[go: up one dir, main page]

KR20180094651A - 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 화소 격벽층 및 디스플레이 장치 - Google Patents

감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 화소 격벽층 및 디스플레이 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20180094651A
KR20180094651A KR1020170021056A KR20170021056A KR20180094651A KR 20180094651 A KR20180094651 A KR 20180094651A KR 1020170021056 A KR1020170021056 A KR 1020170021056A KR 20170021056 A KR20170021056 A KR 20170021056A KR 20180094651 A KR20180094651 A KR 20180094651A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
formula
group
unsubstituted
substituted
independently
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
KR1020170021056A
Other languages
English (en)
Other versions
KR102064297B1 (ko
Inventor
권장현
강진희
강희경
권지윤
김상수
김찬우
이범진
이준호
홍충범
Original Assignee
삼성에스디아이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성에스디아이 주식회사 filed Critical 삼성에스디아이 주식회사
Priority to KR1020170021056A priority Critical patent/KR102064297B1/ko
Priority to US15/712,663 priority patent/US10676570B2/en
Priority to TW106132704A priority patent/TWI657100B/zh
Priority to CN201710968197.1A priority patent/CN108445713B/zh
Publication of KR20180094651A publication Critical patent/KR20180094651A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102064297B1 publication Critical patent/KR102064297B1/ko
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1057Polyimides containing other atoms than carbon, hydrogen, nitrogen or oxygen in the main chain
    • C08G73/106Polyimides containing other atoms than carbon, hydrogen, nitrogen or oxygen in the main chain containing silicon
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F218/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an acyloxy radical of a saturated carboxylic acid, of carbonic acid or of a haloformic acid
    • C08F218/02Esters of monocarboxylic acids
    • C08F218/04Vinyl esters
    • C08F218/08Vinyl acetate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G69/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic amide link in the main chain of the macromolecule
    • C08G69/44Polyester-amides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1039Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors comprising halogen-containing substituents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1042Copolyimides derived from at least two different tetracarboxylic compounds or two different diamino compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1075Partially aromatic polyimides
    • C08G73/1082Partially aromatic polyimides wholly aromatic in the tetracarboxylic moiety
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/54Silicon-containing compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D179/00Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen, with or without oxygen, or carbon only, not provided for in groups C09D161/00 - C09D177/00
    • C09D179/04Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C09D179/08Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133512Light shielding layers, e.g. black matrix
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/037Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polyamides or polyimides
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/105Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/12Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/122Pixel-defining structures or layers, e.g. banks
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F20/00Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F20/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
    • C08F20/10Esters
    • C08F20/12Esters of monohydric alcohols or phenols
    • C08F20/16Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms
    • C08F20/18Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms with acrylic or methacrylic acids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F222/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
    • C08F222/10Esters
    • C08F222/1006Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols
    • C08F222/102Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols of dialcohols, e.g. ethylene glycol di(meth)acrylate or 1,4-butanediol dimethacrylate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F222/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
    • C08F222/10Esters
    • C08F222/1006Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols
    • C08F222/102Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols of dialcohols, e.g. ethylene glycol di(meth)acrylate or 1,4-butanediol dimethacrylate
    • C08F222/1025Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols of dialcohols, e.g. ethylene glycol di(meth)acrylate or 1,4-butanediol dimethacrylate of aromatic dialcohols
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F222/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
    • C08F222/10Esters
    • C08F222/1006Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols
    • C08F222/104Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols of tetraalcohols, e.g. pentaerythritol tetra(meth)acrylate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G65/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G65/02Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
    • C08G65/04Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring from cyclic ethers only
    • C08G65/06Cyclic ethers having no atoms other than carbon and hydrogen outside the ring
    • C08G65/08Saturated oxiranes

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

(A) 하기 화학식 1로 표시되는 구조단위를 포함하는 바인더 수지; (B) 흑색 착색제; (C) 광중합성 단량체; (D) 광중합 개시제; 및 (E) 용매를 포함하는 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 블랙 화소 격벽층 및 블랙 화소 격벽층을 포함하는 디스플레이 장치가 제공된다.
[화학식 1]
Figure pat00085

(상기 화학식 1에서, 각 치환기는 명세서에 정의된 바와 같다.)

Description

감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 화소 격벽층 및 디스플레이 장치 {PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, BLACK PIXEL DEFINING LAYER USING THE SAME AND DISPLAY DEVICE}
본 기재는 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 화소 격벽층 및 디스플레이 장치에 관한 것이다.
감광성 수지 조성물은 컬러필터, 액정 표시재료, 유기발광소자 등의 디스플레이 장치, 디스플레이 장치 패널 재료 등의 표시 소자의 제조에 필수적인 재료이다. 예를 들어, 컬러 액정 디스플레이나 유기발광소자 등의 콘트라스트나 발색 효과를 높이기 위해, 레드(red), 그린(green), 블루(blue) 등의 착색층 간의 경계 부분에 블랙 화소 격벽층과 같은 감광성 수지막이 필요하고, 이 감광성 수지막은 주로 감광성 수지 조성물로 형성되는 것이다.
특히, 디스플레이 장치 패널의 소재로 사용되는 화소 격벽층 등의 감광성 수지막은 공정성 및 소자 신뢰성을 가지기 위해 테이퍼 각도가 낮아야 한다. 또한 차광성을 위해 가시광선 영역의 빛을 흡광하는 안료나 염료 등의 착색제가 사용되어야 한다.
종래에는 내열성, 감도 또는 낮은 아웃가스 특성을 위해 감광성 수지 조성물 내 바인더 수지로 폴리이미드, 폴리벤조옥사졸 또는 이들의 전구체를 사용하였으나, 노광 후 패턴 형성 시 명암비 및 감도가 저하되고, 테이퍼 각도가 높아지는 문제가 있었다.
따라서, 상기 문제점을 해소할 수 있는 블랙 화소 격벽층 제조용 감광성 수지 조성물을 개발하려는 연구가 계속되고 있다.
일 구현예는 테이퍼가 낮고 내열성이 우수한 감광성 수지 조성물을 제공하기 위한 것이다.
다른 일 구현예는 상기 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 블랙 화소 격벽층을 제공하기 위한 것이다.
또 다른 일 구현예는 상기 블랙 화소 격벽층을 포함하는 디스플레이 장치를 제공하기 위한 것이다.
일 구현예는 (A) 하기 화학식 1로 표시되는 구조단위를 포함하는 바인더 수지; (B) 흑색 착색제; (C) 광중합성 단량체; (D) 광중합 개시제; 및 (E) 용매를 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공한다.
[화학식 1]
Figure pat00001
상기 화학식 1에서,
L1, L3 및 L4는 각각 독립적으로 *-C(=O)-*, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기이고,
L2는 하기 화학식 2로 표시되는 연결기이고,
R5 및 R6는 각각 독립적으로 수소원자 또는 카르복실기이고,
[화학식 2]
Figure pat00002
상기 화학식 2에서,
R1 내지 R4는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,
n은 1 내지 10의 정수이다.
상기 L1 및 L3은 각각 독립적으로 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기이고, 상기 L4는 트리플루오로메틸기로 치환된 C1 내지 C20 알킬렌기이고, 상기 R5 및 R6는 각각 독립적으로 수소원자일 수 있다.
상기 L1 및 L3은 각각 독립적으로 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기이고, 상기 L4는 *-C(=O)-* 이고, 상기 R5 및 R6는 각각 독립적으로 카르복실기일 수 있다.
상기 바인더 수지는 하기 화학식 3 내지 화학식 5로 표시되는 구조단위 중 어느 하나를 더 포함할 수 있다.
[화학식 3]
Figure pat00003
[화학식 4]
Figure pat00004
[화학식 5]
Figure pat00005
상기 화학식 3 내지 화학식 5에서,
L5 내지 L7은 각각 독립적으로 하기 화학식 2, 화학식 6 또는 화학식 7로 표시되고,
L8은 *-C(=O)-* 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기이고,
[화학식 2]
Figure pat00006
[화학식 6]
Figure pat00007
[화학식 7]
Figure pat00008
상기 화학식 2, 화학식 6 및 화학식 7에서,
R1 내지 R4는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,
n은 1 내지 10의 정수이고,
L9는 *-S(=O)2-* 또는 *-C(CF3)2-* 이고,
R7 내지 R9는 각각 독립적으로 히드록시기 또는 카르복실기이다.
상기 바인더 수지는 말단에 하기 화학식 8-1 내지 화학식 8-4로 표시되는 관능기를 포함할 수 있다.
[화학식 8-1]
Figure pat00009
[화학식 8-2]
Figure pat00010
[화학식 8-3]
Figure pat00011
[화학식 8-4]
Figure pat00012
상기 화학식 8-1 내지 화학식 8-4에서,
L10 및 L11은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이고,
R10은 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이다.
상기 바인더 수지는 하기 화학식 9 내지 화학식 12로 표시되는 구조단위 중 어느 하나를 포함할 수 있다.
[화학식 9]
Figure pat00013
[화학식 10]
Figure pat00014
[화학식 11]
Figure pat00015
[화학식 12]
Figure pat00016
상기 화학식 9 내지 화학식 12에서,
n은 1 내지 10의 정수이다.
상기 바인더 수지는 5,000 g/mol 내지 20,000 g/mol의 중량평균 분자량을 가질 수 있다.
상기 감광성 수지 조성물은 카도계 바인더 수지를 더 포함할 수 있다.
상기 흑색 착색제는 무기 흑색 안료, 유기 흑색 안료 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.
상기 광중합성 단량체는 하기 화학식 13으로 표시되는 관능기를 적어도 2개 이상 포함하는 화합물을 포함할 수 있다.
[화학식 13]
Figure pat00017
상기 화학식 13에서,
R0은 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,
L12는 단일결합 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이다.
상기 화학식 13으로 표시되는 관능기를 적어도 2개 이상 포함하는 화합물은 하기 화학식 13-1 또는 하기 화학식 13-2로 표시되는 화합물일 수 있다.
[화학식 13-1]
Figure pat00018
[화학식 13-2]
Figure pat00019
상기 화학식 13-1 및 화학식 13-2에서,
p, q, r 및 s는 각각 독립적으로 1 내지 10의 정수이다.
상기 감광성 수지 조성물은, 감광성 수지 조성물 총량에 대해, 상기 (A) 바인더 수지 1 중량% 내지 30 중량%; 상기 (B) 흑색 착색제 1 중량% 내지 25 중량%; 상기 (C) 광중합성 단량체 0.5 중량% 내지 20 중량%; 상기 (D) 광중합 개시제 0.1 중량% 내지 5 중량%; 및 상기 (E) 용매 잔부량을 포함할 수 있다.
상기 감광성 수지 조성물은 말론산, 3-아미노-1,2-프로판디올, 실란계 커플링제, 계면활성제, 라디칼 중합개시제 또는 이들의 조합의 첨가제를 더 포함할 수 있다.
다른 일 구현예는 상기 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 블랙 화소 격벽층(Black Pixel Defining Layer)을 제공한다.
또 다른 일 구현예는 상기 블랙 화소 격벽층을 포함하는 디스플레이 장치를 제공한다.
상기 디스플레이 장치는 유기발광소자(OLED)일 수 있다.
기타 본 발명의 측면들의 구체적인 사항은 이하의 상세한 설명에 포함되어 있다.
일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 현상 시작시간이 빠르고, 낮은 테이퍼 각도를 유지하면서도 우수한 내열성을 가져, 가공성이 우수해 정밀한 화소 형성이 가능하다.
이하, 본 발명의 구현예를 상세히 설명하기로 한다.  다만, 이는 예시로서 제시되는 것으로, 이에 의해 본 발명이 제한되지는 않으며 본 발명은 후술할 청구범위의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 
본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "알킬기"란 C1 내지 C20 알킬기를 의미하고, "알케닐기"란 C2 내지 C20 알케닐기를 의미하고, "사이클로알케닐기"란 C3 내지 C20 사이클로알케닐기를 의미하고, "헤테로사이클로알케닐기"란 C3 내지 C20 헤테로사이클로알케닐기를 의미하고, "아릴기"란 C6 내지 C20 아릴기를 의미하고, "아릴알킬기"란 C6 내지 C20 아릴알킬기를 의미하며, "알킬렌기"란 C1 내지 C20 알킬렌기를 의미하고, "아릴렌기"란 C6 내지 C20 아릴렌기를 의미하고, "알킬아릴렌기"란 C6 내지 C20 알킬아릴렌기를 의미하고, "헤테로아릴렌기"란 C3 내지 C20 헤테로아릴렌기를 의미하고, "알콕실렌기"란 C1 내지 C20 알콕실렌기를 의미한다.
본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "치환"이란 적어도 하나의 수소 원자가 할로겐원자(F, Cl, Br, I), 히드록시기, C1 내지 C20 알콕시기, 니트로기, 시아노기, 아민기, 이미노기, 아지도기, 아미디노기, 히드라지노기, 히드라조노기, 카르보닐기, 카르바밀기, 티올기, 에스테르기, 에테르기, 카르복실기 또는 그것의 염, 술폰산기 또는 그것의 염, 인산이나 그것의 염, C1 내지 C20 알킬기, C2 내지 C20 알케닐기, C2 내지 C20 알키닐기, C6 내지 C20 아릴기, C3 내지 C20 사이클로알킬기, C3 내지 C20 사이클로알케닐기, C3 내지 C20 사이클로알키닐기, C2 내지 C20 헤테로사이클로알킬기, C2 내지 C20 헤테로사이클로알케닐기, C2 내지 C20 헤테로사이클로알키닐기, C3 내지 C20 헤테로아릴기 또는 이들의 조합의 치환기로 치환된 것을 의미한다.
또한 본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "헤테로"란, 화학식 내에 N, O, S 및 P 중 적어도 하나의 헤테로 원자가 적어도 하나 포함된 것을 의미한다.
또한 본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "(메타)아크릴레이트"는 "아크릴레이트"와 "메타크릴레이트" 둘 다 가능함을 의미하며, "(메타)아크릴산"은 "아크릴산"과 "메타크릴산" 둘 다 가능함을 의미한다.
본 명세서에서 별도의 정의가 없는 한, "조합"이란 혼합 또는 공중합을 의미한다. 또한 "공중합"이란 블록 공중합 내지 랜덤 공중합을 의미하고, "공중합체"란 블록 공중합체 내지 랜덤 공중합체를 의미한다.
본 명세서 내 화학식에서 별도의 정의가 없는 한, 화학 결합이 그려져야 하는 위치에 화학결합이 그려져 있지 않은 경우는 상기 위치에 수소 원자가 결합되어 있음을 의미한다.
본 명세서에서 카도계 수지란, 하기 화학식 14-1 내지 화학식 14-11로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 관능기가 수지 내 주골격(backbone)에 포함되는 수지를 의미한다.
본 명세서에서 별도의 정의가 없는 한, "*"는 동일하거나 상이한 원자 또는 화학식과 연결되는 부분을 의미한다.
일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 (A) 하기 화학식 1로 표시되는 구조단위를 포함하는 바인더 수지; (B) 흑색 착색제; (C) 광중합성 단량체; (D) 광중합 개시제; 및 (E) 용매를 포함한다.
[화학식 1]
Figure pat00020
상기 화학식 1에서,
L1, L3 및 L4는 각각 독립적으로 *-C(=O)-*, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기이고,
L2는 하기 화학식 2로 표시되는 연결기이고,
R5 및 R6는 각각 독립적으로 수소원자 또는 카르복실기이고,
[화학식 2]
Figure pat00021
상기 화학식 2에서,
R1 내지 R4는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,
n은 1 내지 10의 정수이다.
일반적으로 바인더 수지로 폴리이미드(또는 그 전구체) 수지를 단독으로 사용하는 감광성 수지 조성물은 노광된 부분이 현상에 의해 용해되는 포지티브형과 노광된 부분이 경화되어 남는 네가티브형이 있는데, 상기 감광성 수지 조성물이 흑색 착색제를 포함하는 경우 자외선의 투과도가 감소하여 포지티브형으로는 미세 패턴을 구현하기 어려운 문제점이 있다. 또한 네가티브형으로서 폴리이미드(또는 그 전구체) 수지는 알칼리 수용액에 대한 용해성이 매우 크기 때문에 상기 바인더 수지가 단독으로 사용되는데 한계가 있다.
일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 감광성 수지 조성물 내 바인더 수지로 상기 화학식 1로 표시되는 구조단위를 포함하는 바인더 수지를 사용함으로써, 유기 용제 내에서 가용성을 가지며, 알칼리 수용액에 대한 우수한 용해도 및 고내열성을 가질 수 있다.
구체적으로, 바인더 수지 구조 내에서 이미드화된 구조를 적용하는 비율 조절을 통해 알칼리 수용액에 대한 감광성 수지 자체의 현상액에 대한 용해도를 조절할 수 있게 됨과 동시에, 바인더 수지 자체의 노광에 의한 가교 특성을 부여하기 위해 주구조의 말단에 광중합 개시제에 의해 가교가 가능한 관능기를 도입하여 더욱 우수한 미세패턴을 형성할 수 있는 네가티브형 감광성 수지를 구현할 수 있다. 이와 같이 가용성 이미드구조와 폴리이미드(또는 그 전구체(아미드산)) 구조의 공중합 비율 조절을 통해 알칼리 수용액에 대한 적절한 용해도를 갖고, 중합체(바인더 수지)의 말단에 가교성 기능기를 도입하여 UV 조사 시 노광 영역이 가교되어 비노광 영역이 현상공정을 통해 미세 패턴이 형성되고, 이를 350℃ 이상의 온도에서 열경화하여 우수한 내열성을 갖게 하는 효과(TGA분석을 통한 1wt% loss 온도가 350℃ 이상)를 나타낼 수 있다.
이하에서 각 성분에 대하여 구체적으로 설명한다.
(A) 바인더 수지
예컨대, 상기 화학식 1에서, L1 및 L3은 각각 독립적으로 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기이고, L4는 트리플루오로메틸기로 치환된 C1 내지 C20 알킬렌기이고, R5 및 R6는 각각 독립적으로 수소 원자일 수 있다.
예컨대, 상기 화학식 1에서, L1 및 L3은 각각 독립적으로 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기이고, L4는 *-C(=O)-* 이고, R5 및 R6는 각각 독립적으로 카르복실기일 수 있다.
상기 바인더 수지는 상기 화학식 1로 표시되는 구조단위와 함께, 하기 화학식 3 내지 화학식 5로 표시되는 구조단위 중 어느 하나를 더 포함함으로써, 현상성 및 내열성을 더욱 향상시킬 수 있다.
[화학식 3]
Figure pat00022
[화학식 4]
Figure pat00023
[화학식 5]
Figure pat00024
상기 화학식 3 내지 화학식 5에서,
L5 내지 L7은 각각 독립적으로 하기 화학식 2, 화학식 6 또는 화학식 7로 표시되고,
L8은 *-C(=O)-* 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기이고,
[화학식 2]
Figure pat00025
[화학식 6]
Figure pat00026
[화학식 7]
Figure pat00027
상기 화학식 2, 화학식 6 및 화학식 7에서,
R1 내지 R4는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,
n은 1 내지 10의 정수이고,
L9는 *-S(=O)2-* 또는 *-C(CF3)2-* 이고,
R7 내지 R9는 각각 독립적으로 히드록시기 또는 카르복실기이다.
상기 바인더 수지는 말단에 가교성 관능기를 포함할 수 있다. 예컨대, 상기 가교성 관능기는 하기 화학식 8-1 내지 화학식 8-4로 표시될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
[화학식 8-1]
Figure pat00028
[화학식 8-2]
Figure pat00029
[화학식 8-3]
Figure pat00030
[화학식 8-4]
Figure pat00031
상기 화학식 8-1 내지 화학식 8-4에서,
L10 및 L11은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이고,
R10은 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이다.
예컨대, 상기 바인더 수지는 하기 화학식 9 내지 화학식 12로 표시되는 구조단위 중 어느 하나를 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
[화학식 9]
Figure pat00032
[화학식 10]
Figure pat00033
[화학식 11]
Figure pat00034
[화학식 12]
Figure pat00035
상기 화학식 9 내지 화학식 12에서,
n은 1 내지 10의 정수이다.
상기 화학식 1로 표시되는 구조단위를 포함하는 바인더 수지는 5,000 g/mol 내지 20,000 g/mol의 중량평균 분자량을 가질 수 있다. 상기 바인더 수지의 중량평균 분자량이 상기 범위인 경우, 우수한 패턴 형성성을 가지며, 제조된 박막은 우수한 기계적 열적 특성을 가질 수 있다.
일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 바인더 수지로 카도계 바인더 수지를 더 포함할 수 있다.
상기 카도계 바인더 수지는 하기 화학식 14로 표시되는 구조단위를 포함할 수 있다.
[화학식 14]
Figure pat00036
상기 화학식 14에서,
R11 및 R12은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 (메타)아크릴로일옥시 알킬기이고,
R13 및 R14는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,
Z1은 단일결합, O, CO, SO2, CR17R18, SiR19R20(여기서, R17 내지 R20은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기임) 또는 하기 화학식 14-1 내지 화학식 14-11로 표시되는 연결기 중 어느 하나이고,
[화학식 14-1]
Figure pat00037
[화학식 14-2]
Figure pat00038
[화학식 14-3]
Figure pat00039
[화학식 14-4]
Figure pat00040
[화학식 14-5]
Figure pat00041
(상기 화학식 14-5에서,
Ra는 수소 원자, 에틸기, C2H4Cl, C2H4OH, CH2CH=CH2 또는 페닐기이다.)
[화학식 14-6]
Figure pat00042
[화학식 14-7]
Figure pat00043
[화학식 14-8]
Figure pat00044
[화학식 14-9]
Figure pat00045
[화학식 14-10]
Figure pat00046
[화학식 14-11]
Figure pat00047
Z2는 산무수물 잔기이고,
t1 및 t2는 각각 독립적으로 0 내지 4의 정수이다.
상기 카도계 바인더 수지의 중량평균 분자량은 500 g/mol 내지 50,000 g/mol, 예컨대 1,000 g/mol 내지 30,000 g/mol 일 수 있다. 상기 카도계 바인더 수지의 중량평균 분자량이 상기 범위 내일 경우 감광성 유기막 제조 시 잔사 없이 패턴 형성이 잘되며, 현상 시 막두께의 손실이 없고, 양호한 패턴을 얻을 수 있다.
상기 카도계 바인더 수지는 양 말단 중 적어도 하나에 하기 화학식 15로 표시되는 관능기를 포함할 수 있다.
[화학식 15]
Figure pat00048
상기 화학식 15에서,
Z3은 하기 화학식 15-1 내지 화학식 15-7로 표시될 수 있다.
[화학식 15-1]
Figure pat00049
(상기 화학식 15-1에서, Rb 및 Rc는 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 에스테르기 또는 에테르기이다.)
[화학식 15-2]
Figure pat00050
[화학식 15-3]
Figure pat00051
[화학식 15-4]
Figure pat00052
[화학식 15-5]
Figure pat00053
(상기 화학식 15-5에서, Rd는 O, S, NH, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기, C1 내지 C20 알킬아민기 또는 C2 내지 C20 알케닐아민기이다.)
[화학식 15-6]
Figure pat00054
[화학식 15-7]
Figure pat00055
상기 카도계 바인더 수지는 예컨대, 9,9-비스(4-옥시라닐메톡시페닐)플루오렌 등의 플루오렌 함유 화합물; 벤젠테트라카르복실산 디무수물, 나프탈렌테트라카르복실산 디무수물, 비페닐테트라카르복실산 디무수물, 벤조페논테트라카르복실산 디무수물, 피로멜리틱 디무수물, 사이클로부탄테트라카르복실산 디무수물, 페릴렌테트라카르복실산 디무수물, 테트라히드로푸란테트라카르복실산 디무수물, 테트라하이드로프탈산 무수물 등의 무수물 화합물; 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜 등의 글리콜 화합물; 메탄올, 에탄올, 프로판올, n-부탄올, 사이클로헥산올, 벤질알코올 등의 알코올 화합물; 프로필렌글리콜 메틸에틸아세테이트, N-메틸피롤리돈 등의 용매류 화합물; 트리페닐포스핀 등의 인 화합물; 및 테트라메틸암모늄 클로라이드, 테트라에틸암모늄 브로마이드, 벤질디에틸아민, 트리에틸아민, 트리부틸아민, 벤질트리에틸암모늄 클로라이드 등의 아민 또는 암모늄염 화합물 중에서 둘 이상을 혼합하여 제조할 수 있다.
일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물이 상기 화학식 1로 표시되는 구조단위를 포함하는 바인더 수지와 함께, 상기 카도계 바인더 수지를 더 포함할 경우, 현상성이 우수하고, 광경화 시 감도가 좋아 미세 패턴 형성성이 더욱 우수해지게 된다.
상기 바인더 수지는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 1 중량% 내지 30 중량%, 예컨대 10 중량% 내지 20 중량%로 포함될 수 있다. 상기 바인더 수지가 상기 범위 내로 포함될 경우, 우수한 감도, 현상성, 해상도 및 패턴의 직진성을 얻을 수 있다.
(B) 흑색 착색제
일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물 내 흑색 착색제는 차광성을 높여 흑색을 용이하게 구현하기 위해 무기 흑색 안료, 유기 흑색 안료 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. 또한, RGB 블랙 등의 칼라혼색을 통한 흑색 안료도 단독 또는 혼용하여 사용 가능하다. 예컨대, 상기 흑색 착색제는 아닐린 블랙, 페릴렌 블랙, 티타늄 블랙, 시아닌 블랙, 리그닌 블랙, 락탐계 유기 블랙, RGB 블랙, 카본 블랙 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. 상기 RGB 블랙은 적색 안료, 녹색 안료, 청색 안료, 바이올렛 안료, 황색 안료, 자색 안료 등의 (흑색이 아닌) 유색 안료 중 적어도 2종 이상의 유색 안료가 혼합되어 흑색을 나타내는 안료를 의미한다. 상기 유기 흑색 안료는 하기 화학식 A로 표시되는 락탐계 유기블랙일 수 있다.
[화학식 A]
Figure pat00056
상기 흑색 착색제로 상기 유기 흑색 안료 또는 상기 유기 흑색 안료와 무기 흑색 안료인 카본블랙의 혼합물을 사용할 경우, 안료를 분산시키기 위해 분산제를 함께 사용할 수 있다. 구체적으로는, 상기 안료를 분산제로 미리 표면처리하여 사용하거나, 조성물 제조 시 안료와 함께 분산제를 첨가하여 사용할 수 있다.
상기 분산제로는 비이온성 분산제, 음이온성 분산제, 양이온성 분산제 등을 사용할 수 있다.  상기 분산제의 구체적인 예로는, 폴리 알킬렌 글리콜 및 이의 에스테르, 폴리 옥시 알킬렌, 다가 알코올 에스테르 알킬렌 옥사이드 부가물, 알코올 알킬렌 옥사이드 부가물, 술폰산에스테르, 술폰산염, 카르복실산 에스테르, 카르복실산염, 알킬 아미드 알킬렌 옥사이드 부가물, 알킬 아민 등을 들 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 둘 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 분산제의 시판되는 제품을 예로 들면, BYK社의 DISPERBYK-101, DISPERBYK-130, DISPERBYK-140, DISPERBYK-160, DISPERBYK-161, DISPERBYK-162, DISPERBYK-163, DISPERBYK-164, DISPERBYK-165, DISPERBYK-166, DISPERBYK-170, DISPERBYK-171, DISPERBYK-182, DISPERBYK-2000, DISPERBYK-2001 등; EFKA 케미칼社의 EFKA-47, EFKA-47EA, EFKA-48, EFKA-49, EFKA-100, EFKA-400, EFKA-450 등; Zeneka社의 Solsperse 5000, Solsperse 12000, Solsperse 13240, Solsperse 13940, Solsperse 17000, Solsperse 20000, Solsperse 24000GR, Solsperse 27000, Solsperse 28000 등; 또는 Ajinomoto社의 PB711, PB821 등이 있다.
상기 분산제는 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 0.1 중량% 내지 15 중량%로 포함될 수 있다.  분산제가 상기 범위 내로 포함될 경우, 조성물의 분산성이 우수함에 따라 블랙 격벽재료 제조 시 안정성, 현상성 및 패턴성이 우수하다.
상기 안료는 수용성 무기염 및 습윤제를 이용하여 전처리하여 사용할 수도 있다. 안료를 상기 전처리하여 사용할 경우 안료의 평균입경을 미세화할 수 있다.
상기 전처리는 상기 안료를 수용성 무기염 및 습윤제와 함께 니딩(kneading)하는 단계, 그리고 상기 니딩단계에서 얻어진 안료를 여과 및 수세하는 단계를 거쳐 수행될 수 있다.
상기 니딩은 40℃ 내지 100℃의 온도에서 수행될 수 있고, 상기 여과 및 수세는 물 등을 사용하여 무기염을 수세한 후 여과하여 수행될 수 있다.
상기 수용성 무기염의 예로는 염화나트륨, 염화칼륨 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.  상기 습윤제는 상기 안료 및 상기 수용성 무기염이 균일하게 섞여 안료가 용이하게 분쇄될 수 있는 매개체 역할을 하며, 그 예로는 에틸렌 글리콜 모노에틸에테르, 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌 글리콜 모노메틸에테르 등과 같은 알킬렌 글리콜 모노알킬에테르; 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, 헥산올, 시클로헥산올, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜, 글리세린폴리에틸렌글리콜 등과 같은 알코올 등을 들 수 있으며, 이들을 단독 또는 둘 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 니딩 단계를 거친 안료는 5 nm 내지 200 nm, 예컨대 5 nm 내지 150 nm의 평균 입경을 가질 수 있다.  안료의 평균 입경이 상기 범위 내인 경우, 안료 분산액에서의 안정성이 우수하고, 픽셀의 해상성 저하의 우려가 없다.
구체적으로, 상기 안료는 상기 분산제 및 후술하는 용매를 포함하는 안료분산액의 형태로 사용될 수 있고, 상기 안료분산액은 고형분의 안료, 분산제 및 용매를 포함할 수 있다. 상기 고형분의 안료는 상기 안료분산액 총량에 대해 5 중량% 내지 40 중량%, 예컨대 8 중량% 내지 30 중량%로 포함될 수 있다.
상기 흑색 착색제는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 고형분 기준으로 1 중량% 내지 25 중량%, 예컨대 2 중량% 내지 10 중량%로 포함될 수 있다. 예컨대, 상기 흑색 착색제는 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 안료분산액 기준으로 5 중량% 내지 70 중량%로 포함될 수 있다. 상기 상기 흑색 착색제가 상기 범위 내로 포함될 경우, 착색 효과 및 현상 성능이 우수하다.
(C) 광중합성 단량체
일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물 내 광중합성 단량체는 단일의 화합물일 수도 있고, 서로 다른 2종의 화합물의 혼합물일 수 있다.
상기 광중합성 단량체가 서로 다른 2종의 화합물의 혼합물일 경우, 상기 2종의 화합물 중 어느 하나는 하기 화학식 13으로 표시되는 관능기를 적어도 2개 이상 포함하는 화합물일 수 있다.
[화학식 13]
Figure pat00057
상기 화학식 13에서,
R0은 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,
L12는 단일결합 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이다.
예컨대 상기 화학식 13으로 표시되는 관능기를 적어도 2개 이상 포함하는 화합물은, 상기 화학식 13으로 표시되는 관능기를 2개 내지 6개 포함할 수 있다. 이 경우, 패턴 형성 공정에서 노광 시 충분한 중합을 일으켜 내열성, 내광성 및 내화학성이 우수한 패턴을 형성할 수 있다.
예컨대, 상기 화학식 13으로 표시되는 관능기를 적어도 2개 이상 포함하는 화합물은 하기 화학식 13-1 또는 하기 화학식 13-2로 표시되는 화합물일 수 있다.
[화학식 13-1]
Figure pat00058
[화학식 13-2]
Figure pat00059
상기 화학식 13-1 및 화학식 13-2에서,
p, q, r 및 s는 각각 독립적으로 1 내지 10의 정수이다.
상기 광중합성 단량체가 서로 다른 2종의 화합물의 혼합물일 경우, 상기 2종의 화합물 중 다른 어느 하나는 적어도 1개의 에틸렌성 불포화 이중결합을 가지는 (메타)아크릴산의 일관능 또는 다관능 에스테르 화합물일 수 있다.
상기 적어도 1개의 에틸렌성 불포화 이중결합을 가지는 (메타)아크릴산의 일관능 또는 다관능 에스테르 화합물은 예컨대, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 비스페놀A 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨디(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 비스페놀A 에폭시(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜모노메틸에테르 (메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 트리스(메타)아크릴로일옥시에틸포스페이트, 노볼락에폭시 (메타)아크릴레이트 또는 이들의조합일 수 있다.
상기 적어도 1개의 에틸렌성 불포화 이중결합을 가지는 (메타)아크릴산의 일관능 또는 다관능 에스테르 화합물의 시판되는 제품을 예로 들면 다음과 같다.  상기 (메타)아크릴산의 일관능 에스테르의 예로는, 도아고세이가가꾸고교(주)社 아로닉스 M-101®, 동 M-111®, 동 M-114®등; 니혼가야꾸(주)社의 KAYARAD TC-110S®, 동 TC-120S®등; 오사카유끼가가꾸고교(주)社의 V-158®, V-2311®등을 들 수 있다.  상기 (메타)아크릴산의 이관능 에스테르의 예로는, 도아고세이가가꾸고교(주)社의 아로닉스 M-210®, 동 M-240®, 동 M-6200®등; 니혼가야꾸(주)社의 KAYARAD HDDA®, 동 HX-220®, 동 R-604®등; 오사카유끼가가꾸고교(주)社의 V-260®, V-312®, V-335 HP® 등을 들 수 있다.  상기 (메타)아크릴산의 삼관능 에스테르의 예로는, 도아고세이가가꾸고교(주)社의 아로닉스 M-309®, 동 M-400®, 동 M-405®, 동 M-450®, 동 M-7100®, 동 M-8030®, 동 M-8060®등; 니혼가야꾸(주)社의 KAYARAD TMPTA®, 동 DPCA-20®, 동-30®, 동-60®, 동-120®등; 오사카유끼가야꾸고교(주)社의 V-295®, 동-300®, 동-360®, 동-GPT®, 동-3PA®, 동-400® 등을 들 수 있다. 상기 제품을 단독 사용 또는 2종 이상 함께 사용할 수 있다.
상기 광중합성 단량체는 보다 우수한 현상성을 부여하기 위하여 산무수물로 처리하여 사용할 수도 있다.
상기 광중합성 단량체는 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 0.5 중량% 내지 20 중량%, 예컨대 1 중량% 내지 10 중량%로 포함될 수 있다.  상기 광중합성 단량체가 상기 범위 내로 포함될 경우, 패턴 형성 공정에서 노광 시 경화가 충분히 일어나 신뢰성이 우수하며, 패턴의 내열성, 내광성 및 내화학성이 우수하며, 해상도 및 밀착성 또한 우수하다.
(D) 광중합 개시제
일 구현예에 따르는 감광성 수지 조성물은 광중합 개시제를 포함한다. 상기 광중합 개시제는 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, 티오크산톤계 화합물, 벤조인계 화합물, 트리아진계 화합물, 옥심계 화합물 등을 사용할 수 있다.
상기 아세토페논계 화합물의 예로는, 2,2'-디에톡시 아세토페논, 2,2'-디부톡시 아세토페논, 2-히드록시-2-메틸프로피오페논, p-t-부틸트리클로로 아세토페논, p-t-부틸디클로로 아세토페논, 4-클로로 아세토페논, 2,2'-디클로로-4-페녹시 아세토페논, 2-메틸-1-(4-(메틸티오)페닐)-2-모폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모폴리노페닐)-부탄-1-온 등을 들 수 있다.
상기 벤조페논계 화합물의 예로는, 벤조페논, 벤조일 안식향산, 벤조일 안식향산 메틸, 4-페닐 벤조페논, 히드록시 벤조페논, 아크릴화 벤조페논, 4,4'-비스(디메틸 아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4,4'-디메틸아미노벤조페논,4,4'-디클로로벤조페논, 3,3'-디메틸-2-메톡시벤조페논 등을 들 수 있다.
상기 티오크산톤계 화합물의 예로는, 티오크산톤, 2-클로로티오크산톤, 2-메틸티오크산톤, 이소프로필 티오크산톤, 2,4-디에틸 티오크산톤, 2,4-디이소프로필 티오크산톤 등을 들 수 있다.
상기 벤조인계 화합물의 예로는, 벤조인, 벤조인 메틸 에테르, 벤조인 에틸 에테르, 벤조인 이소프로필 에테르, 벤조인 이소부틸 에테르, 벤질디메틸케탈 등을 들 수 있다.
상기 트리아진계 화합물의 예로는, 2,4,6-트리클로로-s-트리아진, 2-페닐 4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(3',4'-디메톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4'-메톡시나프틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(p-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(p-톨릴)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-비페닐 4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 비스(트리클로로메틸)-6-스티릴-s-트리아진, 2-(나프토1-일)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시나프토1-일)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-s-트리아진, 2-4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-s-트리아진등을 들 수 있다.
상기 옥심계 화합물의 예로는 O-아실옥심계화합물, 2-(O-벤조일옥심)-1-[4-(페닐티오)페닐]-1,2-옥탄디온, 1-(O-아세틸옥심)-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]에탄온, O-에톡시카르보닐-α-옥시아미노-1-페닐프로판-1-온 등을 사용할 수 있다. 상기 O-아실옥심계화합물의구체적인예로는, 1,2-옥탄디온, 2-디메틸아미노-2-(4-메틸벤질)-1-(4-모르폴린-4-일-페닐)-부탄-1-온, 1-(4-페닐술파닐페닐)-부탄-1,2-디온-2-옥심-O-벤조에이트, 1-(4-페닐술파닐페닐)-옥탄-1,2-디온-2-옥심-O-벤조에이트, 1-(4-페닐술파닐페닐)-옥탄-1-온옥심-O-아세테이트 및 1-(4-페닐술파닐페닐)-부탄-1-온옥심-O-아세테이트 등을 사용할 수 있다.
상기 광중합 개시제는 상기 화합물 이외에도 카바졸계 화합물, 디케톤류 화합물, 술포늄 보레이트계 화합물, 디아조계 화합물, 이미다졸계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 플루오렌계 화합물 등을 사용할 수 있다.
상기 광중합 개시제는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 0.1 중량% 내지 5 중량%, 예컨대 1 중량% 내지 3 중량%로 포함될 수 있다. 광중합 개시제가 상기 범위 내로 포함될 경우, 컬러필터 제조를 위한 패턴 형성 공정에서 노광 시 광중합이 충분히 일어나게 되어 감도가 우수하며, 투과율이 개선된다.
(E) 용매
상기 용매는 상기 흑색 착색제를 포함하는 안료분산액, 상기 바인더 수지, 상기 광중합성 단량체 및 상기 광중합 개시제와의 상용성을 가지되 반응하지 않는 물질들이 사용될 수 있다.
상기 용매의 예로는, 메탄올, 에탄올 등의 알코올류; 디클로로에틸에테르, n-부틸에테르, 디이소아밀에테르, 메틸페닐에테르, 테트라히드로퓨란 등의 에테르류; 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜디메틸에테르 등의 글리콜에테르류; 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 디에틸셀로솔브아세테이트 등의 셀로솔브아세테이트류; 메틸에틸카르비톨, 디에틸카르비톨, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜에틸메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르 등의 카르비톨류; 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜프로필에테르아세테이트 등의 프로필렌글리콜알킬에테르아세테이트류; 톨루엔, 크실렌 등의 방향족탄화수소류; 메틸에틸케톤, 사이클로헥사논, 4-히드록시-4-메틸-2-펜타논, 메틸-n-프로필케톤, 메틸-n-부틸케톤, 메틸-n-아밀케톤, 2-헵타논 등의 케톤류; 초산에틸, 초산-n-부틸, 초산이소부틸 등의 포화 지방족 모노카르복실산알킬에스테르류; 젖산메틸, 젖산에틸 등의 젖산에스테르류; 옥시초산메틸, 옥시초산에틸, 옥시초산부틸 등의 옥시초산알킬에스테르류; 메톡시초산메틸, 메톡시초산에틸, 메톡시초산부틸, 에톡시초산메틸, 에톡시초산에틸 등의 알콕시초산알킬에스테르류; 3-옥시프로피온산메틸, 3-옥시프로피온산에틸 등의 3-옥시프로피온산알킬에스테르류; 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산메틸 등의 3-알콕시프로피온산알킬에스테르류; 2-옥시프로피온산메틸, 2-옥시프로피온산에틸, 2-옥시프로피온산프로필 등의 2-옥시프로피온산알킬에스테르류; 2-메톡시프로피온산메틸, 2-메톡시프로피온산에틸, 2-에톡시프로피온산에틸, 2-에톡시프로피온산메틸 등의 2-알콕시프로피온산알킬에스테르류; 2-옥시-2-메틸프로피온산메틸, 2-옥시-2-메틸프로피온산에틸 등의2-옥시-2-메틸프로피온산에스테르류, 2-메톡시-2-메틸프로피온산메틸, 2-에톡시-2-메틸프로피온산에틸 등의 2-알콕시-2-메틸프로피온산알킬류의 모노옥시모노카르복실산알킬에스테르류; 2-히드록시프로피온산에틸, 2-히드록시-2-메틸프로피온산에틸, 히드록시초산에틸, 2-히드록시-3-메틸부탄산메틸 등의 에스테르류; 피루빈산에틸 등의 케톤산에스테르류 등이 있으며, 또한, N-메틸포름아미드, N,N-디메틸포름아미드, N-메틸포름아닐라드, N-메틸아세트아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈, 디메틸술폭시드, 벤질에틸에테르, 디헥실에테르, 아세틸아세톤, 이소포론, 카프론산, 카프릴산, 1-옥탄올, 1-노난올, 벤질알코올, 초산벤질, 안식향산에틸, 옥살산디에틸, 말레인산디에틸, γ-부티로락톤, 탄산에틸렌, 탄산프로필렌, 페닐셀로솔브아세테이트 등의 고비점 용매를 들 수 있다.
이들 중 좋게는 상용성 및 반응성을 고려하여, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜에틸메틸에테르 등의 글리콜에테르류; 에틸셀로솔브아세테이트 등의 에틸렌글리콜알킬에테르아세테이트류; 2-히드록시프로피온산에틸 등의 에스테르류; 디에틸렌글리콜모노메틸에테르 등의 카르비톨류; 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜프로필에테르아세테이트 등의 프로필렌글리콜알킬에테르아세테이트류가 사용될 수 있다.
상기 용매는 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 잔부량, 예컨대 30 중량% 내지 80 중량%로 포함될 수 있다. 상기 용매가 상기 범위 내로 포함될 경우 감광성 수지 조성물이 적절한 점도를 가짐에 따라 블랙 화소 격벽층 제조 시 공정성이 우수하다.
(F) 기타 첨가제
한편, 상기 감광성 수지 조성물은 말론산, 3-아미노-1,2-프로판디올, 실란계 커플링제, 계면활성제, 라디칼 중합개시제 또는 이들의 조합의 첨가제를 더 포함할 수 있다.
상기 실란계 커플링제는 기판과의 밀착성 등을 개선하기 위해 비닐기, 카르복실기, 메타크릴옥시기, 이소시아네이트기, 에폭시기 등의 반응성 치환기를 가질 수 있다.
상기 실란계 커플링제의 예로는, 트리메톡시실릴벤조산, γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 비닐트리아세톡시실란, 비닐트리메톡시실란, γ-이소시아네이트프로필트리에톡시실란, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, β-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란 등을 들 수 있으며, 이들을 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 실란계 커플링제는 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 0.01 중량부 내지 10 중량부로 포함될 수 있다. 상기 실란계 커플링제가 상기 범위 내로 포함될 경우 밀착성, 저장성 등이 우수하다.
또한 상기 감광성 수지 조성물은 필요에 따라 코팅성 향상 및 결점생성 방지효과를 위해 계면활성제, 계면활성제, 예컨대 불소계 계면활성제 및/또는 실리콘계 계면활성제를 더 포함할 수 있다.
상기 불소계 계면활성제로는, BM Chemie社의 BM-1000®, BM-1100®등; 다이닛폰잉키가가꾸고교(주)社의 메카팩 F 142D®, 동 F 172®, 동 F 173®, 동 F 183®, 동 F 554® 등; 스미토모스리엠(주)社의 프로라드 FC-135®, 동 FC-170C®, 동 FC-430®, 동 FC-431®등; 아사히그라스(주)社의 사프론 S-112®, 동 S-113®, 동 S-131®, 동 S-141®, 동 S-145®등; 도레이실리콘(주)社의 SH-28PA®, 동-190®, 동-193®, SZ-6032®, SF-8428® 등의 명칭으로 시판되고 있는 것을 사용할 수 있다.
상기 실리콘계 계면활성제로는 BYK Chem社의 BYK-307, BYK-333, BYK-361N, BYK-051, BYK-052, BYK-053, BYK-067A, BYK-077, BYK-301, BYK-322, BYK-325 등의 명칭으로 시판되고 있는 것을 사용할 수 있다.
상기 계면활성제는 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 0.001 중량부 내지 5 중량부로 사용될 수 있다. 상기 계면활성제가 상기 범위 내로 포함될 경우 코팅 균일성이 확보되고, 얼룩이 발생하지 않으며, IZO 기판 또는 유리기판에 대한 습윤성(wetting)이 우수하다.
또한 상기 감광성 수지 조성물은 물성을 저해하지 않는 범위 내에서 산화방지제, 안정제 등의 기타 첨가제가 일정량 첨가될 수도 있다. 
일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 포지티브형일 수도 있고, 네가티브형일 수도 있으나, 차광성을 가지는 조성물의 노광 및 현상 후 패턴이 노풀되는 영역의 잔기(residue)를 보다 완벽하게 제거하기 위해서는 네가티브형인 것이 보다 바람직하다.
다른 일 구현예는 전술한 감광성 수지 조성물을 노광, 현상 및 경화하여 제조된 블랙 화소 격벽층을 제공한다.
상기 블랙 화소 격벽층 제조방법은 다음과 같다.
(1) 도포 및 도막 형성 단계
상기 감광성 수지 조성물을 소정의 전처리를 한 유리 기판 또는 ITO 기판 등의 기판 상에 스핀 또는 슬릿 코트법, 롤 코트법, 스크린 인쇄법, 어플리케이터법 등의 방법을 사용하여 원하는 두께로 도포한 후, 70℃ 내지 110℃에서 1분 내지 10분 동안 가열하여 용제를 제거함으로써 감광성 수지막을 형성한다.
(2) 노광 단계
상기 얻어진 감광성 수지막에 필요한 패턴 형성을 위해 마스크를 개재한 뒤, 200 nm 내지 500 nm의 활성선을 조사한다. 조사에 사용되는 광원으로는 저압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등, 금속 할로겐화물 램프, 아르곤 가스 레이저 등을 사용할 수 있으며, 경우에 따라 X선, 전자선 등도 이용할 수 있다.
노광량은 조성물 각 성분의 종류, 배합량 및 건조 막 두께에 따라 다르지만, 고압 수은등을 사용하는 경우에는 500 mJ/cm2(365 nm 센서에 의함) 이하이다.
(3) 현상 단계
현상 방법으로는 상기 노광 단계에 이어 알칼리성 수용액을 현상액으로 이용하여 불필요한 부분을 용해, 제거함으로써 노광 부분만을 잔존시켜 패턴을 형성시킨다.
(4) 후처리 단계
상기 공정에서 현상에 의해 수득된 화상 패턴을 내열성, 내광성, 밀착성, 내크랙성, 내화학성, 고강도 및 저장 안정성 등의 면에서 우수한 패턴을 얻기 위한 후가열 공정이 있다. 예컨대, 현상 후 250℃의 컨벡션 오븐에서 1시간 동안 가열할 수 있다.
또 다른 일 구현예는 상기 블랙 화소 격벽층을 포함하는 디스플레이 장치를 제공한다.
상기 디스플레이 장치는 유기발광소자(OLED)일 수 있다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 기재한다. 다만, 하기의 실시예는 본 발명의 바람직한 일실시예일 뿐, 본 발명이 하기 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.
( 실시예 )
(바인더 수지 합성)
합성예 1
교반기, 온도 조절장치, 질소가스 주입 장치 및 냉각기가 장착된 4구 플라스크에 질소를 통과시키면서 N-메틸-2-피롤리돈(NMP) 61.5g에 6-FDA(4,4`-(Hexafluoroisopropylidene)diphthalic anhydride) 12.3g을 넣어 용해시켰다. 고체가 완전히 용해되면 SiDA([Bis(3-aminopropyl)]polydimethylsiloxane) [KF-8010, 신에츠 화학 공업(주)] 10.2g을 투입하여 상온에서 2시간 동안 교반시켰다. 이후 온도를 90℃까지 승온한 뒤 피리딘 7.51g, 아세틱언하이드리이드(Ac2O) 4.85g을 투입하여 3시간 동안 교반시켰다. 이후 반응기 내 온도를 상온으로 냉각하고, 2-하이드로에틸메타크릴레이트(2-Hydroxyethyl methacrylate; HEMA) 0.51g을 투입한 후 6시간 동안 교반하였다. 이후 반응 혼합물을 물에 투입하여 침전물을 생성하고, 침전물을 여과하여 물로 충분히 세정 후, 온도 50℃에서 감압하여 24시간 이상 건조함으로써, 하기 화학식 9로 표시되는 구조단위를 포함하는 바인더 수지를 제조하였다. GPC(Gel Permeation Chromatography)법 표준 폴리스티렌 환산에 의해 구한 상기 바인더 수지의 중량 평균 분자량은 10,800 g/mol 이고, 분산도는 3.28 이었다.
[화학식 9]
Figure pat00060
(상기 화학식 9에서,
n은 8의 정수이다.)
합성예 2
교반기, 온도 조절장치, 질소가스 주입 장치 및 냉각기가 장착된 4구 플라스크에 질소를 통과시키면서 N-메틸-2-피롤리돈(NMP) 61.5g에 6-FDA(4,4`-(Hexafluoroisopropylidene)diphthalic anhydride) 12.3g을 넣어 용해시켰다. 고체가 완전히 용해되면 SiDA([Bis(3-aminopropyl)]polydimethylsiloxane) [KF-8010, 신에츠 화학 공업(주)] 5.1g을 투입하여 상온에서 2시간 동안 교반시켰다. 이후 온도를 90℃까지 승온한 뒤 피리딘 3.75g, 아세틱언하이드리이드(Ac2O) 2.42g을 투입하여 3시간 동안 교반시켰다. 이후 반응기 내 온도를 상온으로 냉각하고, 2-하이드로에틸메타크릴레이트(2-Hydroxyethyl methacrylate; HEMA) 0.51g을 투입한 후 6시간 동안 교반하였다. 이후 3-DAS(3-Aminophenyl sulfone) 2.95g 을 넣고 6시간 동안 반응시켜 반응을 종료하였다. 반응 혼합물을 물에 투입하여 침전물을 생성하고, 침전물을 여과하여 물로 충분히 세정 후, 온도 50℃에서 감압하여 24시간 이상 건조함으로써, 하기 화학식 10으로 표시되는 구조단위를 포함하는 바인더 수지를 제조하였다. GPC(Gel Permeation Chromatography)법 표준 폴리스티렌 환산에 의해 구한 상기 바인더 수지의 중량 평균 분자량은 9,200 g/mol 이고, 분산도는 1.86 이었다.
[화학식 10]
Figure pat00061
(상기 화학식 10에서,
n은 8의 정수이다.)
합성예 3
교반기, 온도 조절장치, 질소가스 주입 장치 및 냉각기가 장착된 4구 플라스크에 질소를 통과시키면서 N-메틸-2-피롤리돈(NMP) 61.5g에 6-FDA(4,4`-(Hexafluoroisopropylidene)diphthalic anhydride) 12.3g을 넣어 용해시켰다. 고체가 완전히 용해되면 SiDA([Bis(3-aminopropyl)]polydimethylsiloxane) [PAM-E, 신에츠 화학 공업(주)] 3.27g을 투입하여 상온에서 2시간 동안 교반시켰다. 이후 온도를 90℃까지 승온한 뒤 피리딘 7.96g, 아세틱언하이드리이드(Ac2O) 5.14g을 투입하여 3시간 동안 교반시켰다. 이후 반응기 내 온도를 상온으로 냉각하고, 2-하이드로에틸메타크릴레이트(2-Hydroxyethyl methacrylate; HEMA) 0.33g을 투입한 후 6시간 동안 교반하였다. 이후 반응 혼합물을 물에 투입하여 침전물을 생성하고, 침전물을 여과하여 물로 충분히 세정 후, 온도 50℃에서 감압하여 24시간 이상 건조함으로써, 하기 화학식 9로 표시되는 구조단위를 포함하는 바인더 수지를 제조하였다. GPC(Gel Permeation Chromatography)법 표준 폴리스티렌 환산에 의해 구한 상기 바인더 수지의 중량 평균 분자량은 13,800 g/mol 이고, 분산도는 1.86 이었다.
[화학식 9]
Figure pat00062
(상기 화학식 9에서,
n은 1의 정수이다.)
합성예 4
교반기, 온도 조절장치, 질소가스 주입 장치 및 냉각기가 장착된 4구 플라스크에 질소를 통과시키면서 N-메틸-2-피롤리돈(NMP) 61.5g에 PMDA(Pyromellitic Dianhydride) 6.04g을 넣어 용해시켰다. 고체가 완전히 용해되면 SiDA([Bis(3-aminopropyl)]polydimethylsiloxane) [PAM-E, 신에츠 화학 공업(주)] 5.29g을 투입하여 상온에서 2시간 동안 교반시켰다. 이후 온도를 90℃까지 승온한 뒤 피리딘 3.89g, 아세틱언하이드리이드(Ac2O) 2.51g을 투입하여 3시간 동안 교반시켰다. 이후 반응기 내 온도를 상온으로 냉각하고, 2-하이드로에틸메타크릴레이트(2-Hydroxyethyl methacrylate; HEMA) 0.40g을 투입한 후 6시간 동안 교반하였다. 이후 APAF(2,2-Bis(3-amino-4-hydroxyphenyl)hexafluoropropane) 4.51g 을 넣고 6시간 동안 반응시켜 반응을 종료하였다. 반응 혼합물을 물에 투입하여 침전물을 생성하고, 침전물을 여과하여 물로 충분히 세정 후, 온도 50℃에서 감압하여 24시간 이상 건조함으로써, 하기 화학식 11로 표시되는 구조단위를 포함하는 바인더 수지를 제조하였다. GPC(Gel Permeation Chromatography)법 표준 폴리스티렌 환산에 의해 구한 상기 바인더 수지의 중량 평균 분자량은 11,800 g/mol 이고, 분산도는 2.80 이었다.
[화학식 11]
Figure pat00063
(상기 화학식 11에서,
n은 1의 정수이다.)
합성예 5
교반기, 온도 조절장치, 질소가스 주입 장치 및 냉각기가 장착된 4구 플라스크에 질소를 통과시키면서 N-메틸-2-피롤리돈(NMP) 61.5g에 6-FDA(4,4`-(Hexafluoroisopropylidene)diphthalic anhydride) 12.3g을 넣어 용해시켰다. 고체가 완전히 용해되면 2-하이드로에틸메타크릴레이트(2-Hydroxyethyl methacrylate; HEMA) 1.20g과 피리딘 10.22g을 투입한 후 2시간 동안 교반하였다. 이후 DAB(3,5-Diaminobenzoic acid) 1.40g을 투입하여 상온에서 1시간 동안 교반시킨 후 SiDA([Bis(3-aminopropyl)]polydimethylsiloxane) [PAM-E, 신에츠 화학 공업(주)] 3.47g을 투입하여 상온에서 2시간 동안 교반시켰다. 이후 온도를 90℃까지 승온한 뒤 아세틱언하이드리이드(Ac2O) 6.12g을 투입하여 6시간 동안 반응시켜 반응을 종료하였다. 반응 혼합물을 물에 투입하여 침전물을 생성하고, 침전물을 여과하여 물로 충분히 세정 후, 온도 50℃에서 감압하여 24시간 이상 건조함으로써, 하기 화학식 12로 표시되는 구조단위를 포함하는 바인더 수지를 제조하였다. GPC(Gel Permeation Chromatography)법 표준 폴리스티렌 환산에 의해 구한 상기 바인더 수지의 중량 평균 분자량은 5,800 g/mol 이고, 분산도는 2.29 이었다.
[화학식 12]
Figure pat00064
(상기 화학식 12에서,
n은 1의 정수이다.)
비교 합성예 1
교반기, 온도 조절장치, 질소가스 주입 장치 및 냉각기가 장착된 4구 플라스크에 질소를 통과시키면서 N-메틸-2-피롤리돈(NMP) 86.6g에 6-FDA(4,4`-(Hexafluoroisopropylidene)diphthalic anhydride) 12.3g을 넣어 용해시켰다. 고체가 완전히 용해되면 3-아미노페닐 설폰(3-DAS) 3.25g 투입하여 상온에서 2시간 동안 교반시켰다. 이후 온도를 90℃까지 승온한 뒤 피리딘 5.6g, 아세틱언하이드라이드(Ac2O) 2.05g을 투입하여 3시간 동안 교반시켰다. 반응기 내 온도를 상온으로 냉각한 후, 2-하이드로에틸메타크릴레이트(HEMA) 1.6g을 투입하고 6시간 동안 교반하였다. 이후 3-아미노페닐 설폰(3-DAS) 3.25g을 넣고 6시간 동안 반응시켜 반응을 종료하였다. 반응 혼합물을 물에 투입하여 침전물을 생성하고, 침전물을 여과하여 물로 충분히 세정한 후, 온도 50℃에서 감압하여 24시간 이상 건조함으로써, 하기 화학식 X로 표시되는 구조단위를 포함하는 바인더 수지를 제조하였다. GPC(Gel Permeation Chromatography)법 표준 폴리스티렌 환산에 의해 구한 상기 바인더 수지의 중량 평균 분자량은 7,800 g/mol 이고, 분산도는 1.8 이었다.
[화학식 X]
Figure pat00065
(감광성 수지 조성물 제조)
실시예 1 내지 실시예 9, 비교예 1 및 비교예 2
하기 표 1에 기재된 조성으로, 용매에 광중합 개시제를 용해시킨 후 2시간 동안 상온에서 교반하였다. 여기에, 바인더 수지, 광중합성 단량체를 첨가하고, 1시간 동안 상온에서 교반하였다. 여기에, 계면활성제(기타 첨가제) 및 흑색 착색제를 첨가한 후, 1시간 동안 상온에서 교반한 후, 용액 전체를 2시간 동안 교반하였다. 상기 용액에 대하여 3회에 걸친 여과를 행하여 불순물을 제거하여 감광성 수지 조성물을 제조하였다.
(단위: g)
실시예 1 실시예 2 실시예 3 실시예 4 실시예 5 실시예 6 실시예 7 실시예 8 실시예 9 비교예 1 비교예 2
(A) 바인더 수지 (A-1) 3.0 - - - - 12.0 - - - - -
(A-2) - 3.0 - - - - 12.0 - - - -
(A-3) - - 3.0 - - - - 12.0 - - -
(A-4) - - - 3.0 - - - - 12.0 - -
(A-5) - - - - 3.0 - - - - - -
(A-6) - - - - - - - - - - 3.0
(A-7) 9.0 9.0 9.0 9.0 9.0 - - - - 12.0 9.0
(B) 흑색 착색제 20.0 20.0 20.0 20.0 20.0 20.0 20.0 20.0 20.0 20.0 20.0
(C) 광중합성 단량체 8.0 8.0 8.0 8.0 8.0 8.0 8.0 8.0 8.0 8.0 8.0
(D) 광중합 개시제 2.0 2.0 2.0 2.0 2.0 2.0 2.0 2.0 2.0 2.0 2.0
(E) 용매 57.5 57.5 57.5 57.5 57.5 57.5 57.5 57.5 57.5 57.5 57.5
(F) 기타 첨가제 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5
(A) 바인더 수지
(A-1) 합성예 1의 바인더 수지
(A-2) 합성예 2의 바인더 수지
(A-3) 합성예 3의 바인더 수지
(A-4) 합성예 4의 바인더 수지
(A-5) 합성예 5의 바인더 수지
(A-6) 비교 합성예 1의 바인더 수지
(A-7) 카도계 바인더 수지 (V259ME, 신일본제철社)
(B) 흑색 착색제
락탐계 유기흑색안료 분산액(CI-IM-126, SAKATA社; 유기흑색안료 고형분 15 중량%)
(C) 광중합성 단량체
디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트 (DPHA, 일본화약社)
(D) 광중합 개시제
옥심계 개시제 (NCI-831, ADEKA社)
(E) 용매
프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트(PGMEA, Sigma-Aldrich社)
(F) 기타 첨가제
불소계 계면활성제 (F-554, DIC社)
평가
실시예 1 내지 실시예 9, 비교예 1 및 비교예 2에 따른 감광성 수지 조성물을 유리기판 상에 SEMES社의 스핀 코터인 K-SPINNER를 이용해 300rpm으로 코팅하여, 수지 도포층을 형성하였다. 이후, 100℃의 핫플레이트에서, 100초 간 건조(프리베이크)시켜 도포막 두께가 1.5 ㎛가 되도록 하였다. 이어서 마스크(갭 100 ㎛)를 통하여 자외선 등의 활성선 에너지선을 조사에너지 선량 100mJ/cm2의 범위로 노광하였다. 노광하여 얻은 막을 현상액(0.048% KOH 수용액, 23℃)을 사용하여 현상(현상시간 120초)하여 경화막 패턴을 형성하였다. 현상 후 380℃ 컨벡션 오븐에 넣은 후 1시간 동안 포스크베이크를 수행하였다.
(1) 현상 시작 시간은 상기 감광성 수지 조성물을 유리기판 상에 코팅-프리베이크-노광 공정을 수행한 후 현상공정에서 조성물이 현상되어 패턴이 형성되기 시작하는 시간을 육안으로 확인하여, 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.
(2) 상기 노광 시 i-line 노광기(i10c)로 노광하여 5 ㎛의 isolated line 패턴을 구현하였다. 그 후 380℃의 컨벡션 오븐에서 1시간 동안 경화(포스트베이크)한 후 주사전자현미경(hitachi社의 S-4300 FE-SEM 장비)으로 테이퍼 각도를 측정하고, 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.
(3) 상기 감광성 수지 조성물로 TGA 분석을 진행하여 1wt% loss 온도를 구해, 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.
현상 시작 시간(초) 테이퍼 각도 (°) 1wt% loss 온도 (℃)
실시예 1 33 35 373
실시예 2 27 42 365
실시예 3 39 38 359
실시예 4 35 33 376
실시예 5 55 47 368
실시예 6 41 42 370
실시예 7 44 33 372
실시예 8 42 48 380
실시예 9 28 29 352
비교예 1 60 72 250
비교예 2 58 52 273
상기 표 2를 통하여, 일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 상기 화학식 1로 표시되는 구조단위를 포함하는 바인더 수지를 포함함에 따라, 상기 구조단위를 포함하지 않는 바인더 수지를 포함하는 감광성 수지 조성물보다 현상 시작 시간이 빠르면서도 내열성은 우수하고, 또한 패턴 형상의 경계면 직진성이 크고 명확하게 향상되었음을 확인할 수 있다.
본 발명은 상기 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 제조될 수 있으며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.  그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.

Claims (16)

  1. (A) 하기 화학식 1로 표시되는 구조단위를 포함하는 바인더 수지;
    (B) 흑색 착색제;
    (C) 광중합성 단량체;
    (D) 광중합 개시제; 및
    (E) 용매
    를 포함하는 감광성 수지 조성물:
    [화학식 1]
    Figure pat00066

    상기 화학식 1에서,
    L1, L3 및 L4는 각각 독립적으로 *-C(=O)-*, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기이고,
    L2는 하기 화학식 2로 표시되는 연결기이고,
    R5 및 R6는 각각 독립적으로 수소원자 또는 카르복실기이고,
    [화학식 2]
    Figure pat00067

    상기 화학식 2에서,
    R1 내지 R4는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,
    n은 1 내지 10의 정수이다.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 L1 및 L3은 각각 독립적으로 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기이고,
    상기 L4는 트리플루오로메틸기로 치환된 C1 내지 C20 알킬렌기이고,
    상기 R5 및 R6는 각각 독립적으로 수소원자인 감광성 수지 조성물.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 L1 및 L3은 각각 독립적으로 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기이고,
    상기 L4는 *-C(=O)-* 이고,
    상기 R5 및 R6는 각각 독립적으로 카르복실기인 감광성 수지 조성물.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 바인더 수지는 하기 화학식 3 내지 화학식 5로 표시되는 구조단위 중 어느 하나를 더 포함하는 감광성 수지 조성물:
    [화학식 3]
    Figure pat00068

    [화학식 4]
    Figure pat00069

    [화학식 5]
    Figure pat00070

    상기 화학식 3 내지 화학식 5에서,
    L5 내지 L7은 각각 독립적으로 하기 화학식 2, 화학식 6 또는 화학식 7로 표시되고,
    L8은 *-C(=O)-* 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기이고,
    [화학식 2]
    Figure pat00071

    [화학식 6]
    Figure pat00072

    [화학식 7]
    Figure pat00073

    상기 화학식 2, 화학식 6 및 화학식 7에서,
    R1 내지 R4는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,
    n은 1 내지 10의 정수이고,
    L9는 *-S(=O)2-* 또는 *-C(CF3)2-* 이고,
    R7 내지 R9는 각각 독립적으로 히드록시기 또는 카르복실기이다.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 바인더 수지는 말단에 하기 화학식 8-1 내지 화학식 8-4로 표시되는 관능기를 포함하는 감광성 수지 조성물.
    [화학식 8-1]
    Figure pat00074

    [화학식 8-2]
    Figure pat00075

    [화학식 8-3]
    Figure pat00076

    [화학식 8-4]
    Figure pat00077

    상기 화학식 8-1 내지 화학식 8-4에서,
    L10 및 L11은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이고,
    R10은 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이다.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 바인더 수지는 하기 화학식 9 내지 화학식 12로 표시되는 구조단위 중 어느 하나를 포함하는 감광성 수지 조성물:
    [화학식 9]
    Figure pat00078

    [화학식 10]
    Figure pat00079

    [화학식 11]
    Figure pat00080

    [화학식 12]
    Figure pat00081

    상기 화학식 9 내지 화학식 12에서,
    n은 1 내지 10의 정수이다.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 바인더 수지는 5,000 g/mol 내지 20,000 g/mol의 중량평균 분자량을 가지는 감광성 수지 조성물.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 감광성 수지 조성물은 카도계 바인더 수지를 더 포함하는 감광성 수지 조성물.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 흑색 착색제는 무기 흑색 안료, 유기 흑색 안료 또는 이들의 조합을 포함하는 감광성 수지 조성물.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 광중합성 단량체는 하기 화학식 13으로 표시되는 관능기를 적어도 2개 이상 포함하는 화합물을 포함하는 감광성 수지 조성물:
    [화학식 13]
    Figure pat00082

    상기 화학식 13에서,
    R0은 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,
    L12는 단일결합 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이다.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 화학식 13으로 표시되는 관능기를 적어도 2개 이상 포함하는 화합물은 하기 화학식 13-1 또는 하기 화학식 13-2로 표시되는 화합물인 감광성 수지 조성물:
    [화학식 13-1]
    Figure pat00083

    [화학식 13-2]
    Figure pat00084

    상기 화학식 13-1 및 화학식 13-2에서,
    p, q, r 및 s는 각각 독립적으로 1 내지 10의 정수이다.
  12. 제1항에 있어서,
    상기 감광성 수지 조성물은, 감광성 수지 조성물 총량에 대해
    상기 (A) 바인더 수지 1 중량% 내지 30 중량%;
    상기 (B) 흑색 착색제 1 중량% 내지 25 중량%;
    상기 (C) 광중합성 단량체 0.5 중량% 내지 20 중량%;
    상기 (D) 광중합 개시제 0.1 중량% 내지 5 중량%; 및
    상기 (E) 용매 잔부량
    을 포함하는 감광성 수지 조성물.
  13. 제1항에 있어서,
    상기 감광성 수지 조성물은 말론산, 3-아미노-1,2-프로판디올, 실란계 커플링제, 계면활성제, 라디칼 중합개시제 또는 이들의 조합의 첨가제를 더 포함하는 감광성 수지 조성물.
  14. 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항의 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 블랙 화소 격벽층(Black Pixel Defining Layer).
  15. 제14항의 블랙 화소 격벽층을 포함하는 디스플레이 장치.
  16. 제15항에 있어서,
    상기 디스플레이 장치는 유기발광소자(OLED)인 디스플레이 장치.
KR1020170021056A 2017-02-16 2017-02-16 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 화소 격벽층 및 디스플레이 장치 Active KR102064297B1 (ko)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170021056A KR102064297B1 (ko) 2017-02-16 2017-02-16 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 화소 격벽층 및 디스플레이 장치
US15/712,663 US10676570B2 (en) 2017-02-16 2017-09-22 Photosensitive resin composition, black pixel defining layer using the same and display device
TW106132704A TWI657100B (zh) 2017-02-16 2017-09-25 感光性樹脂組成物、使用其的黑色像素界定層及顯示裝置
CN201710968197.1A CN108445713B (zh) 2017-02-16 2017-10-13 感光性树脂组合物、使用其的黑色像素界定层及显示装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170021056A KR102064297B1 (ko) 2017-02-16 2017-02-16 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 화소 격벽층 및 디스플레이 장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20180094651A true KR20180094651A (ko) 2018-08-24
KR102064297B1 KR102064297B1 (ko) 2020-01-09

Family

ID=63104464

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020170021056A Active KR102064297B1 (ko) 2017-02-16 2017-02-16 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 화소 격벽층 및 디스플레이 장치

Country Status (4)

Country Link
US (1) US10676570B2 (ko)
KR (1) KR102064297B1 (ko)
CN (1) CN108445713B (ko)
TW (1) TWI657100B (ko)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200035770A (ko) * 2018-09-27 2020-04-06 삼성에스디아이 주식회사 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막 및 디스플레이 소자
KR20210019868A (ko) * 2019-08-13 2021-02-23 삼성에스디아이 주식회사 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막, 컬러필터 및 디스플레이 장치

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7011055B2 (ja) 2017-10-27 2022-01-26 サムスン エスディアイ カンパニー,リミテッド 量子ドット含有組成物、量子ドット製造方法およびカラーフィルタ
KR102419673B1 (ko) 2019-01-21 2022-07-08 삼성에스디아이 주식회사 양자점, 이를 포함하는 경화성 조성물, 상기 조성물을 이용하여 제조된 경화막, 상기 경화막을 포함하는 컬러필터, 디스플레이 장치 및 상기 경화막의 제조방법
KR102296792B1 (ko) 2019-02-01 2021-08-31 삼성에스디아이 주식회사 무용매형 경화성 조성물, 이를 이용하여 제조된 경화막, 상기 경화막을 포함하는 컬러필터, 디스플레이 장치 및 상기 경화막의 제조방법
KR102360987B1 (ko) 2019-04-24 2022-02-08 삼성에스디아이 주식회사 양자점 함유 경화성 조성물, 이를 이용한 수지막 및 디스플레이 장치
WO2020243834A1 (en) * 2019-06-04 2020-12-10 Mcmaster University Catalyst free silicone cure
KR102504790B1 (ko) 2019-07-26 2023-02-27 삼성에스디아이 주식회사 양자점, 이를 포함하는 경화성 조성물, 상기 조성물을 이용하여 제조된 경화막, 상기 경화막을 포함하는 컬러필터, 디스플레이 장치
KR102602724B1 (ko) 2019-10-14 2023-11-14 삼성에스디아이 주식회사 양자점, 이를 포함하는 경화성 조성물, 상기 조성물을 이용하여 제조된 경화막 및 상기 경화막을 포함하는 컬러필터
KR102607463B1 (ko) * 2022-08-14 2023-11-29 덕산네오룩스 주식회사 화소정의층의 제조 방법
KR102607464B1 (ko) * 2022-08-19 2023-11-29 덕산네오룩스 주식회사 화소정의층의 제조 방법

Family Cites Families (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2109123B (en) * 1981-09-14 1986-03-19 Sharp Kk Colour liquid crystal display devices
US4515887A (en) 1983-08-29 1985-05-07 General Electric Company Photopatternable dielectric compositions, method for making and use
US5122436A (en) * 1990-04-26 1992-06-16 Eastman Kodak Company Curable composition
JP2516276B2 (ja) 1990-09-12 1996-07-24 住友ベークライト株式会社 感光性樹脂組成物
JP2720686B2 (ja) 1992-01-27 1998-03-04 信越化学工業株式会社 ポリイミド、その製造方法及び感光性樹脂組成物
JPH097214A (ja) 1995-06-20 1997-01-10 Canon Inc 光学的情報記録再生装置
TWI249650B (en) * 1997-05-16 2006-02-21 Toray Industries Actinic radiation sensitive polymer composition and method of preparing a polyimide precursor composition for an actinic radiation sensitive polymer composition
JP2000193983A (ja) 1998-12-25 2000-07-14 Toray Ind Inc スペ―サ―用樹脂組成物、液晶表示装置用基板および液晶表示装置
US6383258B1 (en) 2000-12-19 2002-05-07 L'air Liquide Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude Copolyimide gas separation membranes
US7245406B2 (en) * 2003-09-17 2007-07-17 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Method for forming fine concavo-convex patterns, method for producing optical diffraction structure, and method for copying optical diffraction structure
JP2006342310A (ja) 2005-06-10 2006-12-21 Kaneka Corp 新規ポリイミド前駆体およびその利用
JP2007212542A (ja) 2006-02-07 2007-08-23 Asahi Kasei Electronics Co Ltd 積層体
JP2008040324A (ja) * 2006-08-09 2008-02-21 Toray Ind Inc 樹脂組成物およびそれを用いたパターン化樹脂膜の製造方法
JP2008077025A (ja) * 2006-08-24 2008-04-03 Sumitomo Chemical Co Ltd 感光性ペースト
JP4994895B2 (ja) * 2007-03-09 2012-08-08 リンテック株式会社 粘着シート
KR101485436B1 (ko) * 2007-03-20 2015-01-23 도레이 카부시키가이샤 흑색 수지 조성물, 수지 블랙 매트릭스, 컬러 필터 및 액정표시장치
JP5707136B2 (ja) * 2008-03-07 2015-04-22 エルジー・ケム・リミテッド ポジティブ型感光性ポリイミド組成物
JP2009282513A (ja) 2008-04-23 2009-12-03 Asahi Kasei E-Materials Corp 感光性樹脂組成物及びそれを用いた感光性フィルム
JP2010204464A (ja) 2009-03-04 2010-09-16 Asahi Kasei E-Materials Corp ホスファゼン構造を有する感光剤を含む感光性樹脂組成物
JP5269651B2 (ja) * 2009-03-06 2013-08-21 新日鉄住金化学株式会社 感光性樹脂組成物及びこれを用いた回路配線基板
WO2011049011A1 (ja) 2009-10-19 2011-04-28 東レ株式会社 感光性接着剤組成物、感光性接着剤シートおよびこれらを用いた半導体装置
JP2011195736A (ja) 2010-03-19 2011-10-06 Asahi Kasei E-Materials Corp ポリイミド前駆体及び感光性樹脂組成物
TWI585527B (zh) * 2012-02-29 2017-06-01 新日鐵住金化學股份有限公司 A photosensitive composition for black matrix and a method for producing the same
CN103319713B (zh) * 2013-06-06 2015-11-25 北京京东方光电科技有限公司 一种固化树脂、黑色光阻剂、滤光片及它们的制备方法、显示器件
KR20150007571A (ko) 2013-07-11 2015-01-21 제일모직주식회사 흑색 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 차광층
WO2016172092A1 (en) * 2015-04-21 2016-10-27 Fujifilm Electronic Materials U.S.A., Inc. Photosensitive polyimide compositions
KR101837970B1 (ko) 2015-06-25 2018-03-13 삼성에스디아이 주식회사 흑색 감광성 수지 조성물, 감광성 수지막, 및 이를 이용한 디스플레이 장치
JP6879204B2 (ja) * 2016-03-30 2021-06-02 東レ株式会社 ネガ型感光性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜を具備する表示装置、並びにその製造方法
KR101976660B1 (ko) * 2016-07-13 2019-05-09 삼성에스디아이 주식회사 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막 및 디스플레이 장치
KR101991699B1 (ko) * 2016-09-26 2019-06-21 삼성에스디아이 주식회사 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 화소 격벽층 및 디스플레이 장치
KR102134633B1 (ko) * 2016-11-25 2020-07-16 삼성에스디아이 주식회사 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 화소 격벽층 및 디스플레이 장치
KR102066549B1 (ko) * 2016-12-01 2020-01-15 삼성에스디아이 주식회사 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 화소 격벽층 및 디스플레이 장치
KR102087261B1 (ko) * 2017-02-16 2020-03-10 삼성에스디아이 주식회사 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 화소 격벽층 및 디스플레이 장치

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200035770A (ko) * 2018-09-27 2020-04-06 삼성에스디아이 주식회사 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막 및 디스플레이 소자
KR20210019868A (ko) * 2019-08-13 2021-02-23 삼성에스디아이 주식회사 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막, 컬러필터 및 디스플레이 장치

Also Published As

Publication number Publication date
TWI657100B (zh) 2019-04-21
TW201831562A (zh) 2018-09-01
CN108445713B (zh) 2021-10-15
CN108445713A (zh) 2018-08-24
US10676570B2 (en) 2020-06-09
US20180230269A1 (en) 2018-08-16
KR102064297B1 (ko) 2020-01-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102064297B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 화소 격벽층 및 디스플레이 장치
KR101976660B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막 및 디스플레이 장치
KR101804259B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 컬럼 스페이서 및 컬러필터
KR101816232B1 (ko) 신규한 화합물, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 및 컬러필터
KR20180063650A (ko) 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 화소 격벽층 및 디스플레이 장치
KR20160061060A (ko) 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR20170000184A (ko) 신규한 화합물, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물, 및 컬러필터
KR102087261B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 화소 격벽층 및 디스플레이 장치
KR101965279B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막 및 컬러필터
KR101812579B1 (ko) 감광성 이중층 수지막, 이를 이용한 블랙 컬럼 스페이서, 및 컬러필터
KR102273159B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 화소 격벽층 및 디스플레이 장치
KR102067084B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 화소 격벽층 및 디스플레이 장치
KR102066549B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 화소 격벽층 및 디스플레이 장치
KR101776264B1 (ko) 감광성 수지 조성물층, 이를 이용한 블랙 컬럼 스페이서, 및 컬러 필터
KR101837969B1 (ko) 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR20190013136A (ko) 신규한 화합물, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 및 컬러필터
KR20190027185A (ko) 신규한 화합물, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 및 컬러필터
KR102232511B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 격벽 및 디스플레이 장치
KR20180069563A (ko) 컬러 필터 및 이를 포함하는 액정 표시 장치
KR102057597B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 화소 격벽층 및 디스플레이 장치
KR102108257B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 화소 격벽층 및 디스플레이 장치
KR102287215B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막 및 컬러필터
KR102154679B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막 및 디스플레이 장치
KR102055724B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 화소 격벽층 및 디스플레이 장치
KR20160140227A (ko) 감광성 이중층 수지막, 이를 이용한 블랙 컬럼 스페이서, 및 컬러필터

Legal Events

Date Code Title Description
PA0109 Patent application

Patent event code: PA01091R01D

Comment text: Patent Application

Patent event date: 20170216

A201 Request for examination
PA0201 Request for examination

Patent event code: PA02012R01D

Patent event date: 20180222

Comment text: Request for Examination of Application

Patent event code: PA02011R01I

Patent event date: 20170216

Comment text: Patent Application

PG1501 Laying open of application
E902 Notification of reason for refusal
PE0902 Notice of grounds for rejection

Comment text: Notification of reason for refusal

Patent event date: 20190408

Patent event code: PE09021S01D

E701 Decision to grant or registration of patent right
PE0701 Decision of registration

Patent event code: PE07011S01D

Comment text: Decision to Grant Registration

Patent event date: 20191230

GRNT Written decision to grant
PR0701 Registration of establishment

Comment text: Registration of Establishment

Patent event date: 20200103

Patent event code: PR07011E01D

PR1002 Payment of registration fee

Payment date: 20200103

End annual number: 3

Start annual number: 1

PG1601 Publication of registration
PR1001 Payment of annual fee

Payment date: 20230102

Start annual number: 4

End annual number: 4