JPS6129155B2 - - Google Patents
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- JPS6129155B2 JPS6129155B2 JP56124870A JP12487081A JPS6129155B2 JP S6129155 B2 JPS6129155 B2 JP S6129155B2 JP 56124870 A JP56124870 A JP 56124870A JP 12487081 A JP12487081 A JP 12487081A JP S6129155 B2 JPS6129155 B2 JP S6129155B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、トランジスタに関するもので、特に
超高周波帯において安定に動作する電界効果型ト
ランジスタの構成に適する様にしたものである。
超高周波帯の半導体装置の電気的特性及び信頼性
は半導体素子をマウントする容器の構造及び構成
部材の材質等により大きい影響をうける。特にカ
リウム砒素を基体とした電界効果型トランジスタ
に於いてはゲートとドレイン間の容量、ソースと
アース端子間のインダクタンスが重要な問題であ
るので半導体容器の構造、材質を充分吟味しなけ
ればならない。
超高周波帯において安定に動作する電界効果型ト
ランジスタの構成に適する様にしたものである。
超高周波帯の半導体装置の電気的特性及び信頼性
は半導体素子をマウントする容器の構造及び構成
部材の材質等により大きい影響をうける。特にカ
リウム砒素を基体とした電界効果型トランジスタ
に於いてはゲートとドレイン間の容量、ソースと
アース端子間のインダクタンスが重要な問題であ
るので半導体容器の構造、材質を充分吟味しなけ
ればならない。
従来の超高周波帯の電界効果型トランジスタは
第1図に示す如くセラミツク基板1の表裏にメタ
ライズにより導電体2,2′,2″,2を配し
て、ストリツプラインを構成し、導電体2′上に
半導体素子3をマウントし半導体3の各電極、即
ちゲート、ドレイン、ソース電極と導電体2,
2′,2″,2との間を夫々金属細線4,4′,
4″で電気的に接続し導電体2′よりソース電極
を、導電体2″より例えばゲート電極を、導電体
2より例えばドレイン電極を導出する如き構成
である。しかしこの構成によれば素子3のマウン
ト近辺の寄生リアクタンス成分の影響が大きく又
周波数が高くなるにつれて異常発振を起し易く
又、素子自体の発熱によつて電気的特性が加速的
に悪くなる等、満足すべき電界効果型トランジス
タは得られない。
第1図に示す如くセラミツク基板1の表裏にメタ
ライズにより導電体2,2′,2″,2を配し
て、ストリツプラインを構成し、導電体2′上に
半導体素子3をマウントし半導体3の各電極、即
ちゲート、ドレイン、ソース電極と導電体2,
2′,2″,2との間を夫々金属細線4,4′,
4″で電気的に接続し導電体2′よりソース電極
を、導電体2″より例えばゲート電極を、導電体
2より例えばドレイン電極を導出する如き構成
である。しかしこの構成によれば素子3のマウン
ト近辺の寄生リアクタンス成分の影響が大きく又
周波数が高くなるにつれて異常発振を起し易く
又、素子自体の発熱によつて電気的特性が加速的
に悪くなる等、満足すべき電界効果型トランジス
タは得られない。
本発明の目的はこれ等の該欠点を解決したトラ
ンジスタを提供する事にある。
ンジスタを提供する事にある。
本発明ではトランジスタを誘電体基板上に載置
し、このトランジスタの共通電極は誘電体基板に
設けられたスルーホールを介して、該基板の裏面
導体層と電気的に接続する様にしたものである。
し、このトランジスタの共通電極は誘電体基板に
設けられたスルーホールを介して、該基板の裏面
導体層と電気的に接続する様にしたものである。
以下本発明の一実施例を図面について詳細に説
明する。
明する。
第2図は本発明の基本的実施例を示し、この例
ではストリツプラインを構成するための絶縁基板
1として熱伝導度がよく、且つ低誘電率のベリリ
アセラミツク又はアルミナセラミツクを用い(こ
れの熱伝導度は鋼のそれと略々等しい)。またト
ランジスタとして電界効果トランジスタを用い
る。この絶縁基板1の裏面にはストリツプライン
を構成する共通導体2(この時接地用)を例えば
メタライズにより被着形成し、表面にはドレイン
とゲート電極の導出端子として用いられ、接地導
体2と対向してストリツプラインを構成する出力
用および入力用メタライズ層2″,2を形成す
ると共に共通導体としてソース電極用メタライズ
層2′を形成し、ソース電極用メタライズ層2′と
接地導体2との間をスルーホール5を通じて接続
し、ソース電極用メタライズ層2′をストリツプ
ラインの接地導体と同電位となし、この接地導体
と同電位となされたソース電極用メタライズ層
2′上に電界効果型トランジスタを構成する半導
体素子3をマウントし、半導体素子3のソース電
極を金属細線又は金属テープ4にてメタライズ層
2′に接続し、ゲート電極とドレイン電極も同様
に金属細線又は金属テープ4′及び4″にてメタラ
イズ層2″及び2に夫々接続する様になす。ス
ルーホール5は半導体素子3のソース電極と可及
的に近くなる様な位置に設置する。尚10は外部
導出リード線である。
ではストリツプラインを構成するための絶縁基板
1として熱伝導度がよく、且つ低誘電率のベリリ
アセラミツク又はアルミナセラミツクを用い(こ
れの熱伝導度は鋼のそれと略々等しい)。またト
ランジスタとして電界効果トランジスタを用い
る。この絶縁基板1の裏面にはストリツプライン
を構成する共通導体2(この時接地用)を例えば
メタライズにより被着形成し、表面にはドレイン
とゲート電極の導出端子として用いられ、接地導
体2と対向してストリツプラインを構成する出力
用および入力用メタライズ層2″,2を形成す
ると共に共通導体としてソース電極用メタライズ
層2′を形成し、ソース電極用メタライズ層2′と
接地導体2との間をスルーホール5を通じて接続
し、ソース電極用メタライズ層2′をストリツプ
ラインの接地導体と同電位となし、この接地導体
と同電位となされたソース電極用メタライズ層
2′上に電界効果型トランジスタを構成する半導
体素子3をマウントし、半導体素子3のソース電
極を金属細線又は金属テープ4にてメタライズ層
2′に接続し、ゲート電極とドレイン電極も同様
に金属細線又は金属テープ4′及び4″にてメタラ
イズ層2″及び2に夫々接続する様になす。ス
ルーホール5は半導体素子3のソース電極と可及
的に近くなる様な位置に設置する。尚10は外部
導出リード線である。
この様に構成する事によつて絶縁基板1が低誘
電率であるを以つてゲートソース間;ドレイン−
ソース間及びゲート−ドレイン間の静電容量を小
さくでき、然もソース電極はストリツプラインを
構成する接地導体2よりスルーホール5を通じて
導出する様にしたから接地までの距離を短かくで
きソースと接地間のリアクタンス成分を減少させ
る事ができる。従つて寄生リアクタンス成分の減
少と、熱放散の向上が期待でき超高周波域におけ
る動作を安定化する事ができる。
電率であるを以つてゲートソース間;ドレイン−
ソース間及びゲート−ドレイン間の静電容量を小
さくでき、然もソース電極はストリツプラインを
構成する接地導体2よりスルーホール5を通じて
導出する様にしたから接地までの距離を短かくで
きソースと接地間のリアクタンス成分を減少させ
る事ができる。従つて寄生リアクタンス成分の減
少と、熱放散の向上が期待でき超高周波域におけ
る動作を安定化する事ができる。
更に、接地インダクタンスを減少させるための
構造として、スルーホール5による結合を行なつ
ているので、誘電体基板1自体の表面及び裏面の
平担性は何等阻害されることはない。従つて、超
高周波用の微細なトランジスタチツプ2をマウン
トする際に平担な面にマウントでき、かつその後
のボンデイング接続時の圧力は基板表面に凹凸が
ないために均一な圧力となつて基板に伝達され、
局部的な圧力集中も生じない。この結果、耐機械
力についても優れた装置となる。又、その製造に
おいても基板成形時にスルーホールを形成出来、
その内部への金属導入も簡単なため、製造工程を
複雑化させることもない。
構造として、スルーホール5による結合を行なつ
ているので、誘電体基板1自体の表面及び裏面の
平担性は何等阻害されることはない。従つて、超
高周波用の微細なトランジスタチツプ2をマウン
トする際に平担な面にマウントでき、かつその後
のボンデイング接続時の圧力は基板表面に凹凸が
ないために均一な圧力となつて基板に伝達され、
局部的な圧力集中も生じない。この結果、耐機械
力についても優れた装置となる。又、その製造に
おいても基板成形時にスルーホールを形成出来、
その内部への金属導入も簡単なため、製造工程を
複雑化させることもない。
第1図は従来のストリツプライン型半導体容器
を示す斜視図、第2図は本発明の基本的実施例を
示す断面図である。 1:絶縁基板、2,2′,2″,2:ストリツ
プラインを構成するメタリツク層、3:半導体素
子、4:金属細線、6:ストリツプラインの接地
導体を構成する金属スタツド、7:補助スタツ
ド。
を示す斜視図、第2図は本発明の基本的実施例を
示す断面図である。 1:絶縁基板、2,2′,2″,2:ストリツ
プラインを構成するメタリツク層、3:半導体素
子、4:金属細線、6:ストリツプラインの接地
導体を構成する金属スタツド、7:補助スタツ
ド。
Claims (1)
- 1 表面に入力用金属層、出力用金属層及び第1
の共通電極用金属層をそれぞれ分離して有する誘
電体基板と、前記誘電体基板の裏面の全面に設け
られた第2の共通電極用金属層と、前記第1と第
2の共通電極用金属層間の前記誘電体基板を貫通
する複数の貫通孔と、該貫通孔に充填されて前記
第1と第2の共通電極用金属層を電気的に接続す
るスルーホール金属層と、前記第1の共通電極用
金属層上に取り付けられた入力電極と出力電極と
共通電極とを有するトランジスタ素子と、該トラ
ンジスタ素子の前記入力電極を前記入力用金属層
に、前記出力電極を前記出力用金属層に、前記共
通電極を前記第1の共通電極用金属層にそれぞれ
接続する手段とを有することを特徴とするトラン
ジスタ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56124870A JPS5756953A (en) | 1981-08-10 | 1981-08-10 | Transistor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56124870A JPS5756953A (en) | 1981-08-10 | 1981-08-10 | Transistor |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP48105715A Division JPS5910075B2 (ja) | 1973-09-19 | 1973-09-19 | 電界効果型トランジスタ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5756953A JPS5756953A (en) | 1982-04-05 |
JPS6129155B2 true JPS6129155B2 (ja) | 1986-07-04 |
Family
ID=14896131
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56124870A Granted JPS5756953A (en) | 1981-08-10 | 1981-08-10 | Transistor |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5756953A (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0799753B2 (ja) * | 1985-11-06 | 1995-10-25 | 日本電気株式会社 | 混成集積回路 |
DE3777856D1 (de) * | 1986-02-24 | 1992-05-07 | Hewlett Packard Co | Hermetische, mikroelektronische hochfrequenzpackung fuer oberflaechenmontage. |
US4839717A (en) * | 1986-12-19 | 1989-06-13 | Fairchild Semiconductor Corporation | Ceramic package for high frequency semiconductor devices |
FR2629271B1 (fr) * | 1988-03-25 | 1991-03-29 | Thomson Hybrides Microondes | Dispositif d'interconnexion et de protection d'une pastille nue de composant hyperfrequence |
CA2096008A1 (en) * | 1990-11-19 | 1992-05-20 | Joseph M. Ommen | Microelectronics package |
-
1981
- 1981-08-10 JP JP56124870A patent/JPS5756953A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5756953A (en) | 1982-04-05 |
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