対的に移動させ、塗布用ノズル先端部のスリット状吐出口12から被塗布体の表面に塗液Pを塗布する塗布装置おいて、塗液が収容される塗液収容部11内に所定のパターン形状の塗液収容凹部14aが設けられた塗液供給体14をスリット状吐出口の上に回転可能に設けると共に、スリット状吐出口の長手方向に沿って複数の吐出部12aに分離させる仕切り部材13を設け、塗液供給体14を回転させて、塗液収容凹部に対応した位置の吐出部を通して塗液を被塗布体の表面に塗布させる。

Description

塗布装置及び塗布方法
 本発明は、塗布用ノズルの内部に塗液を収容させる塗液収容部を設けると共に、塗布用ノズルの先端部に前記の塗液収容部内における塗液を吐出させるスリット状吐出口を設け、前記のスリット状吐出口を被塗布体の上に位置させて、前記の塗布用ノズルと被塗布体とを相対的に移動させ、前記のスリット状吐出口を通して被塗布体の表面に塗液を塗布する塗布装置及びこのような塗布装置を用いて被塗布体の表面に塗液を塗布する塗布方法に関するものである。特に、前記のように被塗布体と塗布用ノズルとを相対的に移動させて、塗布用ノズルに設けたスリット状吐出口を通して被塗布体の表面に塗液を塗布するにあたり、被塗布体の表面に塗液を、ムラ等が生じないようにして、円形状等の各種の形状になるように簡単かつ正確に塗布できるようにした点に特徴を有するものである。
 ウエハー等の被塗布体の表面に、塗布装置により塗液を所定の形状に塗布するにあたっては、従来から様々な方法が使用されており、例えば、塗液を吐出させるスリット状吐出口を先端部に有する塗布用ノズルを被塗布体の上に配置させ、前記の被塗布体と塗布用ノズルとを相対的に移動させて、前記のスリット状吐出口を通して被塗布体の表面に塗液を塗布するようにした塗布装置等の各種の塗布装置が知られている。
 ここで、例えば、ウエハー等の円形状の被塗布体の表面に塗液を円形状に塗布するにあたっては、特許文献1に示されるように、円形状の被塗布体を回転するターンテーブルの上にセットして回転させ、このように回転する被塗布体の中心部にノズルから塗液を供給させ、回転する被塗布体の遠心力により塗液を円形状の被塗布体の表面に塗布させるようにしたスピンコーターが知られている。
 しかし、特許文献1に示されるようなスピンコーターにおいては、回転する被塗布体の表面に塗液を一定した厚みになるようにして均一に供給することは困難であり、また回転する被塗布体の表面に供給された塗液が、遠心力によって被塗布体の上から振り飛ばされて塗液が無駄になり、特に高価な塗液の場合には、無駄になる塗液のコストが大きくなるという問題があった。
 また、特許文献2に示されるように、円形状の被塗布体を回転するターンテーブルの上にセットして回転させると共に、回転する被塗布体の表面に塗液を供給させるノズルを回転する被塗布体の中心部から外周側に徐々に移動させて、塗液を回転する被塗布体の表面に渦巻き状に供給して、回転する円形状の被塗布体の表面に塗液を塗布させるようにしたものが提案されている。
 しかし、特許文献2に示されるように、回転する被塗布体の表面に塗液を供給させるノズルを回転する被塗布体の中心部から外周側に徐々に移動させて、塗液を回転する被塗布体の表面に渦巻き状に供給し、回転する円形状の被塗布体の表面に塗液を塗布させるようにした場合、円形状の被塗布体の表面に塗液を塗布させるのに要する時間が長くなって生産性が悪くなると共に、被塗布体の表面に塗液を均一な厚みになるようにして塗布することも困難になるいという問題があった。
 また、特許文献3に示されるように、被塗布体が載置されて少なくとも180度回転可能な回転テーブルを設けると共に、前記の被塗布体の中心を通る第1の方向(X方向)軸で2分割された第1の被塗布体周辺領域及び第2の被塗布体周辺領域の一方に相当する円弧に沿って樹脂を吐出するための複数のノズルを配置させ、前記のノズルが被塗布体の周辺領域に対向するように設置される樹脂膜形成ヘッド部と、被塗布体と樹脂膜形成ヘッド部を相対的に第1の方向とは直交する第2の方向(Y方向)に移動させる移動機構を設け、前記の移動機構により、樹脂膜形成ヘッド部の移動を制御すると共に、各ノズルにおける塗液の吐出及び停止を個別に制御して、各ノズルから吐出される塗液の吐出幅を個別に制御する機構を用いて、円形状の被塗布体の表面に塗液を塗布させるようにしたものが提案されている。
 しかし、特許文献3に示されるようにして、円形状の被塗布体の表面に塗液を塗布させるためには、装置が複雑化すると共にその制御も困難であり、円形状の被塗布体の表面に塗液を塗布させるのに要する装置のコストが高くつくと共に、その制御操作を行うことも面倒になり、簡単に円形状の被塗布体の表面に塗液を塗布させることができず、さらに、被塗布体の表面に塗液を均一な厚みになるようにして塗布することも困難になる等の問題があった。
 また、特許文献4においては、ノズル長手方向に延びる円柱形状の空洞部と、ノズル長手方向に延びるスリット状の吐出口と、前記空洞部から前記吐出口までの薬液通路を形成するランド部とを有する長尺型のノズル本体において、前記の空洞部内に、塗液を収容させる円筒状の回転マニホールドに回転可能に嵌め込んで、この回転マニホールド内に塗液供給部から塗液を供給させて収容させるようにし、この回転マニホールドの端部を閉塞させる一方、この回転マニホールドの外周部に、被塗布体上に供給する塗液の塗布形状に対応する開口を貫通して設けたものが示されている。
 そして、特許文献4に示されるものにおいては、塗液を塗布させる被塗布体に対して、前記のノズル本体を相対的に移動させると共に、塗液が供給された前記の回転マニホールドを空洞部内において回転させて、この回転マニホールドの外周に貫通して設けられた開口を前記のスリット状の吐出口と対応する位置に導いて、回転マニホールドの外周に設けられた前記の開口からスリット状の吐出口を通して塗液を前記の被塗布体の表面に供給し、被塗布体の表面に回転マニホールドの外周に設けられた開口の形状に対応するようにして塗液を塗布させることが示されている。
 しかし、特許文献4に示されるように、ノズル本体の空洞部内に回転可能に嵌め込んだ円筒状の回転マニホールド内に塗液を供給させて収容させ、このように塗液が収容された回転マニホールドを空洞部内において回転させて、この回転マニホールドの外周に貫通して設けられた開口をノズル本体のスリット状の吐出口と対応する位置に導いて、回転マニホールド内に収容された塗液を前記の開口からスリット状の吐出口を通して前記の被塗布体の表面に供給させるようにした場合、回転マニホールド内に収容された塗液が貫通して設けられた開口からスリット状の吐出口を通して過剰に被塗布体の表面に供給されたりして、一定した厚みで塗液を被塗布体の表面に供給することが困難になり、また回転マニホールドに設けた前記の開口を通して、回転マニホールド内における塗液が、回転マニホールドと空洞部との間に流れ込んで、この塗液がスリット状の吐出口を通して被塗布体の表面に液だれしたり、さらに回転マニホールド内に収容された塗液が万遍なく使用されずに、一部の塗液の濃度や粘度にムラが生じて塗工不良が発生したりするという問題があった。
 また、特許文献5に示されるものも、前記の特許文献4に示されるものと同様に、塗液を内筒部内に収容させ、このように収容された塗液を周部開口と吐出口とが重なる部分を通して被塗布体の表面に供給するようになっており、前記の特許文献4に示されるものと同様の問題が存在した。
特開2009-290029号公報 特開2002-320902号公報 特開2013-54128号公報 特開2014-22545号公報 特開2012-120938号公報
 本発明は、被塗布体等の被塗布体の表面に塗液を所定の形状に塗布する場合における前記のような様々な問題を解決することを課題とするものである。
 すなわち、本発明においては、被塗布体の上に、塗液を吐出させるスリット状吐出口を先端部に有する塗布用ノズルを設け、前記の被塗布体と塗布用ノズルとを相対的に移動させて、前記のスリット状吐出口を通して被塗布体の表面に塗液を塗布するにあたり、被塗布体の表面に塗液を、ムラ等が生じないようにして、各種の形状になるように簡単かつ正確に塗布できるようにすることを課題とするものである。
 本発明に係る塗布装置においては、前記のような課題を解決するため、塗布用ノズルの内部に塗液を収容させる塗液収容部を設けると共に、塗布用ノズルの先端部に前記の塗液収容部内における塗液を吐出させるスリット状吐出口を設け、前記のスリット状吐出口を被塗布体の上に位置させて、前記の塗布用ノズルと被塗布体とを相対的に移動させ、前記のスリット状吐出口を通して被塗布体の表面に塗液を塗布する塗布装置において、前記の塗液収容部内に、塗液を収容させる所定のパターン形状になった塗液収容凹部が外周面に設けられた塗液供給体を前記のスリット状吐出口の上に位置するようにして回転可能に設けると共に、前記のスリット状吐出口の長手方向に沿ってスリット状吐出口を複数の吐出部に分離させる仕切り部材を設け、前記の被塗布体と塗布用ノズルとを相対的に移動させると共に、前記の塗液収容凹部内に塗液が収容された塗液供給体を塗液収容部内で回転させ、前記の塗液収容凹部内における塗液を、塗布用ノズルのスリット状吐出口に導かれた塗液収容凹部に対応した位置における吐出部を通して被塗布体の表面に吐出させて、塗液収容凹部の形状に対応するように前記の被塗布体の表面に塗液を塗布させるようにした。
 そして、本発明に係る塗布装置のように、所定のパターン形状になった塗液を収容させる塗液収容凹部が外周面に設けられた塗液供給体を、スリット状吐出口の上に位置で回転するようにして塗布用ノズルにおける塗液収容部内に回転可能に設け、この塗液供給体における塗液収容凹部内に塗液を収容させて、塗液供給体をスリット状吐出口の上に位置で回転させると共に、被塗布体と塗布用ノズルとを相対的に移動させると、前記の塗液供給体における塗液収容凹部がスリット状吐出口と連通される位置に導かれた状態では、この塗液収容凹部の部分における塗液が、塗布用ノズルの先端部におけるスリット状吐出口を通して塗布用ノズルと相対的に移動される被塗布体の表面に供給され、被塗布体の表面に塗液収容凹部の形状に応じて塗液が塗布されるようになる。
 また、本発明に係る塗布装置のように、スリット状吐出口の長手方向に沿ってスリット状吐出口を複数の吐出部に分離させる仕切り部材を設けると、前記のように塗液供給体における塗液収容凹部内の塗液を、スリット状吐出口を通して被塗布体の表面に塗液を塗布する際に、スリット状吐出口内に被塗布体の表面に塗布されず塗液が残っていても、塗液収容凹部内における塗液が塗液収容凹部に対応した位置における吐出部だけに導かれ、このように塗液が導かれた吐出部だけを通して被塗布体の表面に供給されるようになり、スリット状吐出口における他の部分に塗液が流れて、塗液収容凹部に対応した位置以外の多くの部分から塗液が引きずられて被塗布体の表面に供給されるのが抑制され、被塗布体の表面に塗液収容凹部の形状に応じて塗液が正確に塗布されるようになる。
 また、本発明に係る塗布装置において、前記のようにスリット状吐出口に仕切り部材を設けて、スリット状吐出口の長手方向に沿ってスリット状吐出口を複数の吐出部に分離させるにあたっては、スリット状吐出口の長手方向に沿って波形状になった仕切り部材を設けて、スリット状吐出口の幅方向両側に複数の吐出部を交互に連続するように設けることが好ましい。このように波形状になった仕切り部材により、スリット状吐出口の幅方向両側に複数の吐出部を交互に連続するに設けると、スリット状吐出口の長手方向の各位置において、幅方向両側における吐出部の合計幅がほぼ一定になり、塗液収容凹部内における塗液を対応した位置における吐出部を通して被塗布体の表面に供給される量がスリット状吐出口の長手方向の各位置において一定になって、被塗布体の表面に供給される塗液の量が一定化して、厚みムラが生じるのが防止される。
 また、本発明に係る塗布装置において、スリット状吐出口の長手方向に沿ってスリット状吐出口を複数の吐出部に分離させる仕切り部材を設けるにあたり、前記の仕切り部材の吐出方向の長さを、前記のスリット状吐出口の吐出方向の長さよりも短くすることが好ましい。このように、仕切り部材の吐出方向の長さをスリット状吐出口の吐出方向の長さよりも短くすると、スリット状吐出口の吐出方向端部には仕切り部材が存在せずに、スリット状吐出口が吐出方向端部において連続した状態になり、塗液収容凹部内から対応した位置における吐出部に導かれた塗液が、仕切り部材によって分離された吐出部を超えて吐出方向端部における連続したスリット状吐出口に導かれて被塗布体の表面に供給されるようになり、被塗布体の表面に仕切り部材に対応する筋が生じないようにして、塗液が均一に塗布されるようになる。なお、このときの連続したスリット状吐出口の吐出方向の長さは、吐出方向の端部側に僅かに設けられるだけであり、前述したように塗液収容凹部に対応した位置以外の多くの部分から塗液が引きずられることはない。
 また、本発明に係る塗布装置においては、前記の塗液収容部内における塗液に加わる圧力を調整する圧力調整手段を設け、前記の圧力調整手段により塗液収容部内における塗液に加わる圧力を一定圧に保った状態で、前記の塗液供給体を回転させて、前記の塗液収容凹部内における塗液を、塗布用ノズルのスリット状吐出口に導かれた塗液収容凹部に対応した位置における吐出部を通して被塗布体の表面に吐出させるようにすることが好ましい。このようにすると、塗液収容凹部内の塗液を、塗布用ノズルのスリット状吐出口に導かれた塗液収容凹部に対応した位置における吐出部を通して被塗布体の表面に吐出させるにあたり、塗液収容凹部内における塗液が、一定した圧力でスリット状吐出口における吐出部を通して被塗布体の表面に供給され、被塗布体の表面に塗液が一定した厚みで塗布されるようになる。
 また、本発明に係る塗布装置においては、前記の圧力調整手段として、前記の塗液収容部内に塗液を供給させた状態で塗液収容部内に気体を供給して、前記の塗液収容部内における塗液に加わる圧力が一定圧になるように調整する気体供給調整手段を設けるようにし、或いは前記の塗液収容部内に塗液を充填させて、塗液収容部内に充填された塗液に加わる圧力が一定圧になるように、塗液収容部内への塗液の供給を調整する塗液供給調整手段を設けるようにすることができる。
 また、本発明に係る塗布装置においては、前記の塗液供給体の外周面に塗液収容凹部を軸方向の長さが長くなった楕円形状に凹設させ、前記の塗液供給体を回転させる周速度よりも被塗布体と塗布用ノズルとを相対的に移動させる移動速度を速くして、被塗布体の表面に塗液を円形状に塗布させることができる。このようにすると、ウエハー等の円形状になった被塗布体の表面に塗液を円形状に塗布させることができると共に、塗液収容凹部を設ける塗液供給体の径を小さくすることができて、塗布用ノズルを小型化させることができるようになる。
 そして、本発明に係る塗布方法においては、前記のような塗布装置を使用し、前記の塗液収容部内に回転可能に設けた塗液供給体における塗液収容凹部が設けられていない部分によって塗布用ノズルの先端部におけるスリット状吐出口を閉塞させた状態で、塗液を前記の塗液収容部内に供給し、この塗液収容部内に回転可能に設けた前記の塗液供給体の外周面に形成した所定のパターン形状になった塗液収容凹部内に塗液を収容させて、前記の塗布用ノズルと被塗布体とを相対的に移動させると共に、前記の塗液収容凹部内に塗液が供給された塗液供給体を塗液収容部内で回転させ、前記の塗液収容凹部内における塗液を、塗布用ノズルのスリット状吐出口に導かれた塗液収容凹部に対応した位置における吐出部を通して被塗布体の表面に吐出させて、塗液収容凹部の形状に応じて前記の被塗布体の表面に塗液を塗布させるようにする。
 このようにすると、塗液供給体における塗液収容凹部が設けられていない部分により塗布用ノズルにおけるスリット状吐出口が閉塞され、塗液収容部内に供給された塗液がスリット状吐出口から外部に漏れ出すということがなく、また被塗布体と塗布用ノズルとを相対的に移動させると共に、塗液収容部内における塗液が塗液収容凹部内に収容された前記の塗液供給体を回転させると、塗液収容凹部内における塗液が、塗布用ノズルのスリット状吐出口に導かれた塗液収容凹部に対応した位置における吐出部を通して被塗布体の表面に吐出されて、塗液収容凹部の形状に応じて被塗布体の表面に塗液が塗布されるようになる。
 本発明における塗布装置においては、前記のように所定のパターン形状になった塗液を収容させる塗液収容凹部が外周面に設けられた塗液供給体を、スリット状吐出口の上に位置で回転するようにして塗布用ノズルにおける塗液収容部内に回転可能に設け、この塗液供給体における塗液収容凹部内に塗液を収容させて、塗液供給体をスリット状吐出口の上に位置で回転させると共に、被塗布体と塗布用ノズルとを相対的に移動させるようにしたため、前記の塗液供給体における塗液収容凹部がスリット状吐出口と連通される位置に導かれた状態では、この塗液収容凹部の部分における塗液が、塗布用ノズルの先端部におけるスリット状吐出口を通して塗布用ノズルと相対的に移動される被塗布体の表面に供給され、被塗布体の表面に塗液収容凹部の形状に応じて塗液が適切に塗布されるようになる。
 また、本発明における塗布装置においては、前記のようにスリット状吐出口の長手方向に沿ってスリット状吐出口を複数の吐出部に分離させる仕切り部材を設けたため、塗液供給体における塗液収容凹部内の塗液を、スリット状吐出口を通して被塗布体の表面に塗液を塗布する際に、スリット状吐出口内に被塗布体の表面に塗布されず塗液が残っていても、塗液収容凹部内における塗液が塗液収容凹部に対応した位置における吐出部だけに導かれ、このように塗液が導かれた吐出部だけを通して被塗布体の表面に供給されるようになり、スリット状吐出口における他の部分に塗液が流れて、塗液収容凹部に対応した位置以外の多くの部分から塗液が引きずられて被塗布体の表面に供給されるのが抑制され、被塗布体の表面に塗液収容凹部の形状に応じて塗液が正確に塗布されるようになる。
本発明の実施形態に係る塗布装置において、塗液を収容させる楕円形状になった塗液収容凹部が設けられた塗液供給体を、塗布用ノズルの先端部におけるスリット状吐出口の上に位置するようにして塗液収容部内に回転可能に設けると共に、前記のスリット状吐出口に波形状になった仕切り部材を、スリット状吐出口の長手方向に沿って設けた塗布用ノズルを示し、(A)は塗布用ノズルの長手方向の概略断面説明図、(B)は塗布用ノズルの長手方向と交差する方向の概略断面説明図、(C)は波形状になった仕切り部材を設けた塗布用ノズルの先端側から見た概略底面図である。 前記の実施形態に係る塗布装置に使用する塗液供給体を示し、(A)は外周面に楕円形状になった塗液収容凹部を設けた塗液供給体の概略正面図、(B)は塗液供給体の外周面に設けた塗液収容凹部の展開平面図である。 前記の実施形態に係る塗布装置において、塗布用ノズルにおけるスリット状吐出口に長手方向に沿って設ける仕切り部材の変更例を示し、(A)はスリット状吐出口の長手方向に沿ってジグザグ状になった仕切り部材を設けた状態を示した塗布用ノズルの先端側から見た概略底面図、(B)はスリット状吐出口の長手方向に沿って櫛歯状になった仕切り部材を設けた状態を示した塗布用ノズルの先端側から見た概略底面図である。 前記の実施形態における第1の塗布装置において、塗液収容部内に設けた塗液供給体における塗液収容凹部が設けられていない部分によってスリット状吐出口の上を閉塞させた状態で、塗液供給装置から塗液供給管を通して塗液を塗液収容部内に供給する状態を示した塗布用ノズルの長手方向の概略断面説明図である。 前記の第1の塗布装置において、塗液収容部内に設けた塗液供給体における塗液収容凹部が設けられていない部分によってスリット状吐出口の上を閉塞させた状態で、塗液供給装置から塗液供給管を通して塗液を塗液収容部内に供給する状態を示した塗布用ノズルの長手方向と交差する方向の概略断面説明図である。 前記の第1の塗布装置において、図5に示すように塗液供給装置から塗液供給管を通して塗液を塗液収容部内に供給した後、塗液収容部内に気体を供給して、塗液収容部内における塗液に加わる圧力が一定圧になるように調整する状態を示した塗布用ノズルの長手方向と交差する方向の概略断面説明図である。 前記の第1の塗布装置を示し、(A)~(D)は、所定量の塗液が供給された塗液収容部内に気体を供給して塗液収容部内における塗液に加わる圧力を調整した状態で、塗布用ノズルを円形の被塗布体の上に配置し、前記の塗液供給体を回転させて、塗液供給体の外周面に凹設された楕円形状になった塗液収容凹部をスリット状吐出口の上に導き、塗液収容凹部に対応して連通された塗液収容部とスリット状吐出口との間を通して吐出部に導いて、塗液収容部内における塗液を被塗布体の表面に塗布する工程を示した概略断面説明図である。 前記の第1の塗布装置を示し、(A)~(D)は、図7(A)~(D)に対応して、円形の被塗布体の表面に塗液が塗布される状態を示した概略平面図である。 前記の実施形態における第2の塗布装置において、(A)は塗布用ノズルの塗液収容部内に設けた塗液供給体における塗液収容凹部が設けられていない部分により塗布用ノズルにおけるスリット状吐出口を閉塞させた状態で、塗液を塗液収容部内に供給する状態を示したスリット状吐出口の長手方向と交差する方向の概略断面説明図、(B)は塗液収容部内に塗液を充填させて、塗液収容部内に収容された塗液に加わる圧力が一定圧になるように、塗液の供給を調整する状態を示したスリット状吐出口の長手方向と交差する方向の概略断面説明図である。 前記の第2の塗布装置において、(A)~(D)は、塗液収容部内に充填させて、塗液収容部内に充填された塗液に加わる圧力が一定圧になるように調整した状態で、塗布用ノズルを被塗布体の上に配置し、被塗布体を塗布用ノズルの下で移動させながら、前記の塗液供給体を回転させて、塗液供給体の外周面に凹設された楕円形状になった塗液収容凹部をスリット状吐出口の上に導き、塗液収容凹部に対応して連通された塗液収容部とスリット状吐出口との間を通して吐出部に導いて、塗液収容部内における塗液を被塗布体の表面に塗布する工程を示した概略断面説明図である。 前記の実施形態に係る塗布装置において、塗液供給体の外周面に塗液を収容させる塗液収容凹部を設けるにあたって、塗液収容凹部の形状を変更させた複数の変更例を示した概略展開図である。 前記の第2の塗布装置において、前記の塗液供給体を回転させて、前記の塗液収容凹部をスリット状吐出口の上に導き、塗液を塗液収容凹部からスリット状吐出口との間を通して吐出部に導いて、塗液収容部内における塗液を被塗布体の表面に塗布させるにあたり、図10(C)に対応する状態を示した塗布用ノズルの長手方向の概略断面説明図である。
 以下、本発明の実施形態に係る塗布装置及び塗布方法を添付図面に基づいて具体的に説明する。なお、本発明に係る塗布装置及び塗布方法は、下記の実施形態に示したものに限定されず、発明の要旨を変更しない範囲において、適宜変更して実施できるものである。
 ここで、本発明の実施形態における塗布装置においては、図1(A)~(C)に示すように、塗布用ノズル10の内部に塗液Pを収容させる塗液収容部11を設けると共に、この塗液収容部11と連通するようにして塗布用ノズル10の先端部に塗液Pを吐出させるスリット状吐出口12を設けている。
 そして、この実施形態における塗布装置においては、前記のスリット状吐出口12の吐出方向の長さがスリット状吐出口12の長さよりも短くなった波形状の仕切り部材13を、スリット状吐出口12内にその長手方向に沿って設け、このように仕切り部材13を設けた位置において、前記のスリット状吐出口12をその長手方向に沿って複数の吐出部12aに分離させる一方、スリット状吐出口12の吐出方向先端部は、スリット状吐出口12が長手方向に連続した状態になった連続スリット状吐出部12bになるようにしている。なお、この実施形態においては、波形状になった仕切り部材13を、スリット状吐出口12の吐出方向の長さよりも短くして、スリット状吐出口12の吐出方向先端部に、スリット状吐出口12が連続した状態になった連続スリット状吐出部12bを設けるようにしたが、波形状になった仕切り部材13の吐出方向の長さをスリット状吐出口12と同じにすることも可能である。
 また、前記の塗布用ノズル10においては、前記の塗液収容部11内に、図2(A),(B)に示すように、円柱状になった棒状体の外周面に軸方向の長さが長い楕円形状になった塗液収容凹部14aが凹設された塗液供給体14を、前記のスリット状吐出口12の上に位置するようにして回転可能に設け、塗液供給体14において塗液収容凹部14aが設けられていない部分をスリット状吐出口12の上に位置させた状態で、この塗液供給体14によりスリット状吐出口12と塗液収容部11との間を閉塞させるようにしている。
 また、この実施形態においては、前記のように曲線の波形状になった仕切り部材13をスリット状吐出口12の長手方向に沿って設けるようにしたが、仕切り部材13はこのようなものに限定されず、例えば、図3(A)に示すように、ジグザグ状になった直線の波形状の仕切り部材13Xをスリット状吐出口12の長手方向に沿って設けて、スリット状吐出口12を長手方向に沿って複数の吐出部12aに分離させるようにし、また図3(B)に示すように、櫛歯状になった仕切り部材13Yをスリット状吐出口12の長手方向に沿って設けて、スリット状吐出口12を長手方向に沿って複数の吐出部12aに分離させるようにする他、図示していないが、スリット状吐出口12の長手方向に沿って複数の吐出穴がスリット状吐出口12の幅方向に複数設けられた仕切り部材を用いるようにすることもできる。
 (第1の塗布装置)
 次に、前記の実施形態における第1の塗布装置について具体的に説明する。
 第1の塗布装置においては、図4等に示すように、前記の塗布用ノズル10における塗液収容部11に対して、塗液供給装置20から塗液Pを供給させる塗液供給パイプ21に塗液供給弁22を設け、この塗液供給弁22を開閉させて、塗液収容部11への塗液Pの供給や停止を行うようにすると共に、塗液収容部11内への気体の供給・排気を行う供給・排気パイプ31を設け、この供給・排気パイプ31における供給側パイプ31aに、気体供給調整手段として、気体供給装置30から前記の塗液収容部11に供給する気体を調整する気体供給調整弁32を設けると共に、供給・排気パイプ31における排気側パイプ31bに排気弁33を設け、この排気弁33を通して塗液収容部11内における気体を排気させるようにしている。ここで、図4等においては、前記の塗布用ノズル10の先端部におけるスリット状吐出口12に部分に、塗液Pが存在した状態になっているが、これは、この塗布装置の操業中や試運転時等の準備段階や運転時において、塗布用ノズル10のスリット状吐出口12に供給された塗液Pが溜まった状態になるためである。
 そして、この第1の塗布装置において、塗布用ノズル10における塗液収容部11内に塗液Pを供給する場合には、図4及び図5に示すように、塗布用ノズル10の先端部におけるスリット状吐出口12の上に前記の塗液供給体14において塗液収容凹部14aが設けられていない部分を位置させて、塗液収容部11とスリット状吐出口12との間を閉じた状態で、塗液供給パイプ21に設けた前記の塗液供給弁22を開け、塗液供給装置20から塗液供給パイプ21を通して塗液収容部11内に所定量の塗液Pを供給させると共に、前記の排気側パイプ31bに設けた排気弁33を開けて、この排気側パイプ31bを通して塗液収容部11内における気体を排気(気抜き)させる一方、前記の供給側パイプ31aに設けた気体供給調整弁32を閉じて、気体供給装置30から気体を塗液収容部11に供給させないようにしている。ここで、図に示した塗液供給弁22、気体供給調整弁32、排気弁33の開閉については、開いた状態を白抜きで、閉じた状態を黒塗りで示した。
 また、前記のようにして塗布用ノズル10における塗液収容部11内に所定量の塗液Pを供給させた後は、図6に示すように、前記の塗液供給体14において塗液収容凹部14aが設けられていない部分によって前記のスリット状吐出口12を閉じた状態で、塗液供給パイプ21に設けた前記の塗液供給弁22を閉じて、塗液供給装置20から塗液Pを塗液収容部11に供給させないようにすると共に、この状態で、前記の排気側パイプ31bに設けた排気弁33を閉じて、塗液収容部11内における気体を排気させないようにする一方、前記の供給側パイプ31aに設けた気体供給調整弁32を開け、気体供給装置30から気体を供給側パイプ31aに設けた気体供給調整弁32を通して塗液収容部11内に供給し、塗液収容部11内における塗液Pに加わる圧力が所定の一定圧になるように調整するようにしている。
 そして、この第1の塗布装置においては、前記の塗布用ノズル10から被塗布体Wの表面に塗液Pを塗布するにあたり、前記のように塗液供給体14において塗液収容凹部14aが設けられていない部分によって塗布用ノズル10の先端部におけるスリット状吐出口12を閉じ、気体供給装置30から気体供給調整弁32を介して気体を塗液収容部11内に供給し、塗液収容部11内における塗液Pに加わる圧力を所定圧に調整した状態で、図7(A)に示すように、この塗布用ノズル10を、スリット状吐出口12から被塗布体Wの表面に塗液Pの塗布を開始させる位置に導くようにしている。
 その後、図7(B)~(D)に示すように、前記の塗布用ノズル10に対して被塗布体Wを移動させながら、前記の塗液供給体14を回転させ、塗液供給体14の外周面に凹設させた塗液収容凹部14aが塗布用ノズル10のスリット状吐出口12と重なった部分から、塗液収容凹部14a内に収容された塗液Pを、塗液収容凹部14aを通して前記のように波形状になった仕切り部材13が設けられたスリット状吐出口12に導き、前記の塗液収容凹部14aに対応した位置における吐出部12aを通してスリット状吐出口12から被塗布体Wの表面に供給させて、図8(A)~(D)に示すように、円形状になった被塗布体Wの表面に対して、前記の塗液供給体14の外周面に凹設させた塗液収容凹部14aに収容された塗液Pを、塗布用ノズル10からスリット状吐出口12を通して円形状に塗布するようにしている。なお、この実施形態においては、前記のように塗布用ノズル10に対して被塗布体Wを移動させるようにしたが、被塗布体Wを固定して、塗布用ノズル10を被塗布体Wの上で移動させるようにしてもよい。
 ここで、この実施形態における第1の塗布装置においては、前記のように円柱状になった塗液供給体14の外周面に塗液収容凹部14aを軸方向の長さが長くなった楕円形状に凹設させているため、前記のように塗液供給体14の外周面に凹設させた塗液収容凹部14aに収容された塗液Pを、塗布用ノズル10のスリット状吐出口12から円形状になった被塗布体Wの表面に円形状に塗布するにあたっては、前記の塗液供給体14を回転させる周速度よりも、前記の被塗布体Wを移動させる移動速度を速くして、軸方向の長さが長くなった楕円形状の塗液収容凹部14aから前記のスリット状吐出口12を通して、円形状になった被塗布体Wの表面に塗液Pを円形状に塗布させるようにしている。
 このようにすると、円形状になった被塗布体Wの表面に塗液Pを円形状に塗布させるにあたり、塗液供給体14の外周面に被塗布体Wに対応した大きさの円形状の塗液収容凹部14aを設ける必要がなく、前記のように軸方向の長さが長くなった楕円形状の塗液収容凹部14aとすることによって塗液供給体14の径を小さくすることができ、塗布用ノズル10を小型化させることができるようになる。
 また、この実施形態における第1の塗布装置においては、前記のように塗布用ノズル10のスリット状吐出口12に波形状になった仕切り部材13をスリット状吐出口12の長手方向に沿って設けて、スリット状吐出口12をその長手方向に沿って複数の吐出部12aに分離させ、塗液収容凹部14a内に収容された塗液Pを、塗液収容凹部14aに対応した位置における吐出部12aだけを通して被塗布体Wの表面に供給させるようにしているため、塗液収容凹部14aに対応した位置における吐出部12a以外の吐出部12aから塗液Pが引きずられて、塗液収容凹部14aに対応していない部分から塗液Pが、被塗布体Wの表面に供給されるのが抑制されるようになる。このようにすると、被塗布体Wの表面に塗液収容凹部14aの形状に対応して塗液Pが正確に塗布されるようになると共に、被塗布体Wの表面に供給された塗液Pの周辺部分の厚みが厚くなったりするのも防止されるようになる。
 また、この実施形態における第1の塗布装置においては、前記のように波形状になった仕切り部材13を、スリット状吐出口12の吐出方向の長さよりも短くして、スリット状吐出口12の吐出方向先端部にスリット状吐出口12が長手方向に連続した連続スリット状吐出部12bを設けたため、仕切り部材13によって分離された状態の各吐出部12aから塗液Pが個別にそのまま被塗布体Wの表面に塗布されてしまって、被塗布体Wの表面に供給された塗液Pに各吐出部12aに対応した筋状のムラが生じてしまうのも防止されるようになる。
 また、この実施形態における第1の塗布装置においては、前記のように塗液収容部11内における塗液Pに加わる圧力を一定圧に調整した状態で、塗液収容凹部14a内に収容された塗液Pを、塗液収容凹部14aに対応した位置における吐出部12aを通して被塗布体Wの表面に供給させるため、被塗布体Wの表面全体に塗液Pが均一な厚みになるようにして塗布されるようになる。
 (第2の塗布装置)
 次に、前記の実施形態における第2の塗布装置について具体的に説明する。
 この第2の塗布装置においても、前記の第1の塗布装置と同様に、図示していない塗液供給装置20から塗液供給パイプ21を通して塗液Pを塗布用ノズル10における塗液収容部11に供給させるようにしている。
 そして、この第2の塗布装置においては、塗液供給装置20から塗液供給パイプ21を通して塗液Pを塗布用ノズル10における塗液収容部11に供給させるにあたり、図9(A),(B)及び図10(A)~(D)に示すように、前記の塗液供給パイプ21の途中の位置に、塗液収容部11内に収容された塗液Pに加わる圧力が一定圧になるように塗液Pの供給を調整する塗液供給調整手段として、シリンジポンプ40を設け、シリンジポンプ40の上流側における塗液供給パイプ21に設けた第1塗液供給弁22aを通して塗液Pをシリンジポンプ40内に導くと共に、このシリンジポンプ40内に導かれた塗液Pをシリンジポンプ40の下流側における塗液供給パイプ21に設けた第2塗液供給弁22bを通して塗液収容部11内に供給させるようにしている。
 また、この第2の塗布装置においては、塗液収容部11内に塗液Pを供給させる場合のために、塗液収容部11内における気体を外部に排気させる排気用パイプ34を設けると共に、この排気用パイプ34に排気用弁35を設けている。
 そして、この第2の塗布装置において、塗布用ノズル10における塗液収容部11内に塗液Pを供給するにあたっては、図9(A)に示すように、前記の塗液供給体14において塗液収容凹部14aが設けられていない部分によって塗布用ノズル10の先端部におけるスリット状吐出口12を閉じた状態にして、塗液供給パイプ21に設けた前記の第1塗液供給弁22aと第2塗液供給弁22bとを開け、塗液供給パイプ21を通して塗液Pをシリンジポンプ40内に供給し、このようにシリンジポンプ40内に供給された塗液Pを塗布用ノズル10の塗液収容部11内に供給すると共に、前記の排気用パイプ34に設けた排気用弁35を開けて、塗液Pが供給される塗液収容部11内の気体を、排気用パイプ34を通して排気(気抜き)させるようにしている。
 また、このようにして塗布用ノズル10の塗液収容部11内に塗液Pを供給して、塗液収容部11内に塗液Pを充填させた後は、図9(B)に示すように、前記の第1塗液供給弁22aと排気用弁35とを閉じた状態で、前記のシリンジポンプ40におけるシリンダー41により、シリンジポンプ40内における塗液Pを塗液収容部11内に送り出す方向に押して、塗液収容部11内における塗液Pに加わる圧力が所定の一定圧になるようにしている。なお、図に示した第1塗液供給弁22a、第2塗液供給弁22b、排気用弁35の開閉については、開いた状態を白抜きで、閉じた状態を黒塗りで示した。
 そして、この第2の塗布装置において、前記の塗布用ノズル10から被塗布体Wの表面に塗液Pを塗布するにあたっては、前記のように塗液供給体14において塗液収容凹部14aが設けられていない部分によって塗布用ノズル10の先端部におけるスリット状吐出口12を閉じ、シリンジポンプ40におけるシリンダー41により、シリンジポンプ40内における塗液Pを塗液収容部11内に送り出す方向に押して、塗液収容部11内における塗液Pに加わる圧力を所定の一定圧に調整した状態で、図10(A)に示すように、この塗布用ノズル10を、スリット状吐出口12から被塗布体Wの表面に塗液Pの塗布を開始させる位置に導くようにする。
 その後、図10(B)~(D)に示すように、前記の塗布用ノズル10に対して被塗布体Wを移動させながら、前記の塗液供給体14を回転させ、塗液供給体14の外周面に凹設させた塗液収容凹部14aが塗布用ノズル10のスリット状吐出口12と重なった部分から、塗液収容凹部14a内に収容された塗液Pを、塗液収容凹部14aを通して前記のように波形状になった仕切り部材13が設けられたスリット状吐出口12に導き、前記の塗液収容凹部14aに対応した位置における吐出部12aを通してスリット状吐出口12から被塗布体Wの表面に供給させて、前記の第1の塗布装置の場合と同様に、前記の図8(A)~(D)に示すように、円形状になった被塗布体Wの表面に対して、前記の塗液供給体14の外周面に凹設させた塗液収容凹部14aに収容された塗液Pを、塗布用ノズル10からスリット状吐出口12を通して円形状に塗布させるようにしている。なお、この実施形態においても、前記の第1の塗布装置の場合と同様に、被塗布体Wを固定して、塗布用ノズル10を被塗布体Wの上で移動させるようにしてもよい。
 また、前記のようにして塗液Pを被塗布体Wの表面に塗布した結果、前記のシリンジポンプ40内における塗液Pが減少した場合には、図示していないが、前記の第2塗液供給弁22bを閉じる一方、前記の第1塗液供給弁22aを開け、前記のシリンジポンプ40を吸引方向に動かして、再び、塗液供給パイプ21を通して塗液Pをシリンジポンプ40内に充填させる。なお、第2の塗布装置を示す前記の図においては、1回の塗布によってシリンジポンプ40内の塗液Pがなくなるように示しているが、通常は、塗布を複数回行った後に、塗液Pをシリンジポンプ40内に充填させるようにする。
 ここで、この実施形態における第2の塗布装置においても、前記のように円柱状になった塗液供給体14の外周面に塗液収容凹部14aを軸方向の長さが長くなった楕円形状に凹設させているため、前記のように塗液供給体14の外周面に凹設させた塗液収容凹部14aに収容された塗液Pを、塗布用ノズル10のスリット状吐出口12から円形状になった被塗布体Wの表面に円形状に塗布するにあたっては、前記の第1の塗布装置の場合と同様に、塗液供給体14を回転させる周速度よりも、前記の被塗布体Wを移動させる移動速度を速くして、軸方向の長さが長くなった楕円形状の塗液収容凹部14aから前記のスリット状吐出口12を通して、円形状の被塗布体Wの表面に塗液Pを円形状に塗布させるようにしている。
 このようにすると、円形状の被塗布体Wの表面に塗液Pを円形状に塗布させるにあたり、塗液供給体14の外周面に被塗布体Wに対応した大きさの円形状の塗液収容凹部14aを設ける必要がなく、前記のように軸方向の長さが長くなった楕円形状の塗液収容凹部14aとすることによって塗液供給体14の径を小さくすることができ、塗布用ノズル10を小型化させることができるようになる。
 また、この実施形態における第2の塗布装置においても、前記のように塗布用ノズル10のスリット状吐出口12に波形状になった仕切り部材13をスリット状吐出口12の長手方向に沿って設けて、スリット状吐出口12をその長手方向に沿って複数の吐出部12aに分離させ、塗液収容凹部14a内に収容された塗液Pを、塗液収容凹部14aに対応した位置における吐出部12aだけを通して被塗布体Wの表面に供給させるようにしているため、前記の第1の塗布装置の場合と同様に、塗液収容凹部14aに対応した位置における吐出部12a以外の吐出部12aから塗液Pが引きずられて、塗液収容凹部14aに対応していない部分から塗液Pが、被塗布体Wの表面に供給されるのが抑制されるようになる。このようにすると、被塗布体Wの表面に塗液収容凹部14aの形状に対応して塗液Pが正確に塗布されるようになると共に、被塗布体Wの表面に供給された塗液Pの周辺部分の厚みが厚くなったりするのも防止されるようになる。
 ここで、図12において、前記の図10(C)に示すように、塗液収容凹部14a内に収容された塗液Pを、塗液収容凹部14aを通して前記のように波形状になった仕切り部材13が設けられたスリット状吐出口12に導き、前記の塗液収容凹部14aに対応した位置における吐出部12aを通してスリット状吐出口12から被塗布体Wの表面に塗液Pを塗布させる場合における塗布用ノズル10の長手方向の概略断面説明図を示した。この場合、前記のように波形状になった仕切り部材13によって、スリット状吐出口12をその長手方向に沿った複数の吐出部12aに分離させたため、塗液収容凹部14aに対応した位置における吐出部12a以外の吐出部12aから塗液Pが引きずられて、塗液収容凹部14aに対応していない部分から塗液Pが、被塗布体Wの表面に供給されるのが抑制され、被塗布体Wの表面に供給された塗液Pの周辺部分の厚みが厚くなったりするのが防止される。
 また、この実施形態における第2の塗布装置においても、前記のように波形状になった仕切り部材13を、スリット状吐出口12の吐出方向の長さよりも短くして、スリット状吐出口12の吐出方向先端部にスリット状吐出口12が長手方向に連続した連続スリット状吐出部12bを設けたため、仕切り部材13によって分離された状態の各吐出部12aから塗液Pが個別にそのまま被塗布体Wの表面に塗布されてしまって、被塗布体Wの表面に供給された塗液Pに各吐出部12aに対応した筋状のムラが生じてしまうのも防止されるようになる。
 また、この実施形態における第2の塗布装置においても、前記のように塗液収容部11内における塗液Pに加わる圧力を一定圧に調整した状態で、塗液収容凹部14a内に収容された塗液Pを、塗液収容凹部14aに対応した位置における吐出部12aを通して被塗布体Wの表面に供給させるため、被塗布体Wの表面全体に塗液Pが均一な厚みになるようにして塗布されるようになる。
 なお、前記の第1及び第2の塗布装置においては、円柱状になった塗液供給体14の外周面に塗液収容凹部14aを軸方向の長さが長くなった楕円形状に凹設させて、図7(A)~(D)に示すように、円形状になった被塗布体Wの表面に対して、前記の塗液供給体14の外周面に凹設させた塗液収容凹部14aに収容された塗液Pを、塗布用ノズル10からスリット状吐出口12を通して円形状に塗布するようにしたが、被塗布体Wの形状は特に円形状のものに限られない。また、塗布用ノズル10のスリット状吐出口12を通して被塗布体Wの表面に塗液Pを塗布させる前記の塗液供給体14の外周面に凹設させる塗液収容凹部14aの形状も限定されず、例えば、塗液Pを塗布させる製品に応じて、図11(A),(B),(C)に示すように、塗液供給体14の外周面に凹設させる塗液収容凹部14aの形状を菱形状や三角形状や瓢箪形状にする等、様々な形状の塗液収容凹部14aを設けるようにすることができる。
10  :塗布用ノズル
11  :塗液収容部
12  :スリット状吐出口
12a :吐出部
12b :連続スリット状吐出部
13  :仕切り部材
13X :仕切り部材
13Y :仕切り部材
14  :塗液供給体
14a :塗液収容凹部
20  :塗液供給装置
21  :塗液供給パイプ
22  :塗液供給弁
22a :第1塗液供給弁
22b :第2塗液供給弁
30  :気体供給装置
31  :供給・排気パイプ
31a :供給側パイプ
31b :排気側パイプ
32  :気体供給調整弁
33  :排気弁
34  :排気用パイプ
35  :排気用弁
40  :シリンジポンプ
41  :シリンダー
P   :塗液
W   :被塗布体

Claims (7)

  1.  塗布用ノズルの内部に塗液を収容させる塗液収容部を設けると共に、塗布用ノズルの先端部に前記の塗液収容部内における塗液を吐出させるスリット状吐出口を設け、前記のスリット状吐出口を被塗布体の上に位置させて、前記の塗布用ノズルと被塗布体とを相対的に移動させ、前記のスリット状吐出口を通して被塗布体の表面に塗液を塗布する塗布装置において、前記の塗液収容部内に、塗液を収容させる所定のパターン形状になった塗液収容凹部が外周面に設けられた塗液供給体を前記のスリット状吐出口の上に位置するようにして回転可能に設けると共に、前記のスリット状吐出口の長手方向に沿ってスリット状吐出口を複数の吐出部に分離させる仕切り部材を設け、前記の被塗布体と塗布用ノズルとを相対的に移動させると共に、前記の塗液収容凹部内に塗液が収容された塗液供給体を塗液収容部内で回転させ、前記の塗液収容凹部内における塗液を、塗布用ノズルのスリット状吐出口に導かれた塗液収容凹部に対応した位置における吐出部を通して被塗布体の表面に吐出させて、塗液収容凹部の形状に対応するように前記の被塗布体の表面に塗液を塗布させることを特徴とする塗布装置。
  2.  請求項1に記載の塗布装置において、前記のスリット状吐出口の長手方向に沿って波形状になった仕切り部材を設けて、スリット状吐出口の幅方向両側に複数の吐出部を交互に連続するように設けたことを特徴とする塗布装置。
  3.  請求項1又は請求項2に記載の塗布装置において、前記のスリット状吐出口の長手方向に沿ってスリット状吐出口を複数の吐出部に分離させる仕切り部材を設けるにあたり、前記の仕切り部材の吐出方向の長さを、前記のスリット状吐出口の吐出方向の長さよりも短くしたことを特徴とする塗布装置。
  4.  請求項1又は請求項2に記載の塗布装置において、前記の塗液収容部内における塗液に加わる圧力を調整する圧力調整手段を設け、前記の圧力調整手段により塗液収容部内における塗液に加わる圧力を一定圧に保った状態で、前記の塗液供給体を回転させて、前記の塗液収容凹部内における塗液を塗布用ノズルのスリット状吐出口に導かれた塗液収容凹部に対応した位置における吐出部を通して被塗布体の表面に吐出させることを特徴とする塗布装置。
  5.  請求項4に記載の塗布装置において、前記の圧力調整手段として、気体供給装置から前記の塗液収容部内に気体を供給する供給側パイプに気体供給調整弁を設け、前記の気体供給調整弁により、塗液収容部内における塗液に加わる圧力を一定圧に保つことを特徴とする塗布装置。
  6.  請求項1又は請求項2に記載の塗布装置において、前記の塗液供給体の外周面に塗液収容凹部を軸方向の長さが長くなった楕円形状に凹設させ、前記の塗液供給体を回転させる周速度よりも被塗布体と塗布用ノズルとを相対的に移動させる移動速度を速くして、被塗布体の表面に塗液を円形状に塗布させることを特徴とする塗布装置。
  7.  請求項1又は請求項2に記載の塗布装置を用い、前記の塗液収容部内に回転可能に設けた塗液供給体における塗液収容凹部が設けられていない部分によって塗布用ノズルの先端部におけるスリット状吐出口を閉塞させた状態で、塗液を前記の塗液収容部内に供給し、この塗液収容部内に回転可能に設けた前記の塗液供給体の外周面に形成した所定のパターン形状になった塗液収容凹部内に塗液を収容させて、前記の塗布用ノズルと被塗布体とを相対的に移動させると共に、前記の塗液収容凹部内に塗液が供給された塗液供給体を塗液収容部内で回転させ、前記の塗液収容凹部内における塗液を、塗布用ノズルのスリット状吐出口に導かれた塗液収容凹部に対応した位置における吐出部を通して被塗布体の表面に吐出させて、塗液収容凹部の形状に応じて前記の被塗布体の表面に塗液を塗布させることを特徴とする塗布方法。
PCT/JP2021/030525 2020-10-01 2021-08-20 塗布装置及び塗布方法 WO2022070665A1 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP21874968.7A EP4223421A4 (en) 2020-10-01 2021-08-20 COATING APPARATUS AND METHOD
US18/044,901 US20230271216A1 (en) 2020-10-01 2021-08-20 Coating apparatus and coating method

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020166795A JP6847566B1 (ja) 2020-10-01 2020-10-01 塗布装置及び塗布方法
JP2020-166795 2020-10-01

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2022070665A1 true WO2022070665A1 (ja) 2022-04-07

Family

ID=74879265

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2021/030525 WO2022070665A1 (ja) 2020-10-01 2021-08-20 塗布装置及び塗布方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20230271216A1 (ja)
EP (1) EP4223421A4 (ja)
JP (1) JP6847566B1 (ja)
KR (1) KR20220044402A (ja)
CN (1) CN114260140B (ja)
WO (1) WO2022070665A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7598429B1 (ja) 2023-10-06 2024-12-11 中外炉工業株式会社 スリットダイヘッドおよび該スリットダイヘッドを備える塗工装置

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7551269B1 (ja) 2023-04-24 2024-09-17 中外炉工業株式会社 塗布装置
WO2025069555A1 (ja) * 2023-09-28 2025-04-03 中外炉工業株式会社 塗布装置

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07326554A (ja) * 1994-05-30 1995-12-12 Tokyo Electron Ltd 処理方法及び処理装置
JPH1099764A (ja) * 1996-08-07 1998-04-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd 塗布装置及び方法
JP2001196301A (ja) * 1999-10-27 2001-07-19 Tokyo Electron Ltd 液処理装置
JP2001526114A (ja) * 1997-12-22 2001-12-18 プッフェ,ヴォルフガング 回転塗布ヘッド
JP2002320902A (ja) 2001-04-25 2002-11-05 Tokyo Electron Ltd 塗布膜形成方法及びその装置
JP2009290029A (ja) 2008-05-29 2009-12-10 Oki Semiconductor Co Ltd スピンコータ
JP2012120938A (ja) 2010-12-06 2012-06-28 Heishin Engineering & Equipment Co Ltd 吐出幅可変装置、及び塗布装置
JP2013054128A (ja) 2011-09-01 2013-03-21 Toshiba Corp 塗布装置及び塗布方法
JP2014022545A (ja) 2012-07-18 2014-02-03 Tokyo Electron Ltd 塗布装置及び塗布方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59109273A (ja) * 1982-12-15 1984-06-23 Matsushita Electric Ind Co Ltd 回転塗布装置用ノズル
JP3039243B2 (ja) * 1993-12-22 2000-05-08 三菱化学株式会社 塗布方法
JP2001062368A (ja) * 1999-08-27 2001-03-13 Dainippon Printing Co Ltd 塗布装置および塗布方法
JP4767482B2 (ja) * 2003-07-08 2011-09-07 ノードソン コーポレーション 液体又は溶融体の塗布方法及びノズル
JP2008194588A (ja) * 2007-02-09 2008-08-28 Chugai Ro Co Ltd 塗布装置及び塗布方法
JP5279594B2 (ja) * 2009-04-21 2013-09-04 パナソニック株式会社 塗布装置
JP5702223B2 (ja) * 2011-05-16 2015-04-15 武蔵エンジニアリング株式会社 膜状塗布ノズル、塗布装置および塗布方法
JP5507523B2 (ja) * 2011-11-01 2014-05-28 東京エレクトロン株式会社 塗布処理装置、塗布処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
JP6121203B2 (ja) * 2013-03-13 2017-04-26 東レエンジニアリング株式会社 塗布器、パターン塗布装置およびパターン塗布方法
WO2017058170A1 (en) * 2015-09-29 2017-04-06 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Adhesive applicator with rotary valve
JP6620544B2 (ja) * 2015-12-15 2019-12-18 株式会社スリーボンド 塗布装置及び塗布方法

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07326554A (ja) * 1994-05-30 1995-12-12 Tokyo Electron Ltd 処理方法及び処理装置
JPH1099764A (ja) * 1996-08-07 1998-04-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd 塗布装置及び方法
JP2001526114A (ja) * 1997-12-22 2001-12-18 プッフェ,ヴォルフガング 回転塗布ヘッド
JP2001196301A (ja) * 1999-10-27 2001-07-19 Tokyo Electron Ltd 液処理装置
JP2002320902A (ja) 2001-04-25 2002-11-05 Tokyo Electron Ltd 塗布膜形成方法及びその装置
JP2009290029A (ja) 2008-05-29 2009-12-10 Oki Semiconductor Co Ltd スピンコータ
JP2012120938A (ja) 2010-12-06 2012-06-28 Heishin Engineering & Equipment Co Ltd 吐出幅可変装置、及び塗布装置
JP2013054128A (ja) 2011-09-01 2013-03-21 Toshiba Corp 塗布装置及び塗布方法
JP2014022545A (ja) 2012-07-18 2014-02-03 Tokyo Electron Ltd 塗布装置及び塗布方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7598429B1 (ja) 2023-10-06 2024-12-11 中外炉工業株式会社 スリットダイヘッドおよび該スリットダイヘッドを備える塗工装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2022059204A (ja) 2022-04-13
US20230271216A1 (en) 2023-08-31
CN114260140B (zh) 2024-06-28
EP4223421A4 (en) 2024-12-25
KR20220044402A (ko) 2022-04-08
JP6847566B1 (ja) 2021-03-24
CN114260140A (zh) 2022-04-01
EP4223421A1 (en) 2023-08-09
TW202227196A (zh) 2022-07-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2022070665A1 (ja) 塗布装置及び塗布方法
EP3085517B1 (en) Powder recoater
JP4260199B2 (ja) 間欠塗布方法及び間欠塗布装置
JP6361658B2 (ja) 塗布装置及び塗布装置の制御方法
KR100384806B1 (ko) 성막 방법, 반도체 소자, 반도체 소자의 제조 방법,도우넛형 기억 매체의 제조 방법
TWI756842B (zh) 塗布裝置
JP6847560B1 (ja) 塗布装置及び塗布方法
JP4084167B2 (ja) 処理液塗布方法
WO2022050077A1 (ja) 塗布装置
KR100442064B1 (ko) 도포막 형성방법 및 장치
KR101097525B1 (ko) 패턴 코팅 장치
JP7427347B2 (ja) 塗布装置
JP7471757B2 (ja) 塗布装置
JPH10284381A (ja) 塗布装置
JP6233159B2 (ja) 塗布装置
JP7262316B2 (ja) グラビアロール及びこれを備えたグラビア塗工装置
WO2019013208A1 (ja) 塗布装置および塗布方法
WO2025074693A1 (ja) スリットダイヘッドおよび該スリットダイヘッドを備える塗工装置
JP2009253028A (ja) 塗布膜形成装置及び塗布膜形成方法

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 21874968

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2021874968

Country of ref document: EP

Effective date: 20230502