JPS60107116A - 流量調整器 - Google Patents
流量調整器Info
- Publication number
- JPS60107116A JPS60107116A JP21525283A JP21525283A JPS60107116A JP S60107116 A JPS60107116 A JP S60107116A JP 21525283 A JP21525283 A JP 21525283A JP 21525283 A JP21525283 A JP 21525283A JP S60107116 A JPS60107116 A JP S60107116A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- flow rate
- orifice
- heater
- bimetal
- diaphragm
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D7/00—Control of flow
- G05D7/06—Control of flow characterised by the use of electric means
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Flow Control (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、気体の質量流量の制御に関するものである
。
。
従来、この種の流量調整機構としては、第1図に示すも
のがあった。図において、(1)は流路、(21は流k
t検出部、(3)は増幅器、 (4Hd比較制fa11
11. (51は流量設定幅、(6)はサーマルパルプ
である。第2図は、流量検出部(21の一例を示したも
のである。
のがあった。図において、(1)は流路、(21は流k
t検出部、(3)は増幅器、 (4Hd比較制fa11
11. (51は流量設定幅、(6)はサーマルパルプ
である。第2図は、流量検出部(21の一例を示したも
のである。
図において、 +71 I′i派路il+からのバイパ
ス管、(8)はブリッジ回路を柘成する邦、抗、(9)
は自己発熱ゼ(抗体、00)は増幅器(3)への出力端
子である。第3図はサーマルパルプ(6)の詳細を示し
たものである。図において、OI)はステム部、aB1
ステム部(1υV(内蔵サレタヒータ、03)はオリフ
ィス、041はヒータa2への入力端子である。
ス管、(8)はブリッジ回路を柘成する邦、抗、(9)
は自己発熱ゼ(抗体、00)は増幅器(3)への出力端
子である。第3図はサーマルパルプ(6)の詳細を示し
たものである。図において、OI)はステム部、aB1
ステム部(1υV(内蔵サレタヒータ、03)はオリフ
ィス、041はヒータa2への入力端子である。
次に動作について説明する。流量は流量検出部+21に
おいてバイパス管(7)を流れる流量を測定することに
よって得られる。バイパス管+71 VC対して流れ方
向に2本の自己発熱抵抗体(9)を巻き、この自己発熱
抵抗体(9)が被測定気体によって冷却される割合が質
量流量に関係することを利用し、そのときの抵抗体の抵
抗価の変化をブリッジ回路で検出し質量流量を測定する
。所定の流量を得るために流量検出部(2)で測定され
た流量信号と設定信号を比較することによって、ヒータ
0力への入力電力を調整しパルプ開度の制御を行なう。
おいてバイパス管(7)を流れる流量を測定することに
よって得られる。バイパス管+71 VC対して流れ方
向に2本の自己発熱抵抗体(9)を巻き、この自己発熱
抵抗体(9)が被測定気体によって冷却される割合が質
量流量に関係することを利用し、そのときの抵抗体の抵
抗価の変化をブリッジ回路で検出し質量流量を測定する
。所定の流量を得るために流量検出部(2)で測定され
た流量信号と設定信号を比較することによって、ヒータ
0力への入力電力を調整しパルプ開度の制御を行なう。
ステム部01)の長さか熱膨張の原理に基つきヒータ(
121への入力管力の変化に応じて変化することを利用
し、ステム部(11)の先端の位置が変位し流路面積を
変化させることVCより、パルプ開度は制御される。
121への入力管力の変化に応じて変化することを利用
し、ステム部(11)の先端の位置が変位し流路面積を
変化させることVCより、パルプ開度は制御される。
従来の流量調整装置は以上のように構成されているので
、広範囲にわたる流量flj制御全目的とするよう々場
合にはステム部(II)を充分に長くとらねばならず、
このために装置の構造が大きくなる欠点かあった。
、広範囲にわたる流量flj制御全目的とするよう々場
合にはステム部(II)を充分に長くとらねばならず、
このために装置の構造が大きくなる欠点かあった。
この発明はこの欠点全改善するためになされたもので、
パルプ構造をバイメタルのダイヤフラムを用いることに
よって、広い流量範囲の制御をより小型の装置で行うこ
とを目的とするものである。
パルプ構造をバイメタルのダイヤフラムを用いることに
よって、広い流量範囲の制御をより小型の装置で行うこ
とを目的とするものである。
以下、第4図に示すこの発明の実施例について説明する
。11g4図において、(1)〜(51は上記従来装置
と全く同一のものである。05)はバイメタルのダイヤ
フラムを用いたパルプ部である。第5図はパルプ部(l
ωの詳MI+を示したものである。
。11g4図において、(1)〜(51は上記従来装置
と全く同一のものである。05)はバイメタルのダイヤ
フラムを用いたパルプ部である。第5図はパルプ部(l
ωの詳MI+を示したものである。
図において、 (IIはオリフィス、 +17+はバイ
メタルのダイヤフラム、0樽はバイメタルaηを加熱す
るためのヒータ、0!Jはバイメタル07)の支持台、
I21Hヒータ0急への入力端子である。
メタルのダイヤフラム、0樽はバイメタルaηを加熱す
るためのヒータ、0!Jはバイメタル07)の支持台、
I21Hヒータ0急への入力端子である。
第6図は第5図に対する正面図を示す。
上記のように構成された流量調整装置VCおいては、流
量検出部(21で検出した流量信号と設定信号を比較し
ヒータ(1εへの入力管力を調整することによりバイメ
タル0力の温度を変え温度による変位の可変性を冶する
バイメタルの特性を利用しオリフィスのコンダクタンス
を調整し所定の流量をイ(#る。
量検出部(21で検出した流量信号と設定信号を比較し
ヒータ(1εへの入力管力を調整することによりバイメ
タル0力の温度を変え温度による変位の可変性を冶する
バイメタルの特性を利用しオリフィスのコンダクタンス
を調整し所定の流量をイ(#る。
この発明は以上説明したように流量調整機構としてオリ
フィスとバイメタル製のダイヤフラムを組み合わせると
いう簡単ガ構造により、従来の流量調整機構と同様の効
果を著しく小型かつ1¥l)単な装置で達することがで
き、流量調整装置の小型化及び軽量化に寄与する効果か
ある。
フィスとバイメタル製のダイヤフラムを組み合わせると
いう簡単ガ構造により、従来の流量調整機構と同様の効
果を著しく小型かつ1¥l)単な装置で達することがで
き、流量調整装置の小型化及び軽量化に寄与する効果か
ある。
なお1以上はオリフィスの形状について簡単な形状にし
た場合について説明したが、この発明はこれに限らず、
オリフィスの形状としてはバイメタルの変位が流量の制
御に有効に作用する形状のものでatLはよい。
た場合について説明したが、この発明はこれに限らず、
オリフィスの形状としてはバイメタルの変位が流量の制
御に有効に作用する形状のものでatLはよい。
以上のようにこの発明による流量調整器はバイメタルを
使用することにより構造が簡単で、しかも小型、@量化
できる利点がある。
使用することにより構造が簡単で、しかも小型、@量化
できる利点がある。
第1図は従来の流量調整装jθを示すブロック図。
第2図は従来の流量調整装置に用いられる流量検出部を
示す断面図、第3図は従来の流量調整装置V(用いられ
るサーマルパルプを示す断面図、第4図はこの発明の一
実施例を示すブロック図、第5図は、この発明の流量調
整機構を示す断面図、第6図はこの発明の流量調整機構
を示す正面図である。 図中、(1)は流路、(2)は流量検出部、(3)け増
幅器。 (4)は比較制御部、(5)は流量設定器、(6)はサ
ーマルパルプ、(71はバイパスV、 +S+は抵抗、
(9)は自己発熱抵抗、OIは出力端子、Ol)はステ
ム部、03はヒータ・(131はオリフィス、 041
は入力端子、051はパルプ部、 (161はオリフィ
ス、 (!71はバイメタルのダイヤフラム、(国はヒ
ータ、 Q9+は支持台、(イ)は入力端子である。 なお1図中同一あるいは相当部分には同一符号を付して
示しである。 代胛人大岩増雄
示す断面図、第3図は従来の流量調整装置V(用いられ
るサーマルパルプを示す断面図、第4図はこの発明の一
実施例を示すブロック図、第5図は、この発明の流量調
整機構を示す断面図、第6図はこの発明の流量調整機構
を示す正面図である。 図中、(1)は流路、(2)は流量検出部、(3)け増
幅器。 (4)は比較制御部、(5)は流量設定器、(6)はサ
ーマルパルプ、(71はバイパスV、 +S+は抵抗、
(9)は自己発熱抵抗、OIは出力端子、Ol)はステ
ム部、03はヒータ・(131はオリフィス、 041
は入力端子、051はパルプ部、 (161はオリフィ
ス、 (!71はバイメタルのダイヤフラム、(国はヒ
ータ、 Q9+は支持台、(イ)は入力端子である。 なお1図中同一あるいは相当部分には同一符号を付して
示しである。 代胛人大岩増雄
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 気体の質量流量をfl+lI御する流量a1〜整器にお
いて。 質H(流量を検出する流量検出部と、流量を調整する機
能を有するパルプ部と、上記の流量検出部で検出した流
量信号を所定の設定信号と比較し、バルブ部に流量制御
に必要な制御信号を出力する比軟制御部とから描成され
、上記のバルブ部として流路にオリフィスを配し、かつ
オリフィスのコンダクタンスを調整するために、温度に
よる変位の可変性を有するバイメタルのダイヤフラムを
有することを特徴とする流量調整器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21525283A JPS60107116A (ja) | 1983-11-16 | 1983-11-16 | 流量調整器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21525283A JPS60107116A (ja) | 1983-11-16 | 1983-11-16 | 流量調整器 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60107116A true JPS60107116A (ja) | 1985-06-12 |
Family
ID=16669235
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21525283A Pending JPS60107116A (ja) | 1983-11-16 | 1983-11-16 | 流量調整器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60107116A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20170070115A (ko) * | 2014-11-12 | 2017-06-21 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 스테이지 및 기판 처리 장치 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5747075A (en) * | 1980-09-05 | 1982-03-17 | Fuji Koki Seisakusho:Kk | Expansion valve using bimetal |
JPS5761280B2 (ja) * | 1976-06-01 | 1982-12-23 | Velsicol Chemical Corp |
-
1983
- 1983-11-16 JP JP21525283A patent/JPS60107116A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5761280B2 (ja) * | 1976-06-01 | 1982-12-23 | Velsicol Chemical Corp | |
JPS5747075A (en) * | 1980-09-05 | 1982-03-17 | Fuji Koki Seisakusho:Kk | Expansion valve using bimetal |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20170070115A (ko) * | 2014-11-12 | 2017-06-21 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 스테이지 및 기판 처리 장치 |
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